JP2002541289A - ヒドロキシル基含有ゴム混合物 - Google Patents
ヒドロキシル基含有ゴム混合物Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、０.１〜５質量％の第２級ヒドロキシル基含有量を有し、その基が各側鎖末端から４炭素原子以内に位置する溶液中で重合されたゴムを含有するゴム混合物に関する。本発明は、該ゴム混合物とフィラー、任意にさらなるゴムおよびゴム用助剤との混合物並びにそれらから製造される加硫ゴムにも関する。本発明のゴム混合物は、高強化耐摩耗性成形品の製造のため、特に、湿潤表面上での優れた非スキッド特性により特徴づけられるタイヤの製造のために有用である。
Description
【０００１】 （技術分野） 本発明は、０.１〜５質量％の第２級ヒドロキシル基含有量を有し、その基が
各側鎖末端から４炭素原子以内に位置する溶液中で重合されたゴムを含有するゴ
ム混合物、フィラー、任意にさらなるゴムおよびゴム用助剤を含む該ゴム混合物
並びにそれらから製造される加硫ゴムに関する。本発明のゴム混合物は、高強化
耐摩耗性成形品の製造のため、特に、湿潤時における特に高いスキッド抵抗およ
び低転がり抵抗を有するタイヤの製造のために好適である。
各側鎖末端から４炭素原子以内に位置する溶液中で重合されたゴムを含有するゴ
ム混合物、フィラー、任意にさらなるゴムおよびゴム用助剤を含む該ゴム混合物
並びにそれらから製造される加硫ゴムに関する。本発明のゴム混合物は、高強化
耐摩耗性成形品の製造のため、特に、湿潤時における特に高いスキッド抵抗およ
び低転がり抵抗を有するタイヤの製造のために好適である。
【０００２】 （背景技術） アニオン重合での二重結合含有溶液ゴム（例えば、溶液ポリブタジエンおよび
溶液スチレン／ブタジエンゴム）は、低転がり抵抗のタイヤトレッドの製造にお
いて、対応するエマルションゴムに比して利点を有する。その利点はとりわけ、
ビニル含有量、それに関係するガラス転移点および分子の枝分れを制御できるこ
とである。これらの結果として、実用時におけるタイヤの湿潤時スキッド抵抗と
転がり抵抗との間の関係において特別な利点が生ずる。例えば、US-A 5 227 425
は、溶液ＳＢＲゴムおよびシリカからのタイヤトレッドの製造を記載する。特
性をさらに改良するために、数多くの末端基の変性法が開発され、例えば EP-A
334 042 ではジメチルアミノプロピルアクリルアミドを用いる変性法が記載され
、EP-A 447 066 ではシリルエーテルを用いる変性法が記載されている。しかし
ながら、ゴムが高分子量であるが故に末端基の質量含有量は低く、ほんの小さな
程度だけでしかフィラーとゴム分子との間の相互作用に影響しない。
溶液スチレン／ブタジエンゴム）は、低転がり抵抗のタイヤトレッドの製造にお
いて、対応するエマルションゴムに比して利点を有する。その利点はとりわけ、
ビニル含有量、それに関係するガラス転移点および分子の枝分れを制御できるこ
とである。これらの結果として、実用時におけるタイヤの湿潤時スキッド抵抗と
転がり抵抗との間の関係において特別な利点が生ずる。例えば、US-A 5 227 425
は、溶液ＳＢＲゴムおよびシリカからのタイヤトレッドの製造を記載する。特
性をさらに改良するために、数多くの末端基の変性法が開発され、例えば EP-A
334 042 ではジメチルアミノプロピルアクリルアミドを用いる変性法が記載され
、EP-A 447 066 ではシリルエーテルを用いる変性法が記載されている。しかし
ながら、ゴムが高分子量であるが故に末端基の質量含有量は低く、ほんの小さな
程度だけでしかフィラーとゴム分子との間の相互作用に影響しない。
【０００３】 （発明の開示） （発明が解決しようとする技術的課題） 本発明の目的は、フィラーとの相互作用に対して活性な基を非常に高含有量で
有する溶液ＳＢＲゴムを製造することであった。 本発明のさらなる目的は、湿潤時のスキッド抵抗／転がり抵抗のより有利な関
係を有する加硫ゴムの製造であった。
有する溶液ＳＢＲゴムを製造することであった。 本発明のさらなる目的は、湿潤時のスキッド抵抗／転がり抵抗のより有利な関
係を有する加硫ゴムの製造であった。
【０００４】 ヒドロキシル基含有溶液ポリブタジエンゴムはまた、DE-OS 2 653 144 に記載
されている。しかしながら、これらのゴムは、それらの強度が不十分であるが故
にタイヤトレッドの主成分として好適ではない。
されている。しかしながら、これらのゴムは、それらの強度が不十分であるが故
にタイヤトレッドの主成分として好適ではない。
【０００５】 EP-A 464 478 は、ゴムのヒドロキシル化法を記載し、そのヒドロキシル化ゴ
ムは本発明のものと構造的に異なる。特に、EP-A 464 478 の第２級ヒドロキシ
ル基はポリマー中のあまり望ましくない位置にあり、それゆえ、各側鎖末端から
４炭素原子以内に位置する本発明のヒドロキシル基よりはるかに効果が少ない。
ムは本発明のものと構造的に異なる。特に、EP-A 464 478 の第２級ヒドロキシ
ル基はポリマー中のあまり望ましくない位置にあり、それゆえ、各側鎖末端から
４炭素原子以内に位置する本発明のヒドロキシル基よりはるかに効果が少ない。
【０００６】 EP-806 452 A1 もヒドロキシル基含有エマルションゴムおよび溶液ゴムを記載
し、そこで記載されている溶液ゴムのヒドロキシル基の割合は、その方法の故に
非常に低い範囲（０.００９〜０.０６１％）にある。本特許出願は、ヒドロキシ
ル基の割合は湿潤時のスキッド抵抗に対して重大な影響を全く及ぼさず、ヒドロ
キシル基の位置が特に重要であることを示す。
し、そこで記載されている溶液ゴムのヒドロキシル基の割合は、その方法の故に
非常に低い範囲（０.００９〜０.０６１％）にある。本特許出願は、ヒドロキシ
ル基の割合は湿潤時のスキッド抵抗に対して重大な影響を全く及ぼさず、ヒドロ
キシル基の位置が特に重要であることを示す。
【０００７】 先の出願 DE-198 32 459.6 および DE-198 32 458.8 は、ヒドロキシル基含有
溶液ゴムを記載する。しかしながら、それらはいずれも第２級ヒドロキシル基を
記載せず、ヒドロキシル基を各側鎖末端から４炭素原子以内に位置させることに
言及していない。
溶液ゴムを記載する。しかしながら、それらはいずれも第２級ヒドロキシル基を
記載せず、ヒドロキシル基を各側鎖末端から４炭素原子以内に位置させることに
