JP4053379B2

JP4053379B2 - 流動層装置

Info

Publication number: JP4053379B2
Application number: JP2002259095A
Authority: JP
Inventors: 晋夏山; 琢也長門
Original assignee: Powrex KK
Current assignee: Powrex KK
Priority date: 2002-09-04
Filing date: 2002-09-04
Publication date: 2008-02-27
Anticipated expiration: 2022-09-04
Also published as: JP2004097852A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ドラフトチューブを備えた流動層装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
流動層装置は、一般に、処理容器の底部から導入した流動化気体によって、処理容器内に粉粒体粒子の流動層を形成しつつ、スプレーガンからスプレー液（膜剤液、結合剤液等）を噴霧して造粒又はコーティングを行うものである。この種の流動層装置の中で、粉粒体粒子の転動、噴流、及び攪拌等を伴うものは複合型流動層装置と呼ばれ、その中で、処理容器内に配設したドラフトチューブにより粉粒体粒子に上向きの噴流を生じさせる流動層装置は通称「ワースター式流動層装置」と呼ばれている。
【０００３】
図７は、ワースター式流動層装置の一般的な構成例を示している。この流動層装置は、処理容器３’の中央部に円筒状のドラフトチューブ５’を設置し、ドラフトチューブ５’内を上昇する気流に乗せて粉粒体粒子に上向きの流れ（噴流）を起こさせ、処理容器３’の底部中央に設置したスプレーガン６’からドラフトチューブ５’内の粉粒体粒子に向けて上向きに膜剤液、薬剤液等のスプレー液をスプレーするものである。この種の流動層装置によれば、スプレーゾーンに大量の粒子を高速で送り込むことができるので、スプレードライ現象や粒子同士の二次凝集が起こりにくく、粒子径の小さな微粒子に対しても収率の良いコーティング処理が可能である。
【０００４】
また、本出願人は、上記のような流動層装置において、ドラフトチューブの下端開口部を下方に向かって拡大する円錐筒状にした構成を既に提案している（特許文献１）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１―６２２７７号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記の既提案の流動層装置によれば、図７に示すような一般的構成の流動層装置に比べ、粒子径の小さな微粒子に対してコーティング処理を効率良く、高い収率で行うことができた。しかしながら、原料粒子（核粒子）の粒子径がより小さくなり、また、原料粒子自身やスプレー液中の基材成分が粘着性を有する場合など、粒子の流動性が低い条件下では、粒子同士の付着凝集性が高まることにより、処理容器の底部の特にドラフトチューブの外側部分でブロッキング、チャンネル現象等により粒子滞留が生じ、処理容器内における粒子の良好な流動循環性が阻害される場合がある。
【０００７】
本発明の課題は、粒子の流動性が低い条件下においても、処理容器内における粒子の良好な流動循環性が得られ、コーティング被膜を均一に、効率良く形成することができる流動層装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、処理容器と、処理容器の内部に配設されたドラフトチューブと、処理容器の底部に配設されたスプレーガンとを備え、処理容器の底部から気体分散板を介して導入した流動化気体によって、処理容器内の粉粒体粒子に、ドラフトチューブの内部を上昇し、処理容器の内壁とドラフトチューブとの間の空間部を下降する方向に循環する流動層を形成し、ドラフトチューブの内部を上昇する粉粒体粒子に向けてスプレーガンから上向きにスプレー液を噴霧する流動層装置において、ドラフトチューブの下端開口部を下方に向かって漸次拡径した形状にすると共に、下端開口部の内側に、下方に向かって漸次拡径した形状を有する内筒部を配置し、内筒部の下端開口は気体分散板と所定距離を隔てて対向し、下端開口部の下端は内筒部の下端開口よりも上方に位置し、下端開口部と内筒部との間に、ドラフトチューブの内部と処理容器の底部の周縁部とを連通させる連通路を設けた。
