JP2002541496A - X線レンズ・システム - Google Patents
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Abstract
Description
集束するように設計されたレンズのモデュール方式装置に関する。
説明が、本質的に単に模範的であり、かつ本発明またはその利用を制限すること
を決して意図されない本発明の応用を示す。さらに、次の説明は、医学的応用お
よび結晶回折応用で利用されるように設計されたX線レンズ・システムを示すが
、X線構造解析およびX線分光を含むけれどもそれに限定されない種々のX線応
用で本発明を利用することを当業者に適切に教示するように意図されている。
を使用する。放射線療法は、脳腫瘍のようなあるタイプの癌を治療する場合に、
主な方法の1つ、時として唯一の方法である。X線を発生する直線加速装置が、
そのような悪性腫瘍を破壊する放射線療法で広く利用されてきた。放射線療法で
用いられる直線加速装置は通常マルチリーフ・コリメータを使用して、X線の成
形ビームを生成する。成形X線ビーム強度がその限界を通じて不変のフラックス
強度を有する。そのような装置によって発生するX線のエネルギー範囲が、通常
、有効であるMeV範囲に達する。腫瘍を破壊するために、直線加速装置は標的
の悪性組織に絶えず向けられ、かつそれを中心に回転する必要がある。直線加速
装置の高エネルギー(MeV)およびそれらの平行放射線によって、腫瘍を囲む
多量の健全な組織が場合によっては損傷を与えるMeV範囲のX線密度にさらさ
れる。本発明の集束X線ビームが、正確に制御された方法で標的を治療するため
、ならびに早期に標的を治療するために使用されるより低いエネルギーX線の高
輝度集束スポットを与える。より低いエネルギーX線は標的の後で急速に減衰す
るので、X線にさらされることがある影響されやすい器官に対する組織の損傷を
減らす。
40KeV〜100KeVのエネルギー使用で同じ結果を達成できる。この集束
システムを使用する利点は健全な人体組織のX線による被曝および損傷が少ない
ことであり、KeV範囲のX線が、X線集束ポイント/治療領域を囲む放射線強
度を減少させて悪性腫瘍に直接集束されることが可能であるので、標的近辺の影
響されやすい器官に対する損傷を排除し、X線のエネルギーは腫瘍に供給される
薬剤のような特定の物質の吸収端の上側に設定されることが可能であり、非常に
小さい腫瘍の治療がより正確な方法で行われることが可能であり、本発明の全体
のコストは以前の直線加速装置に比べて小さい。
造を研究するために使用される一般的な方法がX線回折である。この方法は標本
結晶をX線のビームで照射することにもとづいている。X線ビームの一部が標本
結晶を貫通できず、もっと適切に言えば、いくらかの放射線が偏向または回折さ
れ、標本からいろいろな角度で出射する。入射X線が結晶の原子間の空間に沿っ
て進むか、または原子によって偏向される。X線が標本結晶から出射するときに
X線によって発生されるX線回折パターンを検出するセンサが使用される。この
回折パターンは結晶の原子構造配列に対応する。そのような装置はX線回折計と
して技術的に知られている。本発明の集束特性は標本結晶における束密度を改善
して、回折パターンを改善できる。
子が、X線を集束および/または反射するために使用され得る。これらの素子の
主な目的は、X線発生器によって生成されたX線束を集め、それを所望の領域に
向けることである。反射および集束素子の束強度を決定する3つの主因子、即ち
反射角、反射力、およびロッキング・カーブ幅がある。反射角はX線が反射面の
表面から反射される角度であり、反射力はX線が表面に入射した後に表面から戻
るエネルギー量であり、ロッキング・カーブ幅は特定の入射範囲にわたってエネ
ルギーを集め反射する能力である。
を生じ、その結果として、その反射力は100%に近いけれども、小さいスルー
プットを生じる。全反射鏡はまた、所望または非所望のX線波長を反射するだろ
う。医学的応用で、これらの非所望のX線波長は治療を受けている人に対する皮
膚の損傷を場合によっては起し得る。
束を少量に制限する非常に狭い帯域を有する。
有する。反射角はまた全反射鏡より大きい。反射力およびロッキング・カーブ幅
は、より小さなd層間隔がより大きな反射角を実現するために使用される場合に
低下するだろう。数10KeV範囲のような高エネルギーX線の場合、多層反射
器のX線集束効率は十分ではない。
結晶領域から構成される。黒鉛結晶のようなモザイク結晶は大きい反射力、大き
い反射角、したがって大きい捕獲角を有する。モザイク結晶はまた、それらのモ
ザイク構造に拠る大きいロッキング・カーブ幅を有する。これらの因子のすべて
が、モザイク結晶を高エネルギーX線を反射し向ける魅力的な選択肢とする。本
発明の集束レンズは黒鉛結晶のようなモザイク結晶から構成される。
ンズはブラッグ反射およびラウエ回折の原理を使用して操作される。これらのレ