言及していない。
【０００８】 （その解決方法） 湿潤時のスキッド抵抗に関連する温度範囲（０〜２０℃）および転がり抵抗に
関連する温度範囲（６０〜８０℃）での驚くほど向上した動的緩衝性および向上
した摩耗挙動を有するゴム混合物および加硫ゴムを、各側鎖末端から４炭素原子
以内に位置する結合第２級ヒドロキシル基を０.１〜５質量％の含有量で有し、
５〜６０質量％の１,２-ビニル含有量を有するヒドロキシル基含有芳香族ビニル
／ジオレフィン溶液ゴムから製造できることを見出した。さらに、通例のように
混練機内ではなく、ヒドロキシル基含有ゴムの溶液と酸化物またはケイ酸塩含有
フィラーとを有機溶媒中で混合し、次いで水蒸気を用いて溶媒を除去することに
より該ゴム混合物を製造する場合、フィラーはゴムにより完全に凝結し、未変性
ゴムを使用する場合のようにフィラーが排水中に残らないという驚くべき利点が
得られる。
関連する温度範囲（６０〜８０℃）での驚くほど向上した動的緩衝性および向上
した摩耗挙動を有するゴム混合物および加硫ゴムを、各側鎖末端から４炭素原子
以内に位置する結合第２級ヒドロキシル基を０.１〜５質量％の含有量で有し、
５〜６０質量％の１,２-ビニル含有量を有するヒドロキシル基含有芳香族ビニル
／ジオレフィン溶液ゴムから製造できることを見出した。さらに、通例のように
混練機内ではなく、ヒドロキシル基含有ゴムの溶液と酸化物またはケイ酸塩含有
フィラーとを有機溶媒中で混合し、次いで水蒸気を用いて溶媒を除去することに
より該ゴム混合物を製造する場合、フィラーはゴムにより完全に凝結し、未変性
ゴムを使用する場合のようにフィラーが排水中に残らないという驚くべき利点が
得られる。
【０００９】 （発明を実施するための最良の形態） 従って本発明は、結合第２級ヒドロキシル基を０.１〜５質量％の範囲で有し
、ジオレフィンと芳香族ビニルモノマーとから合成され、溶液中で重合された１
つまたはそれ以上のヒドロキシル基含有ゴムを含むゴム混合物に関し、該ゴム混
合物は、第２級ヒドロキシル基が各側鎖末端から４炭素原子以内に位置すること
を特徴とする。本発明は、加硫ゴム、特に高い摩耗抵抗および特に高い湿潤時ス
キッド抵抗および低転がり抵抗を有するシリカ充填タイヤトレッドの製造のため
の該ゴム混合物の使用にも関する。
、ジオレフィンと芳香族ビニルモノマーとから合成され、溶液中で重合された１
つまたはそれ以上のヒドロキシル基含有ゴムを含むゴム混合物に関し、該ゴム混
合物は、第２級ヒドロキシル基が各側鎖末端から４炭素原子以内に位置すること
を特徴とする。本発明は、加硫ゴム、特に高い摩耗抵抗および特に高い湿潤時ス
キッド抵抗および低転がり抵抗を有するシリカ充填タイヤトレッドの製造のため
の該ゴム混合物の使用にも関する。
【００１０】 溶液中で重合された芳香族ビニル／ジオレフィンゴムは、有利には、５０,０
００〜２,０００,０００の（数平均）分子量および−５０℃〜＋２０℃のガラス
転移点を有する。 芳香族ビニルの好ましい割合は、０.０１〜５０質量％の間、特に好ましくは
５〜４０質量％の間である。
００〜２,０００,０００の（数平均）分子量および−５０℃〜＋２０℃のガラス
転移点を有する。 芳香族ビニルの好ましい割合は、０.０１〜５０質量％の間、特に好ましくは
５〜４０質量％の間である。
【００１１】 好適な芳香族ビニルモノマーは、スチレン、ｏ-、ｍ-およびｐ-メチルスチレ
ン、ｐ-tert-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、ビニルナフタレン、ジビニ
ルベンゼン、トリビニルベンゼン並びにジビニルナフタレンである。スチレンが
特に好ましい。
ン、ｐ-tert-ブチルスチレン、α-メチルスチレン、ビニルナフタレン、ジビニ
ルベンゼン、トリビニルベンゼン並びにジビニルナフタレンである。スチレンが
特に好ましい。
【００１２】 好適なジオレフィンは、当業者に知られているあらゆるジオレフィンであり、
特に１,３-ブタジエン、イソプレン、１,３-ペンタジエン、２,３-ジメチルブタ
ジエン、１-フェニル-１,３-ブタジエンおよび１,３-ヘキサジエンである。１,
３-ブタジエンおよびイソプレンが特に好ましい。
特に１,３-ブタジエン、イソプレン、１,３-ペンタジエン、２,３-ジメチルブタ
ジエン、１-フェニル-１,３-ブタジエンおよび１,３-ヘキサジエンである。１,
３-ブタジエンおよびイソプレンが特に好ましい。
【００１３】 本発明のゴム混合物のためのゴムを、好ましくはアニオン溶液重合により、即
ち、溶媒としての炭化水素中でアルカリ金属をベースとする触媒、例えばｎ-ブ
チルリチウムを用いて製造する。既知のランダム化剤および調節剤も、ポリマー
の微細構造のために使用することができる。そのようなアニオン溶液重合は既知
であり、例えば、I. Franta、Elastomers and Rubber Compounding Materials、
Elsevier 1989年、第73〜74頁、第92〜94頁および Houben-Weyl、Methoden der
Organischen Chemie、Thieme Verlage、Stuttgart、1987年、第E20巻第114〜134
頁に記載されている。ヒドロキシル基は、引き続いての反応により最終ポリマー
に導入される。ヒドロキシル基の好ましい導入法は、例えば、ヒドロキシル基含
有メルカプタンの付加である。
ち、溶媒としての炭化水素中でアルカリ金属をベースとする触媒、例えばｎ-ブ
チルリチウムを用いて製造する。既知のランダム化剤および調節剤も、ポリマー
の微細構造のために使用することができる。そのようなアニオン溶液重合は既知
であり、例えば、I. Franta、Elastomers and Rubber Compounding Materials、
Elsevier 1989年、第73〜74頁、第92〜94頁および Houben-Weyl、Methoden der
Organischen Chemie、Thieme Verlage、Stuttgart、1987年、第E20巻第114〜134
頁に記載されている。ヒドロキシル基は、引き続いての反応により最終ポリマー
に導入される。ヒドロキシル基の好ましい導入法は、例えば、ヒドロキシル基含
有メルカプタンの付加である。
【００１４】 本発明において好適なアルカリ金属重合触媒の例は、リチウム、ナトリウム、