【０００９】
上記構成において、連通路の一端は、下端開口部の基部の近傍領域に連通させるのが好ましい。
【００１０】
また、上記構成において、ドラフトチューブにおける、下端開口部の基部より上方部分を、上方に向かって漸次拡径した形状にすることができる。
【００１１】
また、上記構成において、ドラフトチューブよりも上方に旋回流発生機構を設けても良い。
【００１２】
また、上記構成において、スプレーガンとして、噴霧化空気の噴出圧力が０．２ＭＰａ以上で、空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎのものを使用することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に従って説明する。
【００１４】
図１は、この実施形態の流動層装置（ワースター式流動層装置）の主要部を示している。
【００１５】
処理容器３の上部空間に図示されていないフィルターシステム（図７参照）が設置され、処理容器３の底部にパンチングメタル等の多孔板で構成された気体分散板４が配設される。通常、気体分散板４の上面には金網等が装着され（図示省略）、処理容器３内の粒子が気体分散板４の開孔から落下しないように配慮されている。また、気体分散板４と所定の距離を隔ててドラフトチューブ５が設置され、さらに気体分散板４の中央部を貫通してスプレーガン６が上向きに設置される。
【００１６】
図２に示すように、気体分散板４は、中央部にスプレーガン６を挿通するための貫通穴４ａを有し、貫通穴４ａの外周に開孔率（その領域の総面積に占める開孔の総面積の割合）の相対的に大きな中央領域４ｂ、中央領域４ｂの外周に開孔率の相対的に小さな周辺領域４ｃを有する。貫通穴４ａの外径はＤ１、中央領域４ｂの外径はＤ２、周辺領域４ｃの外径はＤ３である。また、中央領域４ｂの開孔率は例えば１６〜５５％、周辺領域４ｃの開孔率は例えば１．５〜１６％である。
【００１７】
図１に示すように、ドラフトチューブ５の下端開口部５ｂの内側に内筒部５ｂ２が配置されている。下端開口部５ｂは下方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成され、同様に、内筒部５ｂ２も下方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成される。下端開口部５ｂの下端は、内筒部５ｂ２の下端よりも上方の位置に在る。そして、下端開口部５ｂと内筒部５ｂ２との間に、ドラフトチューブ５の内部と処理容器３の底部周辺とを連通させる連通路５ｂ３が形成される。また、下端開口部５ｂの基部Ｂから上方に一体に延びた上方部分５ａは、上方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成される。
【００１８】
この実施形態において、連通路５ｂ３の一端はドラフトチューブ５の内部において静圧が最も低くなる部位、具体的には下端開口部５ｂの基部Ｂの近傍領域に連通し、連通路５ｂ３の他端は処理容器３における粒子滞留が生じやすい部位、具体的には処理容器３の底部における内筒部５ｂ２の外側部分（底部周縁部）を指向して開口している。尚、連通路５ｂ３は、ドラフトチューブ５の円周方向に連続した形状としても良いし、円周方向の１箇所又は複数箇所で仕切板のようなもので仕切られている形状としても良い。
【００１９】
下端開口部５ｂの基部Ｂの内径はＤ４、下端開口部５ｂの最大内径（連通路５ｂ３の他端の直径）はＤ６、上方部分５ａの最大内径（上端開口５ａ１の直径）はＤ７、内筒部５ｂ２の最大内径（下端開口５ｂ４の直径）はＤ５である。上端開口５ａ１の直径Ｄ７は下端開口５ｂ４の直径Ｄ５よりも小さく設定される。また、基部Ｂの断面積Ａ４（＝πＤ４2 ）と、下端開口５ｂ４の断面積Ａ５（＝πＤ５2 ）は、例えば１．５≦Ａ５／Ａ４≦３の関係を有するように設定される。さらに、基部Ｂの断面積Ａ４（＝πＤ４2 ）と、上端開口５ａ１の断面積Ａ６（＝πＤ７2 ）は、例えば１．５≦Ａ６／Ａ４≦３．５の関係を有するように設定される。また、内筒部５ｂ２の最大内径Ｄ５と、上方部分５ａの最大内径Ｄ７は、例えば１≦Ｄ５／Ｄ７≦２に設定される。また、上方部分５ａの長さＬと最大内径Ｄ７は、例えば１．５≦Ｌ／Ｄ７≦４の関係を有するように設定される。
