CN109107997A - Oled蒸镀用挡板的干冰清洗装置及其工艺 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 84
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 title claims abstract description 45
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 38
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 3
- 230000010339 dilation Effects 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 238000004064 recycling Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- B08—CLEANING
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract
本发明公开了OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置及其工艺，干冰清洗装置包括干冰发生器、设有负压引流装置的材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于清洗腔体内，清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组，底部与材料收集器连接，内部设有挡板固定装置，干冰发生器与清洗腔体内部连接；清洗工艺包括(ⅰ)干冰清洗，和(ⅱ)纯水清洗，和(ⅲ)干燥，和(ⅳ)喷砂；采用干冰清洗替代传统有机溶剂清洗，降低挡板清洗成本，OLED材料回收方便且回收效率高，环境友好。
Description
技术领域
本发明属于OLED器件制备技术领域，具体涉及OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，还涉及通过上述装置清洗OLED蒸镀用挡板的工艺。
背景技术
目前，OLED顶发射器件的结构主要包括发射阳极(RE)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)、电子注入层(EIL)、以及阴极(Cathode)依次堆叠构成，具有广视角、高亮高对比度、低能耗和体积更轻薄等优点，是目前平板显示技术关注焦点。
OLED顶发射器件制备过程为：先将金属材料沉积或喷镀到基底材料上以形成反射阳极，可以使用传统有机EL器件衬底，也可使用具有良好机械强度、热稳定性、透明度、表面柔软度、易处理性和耐水性的玻璃衬底或透明塑料衬底。类似地，将具有金属材料沉积或者喷镀到基底材料上以形成反射阴极。反射阳极和反射阴极的优选材料为Ag或Ag合金，反射率大于85％@550nm。再用真空蒸发、旋涂、铸塑或Langmuir-Blodgett(LB)法在阳极上形成空穴注入层(HIL)。
当使用真空蒸发形成HIL时，沉积条件可以根据用作空穴注入材料的化合物类型及结构和HIL热性质而改变，一般沉积温度为50-500℃，真空度为10-8-10-3托，沉积速率为沉积厚度为OLED蒸镀设备结构如图1所示。OLED材料从蒸发源中被加热蒸发，气态OLED材料在玻璃基板附近沉积形成薄膜。但是，上述蒸镀过程中OLED材料不仅在玻璃基板上沉积，也在腔体其他部位沉积，造成OLED材料利用率很低，一般在5％左右。为提高OLED材料利用率，降低生产成本，在OLED蒸镀设备腔体四周包裹挡板，仅可通过更换挡板实现清洗腔体的效果，而且挡板上附着大量OLED材料，可以回收利用进一步节约成本。
图2为现有OLED蒸镀用挡板的清洗流程图，缺点在于：挡板清洗成本高，因为挡板尺寸较大，并且不规则。需要大量的有机溶剂浸泡和清洗。比如大量使用二氯甲烷。成本很高。OLED材料难于回收，清洗后OLED材料溶解在大量有机溶剂中，如果想要回收，需要很多的能源去蒸发有机溶剂，且大量使用有机溶剂，污染环境。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供一种OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置及其工艺，采用干冰清洗替代传统有机溶剂清洗方式，降低挡板清洗成本，容易回收OLED材料，且环境友好，克服现有OLED蒸镀用挡板清洗成本高且污染环境的问题。
为实现上述发明目的，本发明的技术方案如下：
第一方面，OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，包括干冰发生器、材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于所述清洗腔体内；其中，
所述清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组(FFU)，底部与所述材料收集器连接，内部设有所述待清洗OLED蒸镀用挡板的固定装置；
所述干冰发生器与所述清洗腔体内部连接；
所述材料收集器设有负压引流装置。
优选地，所述干冰清洗装置还包括风刀吹干装置、红外加热装置和喷砂装置。
优选地，所述清洗腔体为倒梯形结构。
优选地，所述清洗腔体外部与高压水喷淋装置连接。
优选地，所述清洗腔体的侧壁设有若干个操作口。
第二方面，OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，通过上述干冰清洗装置将待清洗的OLED蒸镀用挡板经包括以下步骤：(ⅰ)干冰清洗，和(ⅱ)纯水清洗，和(ⅲ)干燥，和(ⅳ)喷砂的清洗过程。
优选地，步骤(ⅰ)中的干冰清洗过程为：先经所述操作口将待清洗的OLED蒸镀用挡板固定于清洗腔体内，并封闭清洗腔体；同时开启所述风机过滤机组进行导流和所述材料收集器的负压引流装置形成负压；再开启所述干冰发生器产生高压干冰，直接喷射到上述OLED蒸镀用挡板上反复喷洗，在冷热膨胀收缩作用下其表面富集的OLED材料迅速分离，在上述到导流和负压双重作用下，上述分离后的OLED材料顺着空气流向流入底部的材料收集器内。