カリウム、ルビジウム、セシウム金属並びに極性有機化合物とそれらとの炭化水
素化合物および錯体化合物である。
カリウム、ルビジウム、セシウム金属並びに極性有機化合物とそれらとの炭化水
素化合物および錯体化合物である。
【００１５】 ２〜２０個の炭素原子を有するリチウムおよびナトリウム炭化水素化合物（例
えば、エチルリチウム、ｎ-プロピルリチウム、ｉ-プロピルリチウム、ｎ-ブチ
ルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-オクチルリチウム、ｎ-デシルリチウム
、フェニルリチウム、２-ナフチルリチウム、２-ブチルフェニルリチウム、シク
ロヘキシルリチウム、４-シクロペンチルリチウム、１,４-ジリチオブト-２-エ
ン、ナフタレンナトリウム、ビフェニルナトリウム）、カリウム-テトラヒドロ
フラン錯体、カリウム-ジエトキシエタン錯体、ナトリウム-テトラメチルエチレ
ンジアミン錯体が特に好ましい。触媒を単独でまたは混合物として使用すること
ができる。 好ましい触媒量は、０.２〜０.５ｍモル／１００ｇポリマーの間である。
えば、エチルリチウム、ｎ-プロピルリチウム、ｉ-プロピルリチウム、ｎ-ブチ
ルリチウム、sec-ブチルリチウム、tert-オクチルリチウム、ｎ-デシルリチウム
、フェニルリチウム、２-ナフチルリチウム、２-ブチルフェニルリチウム、シク
ロヘキシルリチウム、４-シクロペンチルリチウム、１,４-ジリチオブト-２-エ
ン、ナフタレンナトリウム、ビフェニルナトリウム）、カリウム-テトラヒドロ
フラン錯体、カリウム-ジエトキシエタン錯体、ナトリウム-テトラメチルエチレ
ンジアミン錯体が特に好ましい。触媒を単独でまたは混合物として使用すること
ができる。 好ましい触媒量は、０.２〜０.５ｍモル／１００ｇポリマーの間である。
【００１６】 アニオン溶液重合を、炭化水素中または触媒に悪影響を与えない他の溶媒（例
えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランまたは１,４-ジオキサン）中で
行う。溶媒として好適な炭化水素は、例えば、２〜１２個の炭素原子を有する脂
肪族、脂環式または芳香族炭化水素である。好ましい溶媒は、プロパン、ブタン
、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、プロペン、ブテン、１-ペンテン、２-
ペンテン、１-ヘキセン、２-ヘキセン、ベンゼン、トルエン、キシレンである。
溶媒を単独でまたは混合物として使用することができる。
えば、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランまたは１,４-ジオキサン）中で
行う。溶媒として好適な炭化水素は、例えば、２〜１２個の炭素原子を有する脂
肪族、脂環式または芳香族炭化水素である。好ましい溶媒は、プロパン、ブタン
、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、プロペン、ブテン、１-ペンテン、２-
ペンテン、１-ヘキセン、２-ヘキセン、ベンゼン、トルエン、キシレンである。
溶媒を単独でまたは混合物として使用することができる。
【００１７】 ヒドロキシル基を、好ましくは、一般式（１）で表されるヒドロキシルメルカ
プタン、一般式（２）で表されるヒドロキシル基含有メルカプトカルボン酸エス
テルおよび／または式（３）で表されるヒドロキシルメルカプタンを付加するこ
とにより導入する。該反応を、好ましくは溶液中で、所望によりラジカル開始剤
の存在下で行う。
プタン、一般式（２）で表されるヒドロキシル基含有メルカプトカルボン酸エス
テルおよび／または式（３）で表されるヒドロキシルメルカプタンを付加するこ
とにより導入する。該反応を、好ましくは溶液中で、所望によりラジカル開始剤
の存在下で行う。
【化１】 〔式中、 Ｒ1は、任意にさらなるヒドロキシル基を有し得るＣ1〜Ｃ3アルキル基を表し
、 Ｒ2は、水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基または-ＣＯ2-Ｒ3-ＣＨＯＨ-Ｒ1基を表し、 Ｒ3は、任意に６個までのさらなるヒドロキシル基により置換されていてよい
、または窒素、酸素若しくは硫黄原子が介在し得る直鎖、分枝または環式Ｃ2〜
Ｃ36アルキル基を表し、 ＯＨは、第２級ヒドロキシル基を表し、 ｎ、ｍは、相互に独立に１〜７の整数を表し、 ｑは、３または４の整数を表す。〕
、 Ｒ2は、水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル基または-ＣＯ2-Ｒ3-ＣＨＯＨ-Ｒ1基を表し、 Ｒ3は、任意に６個までのさらなるヒドロキシル基により置換されていてよい
、または窒素、酸素若しくは硫黄原子が介在し得る直鎖、分枝または環式Ｃ2〜
Ｃ36アルキル基を表し、 ＯＨは、第２級ヒドロキシル基を表し、 ｎ、ｍは、相互に独立に１〜７の整数を表し、 ｑは、３または４の整数を表す。〕
【００１８】 好ましいヒドロキシルメルカプタンは、１-メルカプト-２-プロパノール、１-
メルカプト-２-ブタノール、１-メルカプト-３-ブタノール、１-メルカプト-２-
ペンタノール、１-メルカプト-２-ヒドロキシシクロヘキサンおよび１-メルカプ
トプロパンジオールである。１-メルカプト-２-プロパノール、１-メルカプト-
２-ブタノール、１-メルカプト-２-ヒドロキシシクロヘキサンおよび１-メルカ
プトプロパンジオール（チオグリセロール）が特に好ましい。
メルカプト-２-ブタノール、１-メルカプト-３-ブタノール、１-メルカプト-２-
ペンタノール、１-メルカプト-２-ヒドロキシシクロヘキサンおよび１-メルカプ
トプロパンジオールである。１-メルカプト-２-プロパノール、１-メルカプト-
２-ブタノール、１-メルカプト-２-ヒドロキシシクロヘキサンおよび１-メルカ
プトプロパンジオール（チオグリセロール）が特に好ましい。
【００１９】 好ましいヒドロキシル基含有メルカプトカルボン酸エステルは、メルカプト酢
酸、メルカプトプロピオン酸、メルカプト酪酸およびメルカプトコハク酸と、１
,２-プロピレングリコール、１,２-および１,３-ブチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、グ
リセロール、ソルビトールとのモノエステルである。３-メルカプトプロピオン
酸の対応するエステルが特に好ましい。
