JP2002537279A - アジピン酸の製造において溶液中で触媒を抽出する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、酢酸および金属触媒の存在下にてシクロヘキサンをアジピン酸に酸化することにより生成する反応混合物から金属触媒を溶液中で抽出する方法に関する。本発明によれば、このアジピン酸の主要部分と同様に、このシクロヘキサンの実質的に全部が除去される。この酢酸の主要部分はまた、触媒を沈殿させることなく、除去され、それにより、溶液中で濃縮物を形成する。本発明の好ましい実施形態では、この濃縮物は、逆流している水およびシクロヘキサノンの向流流れに入り、金属触媒の水溶液（これは、この抽出物である）、およびシクロヘキサノンに溶解された濃縮物溶液の相（これは、そのラフィネートである）が得られる。これらの２種の溶液は、さらに処理および／または再利用される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 （技術分野） 本発明は、シクロヘキサンをアジピン酸に酸化する方法に関し、さらに特定す
ると、好ましくは、再利用のために、いかにして触媒を溶液として連続的に抽出
するかに関する。

【０００２】 （背景技術） 炭化水素の酸化による酸の形成に関する参考文献（特許および論文の両方）は
、あり過ぎるほどあり、最も重要なものの１つには、アジピン酸がある。アジピ
ン酸は、ナイロン６６繊維および樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、および種
々雑多な他の化合物を生成するのに使用される。

【０００３】 アジピン酸を製造するには、種々の方法がある。従来の方法は、シクロヘキサ
ンを酸素で酸化してシクロヘキサノンとシクロヘキサノールとの混合物（ＫＡ混
合物）にする第一工程、次いで、ＫＡ混合物を硝酸でアジピン酸に酸化する工程
を包含する。他の方法には、特に、「ヒドロペルオキシド法」、「ホウ酸法」お
よび「直接合成法」（これは、溶媒、触媒および促進剤の存在下にて、シクロヘ
キサンをアジピン酸に酸素を用いて直接的に酸化することを包含する）が挙げら
れる。

【０００４】 直接合成法は、長い間にわたって、注目されていた。しかしながら、今日まで
、商業的な成功は殆ど見られない。その理由の１つには、この方法は、一見した
ところ、極めて簡単に見えるものの、実際には、極めて複雑なことがある。この
複雑性があるために、様々な文献において、著しく矛盾した結果、所見および見
解があり得る。

【０００５】 直接合成法に従って反応が起こった後、２相の液相の混合物は、主にアジピン
酸からなる固相と共に、室温で存在していることが周知である。これらの２相の
液相は、「極性相」および「非極性相」と呼ばれている。しかしながら、「極性
相」からアジピン酸を分離しこれらの相をさらに処理してまたは処理せずに部分
的または全体的に反応器に再利用すること以外、これらの２相の重要性は、あま
り注目されていない。

【０００６】 直接合成法に関する殆どの研究は、文字どおりバッチ様式で行われるか、また
は全て実用的な目的のために行われることに注目することもまた、重要である。

【０００７】 上述のように、酸（例えば、アジピン酸）および／または中間体生成物（例え
ば、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、シクロヘキシルヒドロペルオキシ
ドなど）を生成するための有機化合物の酸化に関する参考文献は、あり過ぎるほ
どある。

【０００８】 以下の参考文献は、特に、二酸および他の中間体酸化生成物の調製に関連した
酸化法の代表的なものとして考慮され得る。

【０００９】 米国特許第５，４６３，１１９号（Ｋｏｌｌａｒ）；米国特許第５，３７４，
７６７号（Ｄｒｉｎｋａｒｄら）；米国特許第５，３２１，１５７号（Ｋｏｌｌ
ａｒ）；米国特許第３，９８７，１００号（Ｂａｒｎｅｔｔｅら）；米国特許第
３，９５７，８７６号（Ｒａｐｏｐｏｒｔら）；米国特許第３，９３２，５１３
号；（米国特許第３，５３０，１８５（Ｐｕｇｉ）；米国特許第３，５１５，７
５１号（Ｏｂｅｒｓｔｅｒら）；米国特許第３，３６１，８０６号（Ｌｉｄｏｖ
ら）；米国特許第３，２３４，２７１号（Ｂａｒｋｅｒら）；米国特許第３，２
３１，６０８号（Ｋｏｌｌａｒ）；米国特許第３，１６１，６０３号（Ｌｅｙｓ
ｈｏｎ ら）；米国特許第２，５６５，０８７号（Ｐｏｒｔｅｒら）；米国特許
第２，５５７，２８２号（Ｈａｍｂｌｅｔら）；米国特許第２，４３９，５１３
号（Ｈａｍｂｌｅｔら）；米国特許第２，２２３，４９４号（Ｌｏｄｅｒら）；
米国特許第２，２２３，４９３号（Ｌｏｄｅｒら）。

【００１０】 ドイツ特許ＤＥ ４４ ２６ １３２ Ａ１（Ｋｙｓｅｌａら）は、その脱水
カラムでのコバルト塩沈殿物を同時に回避しつつ、濾過後のアジピン酸の分離後
、触媒として、コバルト塩の存在下で、空気を用いたシクロヘキサンの液相酸化
からプロセス酢酸を脱水する方法を開示しており、この方法は、このプロセスの
先頭に戻す酢酸相が、０．３〜０．７％未満（原文のまま）の残渣含量まで水を
蒸留的に除去しつつ、追加シクロヘキサンの使用により、共沸蒸留にかけること
で特徴付けられる。

【００１１】 ＰＣＴ国際公開ＷＯ９６／０３３６５（Ｃｏｓｔａｎｔｉｎｉら）および米国
特許第５，７５６，８３７号（Ｃｏｓｔａｎｔｉｎｉら）は、アジピン酸へのシ
クロヘキサンの直接酸化反応でコバルト含有触媒を再利用する方法を開示してお
り、この方法は、アジピン酸への酸化により得られる反応混合物が、この反応中
に形成されるグルタル酸およびコハク酸の少なくとも一部の抽出により処理され
る工程を包含することにより、特徴付けられる。

【００１２】 上記参考文献のいずれも、または本発明者が既知の他のいずれの参考文献も、
個々にまたは組み合わせて、本願で記述し請求したような本発明の複雑かつ重大
な制御および要件を受ける酸化反応の制御を開示、示唆または暗示していない。