ンズの理想的結晶表面および結晶平面はヨハンセンの図式に従う。実際上では、
集束の式に取り組むために円筒形、円錐形、多角形の表面でさえも使用すること
ができる。ブラッグ回折を使用するレンズは狭い周波数帯域(実質的に単色光)
のX線を提供するが、ラウエ回折を使用するレンズは制御された広周波数帯域の
X線を提供する。同じ光源−焦点間距離を有するような多くのレンズが設計可能
である。それぞれのレンズは異なった光源−レンズおよびレンズ−焦点距離を有
しており、焦点のスポット・サイズ、作用距離(レンズ前端部から焦点まで)、
および線束に応じて異なるレンズまたはいくつかのレンズの組み合わせを使用す
ることができる。このモジュール方式は強度、焦点スポット・サイズ、および作
用距離を変えるために単純だがそれでも柔軟性のある式を創出する。
を円筒構造に配置して使用する。このレンズはグラファイト層を曲げ処理して形
成されるか、または別の選択肢ではレンズ・ハウジング上にグラファイトを直接
的に成長させて形成される。ブラッグ・レンズでは、グラファイトはモザイク結
晶を選択することが、その優れた反射特性ゆえに好ましい。ラウエ透過図式で使
用するラウエ・レンズは同様にモザイク・グラファイト結晶から構成されるが、
しかしX線はモザイク・グラファイト結晶の入射表面から反射されるだけよりも
むしろ結晶容積を透過して回折を受ける。
性を変えるために必要とされる。これらの要求性は、構造の限定はされないが、
内部が球形、円筒形、円錐形、放物線形、楕円形または他の円錐タイプの構造を
もつ付録のブラッグ反射X線レンズの使用に合わせることができる。これらの付
録のX線レンズはX線を集めて焦点距離を変えながら集束処理を行ない、焦点エ
リアと強度を変えるために使用することができる。このモジュール方式は単純で
はあるがそれでも柔軟性のあるX線ビームの強度、焦点距離、および焦点エリア
を変える式を創出する。
X線を方向設定するレンズ・システムを含み、前記レンズ・システムが概して封
止された内部をもつハウジングを有する少なくとも1つのレンズ素子を含み、前
記ハウジングの前記内部にはブラッグX線回折および反射層が並んでいる。その
ようなX線システムが付加的に含むことがあり得るのは、モザイク結晶の前記ブ
ラッグX線回折および反射層、縦方向に曲線断面を有する前記ブラッグX線回折
および反射層および前記曲線断面とは異なる半径の曲線状の結晶平面を有する前
記モザイク結晶、縦方向に曲線断面を有する前記レンズ素子の前記内部、前記X
線を回折して透過する前記ブラッグX線回折および反射層、横方向に円形断面を
有する前記レンズ素子の前記内部、縦方向に円錐形断面を有する前記レンズ素子
の前記内部、縦方向に長方形の断面を有する前記レンズ素子の前記内部、対称軸
に沿って結合した複数のレンズ素子を含む前記レンズ・システム、概してヨハン
セン結晶反射表面を形成している前記複数レンズ素子、同軸状に結合した複数の
レンズ素子を含む前記レンズ・システム、環状装置であって、その中心に結合し
たフィルタ媒体を有し、前記環状装置が前記レンズ・システム上に入射しないで
前記レンズ・システムの集束領域にさしこまない前記X線の一部を閉じ込め、前
記フィルタ媒体が前記集束領域に向いた前記X線の一部をフィルタ処理する環状
装置、前記X線を焦点に合わせる前記レンズ・システム、ビーム・ストッパーで
あって、前記ビーム・ストッパーが集束領域に向いていない前記X線をブロック
するビーム・ストッパー、または前記レンズ・システムを透過した非反射のX線
をブロックする前記ビーム・ストッパーである。
記X線を集め、前記X線を焦点に合わせる複数のレンズを有するモジュールのレ
ンズ・システムを含み、前記モジュールのレンズ・システムのX線集束特性は前
記レンズを外したり追加すること、または前記レンズの特性を変えることによっ
て変化させることができる。そのようなX線システムはさらに、X線スペクトル
通過帯域、作用距離、線束強度、焦点スポット・サイズ、および焦点距離から成
るグループから選択される前記X線の集束特性を含み、前記複数のレンズのそれ
ぞれがブラッグX線回折および反射層を有するハウジングを含み、前記ブラッグ
X線回折および反射層はモザイク結晶から成り、前記ブラッグX線回折および反
射層はグラファイトから成り、前記複数のレンズのそれぞれが縦方向に円形の断
面を有する内部表面を有し、前記複数のレンズのそれぞれが横方向に円形の断面
を有する内部表面を有し、前記複数のレンズのうち少なくとも1つは縦方向に円
錐形断面を有する内部表面を有し、前記複数のレンズのうち少なくとも1つは縦
方向に長方形の断面を有する内部表面を有し、前記複数のレンズ素子は同軸状に
結合され、そこで前記複数のレンズ素子はX線光源−焦点の軸に沿って結合され
、または前記複数のレンズ素子は概してヨハンセン結晶反射表面を形成する内部
表面を有する。
定義され、前記複数のレンズのそれぞれがグラファイトを並べた内部表面をもつ
ハウジング、前記複数のレンズに最も近いX線フィルタを有し、組み合わされた
