JP2002542214A - 触媒の水溶液中で水およびシクロヘキサノンを酢酸と置換する方法 - Google Patents

触媒の水溶液中で水およびシクロヘキサノンを酢酸と置換する方法

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JP2002542214A JP2000612244A JP2000612244A JP2002542214A JP 2002542214 A JP2002542214 A JP 2002542214A JP 2000612244 A JP2000612244 A JP 2000612244A JP 2000612244 A JP2000612244 A JP 2000612244A JP 2002542214 A JP2002542214 A JP 2002542214A
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デイビッド シー． デコスター，
マーク ダブリュー． ダッセル，
ユースタシオス バッシリオウ，
アダー エム． ロスタミ，
ダグラス ジェイ． ダッジェオン，
Original Assignee
アールピーシー インコーポレイテッド
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    • C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、触媒（好ましくは、コバルト化合物）の水溶液中で、水およびシクロヘキサノンを酢酸と交換する方法に関する。このような水溶液は、シクロヘキサンのアジピン酸への直接酸化によって生成される反応生成物のシクロヘキサノン／水溶液からの水で、触媒を抽出することによって製造される。水およびシクロヘキサノンの両方の交換は、溶媒交換カラム中で実施され、ここで、酢酸は触媒を溶解し、一方で、水蒸気はシクロヘキサノンをコンデンサー内へ押し込み、後に、デカンターによって二相の液体相が形成され得、分離され得；上部液体相は大部分のシクロヘキサノンを含有し、下部液体相は大部分の水を含有する。シクロヘキサノンは予備処理ゾーン中で除去され得、ここで水の一部もまた除去され得、後に濃縮された抽出物が溶媒交換カラムに入る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の分野） 本発明は、触媒をリサイクルする方法に関し、より詳細には、シクロヘキサン
からアジピン酸への酸化後に生成する、触媒の溶液中の溶媒を、触媒を酸化プロ
セスの開始に有利に再利用可能にする様式で、交換する方法に関する。
【０００２】 （発明の背景） 炭化水素の酸化による酸の形成に関する参考文献（特許および論文の両方）は
、あり過ぎるほどあり、最も重要なものの１つには、アジピン酸がある。アジピ
ン酸は、ナイロン６６繊維および樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、および種
々雑多な他の化合物を生成するのに使用される。
【０００３】 アジピン酸を製造するには、種々の方法がある。従来の方法は、シクロヘキサ
ンを酸素で酸化してシクロヘキサノンとシクロヘキサノールとの混合物（ＫＡ混
合物）にする第一工程、次いで、ＫＡ混合物を硝酸でアジピン酸に酸化する工程
を包含する。他の方法には、特に、「ヒドロペルオキシド法」、「ホウ酸法」お
よび「直接合成法」（これは、溶媒、触媒および促進剤の存在下にて、シクロヘ
キサンをアジピン酸に酸素を用いて直接的に酸化することを包含する）が挙げら
れる。
【０００４】 直接合成法は、長い間にわたって、注目されていた。しかしながら、今日まで
、商業的な成功は殆ど見られない。その理由の１つには、この方法は、一見した
ところ、極めて簡単に見えるものの、実際には、極めて複雑なことがある。この
複雑性があるために、様々な文献において、著しく矛盾した結果、所見および見
解があり得る。
【０００５】 直接合成法に従って反応が起こった後、２相の液相の混合物は、主にアジピン
酸からなる固相と共に、室温で存在していることが周知である。これらの２相の
液相は、「極性相」および「非極性相」と呼ばれている。しかしながら、「極性
相」からアジピン酸を分離しこれらの相をさらに処理してまたは処理せずに部分
的または全体的に反応器に再利用すること以外、これらの２相の重要性は、あま
り注目されていない。
【０００６】 直接合成法に関する殆どの研究は、文字どおりバッチ様式で行われるか、また
は全て実用的な目的のために行われることに注目することもまた、重要である。
【０００７】 上述のように、酸（例えば、アジピン酸）および／または中間体生成物（例え
ば、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、シクロヘキシルヒドロペルオキシ
ドなど）を生成するための有機化合物の酸化に関する参考文献は、あり過ぎるほ
どある。
【０００８】 以下の参考文献は、特に、二酸および他の中間体酸化生成物の調製に関連した
酸化プロセスの代表的なものと考えられ得る。
【０００９】 米国特許第５，４６３，１１９号（Ｋｏｌｌａｒ）は、以下（１）、（２）お
よび（３）による、Ｃ５〜Ｃ８脂肪二塩基酸の酸化的調製のためのプロセスを開
示する： （１）（ａ）液相中の、５〜８個の環炭素原子を有する少なくとも１つの飽和脂
環式炭化水素と、 （ｂ）過剰の酸素ガスまたは酸素含有ガスとを、 （ｃ）１級および／または２級水素原子のみを含む有機酸を含む溶媒、および （ｄ）反応混合物１０００グラムにつき少なくとも約０．００２モルの多価重
金属触媒の存在下で、反応させる工程； （２）脂肪族二塩基酸を除去する工程；ならびに （３）脂肪族二塩基酸の除去後に残った、中間体、酸化後の成分、およびそれら
の誘導体を酸化反応に再利用する工程。
【００１０】 米国特許第５，３７４，７６７号（Ｄｒｉｎｋａｒｄら）は、段階的反応器（
ｓｔａｇｅｄ ｒｅａｃｔｏｒ）（例えば、反応蒸留カラム）における、アジピ
ン酸シクロヘキシルの形成を開示する。主要量のベンゼンおよび少量のシクロヘ
キセンを含む混合物は、反応ゾーンの下部に供給され、そしてアジピン酸は反応
ゾーンの上部に供給され、アジピン酸シクロヘキシルが形成され、そして反応ゾ