【００１３】 （発明の開示） 上述のように、本発明は、炭化水素（例えば、シクロヘキサン）を個々の中間
体酸化生成物（例えば、アジピン酸）に酸化する方法、さらに具体的には、いか
にして、好ましくは、再利用のために、溶液中の触媒を連続的に抽出するかに関
する。さらに特定すると、本発明は、酢酸および金属触媒の存在下でシクロヘキ
サンをアジピン酸に酸化することにより生成された反応混合物から、金属触媒を
溶液中で抽出する方法に関し、方法は、以下の工程を包含する： （ａ）シクロヘキサンの実質的に全部を除去する工程； （ｂ）アジピン酸の主要部を除去する工程； （ｃ）酢酸の主要部（実質的に１００％まで）を除去するが、酢酸除去点（そ
れを超えると、触媒が沈殿を開始し得る）を超えないように注意し、それにより
、溶液中で濃縮物を形成する工程； （ｄ）濃縮物を向流流れの中央部に導入する工程であって、向流流れはまた、
下部および上部を有し、下部は、底部を有し、そして上部は、頂部を有する； （ｅ）向流流れの下部にシクロヘキサノンを導入する工程であって、シクロヘ
キサノンは、少量の水を含有し得る； （ｆ）向流流れの上部に水を導入する工程であって、水は、少量のシクロヘキ
サノンを含有し得る； （ｇ）上部の頂部から第一液体またはラフィネートを引き出す工程であって、
第一液体は、触媒を除いて、濃縮物の主要部を占める；および （ｈ）下部の底部から第二液体または抽出物を引き出す工程であって、第二液
体は、金属触媒の主要部を占める。

【００１４】 金属触媒は、好ましくは、コバルト含有化合物である。金属触媒は、実質的に
、それが会合している化合物または部分に関係なく、好ましくは、イオン形状で
、その金属自体である。それゆえ、金属は、工程（ａ）では、ある部分と会合し
ており、そして工程（ｈ）では、異なる部分と会合している；例えば、それは、
工程（ａ）では、主に、酢酸コバルトであり得、工程（ｈ）では、主に、アジピ
ン酸コバルト、またはグルタル酸コバルトまたはコハク酸コバルト、またはそれ
らの任意の混合物などであり得る。

【００１５】 シクロヘキサンの除去は、アジピン酸の除去前、除去中または除去後、あるい
はアジピン酸の除去前および除去後の両方で、行われ得る。前または後とは、こ
の工程の初期段階または後期段階を意味するのに対して、中とは、同じ段階を意
味する。例えば、シクロヘキサンは、その温度を低くすることにより、そして２
相の異なる液相、すなわち、非極性相（これは、シクロヘキサンの大部分を含有
する）および極性相（これは、酢酸、アジピン酸および他の極性部分の大部分を
含有する）を形成させることにより、除去され得、続いて、デカンテーションし
て非極性相が除去され、そして結晶化してアジピン酸が除去される。他の代替法
には、アジピン酸のフラッシュ結晶化（ｆｌａｓｈ ｃｒｙｓｔａｌｌｉｚａｔ
ｉｏｎ）中のシクロヘキサンの除去がある。シクロヘキサンはまた、蒸留により
除去され得る。

【００１６】 工程（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）および（ｈ）は、同時に実行されるのが
非常に好ましい。さらに、工程（ｃ）は、好ましくは、蒸留により実施される。
工程（ｃ）では、少量の水が、連続的または断続的に添加され得る。

【００１７】 酢酸の実質的に全部が工程（ｃ）で除去されること、および金属触媒の実質的
に全部が工程（ｈ）で引き出されることもまた、非常に好ましい。

【００１８】 触媒を実質的に完全に除去する必要がある場合、向流流れの一部（例えば、向
流流れの上部）で、十分に高い温度を維持することが、絶対的に重要であり、こ
の場所では、乳化傾向をなくすかまたは少なくするために、少量の触媒だけが存
在している。

【００１９】 上部、中央部および下部の温度は、実質的に同じであり得、好ましくは、５０
℃〜８０℃の範囲であり得る。

【００２０】 しかしながら、上部温度は、中央部温度よりも高く、かつ中央部温度は、下部
温度よりも高いことが、さらに好ましい。さらにより好ましくは、上部温度は、
５０℃〜９０℃の範囲であり、中央部温度は、３０℃〜５０℃の範囲であり、そ
して下部温度は、１０℃〜４０℃の範囲である。

【００２１】 本発明はまた、酢酸および金属触媒の存在下でシクロヘキサンをアジピン酸に
酸化することにより生成された反応混合物から、金属触媒を溶液中で抽出する方
法に関し、方法は、以下の工程を包含する： （ｋ）シクロヘキサンの実質的に全部を除去する工程； （ｌ）アジピン酸の主要部を除去する工程； （ｍ）触媒を沈殿させることなく、酢酸の主要部を除去して、それにより、溶
液中で濃縮物を形成する工程； （ｎ）濃縮物を向流多段アセンブリの中段に導入する工程であって、中段は、
中央混合ゾーンおよび中央分離ゾーンを含み、向流多段アセンブリはまた、前段
および後段を含み、前段は、前部混合ゾーンおよび前部分離ゾーンを含み、そし
て後段は、後部混合ゾーンおよび後部分離ゾーンを含む； （ｐ）前部混合ゾーンにシクロヘキサノンを導入する工程であって、シクロヘ
キサノンは、少量の水を含有し得る； （ｑ）後部混合ゾーンに水を導入する工程であって、水は、少量のシクロヘキ
サノンを含有し得る； （ｒ）後部分離ゾーンからラフィネートを引き出す工程であって、ラフィネー
トは、触媒を除いて、濃縮物の主要部を占める；および （ｓ）前部分離ゾーンから抽出物を引き出す工程であって、抽出物は、金属触
媒の主要部を占める。

【００２２】 工程（ｍ）は、蒸留により実施されることが好ましく、この場合、方法は、さ
らに、工程（ｍ）で水を添加する工程を包含し得る。

【００２３】 少なくとも後部分離ゾーンにおいて、分離は、少なくとも部分的に、遠心分離
工程により実施され得る。

【００２４】 本発明の１実施形態では、後段は、後段温度を有し、中段は、中段温度を有し
、前段は、前段温度を有し、ここで、後段温度、中段温度および前段温度は、実
質的に同じである。好ましくは、実質的に同じ温度は、５０℃〜８０℃の範囲で
ある。