优选地，在所述高压水喷淋装置作用下所述干冰清洗后的OLED蒸镀用挡板进行所述步骤(ⅱ)纯水清洗，其中，高压水压力为1-10MPa，更优选为5MPa。
优选地，所述纯水清洗后的OLED蒸镀用挡板先经风刀吹干，后红外加热至75-85℃。
优选地，所述清洗工艺还包括步骤(ⅳ)喷砂后的水洗和干燥处理。
本发明的有益效果在于：
本发明采用干冰清洗替代传统有机溶剂清洗方式，降低挡板清洗成本，OLED材料方便回收且回收率高节省成本，避免使用大量有机溶剂，环境友好，且结构简单，易于操作。
附图说明
图1为现有OLED蒸镀设备的结构示意图。
图2为现有OLED蒸镀用挡板清洗的工艺流程图。
图3为本发明OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置的结构示意图。
图4为本发明OLED蒸镀用挡板清洗的工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的技术方案，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
参见图3，OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，包括干冰发生器、材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于清洗腔体内；其中，
清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组(FFU)，底部与材料收集器连接，内部设有待清洗OLED蒸镀用挡板的固定装置；
干冰发生器与清洗腔体内部连接；
材料收集器设有负压引流装置。
在优选实例中，干冰清洗装置还包括风刀吹干装置、红外加热装置和喷砂装置。
在另一优选实例中，清洗腔体为倒梯形结构。
在另一优选实例中，清洗腔体外部与高压水喷淋装置连接。
在另一优选实例中，清洗腔体的侧壁设有若干个操作口。
参见图4，当上述干冰清洗装置进行OLED蒸镀用挡板清洗时，包括以下步骤：(ⅰ)干冰清洗，和(ⅱ)纯水清洗，和(ⅲ)干燥，和(ⅳ)喷砂；具体为：先经操作口将待清洗的OLED蒸镀用挡板固定于清洗腔体内，并封闭清洗腔体；同时开启风机过滤机组进行导流和材料收集器的负压引流装置形成负压；再开启干冰发生器产生高压干冰，直接喷射到上述OLED蒸镀用挡板上反复喷洗，在冷热膨胀收缩作用下其表面富集的OLED材料迅速分离，在上述到导流和负压双重作用下，上述分离后的OLED材料顺着空气流向流入底部的材料收集器内。再在高压水压力为1-10MPa的高压水喷淋装置作用下干冰清洗后的OLED蒸镀用挡板进行步骤(ⅱ)纯水清洗，然后用挡板先经风刀吹干，后红外加热至75-85℃，经喷砂装置喷砂进行粗糙化处理后水洗，干燥，包装即得。
在另一优选实例中，步骤(ⅱ)纯水清洗中高压水压力为5MPa。
在另一优选实例中，步骤(ⅲ)干燥过程为先经风刀吹干，后红外加热至80℃。
虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。
Claims (10)
1.OLED蒸镀用挡板的干冰清洗装置，其特征在于，包括干冰发生器、材料收集器和清洗腔体，待清洗的OLED蒸镀用挡板置于所述清洗腔体内；其中，
所述清洗腔体为透明或半透明的封闭结构，顶部设有风机过滤机组，底部与所述材料收集器连接，内部设有所述待清洗OLED蒸镀用挡板的固定装置；
所述干冰发生器与所述清洗腔体内部连接；
所述材料收集器设有负压引流装置。
2.根据权利要求1所述的干冰清洗装置，其特征在于，还包括风刀吹干装置、红外加热装置和喷砂装置。
3.根据权利要求1所述的干冰清洗装置，其特征在于，所述清洗腔体为倒梯形结构。
4.根据权利要求1所述的干冰清洗装置，其特征在于，
所述清洗腔体外部与高压水喷淋装置连接；
所述清洗腔体的侧壁设有若干个操作口。
5.OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，如权利要求1-4任一项所述干冰清洗装置将待清洗的OLED蒸镀用挡板经包括以下步骤：
(ⅰ)干冰清洗，和
(ⅱ)纯水清洗，和
(ⅲ)干燥，和
(ⅳ)喷砂的清洗过程。
6.根据权利要求5所述OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，所述步骤(ⅰ)干冰清洗的过程为：
经所述操作口将待清洗的OLED蒸镀用挡板固定于清洗腔体内，并封闭清洗腔体；同时开启所述风机过滤机组进行导流和所述材料收集器的负压引流装置形成负压；再开启所述干冰发生器产生高压干冰，直接喷射到上述OLED蒸镀用挡板上反复喷洗，在冷热膨胀收缩作用下其表面富集的OLED材料迅速分离，在上述到导流和负压双重作用下，上述分离后的OLED材料顺着空气流向流入底部的材料收集器内。
7.根据权利要求5所述OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，所述干冰清洗后的OLED蒸镀用挡板在所述高压水喷淋装置作用下进行所述步骤(ⅱ)纯水清洗，其中，高压水压力为1-10MPa。
8.根据权利要求7所述OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，所述干冰清洗后的OLED蒸镀用挡板在所述高压水喷淋装置作用下进行所述步骤(ⅱ)纯水清洗，其中，高压水压力为5MPa。
9.根据权利要求5所述OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，所述纯水清洗后的OLED蒸镀用挡板先经风刀吹干，后红外加热至75-85℃。
10.根据权利要求5所述OLED蒸镀用挡板的清洗工艺，其特征在于，还包括所述步骤(ⅳ)喷砂后水洗和干燥处理。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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