JPH06190261A - 造粒・コーティング装置 - Google Patents

造粒・コーティング装置

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JPH06190261A
JPH06190261A JP35792092A JP35792092A JPH06190261A JP H06190261 A JPH06190261 A JP H06190261A JP 35792092 A JP35792092 A JP 35792092A JP 35792092 A JP35792092 A JP 35792092A JP H06190261 A JPH06190261 A JP H06190261A
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JP
Japan
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coating
spouted bed
granulation
control member
granulating
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JP35792092A
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English (en)
Inventor
Isao Sekiguchi
勲 関口
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Fuji Paudal Co Ltd
Original Assignee
Fuji Paudal Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、粒子群の付着や細かい粒子の飛
散等がなく、極めて良好な造粒およびコーティングの可
能な噴流層を利用した造粒・コーティング装置を提供す
ることを目的とする。 【構成】 本発明の造粒・コーティング装置は、下部
円錐部と上部円筒部とよりなる造粒槽と、その下部円錐
部に配置された回転可能なダブルコーン型の噴流層制御
部材とよりなり、下方から旋回するエアーを供給して噴
流層制御部材の周囲を通った後渦巻噴流層を形成せし
め、これによって良好な造粒やコーティングを行なうよ
うにしたことを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、渦巻噴流層を利用して
造粒やコーティングを行なう造粒・コーティング装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の噴流層造粒装置は、図11に示す
構成で、下部円錐部1aと上部円筒部1bとからなる造
粒槽1と造粒槽1の下部円錐部1aの下端に接続するエ
アー供給用パイプ2とからなり、パイプ2よりのエアー
により図3の(B)に示すような噴流層を形成して造粒
を行なうものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の噴流
層造粒装置は、一般に噴流孔からの気体ジェットにより
粗粒や、やや湿潤状態の粒子群などには強制的に循環流
を与えるが、付着性の大きい粒子群や粒子が細かい粒子
群に対しては、噴流外側の環状粒子層での粒子運動が停
滞しやすく、更に噴流による粒子飛散が起こりやすい欠
点がある。
【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、粒子群の付着や細かい粒子の飛散などの
ない噴流層を利用しての造粒・コーティング装置を提供
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の造粒・コーティ
ング装置は、下部円錐部と上部円筒部とよりなる造粒槽
と、造粒槽の下部円錐部内に配置されていて鉛直線のま