ーンの下部から除去され、そしてベンゼンは反応ゾーンの上部から除去される。
この反応ゾーンはまた酸触媒を含む。
【００１１】 米国特許第５，３２１，１５７号（Ｋｏｌｌａｒ）は、以下（１）および（２
）による、対応する飽和脂環式炭化水素の酸化による、Ｃ５〜Ｃ８脂肪族二塩基
酸の調製のためのプロセスを開示する： （１）約７％と約３０％との間の脂環式炭化水素変換レベルで、 （ａ）液相中の、５〜８個の環炭素原子を有する少なくとも１つの飽和脂環式
炭化水素と、 （ｂ）過剰の酸素ガスまたは酸素含有ガス混合物とを、脂環式炭化水素（ａ）
１モルにつき１．５モル未満の溶媒（ここで、この溶媒は、１級および／または
２級水素原子のみを含む有機酸を含む）、および （ｄ）反応混合物１０００グラムにつき少なくとも約０．００２モルの多価重
金属触媒の存在下で、反応させる工程；ならびに （２）Ｃ５〜Ｃ８脂肪族二塩基酸を単離する工程。
【００１２】 米国特許第３，９８７，１００号（Ｂａｒｎｅｔｔｅら）は、シクロヘキサン
を酸化してシクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを生成するプロセスを記
載し、このプロセスは、少なくとも３つの連続した酸化ステージの各々において
、各ステージに、酸素分子および不活性ガスを含むガスの混合物を導入すること
によって、液体シクロヘキサンのストリームを酸素と接触させる工程を包含する
。
【００１３】 米国特許第３，９５７，８７６号（Ｒａｐｏｐｏｒｔら）は、区分された酸化
プロセス（ここで、酸素含有ガスは酸化部分内の各ゾーンに、このゾーンの条件
下で反応する過剰量で供給される）における、シクロヘキサン可溶性コバルト塩
を含むシクロヘキサンの酸化による、実質的に他の過酸化物を含まないシクロヘ
キシルヒドロペルオキシドの調製のためのプロセスを記載する。
【００１４】 米国特許第３，９３２，５１３号（Ｒｕｓｓｅｌｌ）は、一連の反応ゾーンに
おける、酸素分子を用い、一連の反応ゾーンの中の最後の反応器の流出物、およ
びこのシクロヘキサン蒸気の平行分布から、シクロヘキサンを気化することによ
るシクロヘキサンの酸化を開示する。
【００１５】 米国特許第３，５３０，１８５（Ｐｕｇｉ）は、酸素含有不活性ガスを用いて
酸化することにより、アジピン酸の前駆体を製造するためのプロセスを開示する
。ここでこのプロセスは、少なくとも３つの連続した酸化ステージにおいて、１
４０℃〜２００℃の範囲の温度、および５０〜３５０ｐ．ｓ．ｉ．ｇ．の圧力に
維持された液体シクロヘキサンのストリームを、各連続酸化ステージに通し、そ
して各酸化ステージにおいて酸素を含むガスの混合物を、各ステージに導入され
る酸素の実質的に全てがその後のステージで消費されて、残りの不活性ガスが逆
流を通過するような量で、そのステージを通るストリームの通路の間の液体のス
トリームに導入することによって行われる。
【００１６】 米国特許第３，５１５，７５１号（Ｏｂｅｒｓｔｅｒら）は、ε−ヒドロキシ
カプロン酸を生成するためのプロセスを開示する。ここでシクロヘキサンは、触
媒量の低級脂肪族カルボン酸、および触媒量の過酸化物の存在下、ほとんどの酸
化生成物が第２の重い方の液相で見出され、そしてε−ヒドロキシカプロン酸の
生成に関するるような特定の条件下、液相の空気酸化によって酸化される。
【００１７】 米国特許第３，３６１，８０６号（Ｌｉｄｏｖら）は、酸化混合物からシクロ
ヘキサンを分離した後、シクロヘキサンの酸化生成物をさらに酸化することによ
って、アジピン酸を生成するプロセスを開示し、より詳細には、シクロヘキサン
の広範な酸化を行い、高収率のアジピン酸前駆体を得るためのプロセス、そして
また、出口のガス中の十分低い濃度の酸素を提供するためのプロセスを開示し、
その結果、後者は可燃性混合物ではない。
【００１８】 米国特許第３，２３４，２７１号（Ｂａｒｋｅｒら）は、酸素を用いるシクロ
ヘキサンの２工程の酸化により、アジピン酸を生成するためのプロセスを開示す
る。好ましい実施形態において、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを
含む混合物は酸化される。別の実施形態において、このプロセスは、シクロヘキ
サンの酸化による、シクロヘキサンからアジピン酸の生成、酸化混合物からのシ
クロヘキサンの分離、およびその再利用、ならびに他の酸化生成物のさらなる酸
化を包含する。
【００１９】 米国特許第３，２３１，６０８号（Ｋｏｌｌａｒ）は、溶媒の存在下、一分子
につき４〜８個の環式炭素原子を有する飽和環式炭化水素から脂肪族二塩基酸を
調製するためのプロセスを開示する。この溶媒は、１級および２級水素原子のみ
、および有機酸のコバルト塩を含む触媒を含む脂肪族一塩基酸を含み、このプロ
セスにおいて、溶媒対飽和環式炭化水素のモル比は、１．５：１と７：１との間
であり、そしてこのプロセスにおいて、飽和環式炭化水素に対する触媒のモル比
は、１モルにつき少なくとも５ミリモルである。
【００２０】 米国特許第３，１６１，６０３号（Ｌｅｙｓｈｏｎら）は、シクロヘキサノー
ルおよび／またはシクロヘキサノンの硝酸酸化によるアジピン酸の製造において
得られる排液から、銅−バナジウム触媒を回収するためのプロセスを開示する。
【００２１】 米国特許第２，５６５，０８７号（Ｐｏｒｔｅｒら）は、約１０％の水の存在
下、酸素分子を含むガスを用いて、液相中で脂環式炭化水素を酸化して、２相を
生成し、エステルの形成を回避することを開示する。
【００２２】 米国特許第２，５５７，２８２号（Ｈａｍｂｌｅｔら）は、アジピン酸および
関連の脂肪族二塩基酸の生成を開示し、より詳細には、シクロヘキサンの直接酸
化によるアジピン酸の生成を開示する。
【００２３】 米国特許第２，４３９，５１３号（Ｈａｍｂｌｅｔら）は、アジピン酸および
関連の脂肪族二塩基酸の生成を開示し、より詳細には、シクロヘキサンの酸化に
よるアジピン酸の生成を開示する。
【００２４】 米国特許第２，２２３，４９４号（Ｌｏｄｅｒら）は、環式飽和炭化水素の酸
化を開示し、より詳細には、酸素含有ガスを用いて環式飽和炭化水素を酸化する
ことによる、環式アルコールおよび環式ケトンの生成を開示する。
【００２５】 米国特許第２，２２３，４９３号（Ｌｏｄｅｒら）は、脂肪族二塩基酸の生成
を開示し、より詳細には、酸素含有ガスを用いて環式飽和炭化水素を酸化するこ