【００２０】
ドラフトチューブ５は、図示されていない支持部材によって処理容器３に支持され、内筒部５ｂ２の下端開口５ｂ４が気体分散板４の中央領域４ｂと所定距離を隔てて対向する。尚、内筒部５ｂ２は、図示されていない取付部材等を介して下端開口部５ｂに適宜の手段で固定される。また、ドラフトチューブ５は、内筒部５ｂ２の下端開口５ｂ４と気体分散板４との間の距離が処理条件等に応じて自在に調節可能なように設置するのが良い。
【００２１】
ドラフトチューブ５の下端開口５ｂ４の面積Ａ５（＝πＤ５2 ）と、気体分散板４の中央領域４ｂの面積Ａ２｛＝π（Ｄ２2 −Ｄ１2 ）｝は、Ａ２＜Ａ５、例えば０．４≦Ａ２／Ａ５≦０．９の関係を有するように設定される。
【００２２】
流動化気体、例えば流動化空気（熱風）は、気体分散板４を介して底部から処理容器３内に導入される。この実施形態では、気体分散板４の中央領域４ｂと周辺領域４ｃに対して、それぞれ独立した給気経路７、８から流動化空気を供給する構成にしている。すなわち、気体分散板４の中央領域４ｂには給気経路７を介して流動化空気を供給し、周辺領域４ｃには給気経路８を介して流動化空気を供給する。流動化空気の温度・風量等の給気条件は、給気経路７、８のそれぞれについて独立して制御することができる。尚、給気経路７、８は共通の経路とすることもできる。すなわち、気体分散板４の中央領域４ｂと周辺領域４ｃに対して、共通の給気経路から流動化空気を供給する構成としても良い。
【００２３】
この実施形態において、スプレーガン６は、噴霧化空気の噴出圧力が０．２ＭＰａ以上、好ましくは０．２〜０．６ＭＰａ、噴霧化空気の空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ、好ましくは１０〜１２０Ｎｌ／ｍｉｎで使用される。
【００２４】
上記のスプレーガン６として、例えば図３に示す微粒化ノズルを使用することができる。同図に示す微粒化ノズルは、ノズルボディ２１と、ノズルボディ２１の内部に挿着された中子状の液体通路部材２２とで構成される。ノズルボディ２１は、気体（噴霧化空気）を導入する気体導入口２３と、気体導入口２３から導入された気体を外部に噴出させて、外部混合により液体を微粒化する気体噴出口２４とを備えている。液体通路部材２２は、ノズル内部に送り込まれてきた液体を通過させる液体通路管２５と、液体通路管２５の先端に開口し、気体噴出口２４よりも先端側に突出するように配置される液体噴出口２６とを備え、ノズルボディ２１の内側に気体導入口２３及び気体噴出口２４と連通する気体通路２７を形成すると共に、気体を渦流化するためのスパイラル状の渦流形成溝２８を備えている。気体通路２７を上昇してきた気体（噴霧化空気）は、渦流形成溝２８を主体とする渦流発生部によって渦流気体Ｔに変換され、気体噴出口２４から噴出される。一方、液体噴出口２６から吐出される液体は、渦流気体Ｔと接触してミスト化され、微粒ミストＲｍとなって噴霧される。
【００２５】
上記のスプレーガン６として、（株）アトマックスより「アトマックスノズル」の商品名で市販されているＡＭ型、ＡＭＣ型、ＡＭＨ型、ＢＮ型、ＢＮＣ型、ＢＮＨ型、ＣＮ型、ＣＮＰ型等の各種型式のものを使用することができ、例えば、「ＡＭＣ１２Ｂ」（噴出口径１．２ｍｍ）、「ＡＭ４５Ｓ」（噴出口径１．５ｍｍ）、「ＢＮ９０Ｓ」（噴出口径２．０ｍｍ）、「ＢＮ１６０Ｓ」（噴出口径２．０ｍｍ）等を使用することができる。この場合、噴霧化空気の噴出圧力を０．３〜０．６ＭＰａ（高圧）、空気流量を１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ（低容量）にして使用する。尚、このスプレーガンは、上記の微粒化ノズルと同様に、噴霧化空気を渦流で噴出するものである。
【００２６】
あるいは、スプレーガン６として、ランズバーグ・インダストリー（株）（デビルビス）より市販されている「ＬＶＭＰ（Low Volume Medium Pressure）ガン」（噴出口径０．７ｍｍ、１．１ｍｍ、１．６ｍｍ）を使用することができ、例えば「Ｔ―ＡＧＨＶ−５８０５−ＤＦＸ」（噴出口径１．１ｍｍ）等を使用することができる。この場合、噴霧化空気の噴出圧力を０．２〜０．３ＭＰａ（中圧）、空気流量を１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎ（低容量）にして使用する。尚、このスプレーガンは、噴霧化空気を通常の流れ（渦流ではない流れ）で噴出し、また、パターン調整用空気も噴出するものである。