わりに回転可能なダブルコーン型をした噴流層制御部材
とよりなり、造粒槽の下端より渦巻状に旋回するエアー
を供給し、このエアーが造粒槽内壁面と回転する噴流層
制御部材の外壁面との間を通って渦巻状の噴流層を形成
するようにし、この渦巻噴流層により造粒又はコーティ
ングを行なうようにしたものである。
【0006】又本発明の造粒・コーティング装置は、更
に噴流層制御部材に2流体ノズルを配置し、この2流体
ノズルによりエアーおよび液状バインダー又はコーティ
ング液を噴流層制御部材より外方へ向けて噴射させて本
発明の目的を一層効果的に達成し得るようにしている。
【0007】更に、本発明の造粒・コーティング装置
は、造粒槽の下部円錐部と上部円筒部との境界付近に中
央に開口を有する環状の邪魔板を設けることによって噴
流層の上下方向の循環が良好に行なわれるようにした。
又噴流層制御部材の回転軸の上方の部分に例えば環状邪
魔板の開口より上方に円板状の邪魔板を設ければ一層望
ましい。
【0008】
【実施例】次に本発明の造粒・コーティング装置の実施
例を図面にもとづいて説明する。
【0009】図1は本発明の造粒・コーティング装置の
断面図で、1は造粒槽で、下部円錐部1aと上部円筒部
1bとよりなり、又その下部にはエアー供給口2が接続
され、このエアー供給口2の造粒槽の下部円錐部1aへ
の接続部分付近には旋回流用ノズル20が設けられてい
る。このノズル20は、例えば図2に示すように四方よ
りエアー供給口2にエアーを供給するように配置されて
いる。これにたよってエアー供給口2に供給されるエア
ーは、この四つのノズル20よりのエアーが合流して回
転しながら上方へ進む渦巻状旋回流となる。3は、スパ
ウティングコントローラー(噴流層制御部材)であっ
て、回転軸4により下部円錐部1a内に位置するように
保持されている。この噴流層制御部材3の側部には、2
流体ノズル5Aが配置されていて、この2流体ノズル5
からは、エアーと液状バインダーまたはコーティング液
が噴射されるようになっている。
【0010】このような構成の本発明の造粒装置は、造
粒槽下部のノズル20よりのエアーにより渦巻き状に上
昇する流れとなり、又造粒槽1の下部円錐部1aの内壁
と噴流層制御部材3の外壁との間を通り渦巻状に上昇
し、図3の(A)に示すような流れになる。噴流層制御
部材の、2流体ノズルよりのエアーおよび液状バインダ
ー又はコーティング液の噴射とによって粒子群を渦巻状
の運動をさせて造粒又はコーティングを行なう。ここで
更に噴流層制御部材3を回転軸4の回転により回転させ
ることによって2流体ノズルの噴出孔の位置が時間と共
に変化するようにしている。
【0011】又噴流層制御部材3は、上下動機構30に
よる軸4の上下動により上下動し、この上下動によりそ
の外壁面と造粒槽の下部円錐部の内壁面との間隔を変化
させ得る。更に、運転終了後は、噴流層制御部材3を十
分に上方に引きあげることによって、この噴流層制御部
材の外壁面と造粒槽の下部円錐部の内壁面との間の間隔
を大にして原料粉粒体を落下させ排出口31より排出さ
せることが出来る。
【0012】図4は、本発明の噴流層制御部材(スパウ
ティングコントローラー)の拡大断面図で、回転軸4の
うちの噴流層制御部材3の中間部分より下方に位置する
部分は2流体ノズル用の圧縮空気と通す中空の管状をな
し、その中央には液体状バインダーまたはコーティング
液を供給するパイプ5が配置されている。又噴流層制御
部材3には、斜め上方を向いた孔6が形成され、前記の
パイプ5がこの孔6に沿って曲げられ、その先端にノズ
ルが配置されている。又パイプ5の下方は、ポンプに接
続され、前記の液体状バインダー又はコーティング液を
収納する容器に接続されている。
【0013】このように、噴流層制御部材3は、回転軸
4の回転と共にコンプレッサーよりの圧縮空気の供給に
よる軸4の管状部分および孔6を通っての斜め上方への
空気の噴出と、容器中の液体(バインダー又はコーティ
ング液)のポンプによるパイプ5を通っての供給とによ