とによる脂肪族二塩基酸の生成を開示する。
【００２６】 ドイツ特許ＤＥ ４４ ２６ １３２ Ａ１（Ｋｙｓｅｌａら）は、その脱水
カラムでのコバルト塩沈殿物を同時に回避しつつ、濾過後のアジピン酸の分離後
、触媒として、コバルト塩の存在下で、空気を用いたシクロヘキサンの液相酸化
からプロセス酢酸を脱水する方法を開示しており、この方法は、このプロセスの
先頭に戻す酢酸相が、０．３〜０．７％未満（原文のまま）の残渣含量まで水を
蒸留的に除去しつつ、追加シクロヘキサンの使用により、共沸蒸留にかけること
で特徴付けられる。
【００２７】 ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／０３３６５（Ｃｏｓｔａｎｔｉｎｉら）および米国
特許第５，７５６，８３７号（Ｃｏｓｔａｎｔｉｎｉら）は、アジピン酸へのシ
クロヘキサンの直接酸化反応でコバルト含有触媒を再利用する方法を開示してお
り、この方法は、アジピン酸への酸化により得られる反応混合物が、この反応中
に形成されるグルタル酸およびコハク酸の少なくとも一部の抽出により処理され
る工程を包含することにより、特徴付けられる。
【００２８】 特許文献は、酸化物中の水の追加または除去に関して矛盾し、少なくとも紛ら
わしい。例えば： 米国特許第５，２２１，８００号（Ｐａｒｋら）は、アジピン酸の製造のため
のプロセスを開示する。このプロセスにおいて、シクロヘキサンは可溶性のコバ
ルト塩の存在下で、脂肪族一塩基酸溶媒中で酸化され、ここで水は、適切な検出
手段によって示されるように、シクロヘキサンの酸化の開始後、反応系に連続し
てかまたは断続的に添加され、そしてここで、この反応は、絶対値で１インチ平
方メートルあたり約５０〜４２０ポンドの酸素の分圧で、約５０℃〜約１５０℃
の温度で行われる。
【００２９】 米国特許第４，２６３，４５３号（Ｓｃｈｕｌｔｚら）は、反応の開始時に、
一般には、一塩基脂肪酸溶媒に対して０．５〜１５％のオーダーの、そして好ま
しくは溶媒に対して１〜１０％の水を添加することにより、改良された収率を請
求するプロセスを開示する。
【００３０】 米国特許第３，３９０，１７４号（Ｓｃｈｕｌｔｚら）は、形成すると実質的
にすぐに反応の水を除去しつつ、それぞれの環式炭化水素を、１３０℃と１６０
℃との間の温度で酸化する場合の、改良された収率の脂肪族二塩基酸を請求する
プロセスを開示する。
【００３１】 上記参考文献のいずれも、または本発明者が既知の他のいずれの参考文献も、
個々にまたは組み合わせて、本願で記述し請求したような本発明の複雑かつ重大
な制御および要件を受ける酸化反応の制御を開示、示唆または暗示していない。
【００３２】 本発明者らの米国特許第５，６５４，４７５号、同第５，５８０，５３１号、
同第５，５５８，８４２号、同第５，５０２，２４５号、同第５，８０１，２８
２号、および同時係属出願第０８／５８７，９６７号（１９９６年１月１７日出
願）（これらの全ては本明細書中で参考として援用される）は、微粒化液体中に
おける反応の制御に関する方法および装置を記載する。さらに、本発明者らの米
国特許第５，８０１，２７３号および同第５，８１７，８６８号、ならびに以下
の同時係属米国出願は、本明細書中で参考として援用される：０８／８０１，８
４７（１９９７年３月６日出願）；０８／８２４，９９２（１９９７年３月２７
日出願）；０８／８６１，２８１（１９９７年５月２１日出願）；０８／８６１
，１８０（１９９７年５月２１日出願）；０８／８６１，１７６（１９９７年５
月２１日出願）；０８／８６１，２１０（１９９７年５月２１日出願）；０８／
８７６，６９２（１９９７年６月１６日出願）；０８／９００，３２３（１９９
７年７月２５日出願）；０８／９３１，０３５（１９９７年９月１６日出願）；
０８／９３２，８７５（１９９７年９月１８日出願）；０８／９３４，２５３（
１９９７年９月１９日出願）；０８／９８６，５０５（１９９７年１２月８日出
願）；０８／９８９，９１０（１９９７年１２月１２日出願）；６０／０７４，
０６８（１９９８年２月９日出願）；６０／０７５，２５７（１９９８年２月１
９日出願）；６０／０８６，１５９（１９９８年５月２０日出願）；６０／０８
６，１１９（１９９８年５月２０日出願）；６０／０８６，１１８（１９９８年
５月２０日出願）；６０／０９１，４８３（１９９８年７月２日出願）；６０／
０９１，７９６（１９９８年７月６日出願）；６０／０９３，２５６（１９９８
年７月１７日出願）；６０／１０５，０４８（１９９８年１０月２０日出願）；
６０／１０１，９１８（１９９８年１１月２４日出願）；６０／１１０，２０６
（１９９８年１１月３０日出願）；６０／１１１，８４８（１９９８年１２月１
１日出願）；６０／１２１，１７０（１９９９年２月２２日出願）；および仮出
願登録番号９００１０５．４３４Ｐ２（１９９９年３月３日出願、Ｄ．Ｊ．Ｄｕ
ｄｇｅｏｎ，Ｄ．Ｃ．ＤｅＣｏｓｔｅｒ，Ｍ．Ｗ．Ｄａｓｓｅｌ，Ｅ．Ｖａｓｓ
ｉｌｉｏｕ、およびＡ．Ｍ．Ｒｏｓｔａｍｉ，タイトル「Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ
Ｅｘｔｒａｃｔｉｎｇ Ｃａｔａｌｙｓｔ ｉｎ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ
ｔｈｅ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ ｏｆ Ａｄｉｐｉｃ Ａｃｉｄ」）。
【００３３】 （発明の要旨） 前述のように、本発明は、シクロヘキサンからアジピン酸への酸化後に生成す
る、触媒の溶液中の溶媒を、触媒を酸化プロセスの開始に有利に再利用可能にす
る様式で、交換する方法に関する。より詳細には、本発明は、金属触媒の水溶液
中で水およびシクロヘキサノンを酢酸と置換する方法に関し、この溶液はシクロ
ヘキサンのアジピン酸への酸化後に生成され、この方法は、以下： （ａ）金属触媒の水溶液を溶媒交換カラムの上部プレートまたは中間プレート
に供給する工程であって、溶媒交換カラムはまた底部プレートを有する、工程； （ｂ）底部プレートの近傍から底部液体を除去する工程であって、底部液体が
底部の温度である、工程； （ｃ）リボイラー中で該底部液体を沸騰し、生成した底部蒸気を底部プレート