酸、メルカプトプロピオン酸、メルカプト酪酸およびメルカプトコハク酸と、１
,２-プロピレングリコール、１,２-および１,３-ブチレングリコール、ジプロピ
レングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、グ
リセロール、ソルビトールとのモノエステルである。３-メルカプトプロピオン
酸の対応するエステルが特に好ましい。
【００２０】 最も好ましいものは、特定の第２級ヒドロキシル基に加えて、第２位または第
３位にさらなるヒドロキシル基を有するヒドロキシルメルカプタンおよびヒドロ
キシル基含有メルカプトカルボン酸エステル、例えばチオグリセロールである。
３位にさらなるヒドロキシル基を有するヒドロキシルメルカプタンおよびヒドロ
キシル基含有メルカプトカルボン酸エステル、例えばチオグリセロールである。
【００２１】 ヒドロキシルメルカプタンを溶液ゴムに付加するために好適なラジカル開始剤
は、例えば、アゾ系開始剤（例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシ
クロヘキサノニトリル）および過酸化物（例えば、ジラウロイルパーオキシド、
ベンズピナコールおよびベンズピナコールシリルエーテル）または可視光または
ＵＶ光の存在下での光開始剤である。特に好ましいものは、ジアシルパーオキシ
ド、特にジ-(３,３,５-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジデカノイルパ
ーオキシドおよびジラウロイルパーオキシドである。
は、例えば、アゾ系開始剤（例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシ
クロヘキサノニトリル）および過酸化物（例えば、ジラウロイルパーオキシド、
ベンズピナコールおよびベンズピナコールシリルエーテル）または可視光または
ＵＶ光の存在下での光開始剤である。特に好ましいものは、ジアシルパーオキシ
ド、特にジ-(３,３,５-トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジデカノイルパ
ーオキシドおよびジラウロイルパーオキシドである。
【００２２】 好ましいラジカル開始剤量は、ヒドロキシルメルカプタンを基準に０.５〜２
０質量％の範囲である。 コポリマーのムーニー粘度 ML 1+4 は、１０〜２００、好ましくは３０〜１５
０の範囲である（１００℃で測定）。
０質量％の範囲である。 コポリマーのムーニー粘度 ML 1+4 は、１０〜２００、好ましくは３０〜１５
０の範囲である（１００℃で測定）。
【００２３】 重合１,２-ブタジエン単位の含有量（「ビニル含有量」）は、５〜６０質量％
、好ましくは１０〜５０質量％の範囲である。 重合芳香族ビニル含有量は、０.０１〜４０質量％、好ましくは５〜４０質量
％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。 第２級ヒドロキシル基の含有量は、ゴムを基準に０.１〜５質量％の範囲、好
ましくは０.１〜３質量％の範囲、特に好ましくは０.１〜２質量％の範囲、とり
わけ好ましくは０.１〜１質量％の範囲である。
、好ましくは１０〜５０質量％の範囲である。 重合芳香族ビニル含有量は、０.０１〜４０質量％、好ましくは５〜４０質量
％、特に好ましくは１０〜３０質量％の範囲である。 第２級ヒドロキシル基の含有量は、ゴムを基準に０.１〜５質量％の範囲、好
ましくは０.１〜３質量％の範囲、特に好ましくは０.１〜２質量％の範囲、とり
わけ好ましくは０.１〜１質量％の範囲である。
【００２４】 これにより本発明の方法は、側鎖末端から望ましい距離にヒドロキシル基の意
図的な導入ができる。 ヒドロキシル基の含有量を、既知の方法により、言いかえれば、例えば分光法
、滴定、元素分析により、またはいわゆるヒドロキシル価を測定すること、言い
かえればＯＨ基と接触して滴定可能な酸を消費する試薬との反応により測定する
ことができる。これに関して DIN 53 240 を参照。
図的な導入ができる。 ヒドロキシル基の含有量を、既知の方法により、言いかえれば、例えば分光法
、滴定、元素分析により、またはいわゆるヒドロキシル価を測定すること、言い
かえればＯＨ基と接触して滴定可能な酸を消費する試薬との反応により測定する
ことができる。これに関して DIN 53 240 を参照。
【００２５】 各側鎖末端から４炭素原子以内に位置する特定の第２級ヒドロキシル基に加え
て、ゴムはさらなる官能基、例えばカルボン酸およびカルボン酸エステルの基も
当然に有し得る。
て、ゴムはさらなる官能基、例えばカルボン酸およびカルボン酸エステルの基も
当然に有し得る。
【００２６】 溶液中で重合されたヒドロキシル基含有ゴムを、単独で、芳香族若しくは脂肪
族オイルとのブレンドとしてまたは他のゴムとの混合物として使用することがで
きる。天然ゴムに加えて合成ゴムも、加硫ゴム製造のための追加のゴムとして好
適である。好ましい合成ゴムは、例えば、W. Hofmann、Kautschuktechnolgie、G
enter Verlag、Stuttgart、1980年 および I. Franta、Elastomers and Rubber
Compounding Materials、Elsevier、Amsterdam 1989年に記載されている。その
ようなゴムはとりわけ次のようなものを含む： ＢＲ ポリブタジエン ＡＢＲ ブタジエン／アクリル酸Ｃ1〜Ｃ4アルキルエステルコポリマー ＣＲ ポリクロロプレン ＩＲ ポリイソプレン ＳＢＲ スチレンの割合が１〜６０質量％、好ましくは２０〜５０質量％で
あるスチレン／ブタジエンゴムコポリマー ＩＩＲ イソブチレン／イソプレンゴムコポリマー ＮＢＲ アクリロニトリルの割合が５〜６０質量％、好ましくは１０〜４０
質量％であるブタジエン／アクリロニトリルゴムコポリマー ＨＮＢＲ 部分水素化または完全水素化ＮＢＲゴム ＥＰＤＭ エチレン／プロピレン／ジエンコポリマー、および これらのゴムの混合物。所望によりEP-A-447 066 に記載されているようなシ
リルエーテルまたは他の官能基を用いて変性することができ、−５０℃を超える
ガラス転移点を有する天然ゴム、エマルションＳＢＲおよび溶液ＳＢＲ、および
Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉまたはＮｄをベースとする触媒を用いて製造される高１,４-シ