り、回転軸4を中心としての旋回移動を行なうノズルよ
りの液の噴霧が行なわれる。これにより、造粒槽内にブ
ロアーからのエアーによって、噴流層内で流動化されて
いる原料に対して液状バインダー又はコーティング液の
噴霧が行なわれる。この噴霧は噴流層制御部材3が回転
している時に行なわれるため、噴霧される個所も時間と
共に変化し、一箇所に限られることはない。したがって
良好な造粒又はコーティングが行なわれる。
【0014】この実施例では、また造粒槽の下部円錐部
1aと上部円筒部1bとの境界付近に邪魔板7を設けて
ある。更に噴流層制御部材3の回転軸4に円板状の邪魔
板8が設けられている。
【0015】これら邪魔板7,8のうち、前者の環状の
邪魔板7は、下部円錐部1aの内壁に沿って上昇する粒
子群に反転運動を起こさせ、かつ内部循環運動を円滑に
する作用を有している。また後者の円板状邪魔板8は、
環状の邪魔板7の中央の空間を更に上昇する粒子を衝突
させ又遠心力により円筒内壁面へ移動させて環状邪魔板
7の上側表面の傾斜に沿って降下させる作用を有する。
このような作用を持たせるためには、環状邪魔板7は、
図示するように中央開口に向けて下方に向かう傾斜した
形状とすることが望ましい。
【0016】以上述べたように本発明の実施例の造粒・
コーティング装置によれば、エアー供給口2の造粒槽1
との接続部付近に旋回流用ノズル20を配置し又造粒槽
1の下部円錐部1a内にその内壁面との間に空隙を有す
るようにダブルコーン型の噴流層制御部材3を配置して
あるので、造粒槽下方よりのエアーは、渦巻状旋回流と
なって前記の空隙を通って流れ、かつこのエアーは造粒
槽の内壁面に沿って流れ、その結果造粒槽内に投入され
た原料(粒子群)も、造粒槽の内壁面に沿った渦巻状旋
回流となって上昇し、更に上部にて流速が次第に失われ
中央部から落下する。これによって、図3の(B)に示
す噴流層とは逆向きの図3の(A)のような循環流とな
る。この循環流により、造粒槽の壁面への付着の少ない
造粒やコーティングの操作を行なうことが出来る。
【0017】更に、エアーは旋回流用ノズルからのエア
ーは、旋回流となって上昇するので、造粒槽と噴流層制
御部材との間を通って上昇するエアーは、回転力を与え
られ図3の(A)に示すように旋回しながら循環する流
れ(渦巻流)となる。この空気流により、投入された原
料も同様の運動が行なわれ、良好な造粒・コーティング
操作が行なわれる。
【0018】更に噴流層制御部材にノズルを設けエアー
を噴射させるようにすれば、造粒槽の上部円筒部付近ま
で旋回流が得られる。又このノズルを2流体ノズルとし
て一方をエアー又一方を液状バインダーがコーティング
液とすれば、このノズルよりのバインダー又はコーティ
ング液の噴霧による造粒又はコーティングを行なうこと
が可能である。
【0019】上記のように噴流層制御部材にノズルを設
ける場合には、図4に示すようにノズルよりの噴射の方
向を斜め上方にすると一層効果的である。
【0020】一般に、流動層造粒装置やコーティング装
置においては、舞い上がった粉粒体を除去するためにバ
グフィルターが造粒層上部に設置される。しかしこのバ
グフィルターは、大きなスペースをとり、又フィルター
表面に微粒子が付着することによる微粒子の除去が面倒
であり、目詰まりによる問題も生ずる。
【0021】本発明において、造粒槽の天井に形成され
ている排気口11にフィルターを設けるのが望ましい。
このフィルターとしては、例えば、図5に示すような構
造のものが考えられる。即ちこのフィルターは、モータ
ー12にて回転される分級ローター13等よりなり、こ
の分級ローターは、図6に示す通りの多数の羽根14を
同一方向に傾斜させ配置したものである。これによって
造粒槽上方へ向け流れるエアーを矢印のように通過させ
て排気口15より排気する。ここで原料粒子は、フィル
ター(分級器)の羽根14によりはじき飛ばされ造粒槽
下方に戻される。
【0022】次に本発明の装置を用いての実験例を述べ