の近傍のカラムに戻す工程； （ｄ）リボイラーに酢酸を導入する工程； （ｅ）リボイラーから、実質的な量の水およびシクロヘキサノンを含まない金
属触媒の酢酸溶液を除去する工程、 を包含する。
【００３４】 本発明の方法は、溶媒交換カラムの上部プレートの近傍から上部蒸気を除去し
、蒸気を凝縮して凝縮して凝縮物を形成する工程、および該凝縮物が二相の液体
相を構成する場合、凝縮物を、大部分のシクロヘキサノンを含む上部液体相およ
び大部分の水を含む下部液体相に分離する工程、をさらに包含する。
【００３５】 好ましくは、金属触媒は、コバルト化合物を含む。
【００３６】 さらに、本方法は、水を、リボイラーまたは溶媒交換カラムのいずれか、また
はその両方に、加える工程をさらに包含する。
【００３７】 底部液体中の水含量は、金属触媒が底部温度でまたは底部温度より上で沈殿す
るレベルより高いレベルに制御され得、そして維持され得る。水含量は、好まし
くは、第２の液体相を形成することなく、シクロヘキサノンのアジピン酸への酸
化の反応チャンバに、再利用に適切であるのに十分低く残る様式で、さらに制御
され得る。
【００３８】 大部分のシクロヘキサノンおよび少なくとも一部の水が、触媒抽出物が溶媒交
換カラムに入る前に、除去されることもまた、好ましい。
【００３９】 溶媒交換カラムの上部に形成された凝縮物は、交換カラムに少なくとも部分的
に再利用され得る。
【００４０】 カラムの温度（底部の温度を含む）は、当該分野で周知の技術（例えば、真空
ポンプの使用）によってカラム内の圧力を減少することによって制御そして低下
され得る。この温度の制御は、底部プレートまたはリボイラーループの近傍にお
いて一般的な水レベルで触媒の沈殿を妨げるのに必要とされ得る。
【００４１】 本発明の方法は、生成したアジピン酸を、ポリオール、ポリアミン、およびポ
リアミドからなる群から選択される反応物と、それぞれポリエステル、またはポ
リアミド、または（ポリイミドおよび／またはポリアミドイミド）のポリマーを
形成するための様式で、反応させる工程をさらに包含する。これらの方法はまた
、ポリマーを繊維に紡績する工程、またはポリマーを充填剤および／または他の
添加剤と混合し、複合体を形成する工程を包含する。
【００４２】 部に関する「大部分の」および「大部分」は、５０％より多く、そして実質的
に１００％までの重量部を意味する。
【００４３】 部に関する「小部分の」および「小部分」は、５０％より少なく、そして実質
的に０％までの重量部を意味する。
【００４４】 「中間プレート」は、上部プレートと底部プレートとの間の任意のプレートで
ある。
【００４５】 （発明の詳細な説明） 本発明の読者の理解は、図面と組み合わせられた以下の詳細な説明を参照する
ことによって高められる。
【００４６】 前述のように、本発明は、シクロヘキサンからアジピン酸への酸化後に生成す
る、触媒の溶液中の溶媒を、触媒を酸化プロセスの開始に有利に再利用可能にす
る様式で、交換する方法に関する。
【００４７】 本発明の教示から利益を得る触媒溶液の例は、以下に記載される方法に従って
得られる触媒抽出物である。１９９８年７月２日に出願の本発明者らの米国特許
出願第６０／０９１，４８３号；１９９８年７月６日出願の同第６０／０９１，
７９６号；１９９８年７月１７日出願の同第６０／０９３，２５６号；１９９８
年１０月２０日出願の同第６０／１０５，０４８号；１９９８年１１月２４日出
願の６０／１０１，９１８号；１９９８年１１月３０日出願の６０／１１０，２
０６号；１９９８年１２月１１日出願の６０／１１１，８４８号；１９９９年２
月２２日出願の６０／１２１，１７０号；ならびにＤ．Ｊ．Ｄｕｄｇｅｏｎ，Ｄ
．Ｃ．ＤｅＣｏｓｔｅｒ，Ｍ．Ｗ．Ｄａｓｓｅｌ，Ｅ．Ｖａｓｓｉｌｉｏｕ，お
よびＡ．Ｍ．Ｒｏｓｔａｎｉの表題「Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ Ｅｘｔｒａｃｔｉ
ｎｇ Ｃａｔａｌｙｓｔ ｉｎ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｉｎ ｔｈｅ Ｍａｎｕｆ
ａｃｔｕｒｅ ｏｆ Ａｄｉｐｉｃ Ａｃｉｄ」の１９９９年３月３日出願の仮
出願整理番号９００１０５．４３４Ｐ２。これらの全ては本明細書中に参考とし
て援用される。
【００４８】 これらの抽出物は、少量のシクロヘキサノン、二塩基性酸（例えば、アジピン
酸、グルタル酸、およびコハク酸）、エステル、およびシクロヘキサンからアジ
ピン酸への酸素による直接酸化の他の副生成物を有する、金属触媒（例えば、コ
バルト塩）の水溶液である。
【００４９】 この水性触媒抽出物は、存在する水の含量のために、シクロヘキサンからアジ
ピン酸への酸化ソーンに直接再利用され得ない。抽出物中の触媒の総量を再利用
する際、酸化ゾーンに入る水の含量は、反応チャンバ中での二相の液体相の形成
を引き起こすのに十分高く、それによって、受容できない反応速度の低下を生じ
る。
【００５０】 触媒抽出物中の水の含量によって引き起こされる上記の技術的要因に加えて、
抽出物中に存在するシクロヘキサノンに起因する重大な経済的要因もまた存在す
る。シクロヘキサノンは、むしろ高価であり、そしてシクロヘキサノンは触媒抽
出物中に少量レベルでのみ存在するが、酸化ゾーンへの触媒抽出物の直接供給を
通したシクロヘキサンの損失は経済的に受容され得ない。
【００５１】 上記不利な因子を回避するための１つの方法は、蒸発によって水およびシクロ
ヘキサノンを除去し、次いで、直ぐに残渣を酸化ゾーンに移行することである。
このようなプロセスは、一見比較的容易であるように思われるが、それは、それ
にも関わらず、新しい受容できない技術的作業を導入する。水およびシクロヘキ
サノンの蒸発後に残存する残渣は、粘着性の塊であり、それは、その残渣が接触
するデバイスの全ての部分に粘り強く堆積し、パイプ、バルブ、および熱移動表
面を詰まらせ、そして蒸発ゾーンから酸化ゾーンまでのその移動に関する克服で
きない問題が存在する。溶媒（例えば、酢酸）中に粘性の塊を溶解する工程を進
行する場合でさえ、堆積および詰まりの問題は、蒸発ゾーンの近傍において緩和
されない。
【００５２】 本明細書中以下で説明されるように、本発明者らは、水およびシクロヘキサノ
ンの両方とも、単純な溶媒交換カラムを使用することによって固体を形成するこ
