JP2003001090A

JP2003001090A - 流動層装置

Info

Publication number: JP2003001090A
Application number: JP2001190042A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Oishi; 和男大石; Tsurayuki Morita; 貫之森田; Susumu Natsuyama; 晋夏山
Original assignee: Powrex KK
Current assignee: Powrex KK
Priority date: 2001-06-22
Filing date: 2001-06-22
Publication date: 2003-01-07

Abstract

(57)【要約】【課題】処理コストの低減、設備の小型化、製品品質
の均質化、製品粒度分布のシャープ化、製品収率の向
上、処理容器内の温度低下および排気風量増大を抑制。【解決手段】スプレーガン６は、ドラフトチューブ５
内の上昇気流（噴流）に乗って上昇する粉粒体粒子に向
けて下方から上方向にスプレー液（膜剤液、薬剤液等）
を噴霧するもので、噴霧化空気の噴出圧力が０．２ＭＰ
ａ以上、好ましくは０．２〜０．６ＭＰａ、噴霧化空気
の空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ、好ましくは１
０〜１２０Ｎｌ／ｍｉｎで使用される。スプレーガン６
から噴霧されるスプレー液のミスト中の基材成分が粉粒
体粒子の表面に付着して被覆層が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品、農薬、食
品等の細粒、顆粒等を製造する際に用いられる流動層装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】流動層装置は、一般に、処理容器の底部
から導入した流動化空気によって、処理容器内に粉粒体
粒子の流動層を形成しつつ、スプレーガンからスプレー
液（結合液、膜剤液等）のミストを噴霧して造粒又はコ
ーティング処理を行うものである。この種の流動層装置
の中で、粉粒体粒子の転動、噴流、及び攪拌の１種以上
を伴うものは複合型流動層装置と呼ばれている。また、
スプレー方式としては、流動層の上方から下方向にスプ
レー液を噴霧する方式（トップスプレー方式）、処理容
器の底部から上方向にスプレー液を噴霧する方式（ボト
ムスプレー方式）、処理容器の側部（底部に近い側）か
ら接線方向にスプレー液を噴霧する方式（タンジェンシ
ャルスプレー方式）がある。

【０００３】図５は、粉粒体粒子の噴流を伴う複合型流
動層装置の一構造例（通称「ワースター」）を例示して
いる。この流動層装置は、処理容器３’の中央部にドラ
フトチューブ５’を設置し、該チューブ５’内を上昇す
る気流に乗せて粉粒体粒子に上向きの流れ（噴流）を起
こさせると共に、処理容器３’の底部中央に設置したス
プレーガン６’から該チューブ５’内の粉粒体粒子に向
けて上方向に膜剤液、薬剤液等のスプレー液を噴霧して
コーティング処理を行うものである（ボトムスプレー方
式）。

【０００４】処理容器３’の上部にはフィルター室７’
が設けられており、給気ダクト８’から処理容器３’内
に導入された流動化空気は、粉粒体粒子の流動及び噴流
に寄与した後、処理室３’内を上昇してフィルター室
７’に入り、さらにフィルター室７’に設置されたバグ
フィルター９’を通って排気ダクト１０’に排気され
る。その際、排気中に混じった微粉粒子（原料粉末の摩
損粉やスプレー液中の固形成分が乾燥固化して生成され
た微粉等）はバグフィルター９’によって捕獲され、外
部への排出が防止される。

【０００５】この流動層装置によれば、コーティングゾ
ーンに大量の粉粒体粒子を高速で送り込むことができる
ので、いわゆるスプレードライ現象（スプレー液のミス
トが粉粒体粒子に付着せずに乾燥して粉塵化する現象）
や粒子同士の二次凝集が起こりにくく、微粒子に対して
収率の良いコーティング処理が可能である。

【０００６】ところで、この種の流動層装置では、原料
粒子の運動状態、給排気条件、スプレー液の成分や噴霧
条件等によって、製品粒子の性状、品質、粒度分布等に
大きな違いが生じることが知られている。そのうち、ス
プレー液の噴霧条件は、スプレー液の性質（粘性、展延
性、浸透性等）や原料粒子の性質（粒子径、吸湿性、表
面濡れ性等）などに応じて最適かつ均一なミスト径のス
プレー液ミストを噴霧することに主眼を置いて設定さ
れ、これは、スプレー液の選択と、スプレーガンにおけ
るスプレー液の給液速度、噴霧化空気の噴出圧力、空気
流量と大きく関係している。