る。この実験例で用いた材料は、本発明の装置を利用し
た時の粒体の流動化等を見るためのもので、体面積平均
径が夫々2.45×10-4(m)、1.44×10
-4(m)、1.04×10-4(m)の3種類のガラス球
を用いた。
【0023】これらガラス球を塔(槽)内に層高Hが5
0から175mmの範囲内の所定量充填して流動化特性
を求める実験を行なった。
【0024】ここで粒子層の流動化特性として、噴流層
下部の円錐内壁面と、噴流層制御部材(スパウティング
コントローラー)表面とのクリアランスにおける円相当
断面積基準(直径:Di)の空気噴流速度に対する粒子
層の圧力損失を測定した。又コーティング実験として
は、スプレー液としてNaCl水溶液(5〜10wt
%)を用い、粒子への付着量を0.02N硝酸銀水溶液
で分析した。
【0025】まず、装置として円錐部と円筒部が透明な
アクリル製の造粒槽(塔)を用いて、造粒又はコーティ
ング時の粒子群の挙動を観察した。その結果、図3の
(A)に示すような渦巻状の噴流層が形成されているこ
とがわかった。
【0026】又円錐部下部の噴流速度Uと圧力損失ΔP
との関係は、図7に示すように固定層において直線的に
比例しつつ最高圧力損失ΔPMに達し、その後噴流化と
同時にΔPは、急激に低下して噴流層においては一定値
を維持している。ここで、噴流層制御部材(スパウティ
ングコントローラー)を回転させることにより最小噴流
化速度は低めの値になる。
【0027】最小噴流化速度Ums(m・s-1)は、層高
H(m)に対し下記の式で与えられる。
【0028】Ums =A+BlnH ここでA,Bは実験定数で、これを他の因子である平均
粒子径DPVS(m)、噴流層空気流入口(円相当径)Di
(m)、スパウティングコントローラーの回転N
(S-1)で求めるとUmsは次の式(1)のようになる。
【0029】 Ums =(0.475D PVS 0.30 i -0.37−8.90・10 -3
×N)+(0.3414 DPVS 0.33i -0.46−4.0・10-3
×N)lnH・・・(1) 本発明の造粒・コーティング装置により形成される渦巻
噴流層の噴流中の圧力損失ΔPS(Pa)は、式(1)
にて表わされるUms についてΔPS/H=KS ms n
のように表わし、これに実験定数KSへのDiとNとの影
響として調べると、次の式(2)のように整理される。
【0030】 ΔPS/H=8.67×10-4×Di 0.22 ms 0.40+233N・・・(2) 次に粒子群のコーティング特性を説明する。2流体ノズ
ルにより生ずる液滴の粒径および粒度分布を整理する。
単一粒子のコーティング速度dm/dθは、次のように
表わされる。
【0031】 dm/dθ=1/2(ρCφS2)(dD/dθ) =(kC−kA)φS・D2 ・・・(3) したがって粒径Dと時間θとの関係は、次のように表わ
される。
【0032】D=KCAθ+DaCA=2(kC−kA)/ρC ここでkCとkAは、コーティングと摩耗の速度定数、K
CA(ms-1)はその統括速度定数、ρC(kg・m-3
はコーティング物質の密度である。
【0033】図8は、コーティング液濃度をXL=0.
05(kg−Nacl/kg−溶液)、スプレー液流量
をQL=1.0×10-7(m3・s-1)、スプレー空気流
量をQA=1.0×10-4(m3・s-1)、噴流化空気量
をQ=2.8×10-3(m3・s-1)、噴流層制御部材
(スパウティングコントローラー)の回転速度をN=
2.5(s-1)とした時のコーティング粒子の粒度分布
を示すグラフである。尚図8において縦軸は篩上積算個
数百分率で、曲線aは時間θが0秒、曲線bはθが18
00秒、曲線cはθが3600秒、曲線dはθが540
0秒、曲線eはθが7200秒の場合の粒度分布であ
る。この図から明らかなよう、経時変化に伴って均一な
コーティングが行なわれる。
【0034】又図9は、Q,QA,QLの値を一定(Q=
4.20×10-3、QA=2.00×10-4、QL=2.