前記複数のレンズの前記内部表面は前記X線レンズ・システムに概して球形の内
部表面を与えるように形成される。
前記X線を方向付けするレンズ・システムを含み、その中で前記レンズ・システ
ムは、内部をもつ円筒形ハウジングを有する少なくとも1つのレンズ素子を含み
、前記円筒形ハウジングの前記内部にはモザイク結晶が並び、それによって前記
モザイク結晶はブラッグまたはラウエレンズとしてはたらいて前記X線を方向付
けし、前記レンズ・システムに対して軸からそれたX線を閉じ込めるマスク手段
を含み、前記レンズ・システムに対して実質的に同軸であって集束領域に向けら
れたX線をフィルタ処理するフィルタ手段を含む。このX線システムはまた、前
記レンズ・システムによって捕捉されないX線および前記レンズ・システムの焦
点に向けて偏向されないX線を閉じ込める前記マスク手段を有することも可能で
ある。
を方向付けするためのX線システムであって、前記方向付けされたX線は前記レ
ンズを通って透過および回折する。このシステムはまた、環状構造を有する前記
レンズを含むことも可能であり、前記レンズはモザイク結晶の複数の同心環から
構成されて複数の回折層、またはX線フィルタを形成する。
って、曲げ力を発生するステップ、前記結晶塊を前記曲げ力を基準にして配向配
置させるステップ、前記結晶塊を前記曲げ力で曲げ処理して曲線状表面を創出す
るステップを含む。この方法は前記結晶塊上に強化プレートを装着するステップ
、または前記結晶塊に内側ガイド・プレートおよび外側ガイド・プレートを装着
するステップを含むことが可能である。
であって、グラファイト結晶プレートに強化プレートを装着するステップ、前記
グラファイト結晶プレートをロッド上でガイド・プレートと配向配置するステッ
プ、前記強化プレートに対して前記ロッドで曲げ力を加えて前記曲げ力が前記グ
ラファイト結晶プレートを曲げ処理するステップを含む。
形環状体に結晶プレートを装着するステップ、円錐形ロッドを進ませる直線方向
の力を発生するステップ、前記円錐形ロッドを前記結晶プレートに作用させて前
記結晶プレートを円錐形状に形成するステップを含む。
ズ・システムは本発明の実施形態の中で概して20で示され、X線フィルタ22
、レンズ24、主レンズ26、および増設レンズ28を含む。本発明はこれらの
レンズのうち1つだけを使用するか、またはこれらのレンズまたはこの説明の中
で規定する他のレンズのいずれかの組み合わせで使用することができる。X線発
生器30は直接または同軸のX線を生み出し、それがX線フィルタ22によりフ
ィルタ処理される。バンドパス、ハイパスまたはローパス・フィルタであっても
よいこのX線フィルタ22は、レンズの内部で反射されない、および/またはレ
ンズ・システム20の焦点34に収斂しない軸外X線をブロックまたは吸収する
環状体21を含む。フィルタ媒体23はX線フィルタ22の環状体21内部に設
置され、レンズ・システム20に入ってレンズ・システム20の反射表面をバイ
パスし、焦点34に直接的に伝播するX線をフィルタ処理する。別の選択肢では
、フィルタ22がレンズ・システム20の出口開口部に設置されることが可能で
あり、または2つのフィルタ22がレンズ・システム20の入り口開口部と出口
開口部の両方に同時に使用されることも可能である。
0によってX線36として集束され、これが焦点34に収斂する。放射線治療で
は、本発明のX線集束特性を利用したシステムは悪性腫瘍を、横にある組織への
損傷を低減してエネルギー使用をMeV範囲よりもむしろKeVとして破壊する
ことが可能である。この低エネルギーX線の使用は、標的組織の背後のより速い
離反を可能にさせ、標的組織の背後に位置する組織への損傷を低減する。レンズ
・システムの焦点34が悪性腫瘍38の上に直接的に配置されるとき、悪性腫瘍
または標的の物体38は集束されたX線36の最大強度に晒される。この集束の
操作はまた、悪性腫瘍を取り巻く健全な組織の放射線暴露を最少限にさせ、健康
組織への横の損傷を軽減する。レンズ・システム20のモジュールの特性は焦点
距離および焦点エリアの調節が容易なことで立証される。このX線レンズ・シス
テムの焦点距離Xおよび焦点34のエリアは様々な個別レンズ部品を所望の組み
合わせのレンズで置き換えることにより簡単に変えられる。本発明の集束の特性
はまた、X線回折またはその他のX線応用において改善された線束および解像度
を有するという利点にもつながる。
図2は単純なブラッグ反射器の図による具体的説明を提供するものである。格子
または多重層の間隔dを有する結晶または多重層42上に波長λのX線放射40
が入射される。狭帯域または概して単色光の放射線44はその後、ブラッグの法
則によって反射される。モザイク・グラファイトは、狭帯域または概して単色光
化されたX線ビームを供給するためのブラッグ反射器として利用し得る好ましい
結晶構造である。他の実施形態では他の結晶または多重層のようなブラッグ構造
がレンズ・システム内でブラッグの法則を利用して放射線を反射するために置き