【０００７】スプレーガンとしては、高圧かつ比較的大
容量の噴霧化空気（アトマイズエアー）でスプレー液を
ミスト化する標準スプレーガンが一般に使用されてい
る。また、スプレーガンの汚染を減少させ、安定した噴
霧状態を維持するために、標準スプレーガンよりも低圧
かつ大容量の噴霧化空気でスプレー液をミスト化するＨ
ＶＬＰ型(High Volume Low Pressure:大容量低圧力)ス
プレーガンを用いることが特開２０００−１４０７０９
号で提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】標準スプレーガンは、
スプレー液のミスト化に高圧かつ比較的大容量の噴霧化
空気を用いるため、粉粒体粒子に達した時の噴霧化空気
の流速が大きく、噴霧化空気流（ミスト流）よって粉粒
体粒子が粉砕されてしまう可能性がある。また、ボトム
スプレー方式を用いる流動層装置では、粉粒体粒子が噴
霧化空気流によって処理容器の上方部まで吹き上げられ
て、流動層に戻ることができなくなる場合がある。そし
て、これらの現象により、製品品質のばらつき、製品粒
度分布のブロード化、製品収率の低下につながることが
懸念される。

【０００９】また、スプレーガンの使用空気量が多いの
で、処理コストの増大や設備の大型化につながり、さら
に、スプレーガンから大容量の空気が噴出されるので、
処理容器内の温度が低下して処理時間の増大をきたした
り、また排気風量の増大によって、バグフィルター等の
排気設備の大型化が必要になる可能性もある。特に、Ｈ
ＶＬＰ型スプレーガンは標準スプレーガンよりも大容量
の噴霧化空気を用いるので、これらの傾向が顕著であ
る。

【００１０】本発明の課題は、スプレーガンからの噴霧
化空気流による粉粒体粒子の粉砕や吹き上げ現象を抑制
し、製品品質の均質化、製品粒度分布のシャープ化、製
品収率の向上を図ることにある。

【００１１】本発明の他の課題は、スプレーガンによる
スプレー液の微粒化を確保しつつ、使用空気量を少なく
して、処理コストの低減や設備の小型化を図ることにあ
る。

【００１２】本発明の更なる課題は、スプレーガンから
の噴出空気による、処理容器内の温度低下、排気風量の
増大を抑制し、処理時間の短縮、排気設備の小型化を可
能にすることにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、処理容器内に粉粒体粒子の流動層を形成
しつつ、スプレーガンからスプレー液のミストを噴霧し
て造粒又はコーティング処理を行う流動層装置におい
て、スプレーガンを、噴霧化空気の噴出圧力が０．２Ｍ
Ｐａ以上、好ましくは０．２〜０．６ＭＰａで、噴霧化
空気の空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ、好ましく
は１０〜１２０Ｎｌ／ｍｉｎのものとした。噴霧化空気
の空気流量が１０〜５０Ｎｌ／ｍｉｎのものは、特に実
験機用途に好適である。

【００１４】本発明で使用するスプレーガンは、標準ス
プレーガンと比較して、噴霧化空気の噴出圧力がやや低
く（中圧）、又は、同程度かやや高く（高圧）、空気流
量が小さい（低容量）。また、ＨＶＬＰ型スプレーガン
と比較して、噴霧化空気の噴出圧力が高く（中圧又は高
圧）、空気流量が小さい（低容量）。

【００１５】本発明で使用するスプレーガンは、スプレ
ー液を中圧又は高圧の噴霧化空気でミスト化するので、
空気流量を小さくしても、噴出口近傍における噴霧化空
気の流速が大きく、スプレー液のミストを十分に微粒化
することが可能である。

【００１６】また、粉粒体粒子に達した時の噴霧化空気
の流速が小さいので、スプレーガンからの噴霧化空気流
による粉粒体粒子の粉砕や吹き上げ現象が生じにくい。

【００１７】さらに、標準スプレーガンやＨＶＬＰ型ス
プレーガンに比べて、空気流量が小さいので、処理容器
内の温度低下、排気風量の増大も抑制される。

【００１８】上記構成において、スプレーガンは、噴霧
化空気を渦流で噴出する構造のものとすることができ
る。これにより、スプレー液のミストをより微粒化する
ことができる。