【００２７】
給気経路７から供給された流動化空気は気体分散板４の中央領域４ｂから噴出し、内筒部５ｂ２の下端開口５ｂ４からドラフトチューブ５内に流入して、該チューブ５内に上昇空気流を生じさせる。さらに、この上昇空気流に、スプレーガン６から上向きに噴出される噴霧化空気の空気流が加わって、ドラフトチューブ５内に高速空気流が発生する。ドラフトチューブ５内の粒子は、この高速空気流に乗ってドラフトチューブ５内を上昇する。そして、上端開口５ａ１を通り抜けると、空気の流動面積が急激に拡大されるため、空気流の流速が低下し、粒子は重力によって処理容器３の内壁とドラフトチューブ５の外側との間の空間部を下降する。
【００２８】
一方、給気経路８から供給された流動化空気は気体分散板４の周辺領域４ｃから噴出するが、周辺領域４ｃの開孔率が小さいために、この領域４ｃから噴出する流動化空気の風量・風速は、中央領域４ｂから噴出する流動化空気よりも小さくなる（開孔率による調整に加え、給気源から給気経路８への給気風量・風速を小さく制御する場合もある。）。ドラフトチューブ５の外側の空間部を下降して処理容器３の底部に達した粒子層は、気体分散板４の周辺領域４ｃから比較的低速で噴出する流動化空気により穏やかな流動化作用を受けて見かけ上の粒子間摩擦力が低下し、高速空気流の発生しているドラフトチューブ５内にエゼクター効果（吸引効果）によって吸引され、再び該チューブ５内を上昇する。
【００２９】
この実施形態のドラフトチューブ５は、下端開口部５ｂが下方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成されているため、気体分散板４の中央領域４ｂから噴出した流動化空気の一部がドラフトチューブ５の外側を通過する、いわゆる吹き抜け現象の発生がなく、処理容器３の底部の粒子がエゼクター効果によって内筒部５ｂ２の下端開口５ｂ４からドラフトチューブ５内に効果的に吸引される。
【００３０】
また、下端開口部５ｂと内筒部５ｂ２との間に連通路５ｂ３を設け、ドラフトチューブ５の内部において静圧が最も低くなる基部Ｂの近傍領域と、処理容器３における粒子滞留が生じやすい底部周縁部とを連通路を５ｂ３によって連通させているため、底部周縁部の粒子が連通路５ｂ３からもドラフトチューブ５内に吸引される。そのため、粒子の流動性が低い条件下においても、粒子の滞留が生じにくく、処理容器３内における粒子の良好な流動循環性が得られる。
【００３１】
さらに、この実施形態では、上方部分５ａを上方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成しているため、ドラフトチューブ５内の空気流が上端開口５ａ１を通過する際の、流路の急速拡大による流体抵抗が減じされ、より一層良好な流動循環性が得られる。
【００３２】
上記のようにして、処理装置３内の粒子に、ドラフトチューブ５の内部を上昇し、処理容器３の内壁とドラフトチューブ５の外側との間の空間部を下降する方向に流動循環する流動層が形成される。そして、ドラフトチューブ５内の上昇空気流に乗って上昇する粒子に向けてスプレーガン６から上向きにスプレー液（膜剤液、薬剤液等）が噴霧される。スプレーガン６から噴霧されるスプレー液、例えば膜剤液のミストによって、ドラフトチューブ５内の粒子が湿潤を受けると同時に、膜剤液中に含まれる固形成分が該粒子の表面に付着し、乾燥固化されて、該粒子の表面に被覆層（コーティング被膜）が形成される。この実施形態の流動層装置によれば、処理容器３内における粒子の良好な流動循環性が得られるので、噴霧されたスプレー液ミストによる粒子の過剰湿潤や局部的な濡れ、粒子同士の二次凝集がなく、均一なコーティング被膜を形成することができる。
【００３３】
また、この実施形態のスプレーガン６は、スプレー液を中圧又は高圧の噴霧化空気でミスト化するので、空気流量を小さくしても、噴出口近傍における噴霧化空気の流速が大きく、スプレー液のミストを十分に微粒化することが可能である。また、粒子に達した時の噴霧化空気の流速が小さいので、スプレーガン６からの噴霧化空気流による粒子の粉砕やいわゆる吹き上げ現象（粒子が空気流によって処理容器の上方部まで吹き上げられ、流動層に戻ることができなくなる現象）が生じにくい。さらに、標準スプレーガンやＨＶＬＰ（High Volume Low Pressure：大容量低圧力）型スプレーガンに比べて、空気流量が小さいので、処理容器３内の温度低下、排気風量の増大も抑制される。