【００２５】 異なる実施形態では、後段温度は、中段温度よりも高く、そして中段温度は、
前段温度よりも高い。好ましくは、後段温度は、５０℃〜９０℃の範囲であり、
中段温度は、３０℃〜５０℃の範囲であり、そして前段温度は、１０℃〜４０℃
の範囲である。

【００２６】 本発明によれば、酢酸の実質的に全部は、工程（ｍ）で除去されるのが好まし
い。金属触媒の実質的に全部は、工程（ｓ）で引き出されるのもまた、好ましい
。

【００２７】 上述のように、金属触媒は、好ましくは、コバルト含有化合物である。金属触
媒は、実質的に、それが会合している化合物または部分に関係なく、好ましくは
、イオン形状で、その金属自体である。それゆえ、金属は、工程（ｋ）では、あ
る部分と会合しており、そして工程（ｓ）では、異なる部分と会合している；例
えば、それは、工程（ｋ）では、主に、酢酸コバルトであり得、工程（ｓ）では
、主に、アジピン酸コバルト、またはグルタル酸コバルトまたはコハク酸コバル
ト、またはそれらの任意の混合物などであり得る。

【００２８】 工程（ｎ）、（ｐ）、（ｑ）、（ｒ）および（ｓ）を同時に実行することは、
非常に好ましい。さらに、工程（ｍ）は、好ましくは、蒸留によって行われる。
金属触媒の溶解度を維持するために、工程（ｍ）では、少量の水が、連続的また
は断続的に添加され得る。

【００２９】 本発明の方法は、精製されたアジピン酸を、ポリエステル、またはポリアミド
、または（ポリイミドおよび／またはポリアミドイミド）の重合体を形成する様
式で、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から選
択される反応物と反応させる工程をさらに包含し得、重合体は、さらに、繊維に
紡糸されるかまたは充填剤および／または他の添加剤と混合されて、複合材料を
形成し得る。

【００３０】 ある部分に関する「主要」および「大部分」とは、部分が５０重量％より多く
実質的に１００重量％までであることを意味する。

【００３１】 ある部分に関する「少」および「小部分」とは、部分が５０重量％未満で０重
量％までであることを意味する。

【００３２】 「上相」とは、「触媒の小部分を含有する比較的に極性が低いシクロヘキサノ
ン」を意味するのに対して、「下相」とは、「触媒の主要部を含有する比較的に
極性が高い水相」を意味する。これは、その分離器が、シクロヘキサン相および
下水相を生成するデカンターである場合だけでなく、この分離器が、例えば、簡
単にする目的上、遠心分離器である場合に、当てはまる。

【００３３】 「中段」とは、前段および後段以外の任意の段階である。

【００３４】 （本発明を実施する最良の形態） 上述のように、本発明は、例えば、シクロヘキサンをアジピン酸に酸化する方
法および装置に関し、さらに特定すると、好ましくは、再利用のために、この反
応後、いかにして触媒を溶液中で抽出するかに関する。

【００３５】 酸化反応において、正しい触媒の取り扱いは、常に、当該技術分野で考慮すべ
き問題となっている。本発明によれば、この触媒は、水相に溶解された液体形状
で分離され、好ましくは、さらに処理してまたは処理せずに、その反応チャンバ
に戻される。

【００３６】 本発明者は、この反応混合物が、シクロヘキサンを所望転化度でアジピン酸に
酸化した後、また、アジピン酸の主要部、水と共に残りのシクロヘキサンおよび
少なくとも酢酸の主要部を除去した後、臨界量のシクロヘキサノンおよび水の添
加の前後で、固形物を含まない単相性の液体状態に達するかまたは維持され得る
ことを発見した。この触媒は、次いで、追加量の水で、または温度低下により、
抽出され得、好ましくは、さらに処理してまたは処理せずに、その反応チャンバ
に戻され得る。

【００３７】 本発明によれば、この触媒分離工程は、以下で記述する技術を使用することに
より、大きく改良される： 今ここで、図１を参照すると、触媒分離ユニット１０が描写されており、これ
は、蒸発器または蒸留器１２を備え、これは、移動ライン１６を介して、複合向
流抽出カラム１４の中央領域１９に接続されている。複合向流抽出カラム１４は
、複合抽出領域１８を含む。カラム１４は、中央領域１９に加えて、下部領域２
０および上部領域２２を有する。下部領域２０は、底部２４を有し、そして上部
領域２２は、頂部２６を有する。複合向流抽出カラム１４には、水ライン２８お
よびシクロヘキサノンライン３０が接続されているが、このカラムは、次に、触
媒溶液ラインまたは抽出ライン３２，および濃縮物溶液ラインまたはラフィネー
トライン３４に接続されている。

【００３８】 蒸発器または蒸留器１２は、蒸気ライン１５に接続されているのに対して、任
意の添加剤ライン１３および処理した反応混合物ライン１１は、蒸発器１２に接
続されている。加熱器または熱交換器１７は、蒸発器１２の一部である。

【００３９】 触媒分離ユニット１０の前部および後部にある装置は、本発明者の特許および
出願（その内容は、本明細書中で参考として援用されている）の殆どで十分に記
述されているので、図１では示していない。

【００４０】 本実施形態の操作では、（例えば、本発明者の特許および出願（その内容は、
本明細書中で参考として援用されている）で記述されているように）、シクロヘ
キサンのアジピン酸への酸化に由来の処理済反応混合物は、ライン１１を通って
、蒸発器または蒸留器１２に入る。この処理済反応混合物は、この反応混合物か
らアジピン酸の少なくとも主要部を除去した後に残っている混合物であり、この
反応混合物は、酢酸および金属触媒（好ましくは、コバルト化合物）の存在下に
て、シクロヘキサンをアジピン酸に酸化することにより、生成される。この処理
済反応混合物は、未反応のシクロヘキサンの大部分または小部分を含有し得る。
このシクロヘキサンは、この反応混合物を（ｉ）極性相（これは、酢酸、アジピ
ン酸、他の極性部分および触媒の大部分を含有する）および（ｉｉ）非極性相（
これは、シクロヘキサンの大部分を含有する）に分離することにより、除去され
得る。このような場合、この非極性相は、再利用され得るのに対して、このアジ
ピン酸の大部分は、この極性相からの結晶化により、除去され得る。その残りは
、このアジピン酸の除去後、この場合の処理済反応混合物を構成する。別の場合
、このシクロヘキサンの大部分または小部分は、このアジピン酸のフラッシュ結
晶化と同時に除去され得る。その残りは、このアジピン酸の除去後、この場合の
処理済反応混合物を構成する。