となく酢酸と交換され得ることを予想外に発見した。
【００５３】 ここで、図１を参照して、溶媒交換カラム１２を含む新規な溶媒交換システム
１０が描かれている。この溶媒交換カラム１２は、上部プレート１４、中間プレ
ート１６、および底部プレート１８を有する。この溶媒交換カラム１２は、液体
ライン１２’を通してリボイラー２０に接続され、この液体ライン１２’は、底
部プレート１８の近傍で始まり、そしてリボイラー２０に入る前に、酢酸ライン
２２と合流する。
【００５４】 リボイラー２０は、次に、蒸気ライン２０’を通して、底部プレート１８の近
傍の溶媒交換カラム１２に接続される。このリボイラー２０はまた、触媒出口ラ
イン２４に接続される。添加ライン２０はまた、リボイラー２０に接続される。
【００５５】 抽出ライン２８は、中間プレート１６の近傍に接続されることが示されるが、
それはまた上部プレート１４の近傍に接続され得る。好ましくは、それは、底部
プレート１８より、上部プレート１４により近い中間プレートの近傍の溶媒交換
カラム１２に接続される。
【００５６】 溶媒交換カラム１２は、ライン１２’を通してコンデンサー３０に接続され、
このライン１２’は上部プレート１４の近傍で始まる。
【００５７】 コンデンサー３０は、ライン３０’を通してデカンター３２に接続され、これ
は順に、シクロヘキサノン出口ライン３２’に、そして水出口ライン３２’に接
続される。
【００５８】 この実施形態の操作において、水と比較して少量のシクロヘキサノンを含む触
媒の水溶液または抽出物は、抽出ライン２８を通して溶媒交換カラム１２に導入
される。この溶媒交換カラム１２において、酢酸の蒸気は、底部プレート１８か
ら上部プレート１４に向かう方向に上向きに移動する。この酢酸蒸気はカラム中
で上向きに移動するにつれて凝縮し、抽出物の水およびシクロヘキサノンが気化
する。この凝縮物は溶解された触媒とともに下向きに移動し、水およびシクロヘ
キサノンの蒸気は、上向きに移動し、最終的にライン１２’から除去される。
【００５９】 沸点（シクロヘキサノンの場合約１５６℃、酢酸の場合１１８℃、および水の
場合１００℃）に基づいて、酢酸の凝縮およびこのようなカラム中の水の除去が
予想されるが、シクロヘキサノンは３つの全ての中で断然最も沸点が高く、酢酸
中に完全に溶解し得、酢酸と共に凝縮し、溶媒交換カラム中で下向きに移動する
ことも予想される。しかし、シクロヘキサノンは、水との共沸混合物として酢酸
から効率的に分離し、そしてそれはライン１２”を通して、水と共に溶媒交換カ
ラムを離れる。
【００６０】 溶媒交換カラム１２を離れる水およびシクロヘキサンは、ライン１２’’を通
って、コンデンサー３０に入り、ここで濃縮物を形成し、これがライン３０’を
通ってデカンター３２に向けられる。デカンター３２において、この濃縮物は、
２つの液相を形成し得る：上部液相は、シクロヘキサノンの大部分を含み、そし
て下部液相が水の大部分を含む。上部液相はまた、少量の水およびあるいは酢酸
を含み、一方下部液相は少量のシクロヘキサノンおよび酢酸を含むが、酢酸オー
バーヘッドの量は、カラムヘ還流することによりかなり減少され得る、上部相を
、ライン３２’を通して除去し、一方下部相を、ライン３２’’を通して除去す
る。触媒はコンデンサー３０に移されない。
【００６１】 前述のように、抽出ライン２８は、中間プレートの１つの近傍に至ることが好
ましい。なぜならば、抽出ライン２８が上部プレート１４の近傍の領域に接続さ
れる場合よりも、より少ない酢酸が、この構成によりライン１２’’の経路を経
て進むからである。しかしながら、カラムが非効率的になるので、抽出ライン２
８の接続は、低くなり過ぎるべきではない。この接続は、底部プレート１８より
も上部プレート１４に近くなるべきである。
【００６２】 上部プレート１４の近傍で、かつ溶媒交換カラム１２への抽出ライン２８の接
続に対応する中間プレートの近傍の温度は、好ましくは約１００℃に維持される
。底部プレート１８の近傍における温度は、好ましくは１２０℃〜１２５℃の範
囲に維持される。
【００６３】 溶媒交換カラム１２において濃縮された酢酸は、ライン１２’を通って、リボ
イラー２０へ、直接に（示されない）、または酢酸ライン２２と合流した後のい
ずれかで移される。当然のことながら、酢酸ライン２２は、直接リボイラー２０
へ、またはカラムの底（示されない）へ接続され得る。
【００６４】 酢酸は、酢酸ライン２２を通ってリボイラー２０に入る。酢酸ライン２２を通
ってリボイラー２０へ入る酢酸の流速は、ライン２４を通ってリボイラー２０か
ら出る溶液中の触媒の希釈度を決定する。ライン２４を通ってリボイラー２０を
出る触媒の酢酸溶液は、ライン２８を通ってカラム１２に入る全ての触媒、非常
に少量の水（好ましくは０．１〜１％のオーダー）、およびライン２８を通って
溶媒交換カラムに入る少量の副生成物（例えば、二塩基酸、エステルなど）を含
み、実質的にシクロヘキサノンは全く含まない。ライン２４中の溶液は、さらな
る処理をすることなしに直接酸化段階へ再利用するために適しているが、所望さ
れる場合には、さらなる処理が加えられる。
【００６５】 底部プレート１８の近傍における濃縮された液体の水含有量を制御可能に増加
するために、添加ライン２６を通してリボイラー２０に水が添加され得る。当然
のことながら、添加ラインを通る水の添加はまた、ライン２４を通って出る溶液
の水含有量をいくらか増加させる。底部プレート１８の近傍における水含有量は
、ある水含有量よりも高く維持され、この水含有量以下では、底部プレート１８
の近傍で有効な温度、リガンド構造、触媒濃度などの特有の組合せで、コバルト
触媒の過剰な脱水に起因して、触媒が沈殿する。
【００６６】 カラムの寸法、プレートの数、抽出ライン２８が溶媒交換カラム１２に接続さ
れる位置、リボイラーのサイズ、リボイラーに提供される熱などは、個々の環境
に依存し、そしてこれらは、過度の実験なしに当業者により非常に容易に決定さ
れ得る。
【００６７】 従って、このシステムは、どの段階でも固体形成の無い、効率的な溶媒交換の
優れた方法を提供する。
【００６８】 別の好ましい実施形態において、図２によりよく示されるように、図１と類似
の構成が示され、これは、さらなる特徴を組込む。
【００６９】 第２の酢酸ライン２３が、底部プレート１８の近傍に接続され、これを通って