【００３４】
さらに、この実施形態では、処理室３ａの底部における粒子滞留を一層効果的に防止するために、処理室３ａの底部外周に気体噴出手段１０を設けている。気体噴出手段１０は、例えば、外側リング１０ａと、内側リング１０ｂと、外側リング１０ａと内側リング１０ｂとの間に形成された環状のチャンバー１０ｃと、内側リング１０ｂの下方に形成された環状のスリット１０ｄと、チャンバー１０ｃに圧縮気体（圧縮空気）を供給する給気配管１０ｅと、圧縮気体の供給圧力を調整する圧力調整器（図示省略）とで構成される。給気配管１０ｅを介してチャンバー１０ｃに供給された圧縮気体が、スリット１０ｄから処理室３ａの底部に噴出し、ドラフトチューブ５の外側に滞留した凝集粒子を分散して、ドラフトチューブ５内への循環を促進する。また、スリット１０ｄから噴出した圧縮気体は、二次凝集を起こした粒子を分散して、団粒の発生を一層効果的に防止する。尚、チャンバー１０ｃへの圧縮気体の供給は連続的に行っても良いが、例えばタイマーと電磁弁等を用いて断続的に行っても良い。この場合、粒子の物性等に応じて、ドラフトチューブ５内に流入する粒子の濃度が高くなるように、圧縮気体の供給／停止の時間設定をすると良い。また、スリット１０ｄは環状に限らず、周方向に区画されたものでも良い（チャンバー１０ｃも同様）。さらに、気体噴出手段は、圧縮気体を噴出する１又は複数のノズルで構成することもできる。また、圧縮気体の噴出方向は処理室３ａの中心方向でも良いし、接線方向でも良い。
【００３５】
いわゆる吹き上げ現象（粒子が空気流によって処理容器の上方部まで吹き上げられ、流動層に戻ることができなくなる現象）をより効果的に防止するため、図８に概念的に示すように、ドラフトチューブ５よりも上方に旋回流発生機構１５を設けても良い。この旋回流発生機構１５は、ドラフトチューブ５の内部を通過して処理容器３内を上昇する粉粒体粒子の流れを、旋回流によって処理容器３の半径方向外側への流れに変化させるものである。旋回流発生機構１５で発生する旋回流に乗って半径方向外側へ飛散した粉粒体粒子は、上昇気流速度が比較的小さい処理容器３の壁面付近に達し、処理容器３内を下降して底部に向かう。従って、処理容器３内における粉粒体粒子の良好な循環状態が維持されると共に、処理容器３の上部空間に配置されたフィルターシステムへの粉粒体粒子の到達が防止又は抑制され、フィルターシステムの目詰まり、粉粒体粒子（微粉）の排気への混入が防止される。
【００３６】
同図に示す例において、旋回流発生機構１５は、機械的な撹拌作用によって旋回流を発生させる撹拌部１５ａと、高圧空気流の作用によって旋回流を発生させる気体噴出部１５ｂとで構成される。撹拌部１５ａは、複数の撹拌羽根１５ａ１を有し、水平面内で回転する撹拌ロータ１５ａ２と、撹拌ロータ１５ａ２を処理容器３の側壁部に支持する支持部１５ａ３とを備えている。撹拌ロータ１５ａ２には、処理容器３の外部に配置された回転駆動源（図示省略）から回転駆動力が入力される（例えば、支持部１５ａ３の内部に駆動軸が回転自在に挿通され、その駆動軸が撹拌ロータ１５ａ２の内部に設けられたベベル歯車機構に連結されている。駆動軸が回転すると、その回転がベベル歯車機構によって変換されて、撹拌ロータ１５ａ２が水平面内で回転する。）。撹拌ロータ１５ａ２が回転すると、その撹拌羽根１５ａ１の撹拌作用によって旋回流が発生する。また、気体噴出部１５ｂは、処理容器３の側壁部に設けられた１又は複数の噴射ノズル１５ｂ１で構成される。各噴射ノズル１５ｂ１は、処理容器３の接線方向に向けて配置される。各噴射ノズル１５ｂ１から噴出する高圧空気流によって旋回流が発生する。尚、旋回流発生機構１５は、撹拌部１５ａと気体噴出部１５ｂの何れか一方のみで構成しても良い。
【００３７】
【実施例】
下記仕様の実施例装置、比較例装置、従来例装置について、コンピュータシミュレーションにより、処理容器内の空気流動の解析を行った。その結果を図４〜図６に示す。
【００３８】
（１）実施例装置（図４）
ドラフトチューブ５の下端開口部５ｂを下方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成すると共に、下端開口部５ｂの内側に、下方に向かって漸次拡径した円錐形状を有する内筒部５ｂ２を配置して、両者の間に連通路５ｂ３を設けた（図１に示す構成）。