【００４１】 シクロヘキサンの除去が、この処理済反応混合物が蒸発器または蒸留器１２に
入る前、非常に望ましいにもかかわらず、必須ではないと認められることは、重
要である。

【００４２】 蒸発器１２に入る処理済反応混合物は、存在している酢酸の大部分を蒸発する
ことにより、所望程度まで濃縮される。存在しているいくらかのシクロヘキサン
および殆どの水は、それらの揮発性が高いために、この酢酸が蒸発する前でも、
ライン１５を通って蒸発することが明らかである。この酢酸の大部分の蒸発によ
り生成した濃縮物は、液体形状で、ライン１６を通って離れるが、これは、たと
え粘稠であっても、依然として、ポンプ上げできることが、非常に重要かつ重大
である。

【００４３】 この酢酸を蒸発する工程中にて、添加物ライン１３を通って、少量の水が連続
的または断続的に添加され得る。水の添加は、転化率、この濃縮物中の化合物の
相対レベルなどに依存して、固形物を含まない形状で濃縮物を維持するために、
濃縮物中の酢酸の量をできるだけ少なくするのに重要であり得る。

【００４４】 この濃縮物は、複合向流抽出カラム１４の複合抽出領域１８に入るが、領域１
８では、向流流れ１８’が存在している。

【００４５】 向流流れ１８’は、中央領域１９’を有し、これは、カラム１４の中央領域１
９と対応している。同様に、向流流れ１８’は、下部流域２０’（これは、カラ
ム１４の下部領域２０と対応している）および上部領域２２’（これは、カラム
１４の上部領域２２と対応している）を有する。さらに、向流流れ１８’の下部
領域２０’は、底部２４’（これは、カラム１４の下部領域２０の底部２４に対
応している）を有する。向流流れ１８’の上部領域２２’は、頂部２６’（これ
は、カラム１４の上部領域２２の頂部２６に対応している）を有する。

【００４６】 図１で分かるように、向流流れ１８’は、カラム１４に出入りする複数の二次
流れにより、発生する。

【００４７】 これらの二次流れの１つは、向流流れ１８’の中央領域１９’に入る濃縮物で
ある。他の二次流れは、シクロヘキサノンの流れであり、これは、向流流れ１８
’の下部領域２０’で、シクロヘキサノンライン３０を通って、導入される。さ
らに他の二次流れには、水の流れがあり、これは、向流流れ１８’の上部領域２
２’において、水ライン２８を通って、導入される。

【００４８】 シクロヘキサノンは、水よりも比重が低いので、カラム１４では、（下部２０
’から向流流れ１８’の上部２２’に向かう方向で）、上向きに移動するのに対
して、この水は、カラム１４では、（上部領域２２’から向流流れ１８’の下部
領域２０’に向かう方向で）、下向きに移動する。これらの２つの二次流れは、
反対方向に移動するので、向流流れ１８’の組成は、場所によって変わり、最終
的には、底部２４’の近傍において、水相（これは、この金属触媒の少なくとも
主要部を含有する）が生じ、そして頂部２６’の近傍において、シクロヘキサノ
ン相（これは、この触媒を除いて、この濃縮物の主要部分を含有する）が生じる
。この水相（これは、この抽出物であり、この触媒の大部分を含有する）は、触
媒溶液ラインまたは抽出物ライン３２を経由して除去されるのに対して、このシ
クロヘキサノン相は、濃縮物溶液ラインまたはラフィネートライン３４を経由し
て、除去される。

【００４９】 この方法により、この濃縮物の溶解は、この金属触媒を水により溶液形状で同
時抽出して、達成される。この濃縮物溶液またはラフィネートおよび触媒溶液ま
たは抽出物は、本発明者の前述の特許および特許出願で議論されているように、
さらに処理され、そして／または再利用され得る。

【００５０】 この金属触媒の実質的に全部は、その温度とライン１６、２８および３０を通
る供給速度とを制御することにより、触媒溶液ラインまたは抽出物ライン３２を
通って、抽出されそして除去され得る。

【００５１】 ライン２８に入る水は、少量のシクロヘキサノンを含有し得るのに対して、ラ
イン３０を通って入るシクロヘキサノンは、少量の水を含有し得る。同様に、ラ
イン３２を通って出ていく触媒水溶液または抽出物は、少量のシクロヘキサノン
を含有するのに対して、ライン３４を通って出ていく濃縮物溶液またはラフィネ
ートは、少量の水を含有する。

【００５２】 この向流流れの領域（これらは、低濃度の触媒を有する）、例えば、向流流れ
１８’の上部２２’では、種々雑多な生成物を含有する水およびシクロヘキサノ
ンの乳化が起こる傾向にあり、これにより、少量の触媒は、濃縮物溶液またはラ
フィネートライン３４に取り込まれるようになる。このような傾向を相当に少な
くするかまたはなくすために、上部２２’の温度は、特定の臨界温度（これは、
過度の実験なしで、容易に発見できる）よりも高くなければならない。それゆえ
、向流流れ１８’全体は、この該臨界温度よりも高い温度で維持され得るか、ま
たは少なくともちょうどその上部２２’であり得る。向流流れ１８’の下部２０
’、中央部１９’および上部２２’の温度を制御する簡単な方法は、それぞれ、
ライン３０を通るシクロヘキサノン流れの温度、ライン１６を通る濃縮物流れの
温度、およびライン２８を通る水流れの温度を制御することによる。

【００５３】 この向流流れ全部をほぼ同じ温度で維持することが望ましい場合、好ましい温
度は、５０℃〜８０℃の範囲である。

【００５４】 しかしながら、さらに好ましくは、上部２２’の温度は、５０℃〜９０℃の範
囲で維持され、中央部１９’の温度は、３０℃〜５０℃の範囲で維持され、そし
て下部２０’の温度は、１０℃〜４０℃の範囲で維持される。上述のように、こ
れを達成する簡単な方法は、それぞれ、ライン３０を通るシクロヘキサノン流れ
の温度、ライン１６を通る濃縮物流れの温度、およびライン２８を通る水流れの
温度を制御することによるが、この目的のために、外部または内部の加熱または
冷却および／または他の温度制御手段が使用され得るので、このことは、必須で
はない。