【００１９】本発明は、スプレー方式として、処理容器
の底部から上方向にスプレー液を噴霧するボトムスプレ
ー方式、又は、処理容器の側部から接線方向にスプレー
液を噴霧するタンジェンシャルスプレー方式を用いる場
合に顕著な効果を奏する。この発明には、例えば次の２
つの形態が含まれる。第１の形態は、流動層下部に案内
管を設け、この案内管に大量の流動化空気を導入して粉
粒体粒子の噴流層を形成し、流動化粒子群に向けて下方
から上方に向けてスプレー液を噴霧するものである
（「ワースター」）。第２の形態は、処理容器の底部に
回転ディスクを付設し、例えば回転ディスクと処理容器
の底部壁面との間の隙間から流動化空気を導入して流動
層を形成し、流動化粒子群に接線方向スプレー液を噴霧
するものである（「転動流動層装置」）。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
従って説明する。

【００２１】図１は、この実施形態に係る流動層装置
（複合型流動層装置：ワースター）の主要部を示してい
る。

【００２２】処理容器３は、例えば上方部分が円筒状、
下方部分が円錐筒状をなし（上方部分が円錐筒状、下方
部分が円筒状の場合もある。）、処理室３ａの上部空間
に図示されていないフィルター室（図５参照）が設置さ
れ、処理室３ａの底部にパンチングメタル等の多孔板で
構成された気体分散板４が配設される。通常、気体分散
板４の上面には金網等が装着され（図示省略）、処理室
３ａ内の粉粒体粒子が気体分散板４の開口から落下しな
いように配慮されている。また、気体分散板４と所定の
距離を隔ててドラフトチューブ（案内管）５が設置さ
れ、さらに気体分散板４の中央部を貫通してスプレーガ
ン６が上向きに設置される。

【００２３】図２に示すように、気体分散板４は、中央
部にスプレーガン６を挿通するための貫通穴４ａを有
し、貫通穴４ａの外周に開口率（その領域の総面積に占
める開口の総面積の割合）の大きな中央領域４ｂ、中央
領域４ｂの外周に開口率の小さな周辺領域４ｃを有す
る。貫通穴４ａの外径はＤ１、中央領域４ｂの外径はＤ
２、周辺領域４ｃの外径はＤ３である。また、中央領域
４ｂの開口率は例えば１６〜５５％、周辺領域４ｃの開
口率は例えば１．５〜１６％である。

【００２４】図１に示すように、ドラフトチューブ５
は、上方部分に円筒部５ａ、下方部分に、下方に向かっ
て拡大した円錐筒状の下端開口部５ｂを有する。円筒部
５ａの直径はＤ４、下端開口部５ｂの最大直径（開口５
ｂ１の直径）はＤ５である。円筒部５ａの断面積Ａ４
（＝πＤ４²）と、下端開口部５ｂの最大断面積Ａ５
（開口５ｂ１の面積＝πＤ５²）は、例えば１．５≦Ａ
５／Ａ４≦３の関係を有するように設定する。

【００２５】ドラフトチューブ５は、図示されていない
脚部材によって処理容器３に支持され、下端開口部５ｂ
が所定距離を隔てて、気体分散板４の中央領域４ｂと対
向する。尚、ドラフトチューブ５は、下端開口部５ｂと
気体分散板４との間の距離が処理条件等に応じて自在に
調節可能なように設置される。

【００２６】ドラフトチューブ５の下端開口部５ｂの最
大断面積Ａ５（＝πＤ５²）と、気体分散板４の中央領
域４ｂの面積Ａ２｛＝π（Ｄ２²−Ｄ１²）｝は、Ａ２＜
Ａ５、例えば０．４≦Ａ２／Ａ５≦０．９の関係を有す
るように設定する。

【００２７】流動化空気は、気体分散板４を介して底部
から処理室３ａ内に導入する。この実施形態では、気体
分散板４の中央領域４ｂと周辺領域４ｃに対して、それ
ぞれ独立した給気経路７、８から流動化空気を供給する
構成にしてある。すなわち、気体分散板４の中央領域４
ｂには給気経路７を介して流動化空気を供給し、周辺領
域４ｃには給気経路８を介して流動化空気を供給する。
流動化空気の温度・風量等の給気条件は、給気経路７、
８のそれぞれについて独立して制御する。尚、給気経路
７、８は共通の経路とすることもできる。