【００３９】
（２）比較例装置（図５）
ドラフトチューブの下端開口部を下方に向かって漸次拡径した円錐筒形状に形成。また、ドラフトチューブの上方部分を円筒形状に形成。
【００４０】
（３）従来例装置（図６）
ドラフトチューブ全体を円筒形状に形成。
【００４１】
尚、スプレーガンは、実施例装置、比較例装置、従来例装置ともに同一の標準スプレーガンとした。また、気体分散板も、実施例装置、比較例装置、従来例装置ともに同一のものとした（開孔率の相対的に大きな中央領域と、開孔率の相対的に小さな周辺領域を有する。）。
【００４２】
図６に示すように、従来例装置では、気体分散板の中央領域から噴出した流動化空気の一部がドラフトチューブの外側を通過していることが分かる。この現象は、実際のコーティング操作においていわゆる吹き抜け現象を発生させ、粒子の良好な循環を阻害する原因となる。
【００４３】
図５に示すように、比較例装置では、粒子の良好な循環を阻害する上記の吹き抜け現象は発生していない。しかし、ドラフトチューブへの粒子の吸引エリアは従来例装置に比較してさほど広がっていない。
【００４４】
図４に示すように、実施例装置では、下端開口部５ｂと内筒部５ｂ２との間の連通路５ｂ３にも上昇空気流が発生していることが分かる。これにより、処理容器３の底部周縁部にある粒子は連通路５ｂ３の部分からも吸引作用を受けることになり、ドラフトチューブ５への粒子の吸引エリアは従来例装置に比較して大幅に広がっている。
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、粒子の流動性が低い条件下においても、処理容器内における粒子の良好な流動循環性が得られ、コーティング被膜を均一に、効率良く形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態に係る流動層装置の主要部を示す部分断面図である。
【図２】気体分散板の平面図である。
【図３】スプレーガンの構造例を示す断面図である。
【図４】コンピュータシミュレーションによる空気流動の解析結果を示す図である。
【図５】コンピュータシミュレーションによる空気流動の解析結果を示す図である。
【図６】コンピュータシミュレーションによる空気流動の解析結果を示す図である。
【図７】ワースター式流動層装置の一般的な構成例を示す概念図である。
【図８】本発明の他の実施形態を示す概念図である。
【符号の説明】
３処理容器
４気体分散板
５ドラフトチューブ
５ａ上方部分
５ｂ下端開口部
５ｂ２内筒部
５ｂ３連通路
Ｂ基部
６スプレーガン
１５旋回流発生機構

Claims

処理容器と、該処理容器の内部に配設されたドラフトチューブと、前記処理容器の底部に配設されたスプレーガンとを備え、前記処理容器の底部から気体分散板を介して導入した流動化気体によって、該処理容器内の粉粒体粒子に、前記ドラフトチューブの内部を上昇し、前記処理容器の内壁と前記ドラフトチューブとの間の空間部を下降する方向に循環する流動層を形成し、前記ドラフトチューブの内部を上昇する粉粒体粒子に向けて前記スプレーガンから上向きにスプレー液を噴霧する流動層装置において、
前記ドラフトチューブの下端開口部を下方に向かって漸次拡径した形状にすると共に、該下端開口部の内側に、下方に向かって漸次拡径した形状を有する内筒部を配置し、
前記内筒部の下端開口は前記気体分散板と所定距離を隔てて対向し、
前記下端開口部の下端は前記内筒部の下端開口よりも上方に位置し、
前記下端開口部と前記内筒部との間に、前記ドラフトチューブの内部と前記処理容器の底部の周縁部とを連通させる連通路を有することを特徴とする流動層装置。
前記連通路の一端が、前記下端開口部の基部の近傍領域に連通していることを特徴とする請求項１に記載の流動層装置。
前記ドラフトチューブにおける、前記下端開口部の基部より上方部分を、上方に向かって漸次拡径した形状にしたことを特徴とする請求項１又は２に記載の流動層装置。
前記ドラフトチューブよりも上方に旋回流発生機構を設けたことを特徴とする請求項１から３の何れかに記載の流動層装置。
前記スプレーガンは、噴霧化空気の噴出圧力が０．２ＭＰａ以上で、空気流量が１０〜１８０Ｎｌ／ｍｉｎであることを特徴とする請求項１から４の何れかに記載の流動層装置。