酢酸が操作の間にシステムに供給され得る。第２の酢酸ライン２３は、酢酸ライ
ン２２に加えて存在し得るか、または酢酸ライン２２と置き換えられ得る。
【００７０】 オンライン水分析機３４は、ライン１２’に接続され、そしてライン３４ｉを
通って制御装置３８に接続される。次いで制御装置３８は、バルブ３６に接続さ
れてこのバルブ３６を制御し、このバルブが添加ライン２６に接続される。制御
装置３８は、個別の制御装置であるか、システム全体の操作を制御するより複雑
な制御装置（示されない）の一部であり得る。操作の際、水分析機３４は、ライ
ン１２’を通って移動する流れを分析し、そしてその流れにおける水含有量を決
定する。次いでこの情報を、ライン３４ｉを通して制御装置３８に与え、これが
今度は、完全に閉じた位置から完全に開いた位置までの範囲で、添加バルブ３６
の開口を増大させるか、または減少させる。
【００７１】 底部プレート１８の近傍における水含有量はまた、ボイル−アップ比（ｂｏｉ
ｌ−ｕｐ ｒａｔｉｏ）、または他の方法により調節され得る。
【００７２】 上述のように、底部プレート１８の近傍における水のレベルおよびそれに従う
ライン１２’の流れにおける水のレベルは、上限および下限を有する所定のレベ
ル内でなければならない。水のレベルが所定の限界より上の場合、触媒が再利用
される反応チャンバー（示されない）において、２つの液体相の形成を引き起こ
す。水レベルが下限を下回る場合、触媒の沈殿を引き起こし得る。この水レベル
の所定の範囲は、多数の因子に依存し、この因子としては、上限に関して反応チ
ャンバー（示されない）における状態、および温度、触媒に結合されたリガンド
、触媒濃度、ならびにとりわけ触媒の沈殿に関して、種々雑多な副生成物の濃度
が挙げられる。水レベルが所定の下限より低い場合、制御装置３８水レベルが所
定範囲内に再び低下するまで、コントロールバルブ３６を逐次的に開放させる。
水レベルが所定の範囲の上限を超える場合には、反対の動作が、制御装置３８お
よびコントロールバルブ３６によってとられる。
【００７３】 底部プレート１８の近傍における温度の制御は、圧力の制御により達成され得
る。カラムにおける圧力が低いほど、操作温度が低くなる。温度が低いほど、所
定の範囲の下限が低くなる。
【００７４】 底部プレート１８の近傍においては、酢酸の過剰な存在量のために、リガンド
交換が少なくとある程度は起こると考えられる。従って、抽出ライン２８を通っ
てカラムに入るコバルトの二塩基酸との塩は、少なくとも部分的にコバルトの酢
酸塩に変換される。
【００７５】 水レベルが２種類（酢酸中に溶解した遊離の水および触媒に結合した結晶水）
に分けられ得るということに留意することは重要である。従って、遊離水が０％
の場合でさえ、そして結晶水がコバルト原子１モルにつき４モルの水よりも少な
い場合でさえ、触媒は、沈澱することを避けられ得る（例えば、本発明者らの実
験の１つにおいて、コバルトに対する水のモル比は、触媒の沈殿無しで１．７〜
１であった）。従って、遊離水および結晶水の両方が、当該分野に周知の技術に
よりモニターされ、かつ制御されることが重要である。従って、本発明に従って
、遊離水のレベルは、触媒の沈澱無しに０．３％よりもかなり低くなり得る。
【００７６】 ライン３２’’’および３２’’’’（これらは、デカンタをカラム１２の上
部プレート１４の近傍に接続し戻す）は、シクロヘキサノン相の一部および水相
の一部をそれぞれ還流するために利用され得る。還流は、カラム１２からライン
１２’を通ってコンデンサー３０に入る酢酸の量を減らすために役立つ。２つの
液相の還流は、任意の適切な比率で実行され得る。当然のことながら、１つの単
一の液相のみがデカンタ３２に存在する場合には、単一液相の還流が行われ得る
。ただ１つの単一液相濃縮物の場合には、デカンタを使用する必要が無いことが
明らかである。
【００７７】 コンデンサー３０へ通過する酢酸の量は、好ましくは１０％未満であり、より
好ましくは５％未満であり、そしてさらにより好ましくは１％未満である。濃縮
物中に酢酸が実質的に存在しないことが好ましい１つの理由は、ライン３２’を
通るシクロヘキサノンの流れ、およびライン３２’’を通る水の流れが、以下に
記載されるような触媒抽出ステーションにおいて利用されることである：本出願
人らの米国特許出願第６０／０９１，４８３号（１９９８年７月２日出願）；同
第６０／０９１，７９６号（１９９８年７月６日）；同第６０／０９３，２５６
号（１９９８年７月１７日）；同第６０／１０５，０４８号（１９９８年１０月
２０日）；同第６０／１０１，９１８号（１９９８年１１月２４日出願）；同第
６０／１１０，２０６号（１９９８年１１月３０日出願）；同第６０／１１１，
８４８号（１９９８年１２月１１日）；同第６０／１２１，１７０号（１９９９
年２月２２日）；および「Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｅｘｔｒａｃｔｉｎｇ Ｃａｔ
ａｌｙｓｔ ｉｎ Ｓｏｌｕｓｉｏｎ ｉｎ ｔｈｅ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ
ｏｆ Ａｄｉｐｉｃ Ａｃｉｄ」と題する、Ｄ．Ｊ．Ｄｕｄｇｅｏｎ，Ｄ．Ｃ
．ＤｅＣｏｓｔｅｒ，Ｍ．Ｗ．ＤａｓｓｅｌＥ．Ｖａｓｓｉｌｉｏｕ，およびＡ
．Ｍ．Ｒｏｓｔａｍｉの仮出願整理番号９００１０５．４３４Ｐ２（１９９９年
３月３日出願）；これらの全ては本明細書中に参考として援用される。本出願人
らは、水を用いる触媒抽出が、酢酸の実質的に非存在下においてかなりより効率
的であるということを見出した。
【００７８】 たとえ上記の実施形態において実質的な量の酢酸がライン２８を通って全く導
入されないとしても、ライン３２‘’を通って溶媒交換システムを離れる水は、
約５〜１０重量％の酢酸を含む。
【００７９】 ライン２４を通ってシステムを離れる触媒の酢酸溶液は、所望されるならば、
約０．５重量％以下の遊離した水を酢酸中に含むように制御され得る。
【００８０】 かなりより効率的なシステムが図３に示され、ここで溶媒交換システム１０は
、コイル（例えば、蒸気で操作されるコイル）によって加熱されるプレフラッシ
ャー４０を備える前処理ステーション１１の後になる。このプレフラッシャー４