ス含有量（＞９０％）のポリブタジエンゴム、および０〜７５％のビニル含有量
を有するポリブタジエンゴム並びにこれらの混合物が、自動車用タイヤの製造の
ために特に重要である。
族オイルとのブレンドとしてまたは他のゴムとの混合物として使用することがで
きる。天然ゴムに加えて合成ゴムも、加硫ゴム製造のための追加のゴムとして好
適である。好ましい合成ゴムは、例えば、W. Hofmann、Kautschuktechnolgie、G
enter Verlag、Stuttgart、1980年 および I. Franta、Elastomers and Rubber
Compounding Materials、Elsevier、Amsterdam 1989年に記載されている。その
ようなゴムはとりわけ次のようなものを含む： ＢＲ ポリブタジエン ＡＢＲ ブタジエン／アクリル酸Ｃ1〜Ｃ4アルキルエステルコポリマー ＣＲ ポリクロロプレン ＩＲ ポリイソプレン ＳＢＲ スチレンの割合が１〜６０質量％、好ましくは２０〜５０質量％で
あるスチレン／ブタジエンゴムコポリマー ＩＩＲ イソブチレン／イソプレンゴムコポリマー ＮＢＲ アクリロニトリルの割合が５〜６０質量％、好ましくは１０〜４０
質量％であるブタジエン／アクリロニトリルゴムコポリマー ＨＮＢＲ 部分水素化または完全水素化ＮＢＲゴム ＥＰＤＭ エチレン／プロピレン／ジエンコポリマー、および これらのゴムの混合物。所望によりEP-A-447 066 に記載されているようなシ
リルエーテルまたは他の官能基を用いて変性することができ、−５０℃を超える
ガラス転移点を有する天然ゴム、エマルションＳＢＲおよび溶液ＳＢＲ、および
Ｎｉ、Ｃｏ、ＴｉまたはＮｄをベースとする触媒を用いて製造される高１,４-シ
ス含有量（＞９０％）のポリブタジエンゴム、および０〜７５％のビニル含有量
を有するポリブタジエンゴム並びにこれらの混合物が、自動車用タイヤの製造の
ために特に重要である。
【００２７】 本発明のゴム混合物は、次のような活性または不活性フィラー５〜５００質量
部を含む： ・高分散シリカ。その調製は、例えばケイ酸塩溶液の沈殿またはハロゲン化ケ
イ素の火炎加水分解による。その比表面積は５〜１,０００ｍ2／ｇ、好ましくは
２０〜４００ｍ2／ｇの範囲である（ＢＥＴ表面積）。その一次粒度は１０〜４
００ｎｍである。シリカは任意に、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｚｒまたは
Ｔｉ酸化物のような他の金属酸化物との混合酸化物としても存在することができ
る。 ・合成ケイ酸塩。例えばケイ酸アルミニウム、ケイ酸アルカリ土類金属（例え
ば、ケイ酸マグネシウムまたはケイ酸カルシウム）。そのＢＥＴ表面積は２０〜
４００ｍ2／ｇであり、その一次粒径は１０〜４００ｎｍである。 ・天然ケイ酸塩。例えばカオリンおよび他の天然に産出するシリカ。 ・ガラス繊維およびガラス繊維製品（マット、ロープ）またはガラスミクロビ
ーズ。 ・金属酸化物。例えば酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ア
ルミニウム。 ・金属炭酸塩。例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛。 ・金属水酸化物。例えば水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム。 ・カーボンブラック。本発明において使用するカーボンブラックは、フレーム
ブラック法、ファーネスブラック法またはガスブラック法により調製され、２０
〜２００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する。例えばＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、
ＦＥＦまたはＧＰＦカーボンブラック。 ・ゴムゲル、特にポリブタジエン、ブタジエン／スチレンコポリマー、ブタジ
エン／アクリロニトリルコポリマーおよびポリクロロプレンをベースとするもの
。
部を含む： ・高分散シリカ。その調製は、例えばケイ酸塩溶液の沈殿またはハロゲン化ケ
イ素の火炎加水分解による。その比表面積は５〜１,０００ｍ2／ｇ、好ましくは
２０〜４００ｍ2／ｇの範囲である（ＢＥＴ表面積）。その一次粒度は１０〜４
００ｎｍである。シリカは任意に、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、Ｚｒまたは
Ｔｉ酸化物のような他の金属酸化物との混合酸化物としても存在することができ
る。 ・合成ケイ酸塩。例えばケイ酸アルミニウム、ケイ酸アルカリ土類金属（例え
ば、ケイ酸マグネシウムまたはケイ酸カルシウム）。そのＢＥＴ表面積は２０〜
４００ｍ2／ｇであり、その一次粒径は１０〜４００ｎｍである。 ・天然ケイ酸塩。例えばカオリンおよび他の天然に産出するシリカ。 ・ガラス繊維およびガラス繊維製品（マット、ロープ）またはガラスミクロビ
ーズ。 ・金属酸化物。例えば酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ア
ルミニウム。 ・金属炭酸塩。例えば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛。 ・金属水酸化物。例えば水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム。 ・カーボンブラック。本発明において使用するカーボンブラックは、フレーム
ブラック法、ファーネスブラック法またはガスブラック法により調製され、２０
〜２００ｍ2／ｇのＢＥＴ表面積を有する。例えばＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、
ＦＥＦまたはＧＰＦカーボンブラック。 ・ゴムゲル、特にポリブタジエン、ブタジエン／スチレンコポリマー、ブタジ
エン／アクリロニトリルコポリマーおよびポリクロロプレンをベースとするもの
。
【００２８】 高分散シリカおよびカーボンブラックが特に好ましい。酸化物フィラーおよび
シリカフィラーを、既知のフィラー活性化剤、特に硫黄含有シリルエーテルおよ
び／または既知の疎水化剤を用いて活性化および／または疎水化することができ
る。