【００２８】給気経路７から供給された流動化空気は、
気体分散板４の中央領域４ｂから噴出し、下端開口部５
ｂの開口５ｂ１からドラフトチューブ５内に流入して、
該チューブ５内に上昇気流を生成する。このドラフトチ
ューブ５内に流入する大量の流動化空気によってエゼク
ター効果が生じ、周辺部の粉粒体粒子が下端開口部５ｂ
の開口５ｂ１から該チューブ５内に引き込まれ、該チュ
ーブ５内の上昇気流に乗って噴流層を形成する。一方、
給気経路８から供給された流動化空気は、気体分散板４
の周辺領域４ｃから噴出するが、周辺領域４ｃの開口率
が小さいために、この領域４ｃから噴出する流動化空気
の風量・風速は、中央領域４ｂから噴出する流動化空気
よりも小さくなる。そのため、ドラフトチューブ５の上
端開口から流出した粉粒体粒子は、処理室３ａ内をある
程度上昇した後、下降し、ドラフトチューブ５と処理容
器３の壁面との間の空間部を通って気体分散板４の近傍
に達し、エゼクター効果によって下端開口部５ｂの開口
５ｂ１から再びドラフトチューブ５内に引き込まれる。
このようにして、処理容器３内で粉粒体粒子の流動循環
が行われる。

【００２９】また、この実施形態では、処理室３ａの底
部における粒子滞留を効果的に防止するために、処理室
３ａの底部外周に気体噴出手段１０を設けている。気体
噴出手段１０は、例えば、外側リング１０ａと、内側リ
ング１０ｂと、外側リング１０ａと内側リング１０ｂと
の間に形成された環状のチャンバー１０ｃと、内側リン
グ１０ｂの下方に形成された環状のスリット１０ｄと、
チャンバー１０ｃに圧縮空気を供給する給気配管１０ｅ
と、圧縮空気の供給圧力を調整する圧力調整器（図示省
略）とで構成される。給気配管１０ｅを介してチャンバ
ー１０ｃに供給された圧縮空気が、スリット１０ｄから
処理室３ａの底部に噴出し、ドラフトチューブ５の外側
に滞留した凝集粒子を分散して、ドラフトチューブ５内
への循環を促進する。また、スリット１０ｄから噴出し
た圧縮空気は、二次凝集を起こした粒子を分散して、団
粒の発生を一層効果的に防止する。尚、チャンバー１０
ｃへの圧縮空気の供給は連続的に行っても良いが、例え
ばタイマーと電磁弁等を用いて断続的に行っても良い。
また、スリット１０ｄは環状に限らず、周方向に区画さ
れたものでも良い（チャンバー１０ｃも同様）。

【００３０】スプレーガン６は、ドラフトチューブ５内
の上昇気流（噴流）に乗って上昇する粉粒体粒子に向け
て下方から上方向にスプレー液（膜剤液、薬剤液等）を
噴霧するもので、噴霧化空気の噴出圧力が０．２ＭＰａ
以上、好ましくは０．２〜０．６ＭＰａ、噴霧化空気の
空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ、好ましくは１０
〜１２０Ｎｌ／ｍｉｎで使用される。スプレーガン６か
ら噴霧されるスプレー液のミスト中の基材成分が粉粒体
粒子の表面に付着して被覆層が形成される。

【００３１】上記スプレーガン６としては、例えば特開
２０００−２５４５５４号公報に記載された「微粒化ノ
ズル」を用いることができる。図３に示すように、同号
記載の微粒化ノズルは、ノズルボディ２１と、ノズルボ
ディ２１の内部に挿着された中子状の液体通路部材２２
とで構成される。ノズルボディ２１は、気体（噴霧化空
気）を導入する気体導入口２３と、気体導入口２３から
導入された気体を外部に噴出させて、外部混合により液
体を微粒化する気体噴出口２４とを備えている。液体通
路部材２２は、ノズル内部に送り込まれてきた液体を通
過させる液体通路管２５と、液体通路管２５の先端に開
口し、気体噴出口２４に臨むように配置される液体噴出
口２６とを備え、ノズルボディ２１の内側に気体導入口
２３及び気体噴出口２４と連通する気体通路２７を形成
すると共に、気体を渦流化するためのスパイラル状の渦
流形成溝２８を備えている。気体通路２７を上昇してき
た気体（噴霧化空気）は、渦流形成溝２８を主体とする
渦流発生部Ｗによって渦流気体Ｔに変換され、気体噴出
口２４から噴出される。一方、液体噴出口２６から吐出
される液体は、渦流気体Ｔと接触してミスト化され、微
粒ミストＲｍとなって噴霧される。