【００５５】 今ここで、図２を参照すると、触媒分離ユニット１１０が描写されており、こ
れは、蒸発器または蒸留器１１２を備え、これは、移動ライン１１６を介して、
多段向流抽出アセンブリ１１４の中段１１９に接続されている。中段１１９は、
中央分離器１１８および中央ミキサー１１８ａを備える。この多段向流抽出アセ
ンブリは、中段１１９に加えて、前段１２０および後段１２２を有する。前段１
２０は、前部分離器１２４および前部ミキサー１２４ａを有する。同様に、後段
１２２は、後部分離器１２６および後部ミキサー１２６ａを有する。水ライン１
２８は、後部ミキサー１２６ａに接続されており、そしてシクロヘキサノンライ
ン１３０は、前部ミキサー１２４ａに接続されている。抽出物ライン１３２は、
前部分離器１２４に接続されており、そしてラフィネートライン１３４は、後部
分離器１２６に接続されている。

【００５６】 中間段階１３６および１３８は、それぞれ、中間分離器１４０および１４２、
および、それぞれ、中間ミキサー１４０ａおよび１４２ａを備え、また、図２で
示されている。しかしながら、その段階数は、個々の状況、および抽出完成度に
依存して、それより多くまたは少なくできる。

【００５７】 これらのミキサーおよび分離器は、図２で明瞭に例示されているように、入口
ラインおよび出口ラインを通って、互いに接続されている。特定の入口ラインは
、互いに合体して、これらのミキサーに至る単一の入口ラインを形成するように
、図示されている。しかしながら、これは、必須ではない。これらの入口ライン
は、これらのミキサーに個々にかつ直接的に至り得る。この直接接続は、固形分
が沈殿する可能性がある場合、特に望ましい。ライン内で種々雑多な流れを所定
の容器から別の容器へと移動させるポンプは、他の付属品と同様に、明瞭かつ簡
潔の目的のために、図示されていないが、それらおよびそれらの操作は、当該技
術分野で周知である。

【００５８】 これらの分離器は、デカンター、遠心分離器、または２相の流動相を互いから
分離するのに適当な他の任意の型の分離器であり得る。

【００５９】 異なる段階またはこれらの段階の一部（ミキサー、分離器、入口ラインおよび
出口ラインなどを含めて）は、当該技術分野で周知の任意の手段により、加熱ま
たは冷却され得る。加熱／冷却手段は、明瞭にする目的のために、図１では図示
されていない。

【００６０】 蒸発器または蒸留器１１２は、蒸気ライン１１５に接続されているのに対して
、任意の添加剤ライン１１３および処理済反応混合物ライン１１１は、蒸発器１
１２に接続されている。加熱器または熱交換器１１７は、蒸発器１１２の一部で
ある。

【００６１】 触媒抽出ユニット１１０の前部および後部にある装置は、本発明者の特許およ
び出願（その内容は、本明細書中で参考として援用されている）の殆どで十分に
記述されているので、図２では示していない。

【００６２】 本実施形態の操作では、（例えば、本発明者の特許および出願（その内容は、
本明細書中で参考として援用されている）で記述されているように）、シクロヘ
キサンのアジピン酸への酸化に由来の処理済反応混合物は、ライン１１１を通っ
て、蒸発器または蒸留器１１２に入る。この処理済反応混合物は、この反応混合
物からアジピン酸の少なくとも主要部を除去した後に残っている混合物であり、
この反応混合物は、酢酸および金属触媒（好ましくは、コバルト化合物）の存在
下にて、シクロヘキサンをアジピン酸に酸化することにより、生成される。この
処理済反応混合物は、未反応のシクロヘキサンの大部分または小部分を含有し得
る。このシクロヘキサンは、この反応混合物を（ｉ）極性相（これは、酢酸、ア
ジピン酸、他の極性部分および触媒の大部分を含有する）および（ｉｉ）非極性
相（これは、シクロヘキサンの大部分を含有する）に分離することにより、除去
され得る。このような場合、この非極性相は、再利用され得るのに対して、この
アジピン酸の大部分は、この極性相からの結晶化により、除去され得る。その残
りは、このアジピン酸の除去後、この場合の処理済反応混合物を構成する。異な
る場合において、このシクロヘキサンの大部分または小部分は、このアジピン酸
のフラッシュ結晶化と同時に除去され得る。その残りは、このアジピン酸の除去
後、この場合の処理済反応混合物を構成する。

【００６３】 もちろん、このシクロヘキサンは、蒸発または他の任意の技術により、除去さ
れ得る。

【００６４】 シクロヘキサンの除去が、この処理済反応混合物が蒸発器または蒸留器１１２
に入る前、非常に望ましいにもかかわらず、必須ではないと認められることは、
重要である。

【００６５】 蒸発器１１２に入る処理済反応混合物は、存在している酢酸の大部分を蒸発す
ることにより、所望程度まで濃縮される。存在しているいくらかのシクロヘキサ
ンおよび殆どの水は、それらの揮発性が高いために、この酢酸が蒸発する前でも
、ライン１１５を通って蒸発することが明らかである。この酢酸の大部分の蒸発
により生成した濃縮物は、液体形状で、ライン１１６を通って離れるが、これは
、たとえ粘稠であっても、依然として、ポンプ上げできることが、非常に重要か
つ重大である。

【００６６】 この酢酸を蒸発する工程中にて、添加物ライン１１３を通って、少量の水が連
続的または断続的に添加され得る。水の添加は、転化率、この濃縮物中の化合物
の相対レベルなどに依存して、固形物を含まない形態で濃縮物を維持するために
、濃縮物中の酢酸の量をできるだけ少なくするのに重要であり得る。

【００６７】 この濃縮物は、ライン１１６（これは、ライン１４０’における流れと合体し
、後に、ライン１４２”における流れと合体して、中央ミキサー１１８ａで終わ
る）を通って、多段向流抽出アセンブリ１１４の中段１１９に入る。ライン１１
６、１４０’および１４２”からの３つの流れは、ミキサー１１８ａで十分に混
合され、得られた混合物は、ライン１１８ａ’を通って、分離器１１８に転送さ
れ、この場所で、それは、シクロヘキサノンに富む上相、および水に富む下相に
分離される。この下相は、ライン１１８”を通って、先のミキサー（中間ミキサ
ー１４０ａ）に指向されるのに対して、この上相は、ライン１１８’を通って、
次のミキサー（中間ミキサー１４２ａ）に指向される。