シリカフィラーを、既知のフィラー活性化剤、特に硫黄含有シリルエーテルおよ
び／または既知の疎水化剤を用いて活性化および／または疎水化することができ
る。
【００２９】 上記フィラーを単独でまたは混合物として使用することができる。特に好まし
い実施態様においてゴム混合物は、フィラーとして淡色フィラー（例えば、高分
散シリカ）とカーボンブラックとの混合物を含み、淡色フィラー対カーボンブラ
ックの混合比は０.０５〜２０、好ましくは０.１〜１０である。
い実施態様においてゴム混合物は、フィラーとして淡色フィラー（例えば、高分
散シリカ）とカーボンブラックとの混合物を含み、淡色フィラー対カーボンブラ
ックの混合比は０.０５〜２０、好ましくは０.１〜１０である。
【００３０】 フィラーを固体物または水若しくは溶媒中の懸濁液として、溶液中で重合され
た１つまたはそれ以上のヒドロキシル基含有ゴムの溶液に好ましくは添加する。
ゴム溶液を事前に製造することができるが、重合から生ずる溶液を好ましくは直
接使用する。次いで、溶媒を熱的に、好ましくは蒸気を用いて除去する。このス
トリッピングプロセスの条件は、予備実験により容易に定めることができる。 フィラーをまた、固体ヒドロキシル基含有ゴムまたはゴム混合物に好ましくは
添加し、既知の方法により、例えば混練機を用いて混合する。
た１つまたはそれ以上のヒドロキシル基含有ゴムの溶液に好ましくは添加する。
ゴム溶液を事前に製造することができるが、重合から生ずる溶液を好ましくは直
接使用する。次いで、溶媒を熱的に、好ましくは蒸気を用いて除去する。このス
トリッピングプロセスの条件は、予備実験により容易に定めることができる。 フィラーをまた、固体ヒドロキシル基含有ゴムまたはゴム混合物に好ましくは
添加し、既知の方法により、例えば混練機を用いて混合する。
【００３１】 本発明のゴム混合物は、所望により架橋剤も含む。硫黄または過酸化物を架橋
剤として使用することができ、硫黄が特に好ましい。本発明のゴム混合物は、ゴ
ム産業において既知のゴム用助剤製品、例えば、反応促進剤、酸化防止剤、熱安
定剤、耐光剤、オゾン劣化防止剤、加工助剤、可塑剤、粘着付与剤、発泡剤、染
料、顔料、ワックス、エキステンダー、有機酸、遅延剤、金属酸化物および活性
化剤（例えば、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコール、トリメチロー
ルプロパンなど）をさらに含み得る。
剤として使用することができ、硫黄が特に好ましい。本発明のゴム混合物は、ゴ
ム産業において既知のゴム用助剤製品、例えば、反応促進剤、酸化防止剤、熱安
定剤、耐光剤、オゾン劣化防止剤、加工助剤、可塑剤、粘着付与剤、発泡剤、染
料、顔料、ワックス、エキステンダー、有機酸、遅延剤、金属酸化物および活性
化剤（例えば、トリエタノールアミン、ポリエチレングリコール、トリメチロー
ルプロパンなど）をさらに含み得る。
【００３２】 高活性沈降シリカを含む好ましいゴム混合物において、さらなるフィラー活性
化剤を使用することは特に有利である。好ましいフィラー活性化剤は、DE 2 141
159 および DE-AS 2 225 577 に記載されているような硫黄含有シリルエーテル
、特にビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィド、DE-OS 4 435 311
および EP-A 670 347 のオリゴマーおよび／またはポリマー硫黄含有シリルエー
テル、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、特にメルカプトプロピルトリ
エトキシシラン、および例えば DE-OS 19 544 469 に記載されているようなチオ
シアナトアルキルシリルエーテルである。
化剤を使用することは特に有利である。好ましいフィラー活性化剤は、DE 2 141
159 および DE-AS 2 225 577 に記載されているような硫黄含有シリルエーテル
、特にビス(トリアルコキシシリルアルキル)ポリスルフィド、DE-OS 4 435 311
および EP-A 670 347 のオリゴマーおよび／またはポリマー硫黄含有シリルエー
テル、メルカプトアルキルトリアルコキシシラン、特にメルカプトプロピルトリ
エトキシシラン、および例えば DE-OS 19 544 469 に記載されているようなチオ
シアナトアルキルシリルエーテルである。
【００３３】 ゴム用助剤（J. Franta、Elastomers and Rubber Compounding Materials、El
sevier、1989年も参照）を、とりわけ意図する適用に依存して通例の量で使用す
る。通例の量は、例えばゴムを基準に０.１〜５０質量％の量である。
sevier、1989年も参照）を、とりわけ意図する適用に依存して通例の量で使用す
る。通例の量は、例えばゴムを基準に０.１〜５０質量％の量である。
【００３４】 本発明のゴム混合物は、あらゆる種類の成形品の製造のために優れて好適であ
る。 これらの成形品の非限定例は、Ｏ-リング、断面材、シール、膜、タイヤ、タ
イヤトレッド、緩衝要素およびチューブである。 タイヤおよびタイヤトレッドが特に好ましい。
る。 これらの成形品の非限定例は、Ｏ-リング、断面材、シール、膜、タイヤ、タ
イヤトレッド、緩衝要素およびチューブである。 タイヤおよびタイヤトレッドが特に好ましい。
【００３５】 （実施例） 実施例１ １-メルカプト-２-プロパノール２５ｇおよびアゾビスシクロヘキサンニトリ
ル２ｇを、７０℃でシクロヘキサン４Ｌ中溶液ＳＢＲゴム Buna(登録商標) VSL
5025-0（Bayer AG、結合スチレン含有量２５質量％、結合１,２-ブタジエン含有
量５０質量％）５００ｇの溶液に添加した。次いで、混合物を８０℃で１６時間
攪拌した。次いで、酸化防止剤 Vulkanox(登録商標) BKF（Bayer AG）２.５ｇを
添加し、水蒸気を用いて溶媒を留去した。７０℃減圧下で乾燥後、無色のゴム（
ガラス転移点(ＤＳＣ)−６℃、ＯＨ含有量０.９質量％）が得られた。
ル２ｇを、７０℃でシクロヘキサン４Ｌ中溶液ＳＢＲゴム Buna(登録商標) VSL
5025-0（Bayer AG、結合スチレン含有量２５質量％、結合１,２-ブタジエン含有
量５０質量％）５００ｇの溶液に添加した。次いで、混合物を８０℃で１６時間
攪拌した。次いで、酸化防止剤 Vulkanox(登録商標) BKF（Bayer AG）２.５ｇを