00×10-7)としコーティング液濃度XLを変化させ
た時のコーティングによる粒子の成長を示すグラフであ
る。尚このグラフにおいて曲線aはXL=0.100、
曲線bはXL=0.075、曲線cはXL=0.050に
対するものである。上記の総括速度定数KCAは、この図
に示す曲線の勾配であり、これは更に各種の操作条件に
より影響される。特にKCAの値は噴流層の流動化空気量
が増加すると減少し、QA/Qの値はこれと逆の傾向を
示す。それはスプレー領域の拡大と液滴が小になるため
で、コーティング効果が適正であると思われる。しかし
噴流層制御部材(スパウティングコントローラー)の回
転によりKCAは減少し、摩耗効果が現われやすく、粒径
制御上の観点からは、別の効果が期待できる。コーティ
ング効果ηCは、コーティング物質とコーティング溶液
と粒子の密度を夫々ρC,ρL,ρS(kg・m-3)とす
ると次の式(4)で表わされる。
【0035】 ηC={(D/DO3−1}/{ρLLLθ/(SO−ESθ)} ×(ρS/ρC) ・・・(4) 実験上は、ESは無視出来るので、特にコーティング物
質の摩耗に対する噴流層制御部材(スパウティングコノ
トローラー)の回転の影響は図10に示す。この図にお
いて曲線a,bは、夫々Q=2.80×10-3でN=0
およびQ=2.80×10-3でN=2.50である。
【0036】上記の実験例では、例えば図7に示す通
り、空気流の速度Uを上昇させると圧力損失ΔPは直線
状に急激に上昇し、最大圧力損失ΔPSにて垂直に落ち
直ちに噴流層が安定することがわかる。従来の噴流層造
粒においては、一般に空気流の速度を上昇させるとΔP
は緩く上昇してΔPSに達し、その後不安定な状態を続
けながらΔPが下降し一定値になる。このように本発明
では、噴流層の安定化が極めて早く、エアー供給後早い
時点から造粒やコーティング操作を開始し得る。
【0037】又図8からコーティングの際の粉子分布を
示す曲線が、原料粒子の分布曲線aの形状を保ったまま
曲線b,c,d,eのように径が増大する方向に移動し
ている。即ち粒子径の分布は、一定の分布を保ちながら
時間経過と共に粒子径が全体的に増大して行く。つまり
コーティングにおける運転制御が極めて容易である。
【0038】以上のように、実験結果から本発明の装置
が有効であることが明らかである。
【0039】
【発明の効果】本発明の造粒・コーティング装置によれ
ば、渦巻状の噴流層が得られるので、例えば最大圧力損
失に達した後直ちに最小噴流化速度となり、その後安定
した状態を保つため、短時間のうちに良好な造粒・コー
ティング操作を行ない得る。又噴流層の流れが従来の噴
流層と逆になり粒子群の付着や細かい粒子の飛散等のな
い運転が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例の断面図
【図2】 本発明で用いる旋回流ノズルの配置を示す
【図3】 本発明および従来例の噴流層の流れを示す
【図4】 本発明で用いる噴流層制御部材の拡大断面
【図5】 本発明の実施例に設けられたフィルターの
断面図
【図6】 上記フィルターの分級器部分の側面図
【図7】 噴流速度と圧力損失との関係を示すグラフ
【図8】 コーティングにおける粒度分布の経時変化
を示すグラフ
【図9】 コーティングにおける粒子の成長を示すグ
ラフ
【図10】 スプレー条件とコーティング効率の関係を
示すグラフ
【図11】 従来の噴流層造粒装置の断面図
【符号の説明】
1 造粒槽 1a 下部円錐部 1b 上部円筒部 2 エアー供給口 3 噴流層制御部材 4 回転軸 5 2流体ノズル 20 旋回流用ノズル

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下部円錐部と上部円筒部とよりなる造
    粒槽と、造粒槽の下部円錐部に配置された回転可能なダ
    ブルコーン型の噴流層制御部材とよりなり、造粒槽の下
    方より旋回するエアーを供給し、造粒槽内壁面と噴流層
    制御部材との間を通った後渦巻噴流層を形成して造粒又
    はコーティングを行なう造粒・コーティング装置。
  2. 【請求項2】 噴流層制御部材に2流体ノズルを設
    け、2流体ノズルよりエアーおよびバインダー液、又は
    コーティング液を噴射するようにした請求項(1)の造
    粒・コーティング装置。
  3. 【請求項3】 前記造粒槽の下部円錐部と上部円筒部
    との境界付近に環状の邪魔板を配置した請求項(1)又
    は(2)の造粒・コーティング装置。
  4. 【請求項4】 前記環状の邪魔板より上部の噴流層制
    御部材の回転軸に設けられた円板状の邪魔板を有する請
    求項(1),(2)又は(3)の造粒・コーティング装
    置。
JP35792092A 1992-12-25 1992-12-25 造粒・コーティング装置 Pending JPH06190261A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012091159A (ja) * 2010-10-01 2012-05-17 Nippon Pneumatic Mfg Co Ltd 気流式粉体処理装置及び方法

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