【００６８】 シクロヘキサノンは、ライン１３０を通って、前部ミキサー１２４ａに供給さ
れ、この場所で、それは、ライン１４０”を通って中間分離器１４０の下相から
来る流れと十分に混合される。得られた混合物は、ライン１２４ａ’を通って、
前部分離器１２４に供給され、この場所で、それは、下相（これは、ライン１３
２を通って、このアセンブリから出ていく）および上相（これは、ライン１２４
’を通って、中間ミキサー１４０ａに指向される）に分離される。

【００６９】 ライン１３２を通ってこのアセンブリ１１４から出ていく下相は、この触媒の
大部分を水溶液中に含有する抽出物である。それはまた、少量のシクロヘキサノ
ンを含有する。

【００７０】 アセンブリ１１４の後段１２２では、水は、ライン１２８を通って、ミキサー
１２６ａに入り、この場所で、それは、ライン１４２’を通って中間分離器１４
２の上相から来る流れと十分に混合される。得られた混合物は、ライン１２６ａ
’を通って、分離器１２６に指向され、この場所で、それは、下相および上相に
分離される。この下相は、ライン１２６”を通って、中間ミキサー１４２ａに指
向されるのに対して、この上相は、ライン１３４を通って、アセンブリ１１４か
ら出ていく。

【００７１】 ライン１３４を通ってアセンブリ１１４を出ていくこの上相は、この濃縮物の
大部分のシクロヘキサノン溶液を含有するラフィネートである。少量の水もまた
、存在している。

【００７２】 図２で示すように、この操作は、触媒を抽出して最終水性触媒抽出物を形成す
ること、ライン１３２を通ってアセンブリ１１４を出ていくこと、およびシクロ
ヘキサノン中の濃縮物ラフィネート（これは、ライン１３４を通って、アセンブ
リ１１４を出ていく）をあとに残すことという連続段階に基づいている。

【００７３】 その抽出溶媒（水）は、後部分離器１２６から前部分離器１２４に向かって移
動するにつれて、触媒に富むようになり、絶えず触媒がさらに欠乏したラフィネ
ートが残り、これは、最終的には、ライン１３４を通って、アセンブリ１１４を
出ていく。

【００７４】 この方法により、ライン１１６を通ってこの多段向流アセンブリに入る濃縮物
の溶解は、この金属触媒を水により溶液形態で同時抽出して、達成される。この
ラフィネートおよび触媒抽出物は、本発明者の前述の特許および特許出願で述べ
ているように、さらに処理されそして／または再利用され得る。

【００７５】 この濃縮物を多段向流流れアセンブリまたは抽出器の中段（または類似の向流
流れカラムの中央部）で導入することは、この触媒の濃縮物からの抽出の効率お
よび有効性を最大にするのに重要である。この濃縮物を、多段向流アセンブリま
たは抽出器１１４の後段１２２ではなく中段１１９で導入すると、最終分離器１
２６で最終抽出が起こる前に、相当量の触媒が既に抽出されることが保証される
。この濃縮物を多段向流アセンブリまたは抽出器１１４の前段１２０で導入する
と、濃縮物部分（触媒以外）の相当に多くが、ライン１３２を通って出ていく触
媒抽出物に取り込まれる。

【００７６】 この金属触媒の実質的に全部は、異なる段階における温度とライン１２８およ
び１３０を通る供給速度とを制御することにより、ならびに段階の数によって、
抽出物ライン１３２を通って、抽出され除去され得る。

【００７７】 ライン１２８に入る水は、少量のシクロヘキサノンを含有し得るのに対して、
ライン１３０に入るシクロヘキサノンは、少量の水を含有し得る。同様に、上述
のように、ライン１３２を通って出ていく触媒抽出物は、少量のシクロヘキサノ
ンを含有するのに対して、ライン１３４を通って出ていくラフィネートは、少量
の水を含有する。

【００７８】 向流アセンブリ１１４の後段１２２に近い後期段階（この後期段階は、触媒の
濃度が相当に低い）では、種々雑多な生成物を含有する水およびシクロヘキサノ
ンの乳化が起こる傾向にあり、これにより、このラフィネート（これは、ライン
１３４を通って、このアセンブリを出ていく）には、少量の触媒が組み込まれる
。このような傾向を相当に少なくするかなくすために、この後期段階の温度は、
一定の臨界温度（これは、過度の実験なしで、容易に発見できる）よりも高くな
ければならない。それゆえ、全段階は、該臨界温度よりも高い温度で維持され得
るか、または、そのちょうど後期段階またはちょうど後段１２２にあり得る。こ
れを簡単に達成する１つの方法は、当該技術分野で周知の手段（例えば、加熱器
、冷却器、熱交換器など）によりこれらの種々雑多な流れの温度を制御すること
にある。もちろん、これらの分離器またはミキサーはまた、類似の技術（例えば
、外部または内部の加熱または冷却装置、および／または他の温度制御手段）に
より、加熱または冷却され得る。

【００７９】 この多段向流流れアセンブリ全部をほぼ同じ温度で維持することが望ましい場
合、好ましい温度は、５０℃〜８０℃の範囲である。

【００８０】 しかしながら、さらに好ましくは、後段１２２の温度は、５０℃〜９０℃の範
囲で維持され、中段１１９の温度は、３０℃〜５０℃の範囲で維持され、そして
前段１２０の温度は、１０℃〜４０℃の範囲で維持されるべきである。中間段階
があるために、これらの中間段階は、好ましくは、この中段の温度と各個の末端
段階（前段また後段）の温度との間の温度で、維持されるべきである。

【００８１】 後段１２２または他の任意の段階で、許容できない乳化が起こるなら、遠心分
離器（例えば、図１で示した分離器１２６）が、簡単なデカンターの代わりに使
用され得る。少なくとも後段で遠心分離器を使用するとき、その温度を乳化臨界
点よりも高く維持することは、それ程重要ではない。

【００８２】 本発明によれば、任意の液体または気体またはオフガスが、任意の部分から任
意の他の部分へと全体的または部分的に再利用され得る（それが望ましいなら）
ことが理解できるはずである。さらに、例示している実施形態（部分的または全
体的に）の任意の組合せ、または任意の等価な配列、または等価な配列の任意の
組合せが使用され得、本発明の範囲内である。