０は、第２のコンデンサー４４に接続され、これが次に第２のデカンタ４６に接
続される。この第２のデカンタ４６は、第２のシクロヘキサノン出口ライン４６
’および第２の水出口ライン４６’’に接続される。プレフラッシャ−４０は、
溶媒交換カラム１２の上部プレート１４の近傍に接続される。第２の抽出ライン
２９もまた、プレフラッシャー４０に接続される。
【００８１】 この実施形態の操作において、触媒抽出物は、前述の実施形態に記載されるよ
うに、第２の抽出ライン２９を通ってプレフラッシャー４０に入る。この触媒抽
出物は、コバルト塩の水性溶液ならびにシクロヘキサノンを含む。前述のように
、触媒抽出物は、好ましくは実質的な量の酢酸を含まない。条件は、好ましくは
シクロヘキサノンの大部分および大量の水（例えば水の約２／３）が、ライン４
０’を通って（少なくとも部分的に共沸混合物として）除去されるように維持さ
れ、これらは第２のコンデンサー４４において濃縮され、次いで第２のデカンタ
４６において主にシクロヘキサノンを含む上部液相にデカンテーションされ、そ
して下部液相は主に水を含む。上部液相は、シクロヘキサノン出口ライン４６’
を通って回収され、そして下部液相は、水出口ライン４６’’を通って、前述し
た親出願に記載される触媒抽出システム（示されない）へ再利用される。
【００８２】 濃縮された水性抽出物は、次いでライン４０’’を通って、カラム１２の上部
プレート１４の近傍へ導入される。この時点からの操作は、前出の場合と実質的
に同じである。
【００８３】 この場合、ほとんど全てのシクロヘキサノンを除去し、そしてこれを第２のデ
カンタ４６に集めることが好ましいので、コンデンサー３０に濃縮され、そして
デカンタ３２に導入されるシクロヘキサノンの量は、非常に少なく、そして大部
分の場合、単一の液相が存在する。１つの単一の液相のこのような場合において
、デカンタは、明らかに必要ではない。１つまたは２つのどちらの液相が存在し
ても、デカンタ中の酢酸の量は、前出の実施形態における量よりはかなり少なく
、そして約１重量％に近い。
【００８４】 再び、ライン２４を通ってシステムを離れる酢酸中の触媒溶液は、所望される
ならば、酢酸中０．５重量％以下の遊離の水を含むように制御され得る。
【００８５】 いくらかの酢酸が第２の抽出ライン２９に存在する場合、ライン４０’’が、
中間プレート１６の近傍に接続されることが好ましく、それにより下部ストリッ
ピング部分に加えて上部精留部分を形成する。
【００８６】 触媒抽出物を前処理するより効果的な方法は、図３のプレフラッシャー４０に
換えて第２のリボイラー５０（図４によりよく示される）と組み合わされた前処
理カラム４８を使用することである。
【００８７】 図４に示される実施形態において、大量の水（例えば、水の２／３）と共に実
質的に全てのシクロヘキサノンは、前処理カラムにおける触媒抽出物から除去さ
れ、そしてデカンタ４６において優先的にシクロヘキサノン（これはライン４６
’を通って除去される）を含む上部液相および下部水相（これはライン４６’’
を通って除去される）を形成する。このような場合、前処理された触媒抽出物は
、実質的にシクロヘキサノンを全く含まず、従って、デカンタ３２において、少
量の酢酸（例えば、約１重量％）を含む単一の水性液相のみが存在する。図３の
実施形態のように、いくらかの酢酸（例えば、１０〜２０重量％）が第２の抽出
ライン２９に存在する場合、ライン２９および５０’’は、それぞれカラム４８
および１２の中間おプレートの近傍に接続されることが好ましく、それにより、
下部ストリッピング部分に加えて上部精留プレートを形成する。
【００８８】 本発明によれば、任意の液体または気体またはオフガスが、任意の部分から任
意の他の部分へと全体的または部分的に再利用され得る（それが望ましいなら）
ことが理解できるはずである。さらに、例示している実施形態（部分的または全
体的に）の任意の組合せ、または任意の等価な構成、または等価な構成の任意の
組合せが使用され得、そしてこれらは本発明の範囲内である。
【００８９】 種々雑多な機能は、好ましくは、コンピュータ化制御装置で制御されるものの
、本発明によれば、任意の他の型の制御装置または手動制御装置および／または
１つ以上の機能を制御する労力を利用することが可能である。好ましいコンピュ
ータ化制御装置には、人工知能システム（エキスパートシステム、ニューラルネ
ットワーク、ファジー論理システム（これらは、当該技術分野で周知である））
が挙げられる。これらの３種類の人工知能システムのうち、ニューラルネットワ
ーク（これは、学習システムである）は、その装置の異なる場所から情報（例え
ば、圧力、温度、化学分析値または他の分析値など）を集め、この情報をその結
果（例えば、圧力低下速度、反応速度、反応性など）と共に保存し、他のデータ
（もし、入手可能なら）と共に、この情報を将来使用するためにプログラム化し
て、各場合でとる措置に関する決定を行う。エキスパートシステムは、経験を積
んだ人間の専門知識に基づいて、プログラム化されている。ファジー論理システ
ムは、専門知識規則に加えて、直観規則に基づいている。
【００９０】 本発明による酸化は、非破壊的な酸化であり、ここで、その酸化生成物は、一
酸化炭素、二酸化炭素、およびそれらの混合物とは異なる（例えば、アジピン酸
）。もちろん、この酸化生成物（これは、１種類の生成物または生成物の混合物
であり得る）と共に、少量のこれらの化合物は、形成され得る。
【００９１】 アジピン酸に関して、その調製は、本発明の方法で特に適しているが、一般的
に情報は、他の参考文献のうち、多数の米国特許に見い出され得る。これらには
、以下で挙げられるが、これらに限定されない： 米国特許第２，２２３，４９３号；第２，５８９，６４８号；第２，２８５，
９１４号；第３，２３１，６０８号；第３，２３４，２７１号；第３，３６１，
８０６号；第３，３９０，１７４号；第３，５３０，１８５号；第３，６４９，
６８５号；第３，６５７，３３４号；第３，９５７，８７６号；第３，９８７，
１００号；第４，０３２，５６９号；第４，１０５，８５６号；第４，１５８，
７３９号（グルタル酸）；第４，２６３，４５３号；第４，３３１，６０８号；
第４，６０６，８６３号；第４，９０２，８２７号；第５，２２１，８００号；
および第５，３２１，１５７号。