換えることができる。モザイク・グラファイトおよび他のブラッグ構造は次のブ
ラッグの等式が満足されるときにだけ放射線を反射する。すなわち、 nλ=2dsin(θ) であり、ここで、 n=反射の次数 λ=入射放射線の波長 d=ブラッグ構造の層設定間隔または結晶の格子間隔 θ=入射角度 である。
ロッキングカーブ幅、および高い反射率のような優れた性能特性が理由で、本発
明の実施形態で好ましいX線反射または回折材料として選択された。ブラッグお
よびラウエ回折の両方で、ブラッグの法則が入射X線の反射および/または回折
を設定する。唯一の差異はブラッグ回折において入射および回折ビームが同じ結
晶表面を分かち合っているのに対し、ラウエのケースでは入射および回折ビーム
が2つの異なる表面を使用することである。前者は通常、“反射図式”と呼ばれ
、後者は“透過図式”と称される。
子の規則的な3次元アレイから構成される。ブラッグの式における量dは回折格
子を形成するモザイク・グラファイトの中の原子の平面間の垂直方向の距離であ
る。モザイク結晶は、平行に近いが互いに完全な平行状態ではない無数の小さな
独立した結晶領域から構成されている。X線源からのX線が反射表面をたたくと
き、様々なX線の反射地点はX線源から異なる距離にあるので入射角度が異なる
。モザイク・グラファイト上に射し込むX線の入射角度が異なると結晶領域はそ
のようにX線を反射するであろう。これはモザイク・グラファイト内部の個々の
結晶領域の異なる配向により引き起こされる。モザイク・グラファイトの総合的
な表面上への入射角度ばかりでなく、独立した結晶領域上での個々の局所的な入
射角度も存在するのである。モザイク・グラファイトに射し込むX線ビームは完
全な結晶よりも広範囲な入射角度で反射するであろう。なぜなら、広範囲な入射
角度でグラファイトに入るX線はその角度での反射のために正しく配向したモザ
イク素子に到達するであろうからである。モザイク・グラファイトは、モザイク
の配向の散乱状態に依存した角度範囲にわたって反射するが、その範囲は完全な
結晶または薄膜ブラッグ反射器よりも広い。
高度に配列化されたものまで変化し得る。エネルギーの異なるX線について、ブ
ラッグ角度は異なり、モザイク度は広い角度範囲にわたってより多くのエネルギ
ーを受けるための能力を提供する。好ましい実施形態では、本発明のブラッグ反
射レンズに使用されるグラファイトの主なパラメータは、 d間隔 d:3.33Å FWHM w:0.5° 反射率 R:50% 密度 ρ:2.25g/cm3 減衰 μ:0.175g-1・cm2
る。ブラッグ・レンズの反射表面48は円形様式に曲げられている。この曲率は
反射表面48に広がって入射するX線について入射角度を一定に保つことによっ
て集束の特性を向上させるであろう。この理想的な反射表面は点Aで生じるX線
50および個々の結晶領域46上への入射が点Bで集束されるのを可能にするで
あろう。個々の結晶領域46は互いにわずかに平行から外れており、その結果と
して点Bで集束されることが示されている。ブラッグ条件は次の2つの条件に従
って保証され、それは入射X線および反射X線のつくる角度が円に沿って一定で
あることおよび小さな結晶領域が正しいブラッグ角度の出口をつくることである
。異なるd間隔の結晶および異なる線源−焦点について、ブラッグ角度要求に合
わせるために異なるサイズの円が選択されるであろう。実際の応用では、平坦な
結晶を使用するせいでX線は適切な結晶領域に確実に当たることはないであろう
。このことは焦点Bに拡大したビーム・スポットを生じることになるであろう。
モザイク結晶の平行度および性能はそのロッキングカーブ幅、固有の反射率、お
よび減衰係数によって完全に特徴付けられ、説明される。
回折/透過の原理が利用される。図4に見られるように、入射X線52は結晶5
4を貫通し、入射X線52の一部は回折を受け、回折した方向に沿って結晶54
を通過して伝播し、集束されたX線56として結晶54を出る。環状体として構
成されたラウエ・レンズでは、X線は結晶内の異なる集束用の円で回折される。
結晶容積内の異なる点ではブラッグ角度は異なり、これが全体としてブラッグ反
射器よりも広いスペクトルという結果につながる。
はヨハンセンの図式に従う。図5に見られるように、曲げヨハンセン結晶58が
X線を反射および集束するために使用される。この曲げヨハンセン結晶58はブ
ラッグの法則によってX線を反射するであろう。このヨハンセン結晶58は結晶
を法線半径2Rの円筒状表面に曲げ処理し、それから反射表面60を研磨して半
径Rの円筒状表面にすることで作製される。X線源64により発生する入射線6
2と反射線64のそれぞれの対がつくる角度は同じである。反射点70を円74
の他方にある、線源と焦点との対称点である点72に結ぶライン68は常に等し
く角度を2分する。したがって、これらのラインに直角をなす曲線はブラッグ面
を構成し、これがこの図の曲げ2R結晶面となる。
ズ26は内側にグラファイト層76を並べた中空を有する円筒形状である。予め