添加し、水蒸気を用いて溶媒を留去した。７０℃減圧下で乾燥後、無色のゴム（
ガラス転移点(ＤＳＣ)−６℃、ＯＨ含有量０.９質量％）が得られた。
【００３６】 実施例２ 以下の量を用いて、実施例１と同じ方法を行った： Buna(登録商標) VSL 5025-0（Bayer AG）５００ｇ シクロヘキサン４Ｌ １-メルカプト-２-プロパノール１２.５ｇ ジラウロイルパーオキシド（アゾビスシクロヘキサンニトリルの代替）（Inte
rox LP、Peroxid Chemie, D）１ｇ 反応時間３時間／８０℃。 次いで、酸化防止剤 Vulkanox(登録商標) 4020（Bayer AG）２.５ｇを添加し
た。無色のゴム（ガラス転移点−１３℃、ＯＨ含有量０.４５質量％）が得られ
た。
rox LP、Peroxid Chemie, D）１ｇ 反応時間３時間／８０℃。 次いで、酸化防止剤 Vulkanox(登録商標) 4020（Bayer AG）２.５ｇを添加し
た。無色のゴム（ガラス転移点−１３℃、ＯＨ含有量０.４５質量％）が得られ
た。
【００３７】 比較例 以下の量を用いて、実施例１と同じ方法を行った：
【表１】
【００３８】 実施例３ 以下のゴム混合物（硫黄および促進剤は除く。）を１.５Ｌ混練機により１４
０〜１５０℃で製造した（混練機内での混合時間：５分）。次いで、硫黄および
促進剤をローラー上約５０〜７０℃で添加した。
０〜１５０℃で製造した（混練機内での混合時間：５分）。次いで、硫黄および
促進剤をローラー上約５０〜７０℃で添加した。
【００３９】
【表２】
【００４０】 次いで、ゴム混合物を１７０℃で２０分間加硫処理した。 加硫ゴムは以下の特性を有した：
【００４１】
【表３】
【００４２】 試験結果は、ヒドロキシル基の特別な含有量および配置を有する本発明のゴム
の特性は、未変性ゴム（比較例３.Ａ）、同じヒドロキシル基含有量（１質量％
）を有するゴム（比較例３.Ｂ）および不十分なヒドロキシル基含有量（０.０７
質量％）を有するゴム（比較例３.Ｃ）のものに比し、向上したことを示す。周
囲温度でより低い弾性反発が測定され、経験から知られているように、これは湿
潤時におけるスキッド抵抗のかなりの向上を伴う。周囲温度と７０℃との間の弾
性反発の差は、本発明のゴム混合物でより大きく、その結果、タイヤの湿潤時ス
キッド抵抗と転がり抵抗との関係もより有利になる。
の特性は、未変性ゴム（比較例３.Ａ）、同じヒドロキシル基含有量（１質量％
）を有するゴム（比較例３.Ｂ）および不十分なヒドロキシル基含有量（０.０７
質量％）を有するゴム（比較例３.Ｃ）のものに比し、向上したことを示す。周
囲温度でより低い弾性反発が測定され、経験から知られているように、これは湿
潤時におけるスキッド抵抗のかなりの向上を伴う。周囲温度と７０℃との間の弾
性反発の差は、本発明のゴム混合物でより大きく、その結果、タイヤの湿潤時ス
キッド抵抗と転がり抵抗との関係もより有利になる。
【００４３】 実施例４ チオグリセロール（３-メルカプト-１,２-プロパンジオール）４.１５ｇおよ
びジラウロイルパーオキシド０.５ｇを、８０℃でシクロヘキサン４Ｌ中溶液ゴ
ム Buna VSL 5025-0（Bayer AG）５００ｇの溶液に添加し、８０℃で２時間攪拌
した。次いで、酸化防止剤 Vulkanox 4020（Bayer AG）２.５ｇを添加し、水蒸
気を用いて溶媒を留去した。７０℃減圧下で乾燥後、ゴム（粘度 ML 1+4（１０
０℃）７０、ＯＨ含有量０.２６質量％）５０４.１ｇが得られた。
びジラウロイルパーオキシド０.５ｇを、８０℃でシクロヘキサン４Ｌ中溶液ゴ
ム Buna VSL 5025-0（Bayer AG）５００ｇの溶液に添加し、８０℃で２時間攪拌
した。次いで、酸化防止剤 Vulkanox 4020（Bayer AG）２.５ｇを添加し、水蒸
気を用いて溶媒を留去した。７０℃減圧下で乾燥後、ゴム（粘度 ML 1+4（１０
０℃）７０、ＯＨ含有量０.２６質量％）５０４.１ｇが得られた。
【００４４】 実施例５ 以下のゴム混合物（硫黄および促進剤は除く。）を１.５Ｌ混練機内１４０℃
で製造した（混練機内での混合時間：５分）。次いで、硫黄および促進剤をロー
ラー上約５０〜７０℃で添加した。
で製造した（混練機内での混合時間：５分）。次いで、硫黄および促進剤をロー
ラー上約５０〜７０℃で添加した。
【００４５】
【表４】
【００４６】 次いで、ゴム混合物を１７０℃で２０分間加硫処理した。 加硫ゴムは以下の特性を有した：
【００４７】
【表５】
【００４８】 試験結果は、ヒドロキシル基の特別な含有量および配置を有する本発明のゴム
の緩衝性は、未変性ゴム（比較例５.Ａ）のものに比し、大幅に向上したことを
示す。周囲温度でより低い弾性反発および０℃でより高いタンデルタが測定され
、経験から知られているように、この両方は湿潤時におけるスキッド抵抗のかな
りの向上を伴う。本発明のゴム混合物において７０℃で弾性反発がより高く、６
０℃でタンデルタがより低いことの両方は、本発明に従うヒドロキシル基含有量
を有さない比較ゴム混合物に比し、転がり抵抗がより低いことを示す。周囲温度
と７０℃での弾性反発および０℃と６０℃でのタンデルタ値の差は、本発明のゴ
ム混合物でより大きく、その結果、タイヤの湿潤時スキッド抵抗と転がり抵抗と
の関係もより有利になる。
の緩衝性は、未変性ゴム（比較例５.Ａ）のものに比し、大幅に向上したことを
示す。周囲温度でより低い弾性反発および０℃でより高いタンデルタが測定され
、経験から知られているように、この両方は湿潤時におけるスキッド抵抗のかな
りの向上を伴う。本発明のゴム混合物において７０℃で弾性反発がより高く、６
０℃でタンデルタがより低いことの両方は、本発明に従うヒドロキシル基含有量
を有さない比較ゴム混合物に比し、転がり抵抗がより低いことを示す。周囲温度
と７０℃での弾性反発および０℃と６０℃でのタンデルタ値の差は、本発明のゴ
ム混合物でより大きく、その結果、タイヤの湿潤時スキッド抵抗と転がり抵抗と
の関係もより有利になる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4J002 AC02W AC03W AC06W AC07W AC08W AC09W AC11W AC11X BB15W BB18W GN01 4J100 AB00Q AB02Q AB03Q AB04Q AB16Q AS02P AS03P AS04P BA03H BA51H CA04 CA31 DA01 DA25 FA19 HA00 HA19 HA61 HC70 JA29