【００８３】 種々雑多な機能は、好ましくは、コンピュータ化制御装置で制御されるものの
、本発明によれば、任意の他の型の制御装置または手動制御装置および／または
１つまたはそれ以上の機能を制御する労力を利用することが可能である。好まし
いコンピュータ化制御装置には、人工知能システム（エキスパートシステム、ニ
ューラルネットワーク、ファジー論理システム（これらは、当該技術分野で周知
である））が挙げられる。これらの３種類の人工知能システムのうち、ニューラ
ルネットワーク（これは、学習システムである）は、その装置の異なる場所から
情報（例えば、圧力、温度、化学分析値または他の分析値など）を集め、この情
報をその結果（例えば、圧力低下速度、反応速度、反応性など）と共に保存し、
他のデータ（もし、入手可能なら）と共に、この情報を将来使用するためにプロ
グラム化して、各場合でとる措置に関する決定を行う。エキスパートシステムは
、経験を積んだ人間の専門知識に基づいて、プログラム化されている。ファジー
論理システムは、専門知識規則に加えて、直観規則に基づいている。

【００８４】 本発明による酸化は、非破壊的な酸化であり、ここで、その酸化生成物は、一
酸化炭素、二酸化炭素、およびそれらの混合物とは異なる（例えば、アジピン酸
）。もちろん、この酸化生成物（これは、１種類の生成物または生成物の混合物
であり得る）と共に、少量のこれらの化合物は、形成され得る。

【００８５】 アジピン酸に関して、その調製は、本発明の方法で特に適しているが、一般的
に情報は、他の参考文献のうち、多数の米国特許に見い出され得る。これらには
、以下で挙げられるが、これらに限定されない： 米国特許第２，２２３，４９３号；第２，５８９，６４８号；第２，２８５，
９１４号；第３，２３１，６０８号；第３，２３４，２７１号；第３，３６１，
８０６号；第３，３９０，１７４号；第３，５３０，１８５号；第３，６４９，
６８５号；第３，６５７，３３４号；第３，９５７，８７６号；第３，９８７，
１００号；第４，０３２，５６９号；第４，１０５，８５６号；第４，１５８，
７３９号（グルタル酸）；第４，２６３，４５３号；第４，３３１，６０８号；
第４，６０６，８６３号；第４，９０２，８２７号；第５，２２１，８００号；
および第５，３２１，１５７号。

【００８６】 二酸（例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸など）ま
たは他の適当な化合物は、当該技術分野で周知の技術に従って、ポリエステル、
またはポリアミド、または（ポリイミドおよび／またはポリアミドイミド）の重
合体を形成する様式で、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミド
からなる群から選択される第３の反応物と反応され得る。好ましくは、このポリ
オール、ポリアミンおよびポリアミドは、過度の架橋を回避するために、それぞ
れ、主に、ジオール、ジアミンおよびジアミドである。この反応から得られる重
合体は、当該技術分野で周知の技術により紡糸されて、繊維を形成し得る。この
重合体はまた、充填剤および／または他の添加剤と混合されて、複合材料を形成
し得る。

【００８７】 本発明の操作を説明している例は、例示の目的のためにのみ示されており、い
ずれの様式でも、本発明の範囲を限定するものとは解釈すべきではない。それに
加えて、この上で詳述した好ましい実施形態だけでなく、本発明の範囲内に含ま
れる他の任意の実施形態は、常識および／または専門家の意見に従って、個々に
、またはそれらの任意の組合せで、実施され得ることを強調しておく。これらの
実施形態の個々の部分はまた、本発明に従って、個々に、または実施形態の他の
個々の部分と組み合わせて、全体として、実施され得る。これらの組合せもまた
、本発明の範囲内にある。さらに、その論述において企図した何らかの説明は、
推測にすぎず、本発明の範囲を狭くするとは解釈されない。

【００８８】 読者は、上記詳細な説明を図面と組み合わせて参照すると、さらに理解が深ま
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、本発明の好ましい実施形態のブロック線図を図示しており、ここで、
その触媒抽出は、向流流れで行われる。

【図２】 図２は、本発明の他の好ましい実施形態のブロック線図を図示しており、ここ
で、その触媒抽出は、多段抽出アセンブリで行われる。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１３年２月２７日（２００１．２．２７）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２９

【補正方法】変更

【補正の内容】

【００２９】 本発明の方法は、精製されたアジピン酸を、ポリエステル、またはポリアミド
、またはポリイミドおよび／またはポリアミドイミドの重合体を形成する様式で
、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から選択さ
れる反応物と反応させる工程をさらに包含し得、該重合体は、さらに、繊維に紡
糸されるかまたは充填剤および／または他の添加剤と混合されて、複合材料を形
成し得る。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００８６

【補正方法】変更

【補正の内容】

【００８６】 二酸（例えば、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸など）ま
たは他の適当な化合物は、当該技術分野で周知の技術に従って、ポリエステル、
またはポリアミド、またはポリイミドおよび／またはポリアミドイミドの重合体
を形成する様式で、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドから
なる群から選択される第３の反応物と反応され得る。好ましくは、このポリオー
ル、ポリアミンおよびポリアミドは、過度の架橋を回避するために、それぞれ、
主に、ジオール、ジアミンおよびジアミドである。この反応から得られる重合体
は、当該技術分野で周知の技術により紡糸されて、繊維を形成し得る。この重合
体はまた、充填剤および／または他の添加剤と混合されて、複合材料を形成し得
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 デコスター， デイビッド シー． アメリカ合衆国 ロード アイランド 02806， バーリントン， グレイト ロ ード 21 (72)発明者 ダッセル， マーク ダブリュー． アメリカ合衆国 ワシントン 98342， インディアノラ， ピー．オー． ボック ス 486 (72)発明者 バッシリオウ， アウスタシオス アメリカ合衆国 デラウェア 19711− 7419， ニューアーク， サウス タウン ビュー レーン 12 (72)発明者 ロスタミ， アデール エム． アメリカ合衆国 ワシントン 98110， ベインブリッジ アイランド， ノースイ ースト シー レイ コート 9205 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AB46 AC46 AD11 AD16 AD17 BA83 BB16 BB31 BC51 BS10 4H039 CA65 CC30