成形されるかまたは“曲げ処理された”グラファイト塊を一体化接着してレンズ
・ハウジング78の内部のグラファイト層76を形成することができる。本発明
の一実施形態では、それぞれがX線レンズ26の内部の1/4をカバーする4つ
のグラファイト塊がX線レンズ26の内部に装着されて曲線の内部表面を形成す
る。別の選択肢の構造では、レンズ・ハウジング78内側に堆積処理によってグ
ラファイトが成長させられ、反射層を形成することができる。
イト層76は図5に描かれたヨハンセン結晶の反射表面に近似するであろう。主
X線レンズ26の内側表面はハウジングおよび入射X線75に関して円形様式で
曲げられるであろう。レンズ・システムの断面図または二次元図面に関するとき
に円という用語が使用されるが、しかし三次元でレンズがハウジングに関して曲
げ処理されていることは当業者であれば認識するであろう。この曲げ処理は、モ
ザイク結晶がヨハンセン結晶の理想的な形で整列されて主X線レンズ26の集束
特性を向上させると、小さな焦点エリアという結果につながる。
向断面図である。図面に示されたように、この主ブラッグ反射レンズ26’は傾
斜または角度をもたないグラファイト層76’を有し、主レンズのハウジング7
8’に関して入射X線75’に関してむしろ実質的に同心状に平坦である。した
がって主レンズ26’の円筒または内側表面は概してその全長にわたって一定の
内径を有する。グラファイト層76’の平坦な反射表面は図6に示した曲線のグ
ラファイト表面76よりも容易に製造され、図5に示したヨハンセン結晶の表面
におおよそ近似するであろう。グラファイト層76’の平坦な反射表面の集束特
性は、図6に示した曲線のグラファイト表面76よりも多くの収差を有し、より
大きな焦点79’につながるであろう。
ズ・システム20は複数のレンズ構成要素から構成可能である。本実施形態では
、レンズ24が主レンズ26に結合され、これがさらに増設レンズ28に結合し
てX線を集束させる。これらのレンズはネジ部材、フランジまたは当該技術で知
られているその他の接続装置によって同軸状に物理的に結合させることができる
。これらのレンズは円筒形の構成であることが好ましい。これらのレンズの内側
のモザイク・グラファイト結晶表面80、76および82は、互いに隣接し合う
とき、図5に示したヨハンセンの図式に従う。モザイク・グラファイト表面は理
想的なヨハンセン結晶反射形状に近似するように構成されている。前に検討した
ように、円形という用語はレンズ・システムの断面図または2次元図面に関する
ときに使用されるが、3次元でこれらのレンズが曲げ処理されていることは当業
者であれば認識するであろう。このシステムのモジュール方式もまた利点がある
。本発明の焦点およびX線強度は様々な反射特性のレンズを単純に配列、除去、
または追加することで変化させることができる。殆どすべての応用に合わせるた
めに、個々のレンズの多数の組み合わせが構成可能である。
な様式で傾斜(3次元では円錐形)しており、主レンズ26’のモザイク・グラ
ファイト層76’は平坦(3次元では円筒)であり、増設のレンズ28’のモザ
イク・グラファイト層82’もまたモザイク・グラファイト層80’と反対に直
線的な様式で傾斜(3次元では円錐形)している。これらのレンズは単独では曲
線状の形状を有することはないが、しかし一緒に設置されるとそれらの角度付き
および平坦表面でヨハンセン結晶の理想的な反射表面の曲線状の円形に近付く。
この円錐形システムもまたモジュール方式であり、性能を向上させるためにレン
ズを追加することおよび取り除くことができる。
の立体角として規定されるスループットで記述可能であり、これはレンズが焦点
に供給する同量のフォトンを含む。もしもスループットの単位として両方向に1
°広がる立体角を規定する場合、この単位は、
に等しい。したがって、スループットは8.5×10-4stradである。上記
で規定される単位では、我々のレンズ26’のスループットは2.78となるで
あろう。
。したがって、スループットは1.09×10-3であり、上記に規定した単位で
は、レンズ24’のスループットは3.57となる。レンズ24’は大きなスル
ープットを与えるが、しかし大きな焦点スポットを生じるであろう。
、レンズ28’のスループットは1.97である。増設レンズ28’はより微小
な焦点およびより大きな収斂角度を有する。
射部サイズ、強度分布などを基本にして算出することができる。
よび集束させることに利用される。図10を参照すると、本発明のラウエ・レン
ズ86が描かれている。入射X線84はラウエ・レンズまたは結晶86(環状体
構造)を貫通し、X線84の一部は回折されて回折方向に沿ってレンズ86を通
って伝播し、集束するX線88としてレンズ86を出る。ラウエ回折では、X線
は結晶内の異なる集束用の円で回折される。結晶容積内の異なる点ではブラッグ
角が異なり、これが全体としてブラッグ反射器よりも広いスペクトルという結果
につながる。X線84はそれぞれの格子層から反射され、焦点90に向けて方向