Claims (5)
- 【請求項１】 結合第２級ヒドロキシル基を０.１〜５質量％の範囲で有し
、ジオレフィンと芳香族ビニルモノマーとから合成され、溶液中で重合された１
つまたはそれ以上のヒドロキシル基含有ゴムを含むゴム混合物であって、第２級
ヒドロキシル基が各側鎖末端から４炭素原子以内に位置することを特徴とするゴ
ム混合物。 - 【請求項２】 溶液中で重合された１つまたはそれ以上のヒドロキシル基含
有ゴムが、５〜４０質量％の範囲の重合芳香族ビニル含有量および５〜６０質量
％の範囲の１,２-ビニル含有量を有することを特徴とする請求項１に記載のゴム
混合物。 - 【請求項３】 スチレンを芳香族ビニルモノマーとして使用することを特徴
とする請求項１に記載のゴム混合物。 - 【請求項４】 １,３-ブタジエンおよび／またはイソプレンをジオレフィン
として使用することを特徴とする請求項１に記載のゴム混合物。 - 【請求項５】 あらゆる種類の成形品を製造するため、特にタイヤトレッド
を製造するための請求項１に記載のゴム混合物の使用。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19914848A DE19914848A1 (de) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | Hydroxylgruppenhaltige Lösungskautschuke |
| DE19914848.1 | 1999-04-01 | ||
| PCT/EP2000/002452 WO2000059994A1 (de) | 1999-04-01 | 2000-03-20 | Hydroxylgruppenhaltige lösungskautschuke |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002541289A true JP2002541289A (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=7903236
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000609496A Pending JP2002541289A (ja) | 1999-04-01 | 2000-03-20 | ヒドロキシル基含有ゴム混合物 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6699937B1 (ja) |
| EP (1) | EP1169384A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002541289A (ja) |
| AU (1) | AU4106600A (ja) |
| CA (1) | CA2364587A1 (ja) |
| DE (1) | DE19914848A1 (ja) |
| WO (1) | WO2000059994A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012505943A (ja) * | 2008-10-16 | 2012-03-08 | ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー | 官能化ジエンゴム |
| JP2012528213A (ja) * | 2009-05-27 | 2012-11-12 | ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー | トリメチロールプロパンおよび脂肪酸を含む官能化ジエンゴムで構成された混合物、その使用ならびにその製造方法 |
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| DE10012407A1 (de) | 2000-03-15 | 2001-09-20 | Bayer Ag | Polyether enthaltende Kautschukmischungen |
| DE10135014A1 (de) | 2001-07-18 | 2003-01-30 | Bayer Ag | 1,4-Butendiol(polyether) enthaltende Kautschukmischungen |
| DE102008023885A1 (de) * | 2008-05-16 | 2009-11-19 | Lanxess Deutschland Gmbh | Funktionalisierte hochvinylaromaten-haltige Dienkautschuke |
| JP2018095762A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 東洋ゴム工業株式会社 | ゴム組成物 |
| JP7059669B2 (ja) * | 2017-02-15 | 2022-04-26 | 住友ゴム工業株式会社 | トレッド用ゴム組成物およびタイヤ |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3873489A (en) | 1971-08-17 | 1975-03-25 | Degussa | Rubber compositions containing silica and an organosilane |
| US3978103A (en) | 1971-08-17 | 1976-08-31 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler | Sulfur containing organosilicon compounds |
| DE2653144C2 (de) * | 1976-11-23 | 1984-12-20 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von modifiziertem Polybutadien |
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