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酢酸および金属触媒の存在下でシクロヘキサンをアジピン酸
   に酸化することにより生成された反応混合物から、該金属触媒を溶液中で抽出す
   る方法であって、該方法は、以下の工程を包含する： （ａ）該シクロヘキサンの実質的に全部を除去する工程； （ｂ）該アジピン酸の主要部を除去する工程； （ｃ）触媒を沈殿させることなく、該酢酸の主要部を除去して、それにより、
   溶液中で濃縮物を形成する工程； （ｄ）該濃縮物を向流流れの中央部に導入する工程であって、該向流流れはま
   た、下部および上部を有し、該下部は、底部を有し、そして該上部は、頂部を有
   する； （ｅ）該向流流れの該下部にシクロヘキサノンを導入する工程であって、該シ
   クロヘキサノンは、少量の水を含有し得る； （ｆ）該向流流れの該上部で水を導入する工程であって、該水は、少量のシク
   ロヘキサノンを含有し得る； （ｇ）該上部の該頂部から第一液体またはラフィネートを引き出す工程であっ
   て、該第一液体は、該触媒を除いて、該濃縮物の主要部を占める；および （ｈ）該下部の該底部から第二液体または抽出物を引き出す工程であって、該
   第二液体は、該金属触媒の主要部を占める、 方法。
2. 【請求項２】 前記工程（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）、（ｇ）および（ｈ）が、
   同時に実行される、請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 前記工程（ｃ）が、蒸留により実施される、請求項１〜２の
   いずれかに記載の方法。
4. 【請求項４】 さらに、前記工程（ｃ）で水を添加する工程を包含する、請
   求項１〜３のいずれかに記載の方法。
5. 【請求項５】 前記酢酸の実質的に全部が、前記工程（ｃ）で除去される、
   請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
6. 【請求項６】 前記金属触媒の実質的に全部が、前記工程（ｈ）で引き出さ
   れる、請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
7. 【請求項７】 前記上部が、上部温度を有し、前記中央部が、中央部温度を
   有し、前記下部が、下部温度を有し、ここで、該上部温度、該中央部温度および
   該下部温度が、実質的に同じである、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
8. 【請求項８】 前記上部が、上部温度を有し、前記中央部が、中央部温度を
   有し、前記下部が、下部温度を有し、ここで、該上部温度が、該中央部温度より
   も高い、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
9. 【請求項９】 前記中央部温度が、前記下部温度よりも高い、請求項８に記
   載の方法。
10. 【請求項１０】 さらに、前記アジピン酸を、ポリエステル、またはポリア
    ミド、またはポリイミドおよび／またはポリアミドイミドの重合体を形成する様
    式で、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から選
    択される反応物と反応させる工程を包含し、前記方法が、さらに、該重合体を繊
    維に紡糸する工程または該重合体を充填剤および／または他の添加剤と混合して
    複合材料を形成する工程を包含する、請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
11. 【請求項１１】 酢酸および金属触媒の存在下でシクロヘキサンをアジピン
    酸に酸化することにより生成された反応混合物から、該金属触媒を溶液中で抽出
    する方法であって、該方法は、以下の工程を包含する： （ｋ）該シクロヘキサンの実質的に全部を除去する工程； （ｌ）該アジピン酸の主要部を除去する工程； （ｍ）触媒を沈殿させることなく、該酢酸の主要部を除去して、それにより、
    溶液中で濃縮物を形成する工程； （ｎ）該濃縮物を向流多段アセンブリの中段に導入する工程であって、該中段
    は、中央混合ゾーンおよび中央分離ゾーンを含み、該向流多段アセンブリはまた
    、前段および後段を含み、該前段は、前部混合ゾーンおよび前部分離ゾーンを含
    み、そして該後段は、後部混合ゾーンおよび後部分離ゾーンを含む； （ｐ）該前部混合ゾーンにシクロヘキサノンを導入する工程であって、該シク
    ロヘキサノンは、少量の水を含有し得る； （ｑ）該後部混合ゾーンに水を導入する工程であって、該水は、少量のシクロ
    ヘキサノンを含有し得る； （ｒ）該後部分離ゾーンからラフィネートを引き出す工程であって、該ラフィ
    ネートは、該触媒を除いて、該濃縮物の主要部を占める；および （ｓ）該前部分離ゾーンから抽出物を引き出す工程であって、該抽出物は、該
    金属触媒の主要部を占める、 方法。
12. 【請求項１２】 前記工程（ｍ）が、蒸留により実施される、請求項１１に
    記載の方法。
13. 【請求項１３】 さらに、前記工程（ｍ）で水を添加する工程を包含する、
    請求項１１〜１２のいずれかに記載の方法。
14. 【請求項１４】 少なくとも前記後部分離ゾーンにおいて、分離が、少なく
    とも部分的に、遠心分離工程により実施される、請求項１１〜１３のいずれかに
    記載の方法。
15. 【請求項１５】 前記後段が、後段温度を有し、前記中段が、中段温度を有
    し、前記前段が、前段温度を有し、ここで、該後段温度、該中段温度および該前
    段温度が、実質的に同じである、請求項１１〜１４のいずれかに記載の方法。
16. 【請求項１６】 前記実質的に同じ温度が、５０℃〜８０℃の範囲である、
    請求項１５に記載の方法。
17. 【請求項１７】 前記後段が、後段温度を有し、前記中段が、中段温度を有
    し、前記前段が、前段温度を有し、ここで、該後段温度が、該中段温度よりも高
    く、そして該中段温度が、該前段温度よりも高い、請求項１１〜１４のいずれか
    に記載の方法。
18. 【請求項１８】 前記後段温度が、５０℃〜９０℃の範囲であり、前記中段
    温度が、３０℃〜５０℃の範囲であり、そして前記前段温度が、１０℃〜４０℃
    の範囲である、請求項１７に記載の方法。
19. 【請求項１９】 前記酢酸の実質的に全部が、前記工程（ｍ）で除去される
    、請求項１１〜１８のいずれかに記載の方法。
20. 【請求項２０】 前記金属触媒の実質的に全部が、前記工程（ｓ）で引き出
    される、請求項１１〜１９のいずれかに記載の方法。
21. 【請求項２１】 さらに、前記アジピン酸を、ポリエステル、またはポリア
    ミド、またはポリイミドおよび／またはポリアミドイミドの重合体を形成する様
    式で、それぞれ、ポリオール、ポリアミン、およびポリアミドからなる群から選
    択される反応物と反応させる工程を包含し、前記方法が、さらに、該重合体を繊
    維に紡糸する工程または該重合体を充填剤および／または他の添加剤と混合して
    複合材料を形成する工程を包含する、請求項１１〜２０のいずれかに記載の方法
    。