【００９２】 二酸（例えば、アジピン酸）または他の適当な化合物は、当該技術分野で周知
の技術に従って、ポリエステル、またはポリアミド、または（ポリイミドおよび
／またはポリアミドイミド）のポリマーを形成する様式で、それぞれ、多価アル
コール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から選択される第３の反応物
と反応され得る。好ましくは、この多価アルコール、ポリアミンおよびポリアミ
ドは、過度の架橋を回避するために、それぞれ、主に、ジオール、ジアミンおよ
びジアミドである。この反応から得られるポリマーは、当該技術分野で周知の技
術により紡糸されて、繊維を形成し得る。このポリマーはまた、充填剤および／
または他の添加剤と混合されて、複合材料を形成し得る。
【００９３】 本発明の操作を説明している例は、例示の目的のためにのみ示されており、い
ずれの様式でも、本発明の範囲を限定するものとは解釈すべきではない。それに
加えて、この上で詳述した好ましい実施形態だけでなく、本発明の範囲内に含ま
れる他の任意の実施形態は、常識および／または専門家の意見に従って、個々に
、またはそれらの任意の組合せで、実施され得ることを強調しておく。これらの
実施形態の個々の部分はまた、本発明に従って、個々に、または実施形態の他の
個々の部分と組み合わせて、全体として、実施され得る。これらの組合せもまた
、本発明の範囲内にある。さらに、その論述において企図した何らかの説明は、
推測にすぎず、本発明の範囲を狭くするとは解釈されない。
【００９４】 全ての百分率は、重量％で示される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、本発明の好ましい実施形態のブロック図を示す。
【図２】 図２は、本発明のなお別の好ましい実施形態のブロック図を示す。
【図３】 図３は、本発明のなお別の好ましい実施形態のブロック図を示し、これは、予
備点滅器を組み込む。
【図４】 図４は、本発明の別の好ましい実施形態のブロック図を示し、これは、予備処
理カラムを組み込む。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 バッシリオウ， ユースタシオス アメリカ合衆国 デラウェア 19711− 7419， ニューアーク， サウス タウン ビュー レーン 12 (72)発明者 ロスタミ， アダー エム． アメリカ合衆国 ワシントン 98110， バインブリッジ アイランド， ノースイ ースト シー レイ コート 9205 (72)発明者 ダッジェオン， ダグラス ジェイ． アメリカ合衆国 ワシントン 98110， バインブリッジ アイランド， ワイアッ ト ウェイ ノースイースト 280， ナ ンバービー−206 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AB84 AD12 BA20 BA32 BB17 BB31 BD84 BS10 4H039 CA65 CH70

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 金属触媒の水溶液中で水およびシクロヘキサノンを酢酸と置
    換する方法であって、該溶液はシクロヘキサンのアジピン酸への酸化後に生成さ
    れ、該方法は、以下： （ａ）該金属触媒の水溶液を溶媒交換カラムの上部プレートまたは中間プレー
    トに供給する工程であって、該溶媒交換カラムはまた底部プレートを有する、工
    程； （ｂ）該底部プレートの近傍から底部液体を除去する工程であって、該底部液
    体が底部の温度である、工程； （ｃ）リボイラー中で該底部液体を沸騰し、生成した底部蒸気を該底部プレー
    トの近傍のカラムに戻す工程； （ｄ）該リボイラーにまたは該底部プレートの近傍に酢酸を導入する工程； （ｅ）該リボイラーから、実質的な量の水およびシクロヘキサノンを含まない
    金属触媒の酢酸溶液を除去する工程、 を包含する、方法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法であって、前記工程（ａ）の前に、大
    部分のシクロヘキサノンおよび少なくとも一部の水を除去する工程をさらに包含
    する、方法。
  3. 【請求項３】 請求項１または２のいずれかに記載の方法であって、該方法
    が、（ａ）前記溶媒交換カラムの上部で凝縮物を形成し、そして該溶媒交換カラ
    ムに少なくとも一部の該凝縮物を還流し戻す工程、（ｂ）該溶媒交換カラムの該
    上部プレートの近傍から上部蒸気を除去し、該蒸気を凝縮して凝縮して凝縮物を
    形成する工程、および該凝縮物が二相の液体相を構成する場合、該凝縮物を、大
    部分のシクロヘキサノンを含む上部液体相および大部分の水を含む下部液体相に
    分離する工程、ならびに（ｃ）それらの工程の組み合わせ、からなる群から選択
    される工程をさらに包含する、方法
  4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の方法であって、前記底部液
    体中の水含量、該底部液体の温度、およびそれらの組み合わせから実質的になる
    群から選択されるパラメータを、所定の範囲内に制御および維持する工程をさら
    に包含する、方法。
  5. 【請求項５】 前記金属触媒がコバルト化合物を含む、請求項１〜４のいず
    れかに記載の方法。
  6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の方法であって、該方法が、
    前記アジピン酸を、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から
    選択される反応物と、それぞれポリエステル、またはポリアミド、または（ポリ
    イミドおよび／またはポリアミドイミド）のポリマーを形成するための様式で、
    反応させる工程をさらに包含し、該方法はまた、該ポリマーを繊維に紡績する工
    程、または該ポリマーを充填剤および／または他の添加剤と混合し、複合体を形
    成する工程を包含する、方法。
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