付けされる。線源92とレンズ86との間の距離はf1であり、レンズ86と焦
点90との間の距離はf2である。レンズの長さはLである。ラウエ・レンズ8
6の内径はR1であり、外径はR2である。
方向に沿って変化することが必要となるであろう。さもなければ、X線は所望の
焦点へと反射されないであろう。f1=f2では、レンズは原子面を変えながら傾
斜した環状体の代わりに平坦な環状体となるであろう。以下に述べるのは2通り
の設計であり、一方は対称的な設計で他方は非対称的な設計である。それらは同
じ作用距離および異なる焦点スポット・サイズを有している。非対称設計の主な
理由は材料を保存することおよび全体的なシステムの寸法を小さくすることであ
る。
を除いて、ブラッグ反射についてのものと同じである。出願人らが最近測定した
ところでは、それは60KeV近辺で約18%である。 d間隔 d:3.33Å FWHM w:0.4°(24分角) ラウエ反射率 R:<18% 密度 ρ:2.25g/cm3 減衰 μ:0.175g-1・cm2
の主なパラメータは以下に一覧表にされている。 内径:16.3mm 外径:32.6mm 長さ:可変 線源−レンズ中心間距離:350mm レンズ中心−焦点間距離:350mm
側エッジは40KeVではたらくように調整される。それぞれの点での帯域通過
は、
る。
0698Radである。
仮定して
ることを可能にする。しかしながら、上記で検討したように、理論的にはそれぞ
れの層94の傾斜角度は異なる。実際上は、結晶層の限られた数によってそれは
近似可能である。それぞれの層94は結晶の全体塊で作製される。したがって、
それぞれの層94内で結晶面の傾斜角度は同じである。
る3つの同心の層94(環状体)を含む。レンズの内側の直径は5.4mmであ
り、それに対して外側の直径は11.4mmである。それぞれのレンズ層94は
円錐構成を有する。この設計の主要なパラメータを表1に示す。
ウエ反射を利用して示されている。X線源92’がX線84’をレンズまたは結
晶86’へと方向付けし、そこである程度のX線88’が回折され、集束され、
透過したX線96が結晶から回折されることなく出る。ビーム・ストッパー98
はこれらの透過X線96をブロックする。同軸X線102は前に説明したX線フ
ィルタ22と同様のX線フィルタ22’によってフィルタ処理されるであろう。
描かれている。X線源92”はX線84”の一部を、好ましくはモザイク・グラ
ファイト結晶から成るブラッグ反射表面104へと方向付けし、これが概して単
色光的なX線を焦点90”へと反射する。X線84’の一部はグラファイト結晶
86”にも向けられ、そこでいくらかのX線88”が回折されて焦点90”へと
集束する。結晶86”を通って伝播する透過X線96’は、透過X線96’を焦
点90”に集束させるように構成された第2のブラッグ反射表面またはレンズ1
06に入射する。多数ブラッグおよびラウエ・レンズのこの構成は組み合わせレ
ンズ・システムの線束濃縮力を増大させる。以前には閉じ込められるかまたはブ
ロックされたX線が今では調整されて焦点90”へと方向付けされる。
はないが、レンズ・ハウジングへの直接成長および普通は平坦なグラファイト・
シートの曲げ処理を含む様々な方法により形成することができる。曲げ処理は室
温下で円錐形のグラファイト・レンズをつくることを可能にするであろう。
ズはグラファイトの4つの同様のプレート110の曲げ処理によって形成され、
曲げられたプレート110のそれぞれがレンズの1/4、すなわち90度分であ
る。曲げられたプレート110はハウジングの中に組み込まれて完全な円錐形レ
ンズをつくる。曲げの量はグラファイト・レンズの性能に直接的に影響するであ
ろう。なぜなら曲げ処理の間の層の方向に沿った正の応力(圧縮力)がグラファ
イトのモザイク性に損傷を与えるであろうからである。例えば、図15に示した
ように、もしも支持構造なしにグラファイト・レンズが曲げ処理されると、3つ
の異なる応力の層112が生じる。中央の層114は曲げ処理の間の応力を受け
ない。この中央層の下部および上部で、グラファイト層116は負および正の応
力を受けるであろう。応力の大きさは中央層114からの距離およびグラファイ
ト・プレート110の長さに直線的に比例する。グラファイトのモザイク性への
損傷は正の応力に直接的に関係する。
3通りの曲げ処理方法を使用することができる。第1の方法では、グラファイト
・プレートが短くなるにつれて曲げ処理の間に受ける応力も少なくなるので、前
述した本発明の実施形態に見られるように、いくつかの曲げられたプレートを使
用して完全な円を形成することが可能である。分節化されるグラファイト・プレ
ート110の数はグラファイト・プレート110の半径、グラファイト・プレー
ト110の厚さおよびグラファイト・プレート110の機械的特性に依存する。
第2の曲げ処理方法では、図16に示したように、グラファイト・プレート11
0の前面にゼロ応力層を移すために強化プレート118が導入される。好ましい
実施形態では、強化プレート118は曲げ処理の前にグラファイト・シート11