【００３２】上記公報記載のノズル（スプレーガン）
は、（株）アトマックスより「アトマックスノズル」の
商品名で市販されており、ＡＭ型、ＡＭＣ型、ＡＭＨ
型、ＢＮ型、ＢＮＣ型、ＢＮＨ型、ＣＮ型、ＣＮＰ型等
の各種型式があり、例えば、「ＡＭＣ１２Ｂ」（噴出口
径１．２ｍｍ）、「ＡＭ４５Ｓ」（噴出口径１．５ｍ
ｍ）、「ＢＮ９０Ｓ」（噴出口径２．０ｍｍ）、「ＢＮ
１６０Ｓ」（噴出口径２．０ｍｍ）等を使用することが
できる。この場合、噴霧化空気の噴出圧力を０．３〜
０．６ＭＰａ（高圧）、空気流量を１０〜１８０Ｎｌ／
ｍｉｎ（低容量）にして使用する。

【００３３】あるいは、スプレーガン６として、ランズ
バーグ・インダストリー（株）（デビルビス）より市販
されている「ＬＶＭＰ（Low Volume Medium Pressure）
ガン」（噴出口径０．７ｍｍ、１．１ｍｍ、１．６ｍ
ｍ）を使用することができ、例えば「Ｔ―ＡＧＨＶ−５
８０５−ＤＦＸ」（噴出口径１．１ｍｍ）等を使用する
ことができる。この場合、噴霧化空気の噴出圧力を０．
２〜０．３ＭＰａ（中圧）、空気流量を１０〜１８０Ｎ
ｌ／ｍｉｎ（低容量）にして使用する。尚、このスプレ
ーガンは、噴霧化空気を通常の流れ（渦流ではない流
れ）で噴出し、また、パターン調整用空気も噴出するも
のである。

【００３４】スプレーガン６は、スプレー液を中圧又は
高圧の噴霧化空気でミスト化するので、空気流量を小さ
くしても、噴出口近傍における噴霧化空気の流速が大き
く、スプレー液のミストを十分に微粒化することが可能
である。また、粉粒体粒子に達した時の噴霧化空気の流
速が小さいので、スプレーガン６からの噴霧化空気流に
よる粉粒体粒子の粉砕や吹き上げ現象が生じにくい。さ
らに、標準スプレーガンやＨＶＬＰ型スプレーガンに比
べて、空気流量が小さいので、処理容器３内の温度低
下、排気風量の増大も抑制される。

【００３５】図４は、他の実施形態に係る流動層装置
（複合型流動層装置：ワースター）の主要部を示してい
る。この実施形態の構成が図１に示す構成と異なる点
は、ガイドチューブ１５と仕切カラー１６を備えている
ことである。

【００３６】この実施形態において、ガイドチューブ１
５は、上方に向かって縮小した短円錐筒状をなしてい
る。ガイドチューブ１５の下端開口は、気体分散板４の
中央領域４ｂの外径Ｄ２と等しい（又は略等しい）内径
を有し、気体分散板４の上面に適宜の手段で固定され
る。ガイドチューブ１５の上端開口は、ドラフトチュー
ブ５の下端開口部５ｂの開口５ｂ１と対向する位置にあ
る。ガイドチューブ１５を配置したことにより、気体分
散板４の中央領域４ｂから噴出する流動化空気に、ドラ
フトチューブ５の下端開口部５ｂに向かう流れの方向性
が与えられる。そのため、エゼクター効果が一層高ま
り、ドラフトチューブ５内に引き込まれる粒子の濃度が
一層高まる。尚、ガイドチューブ１５は、上方に向かっ
て拡大した短円錐筒状、あるいは、短円筒状としても良
い。また、高さ寸法を自在に調整できるように設置する
のが良い。

【００３７】仕切カラー１６は、例えば円筒状のもの
で、スプレーガン６の外周を所定の間隔を隔てて包囲す
るように設置される。仕切カラー１６の下端開口は、気
体分散板４の中央領域４ｂの上面に適宜の手段で固定さ
れる。仕切カラー１６の上端開口は、スプレーガン６の
先端（噴出口）と同じ高さ位置か、あるいは、それより
も上方位置にある。仕切カラー１６を配置することによ
り、スプレーガン６の外周との間に環状の気体通路１６
ａが形成される。そして、この気体通路１６ａに沿って
上昇する空気流によって、スプレーガン６の先端周辺領
域における、噴霧化空気の高速流による粒子の粉砕が防
止されると共に、十分に微粒化されていないスプレー液
ミストが粒子に接触することによる凝集（団粒）の発生
が防止される。また、スプレーガン６の先端が気体通路
１６ａに沿って上昇する空気流によって常に覆われるた
め、粒子付着によるスプレーガン６の噴出口の汚れや閉
塞が起こりにくく、長時間に亘って安定した処理操作が
可能となる。尚、仕切カラー１６は、高さ寸法を自在に
調整できるように設置するのが良い。