0の前面に固着または貼付された透明なマイラー・シートから成る。曲げ処理の
後、グラファイト・プレート110の前面を環境中に露出させるために強化プレ
ート118は取り除かれる。第3の方法では、図17に見られるように、2枚の
ガイド用プレート120および122が、均一な曲げを行なうためにグラファイ
ト・プレートをガイドするように使用される。
レート120の上に設置され、グラファイト・プレート110は内側のガイド用
プレート120と外側のガイド用プレート122でサンドイッチされる。曲げ力
はガイド用プレート120および122を通してグラファイト・プレート110
に加えられ、それによってグラファイト・プレート110は円錐状ロッド109
に沿った形となり、円錐状ロッド109の形状を帯びる。
ズ装着の第1の方法を示しており、曲げられたグラファイト・レンズの区画それ
ぞれが完全なレンズへと組み立てられる。レンズ・ホルダー126の軸128が
レンズ・システムの軸を規定する。X線カメラ130は焦点132に配置される
。個々の曲げグラファイト・プレート134の位置および角度は、反射されたビ
ームが焦点132に集束されるように調節される。曲げグラファイト・プレート
134は位置合わせの後にホルダー126に固定される。残りのグラファイト・
プレート区画もすべてこの手法でホルダー126に装着される。
円錐状ロッド150を使用するレンズ組み立てのまた別の方法が描かれている。
すべての曲げグラファイト・プレート154は、この単一環状体レンズの方法で
は同時に組み立てられる。多層レンズ・システムのための層間の異なる円錐角度
により生じる隙間を埋めるために1つまたは複数のスペーサーが必要とされる。
内側のロッド150とこのスペーサーは、曲げグラファイト・プレート154よ
りもX線吸収が少なく、円錐状ロッド150により生じる曲げ力に耐えられるよ
うに充分な機械的強度と化学的安定性をもつ材料で作製される。
の特許請求の範囲に定義した本発明の範囲および精神から逸脱することなく多様
な変形および改造が可能であることは理解されるはずである。
レンズの縦方向断面図である。
ンズの縦方向断面図である。
縦方向断面図である。
・システムの縦方向断面図である。
図である。
た本発明のX線レンズの断面図である。
レンズの断面図である。
いた図である。
いた図である。
いた図である。
Claims (39)
- 【請求項1】 X線を指向させるX線装置であって、 前記X線を指向させるレンズ・システムが通常、内部が密閉された筐体を有す
る少なくとも1つのレンズ素子を含み、前記筐体の前記内部はブラッグX線回折
および反射層で内張りされたX線装置。 - 【請求項2】 前記ブラッグX線回折および反射層がモザイク結晶である請
求項1に記載のX線装置。 - 【請求項3】 前記ブラッグX線回折および反射層が曲がった断面を縦に有
し、前記モザイク結晶が前記曲がった断面の半径と異なる半径を持つ曲がった結
晶面を有する請求項2に記載のX線装置。 - 【請求項4】 前記レンズ素子の前記内部が曲がった断面を縦に有する請求
項1に記載のX線装置。 - 【請求項5】 前記ブラッグX線回折および反射層が前記X線を回折し送る
請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項6】 前記レンズ素子の前記内部が横の方向の円形の断面を有する
請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項7】 前記レンズ素子の前記内部が円錐形の断面を縦に有する請求
項1に記載のX線装置。 - 【請求項8】 前記レンズ素子の前記内部が長方形の断面を縦に有する請求
項1に記載のX線装置。 - 【請求項9】 前記レンズ・システムがそれらの対称軸に沿って結合された
複数のレンズ素子を含む請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項10】 前記複数のレンズ素子が普通ヨハンソン結晶反射面を形成
する請求項9に記載のX線装置。 - 【請求項11】 前記レンズ・システムが同軸に結合された複数のレンズ素
子を含む請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項12】 環状装置の中央に結合されたフィルタ媒体を有する前記環
状装置をさらに備える請求項1に記載のX線装置であって、前記環状装置は、前
記レンズ・システムに入射しない、かつ前記レンズ・システムの集束領域に入ら
ない前記X線の一部をさえぎり、前記フィルタ媒体は前記集束領域に向けられる
前記X線の一部をフィルタにかける請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項13】 前記レンズ・システムが前記X線を焦点に集束する請求項
1に記載のX線装置。 - 【請求項14】 ビーム・ストッパをさらに備える請求項1に記載のX線装
置であって、前記ビーム・ストッパは集束領域に向けられない前記X線をさえぎ