【００３８】尚、以上説明した実施形態において、ドラ
フトチューブを、図５に示すものと同様の円筒状にして
も良い。

【００３９】

【実施例】下表1に示す各種のスプレーガンを用いてス
プレー液を噴霧し、スプレーガンの噴出口から２５０ｍ
ｍ離れた位置におけるスプレー液ミストのミスト径を計
測した。実施例ＮＯ１及びＮＯ２のスプレーガンは上述
した「アトマックスノズル」（「ＬＶＨＰガン」と表
記）、実施例ＮＯ３及びＮＯ４のスプレーガンは上述し
た「ＬＶＭＰガン」である。比較例ＮＯ５及びＮＯ６の
スプレーガンは、デビルビス製の標準スプレーガン
（「ＨＶＨＰガン」と表記）、比較例ＮＯ７は、デビル
ビス製のＨＶＬＰガンである。尚、スプレー液は、各ス
プレーガンとも同じものを使用した。

【００４０】

【表１】

【００４１】表１に示す計測結果から、実施例ＮＯ１〜
ＮＯ４のスプレーガンは、比較例ＮＯ５〜ＮＯ６の標準
スプレーガンおよび比較例ＮＯ７のＨＶＬＰガンと比較
して、小容量の噴霧化空気量で、同程度のミスト径のス
プレー液ミストを噴霧できることが確認された。

【００４２】

【発明の効果】本発明は、以下に示す効果を有する。（１）スプレー液を噴霧化空気の噴出圧力０．２ＭＰａ
以上、空気流量１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎのスプレーガ
ンでミスト化するので、スプレーガンによるスプレー液
の微粒化を確保しつつ、使用空気量を少なくして、処理
コストの低減や設備の小型化を図ることができる。

【００４３】（２）粉粒体粒子に達した時の噴霧化空気
の流速が小さいので、スプレーガンからの噴霧化空気流
による粉粒体粒子の粉砕や吹き上げ現象が生じにくい。
これにより、製品品質の均質化、製品粒度分布のシャー
プ化、製品収率の向上を図ることができる。

【００４４】（３）標準スプレーガンやＨＶＬＰ型スプ
レーガンに比べて、空気流量が小さいので、処理容器内
の温度低下、排気風量の増大が抑制される。これによ
り、処理時間の短縮、排気設備の小型化を図ることがで
きる。

【００４５】（４）スプレーガンを、噴霧化空気を渦流
で噴出する構造のものとすることにより、スプレー液の
ミストをより微粒化することが可能となる。

【００４６】（５）本発明は、スプレー方式として、処
理容器の底部から上方向にスプレー液を噴霧するボトム
スプレー方式、又は、処理容器の側部から接線方向にス
プレー液を噴霧するタンジェンシャルスプレー方式を用
いる場合に顕著な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態に係る流動層装置の主要部を示す部分
断面図である。

【図２】気体分散板の平面図である。

【図３】スプレーガンの一構造例を示す断面図である。

【図４】他の実施形態に係る流動層装置の主要部を示す
部分断面図である。

【図５】流動層装置の一般的な構造例を示す断面斜視図
である。

【符号の説明】

３処理容器６スプレーガン

フロントページの続きＦターム(参考） 4F033 AA01 BA03 DA01 EA01 KA00 KA02 NA01 4G004 BA02 EA02 4G070 AA01 AB05 AB06 BB32 CA06 CA07 CA13 CB10 CC06 CC11 DA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理容器内に粉粒体粒子の流動層を形成
しつつ、スプレーガンからスプレー液のミストを噴霧し
て造粒又はコーティング処理を行う流動層装置におい
て、前記スプレーガンは、噴霧化空気の噴出圧力が０．２Ｍ
Ｐａ以上で、空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎであ
ることを特徴とする流動層装置。
【請求項２】前記噴霧化空気が渦流で噴出されること
を特徴とする請求項１記載の流動層装置。
【請求項３】前記スプレーガンは、前記処理容器の底
部から上方向にスプレー液を噴霧し、又は、前記処理容
器の側部から接線方向にスプレー液を噴霧することを特
徴とする請求項１又は２記載の流動層装置。