る請求項1に記載のX線装置。 - 【請求項15】 前記ビーム・ストッパが前記レンズ・システムを通って送
られる反射されないX線をさえぎる請求項14に記載のX線装置。 - 【請求項16】 X線を集束するX線装置であって、モデュール方式のX線
レンズ・システムが、前記X線を集め、かつ前記X線を焦点に集束する複数のレ
ンズを有し、前記モデュール方式のレンズ・システムのX線集束特性が、前記レ
ンズを取り除いたり追加することによって、または前記レンズの特性を変化する
ことによって、変更され得るX線装置。 - 【請求項17】 前記X線集束特性が、X線スペクトラム帯域通過、作動距
離、束強度、焦点サイズ、および焦点距離から成るグループから選ばれることが
ある請求項16に記載のX線装置。 - 【請求項18】 前記複数のレンズの各々が、ブラッグX線回折および反射
層を有する筐体を備える請求項16に記載のX線装置。 - 【請求項19】 前記ブラッグX線回折および反射層がモザイク結晶から成
る請求項18に記載のX線装置。 - 【請求項20】 前記ブラッグX線回折および反射層が黒鉛から成る請求項
18に記載のX線装置。 - 【請求項21】 前記複数のレンズの各々が、縦に曲がった断面を有する内
面を有する請求項18に記載のX線装置。 - 【請求項22】 前記複数のレンズの各々が、横の方向の円形の断面を有す
る内面を有する請求項18に記載のX線装置。 - 【請求項23】 前記複数のレンズの少なくとも1つが、 縦の円錐形の断面を有する内面を有する請求項18に記載のX線装置。
- 【請求項24】 前記複数のレンズの少なくとも1つが、 縦の長方形の断面を有する内面を有する請求項18に記載のX線装置。
- 【請求項25】 前記複数のレンズ素子が同軸に結合される請求項18に記
載のX線装置。 - 【請求項26】 前記複数のレンズ素子がX線源焦点軸に沿って結合される
請求項18に記載のX線装置。 - 【請求項27】 前記複数のレンズ素子が、一般にヨハンソン結晶反射面を
形成する内面を有する請求項18に記載のX線装置。 - 【請求項28】 その各々は内面が黒鉛で裏打ちされた筐体を有する複数の
レンズと、 前記複数のレンズに最も近いX線フィルタとを備え、 前記複数のレンズの前記内面は組み合わされて、前記X線レンズ・システムに
大体球形の内面を与えるX線レンズ・システム。 - 【請求項29】 X線を指向させるX線装置であって、 前記X線を指向させるレンズ・システムであって、前記レンズ・システムは、
内部を持つ円筒形筐体を有する少なくとも1つのレンズ素子を含み、前記円筒形
筐体の前記内部はモザイク結晶で内張りされ、それによって前記モザイク結晶は
ブラッグまたはラウエ・レンズとして作用して前記X線を指向させるレンズ・シ
ステムと、 X線をさえぎって前記レンズ・システムに対する軸から離すマスキング手段と
、 前記レンズ・システムに対して大体同軸な、かつ集束領域に向けられるX線を
フィルタにかけるフィルタ手段とを備えるX線装置。 - 【請求項30】 前記マスキング手段が前記レンズ・システムによって遮断
されないX線、および前記レンズ・システムの焦点に向かって偏向されないX線
をさえぎる請求項29に記載のX線装置。 - 【請求項31】 X線を指向させるX線装置であって、レンズがブラッグX
線回折層を有し、前記方向をもったX線は前記レンズを通して送られ、回折され
るX線装置。 - 【請求項32】 前記レンズが環構造を有する請求項31に記載のX線装置
。 - 【請求項33】 前記レンズが、複数の回折層を形成するモザイク結晶の複
数の同心環から構成される請求項31に記載のX線装置。 - 【請求項34】 X線フィルタをさらに備える請求項31に記載のX線レン
ズ・システム。 - 【請求項35】 X線レンズを結晶ブロックから形成する方法であって、 曲げ力を発生するステップと、 前記曲げ力を基準として前記結晶ブロックを指向させるステップと、 前記結晶ブロックを前記曲げ力で曲げて、曲面を生成するステップとを含む方
法。 - 【請求項36】 補強板を前記結晶ブロックに取り付けるステップをさらに
含む請求項35に記載の方法。 - 【請求項37】 内部案内板および外部案内板を前記結晶ブロックに取り付
けるステップをさらに含む請求項35に記載の方法。 - 【請求項38】 レンズ素子を黒鉛結晶から形成する方法であって、 補強板を黒鉛結晶板に取り付けるステップと、 棒上の案内板を基準として前記黒鉛結晶板を指向させるステップと、 前記棒で曲げ力を前記補強板に加えるステップであって、前記曲げ力は前記黒
鉛結晶板を曲げるステップとを含む方法。 - 【請求項39】 X線レンズを結晶から形成する方法であって、 結晶板を円錐形環に取り付けるステップと、 円錐形棒を推進させる直線力を発生するステップと、 前記円錐形棒を前記結晶板の表面に動かして、前記結晶板を円錐形にするステ
ップとを含む方法。
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