JP2002534402A - ビスフェノールａプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールａプリル - Google Patents

ビスフェノールａプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールａプリル

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、ビスフェノールＡプリルの製造方法に関する。本発明の方法に従って、溶融したビスフェノールＡは、多数のノズルを有するノズル・プレートを介して噴射造粒塔の塔頂部で噴射造粒塔に供給される。循環誘導される冷却ガスは、該噴射造粒塔に向流で導入される。ビスフェノールＡプリルは、ほぼ室温に冷却され、噴射造粒塔の底部に集められ、取り出される。本発明は、本発明の製造方法を実施するための装置及び本発明の方法により製造されたビスフェノールＡプリルにも関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、溶融したビスフェノールＡを、複数のノズルを有するノズル・プレ
ート（nozzle plate）を介して噴射造粒塔（又はプリリング・タワー（prilling
tower）：プリルする（融解して、例えば、筒口から出し, 落下中に凝固させて
小球を製造する）ための塔）の塔頂部から噴射造粒塔に仕込み（チャージし又は
投入し）、循環誘導される（循環路を流れる又は循環して導かれる）冷却ガスを
向流で噴射造粒塔に導入し（又は流し）、ほぼ室温に冷却されたビスフェノール
Ａプリルを噴射造粒塔の底部で集めて、取り出す（又は引き出す）ビスフェノー
ルＡプリル（又は小球）の製造方法、更にそのような製造方法を実施するための
装置、並びに本製造方法に従って製造されるビスフェノールＡプリルに関する。
【０００２】 ビスフェノールは、二つのフェノール基を有し、ケトンとフェノールを反応さ
せて得られる化合物であり、従ってビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン）は、フェノールとアセトンの反応の結果として形成
される。ビスフェノールＡは、更にエポキシ樹脂、ポリカーボネート及びポリス
ルホンに処理される。流動性、運搬性及び保存性の問題を緩和するために、粒状
物質、フレーク（もしくは薄片）又はプリル（もしくは小球）がビスフェノール
Ａ溶融物を冷却することにより製造され、プリルは、ダスト（もしくは粉末）の
割合がより低いこと及び流動特性がより良好であるために、粒状物質又はフレー
クと比較して長所を有する。
【０００３】 ビスフェノールＡプリルの製造方法は、日本国公開特許公報特開平６−１０７
５８１号公報に開示されており、溶融したビスフェノールＡプリルは噴射造粒塔
の塔頂部で仕込まれ、落下する溶融物の液滴から融解熱を吸収する冷却ガスは、
噴射造粒塔の底部から向流で導入される。固化したプリルは、噴射造粒塔の底部
から取り出される。
【０００４】 公知の製造方法の目的は、ダストの割合を減少させるために、製造されるビス
フェノールＡプリルの硬度を増加させることである。しかし、後続の処理のタイ
プに応じて、ダスト含有量が低いことに加え、プリルに更なる要求が求められて
いる。
【０００５】 従って、本発明の目的は、ビスフェノールＡプリルの製造方法及び製造装置を
創作することであり、それにより製造される、生成物の純度が最も重要である、
プリルを創作することである。可能な限り純粋なビスフェノールＡプリルを得る
ために、一方で、そのモノフェノール含有量及び残留ダスト含有量は減らされる
べきであり、また他方で、特に、透明で色安定性に優れる生成物が創作されるべ
きである。
【０００６】 製造方法に関する本発明の目的は、ビスフェノールＡ溶融物の仕込み（チャー
ジもしくは投入）並びに冷却ガスの導入を、噴射造粒塔の横断面で均一に分配さ
れるように実施することによって達成された。
【０００７】 製造装置に関する限りでは、解決手段は、噴射造粒塔に水平にガイドされ、冷
却ガスを均一にフィードする（又は供給する）ために設けられる断面が先細りに
なっている環状のライン、半径方向にフランジが取り付けられた冷却ガス・チャ
ンネル・インプット（又は導入口）に設けられた、冷却ガスの流れを２つの部分
的な流れに分けるバッフル・プレート、並びに噴射造粒塔の周縁部に均一に配置
されて設けられる複数のハニカム状の整流器要素によって得られる。このように
すれば、本発明に従って、捩れを生ずること無く、噴射造粒塔の断面に向けて冷
却ガスを分配することが可能である。
【０００８】 本発明の製造方法及び本発明の製造装置を用いれば、ダストの割合が２質量％
未満であり、１０ハーゼン（Ｈａｚｅｎ）未満の固有色度を有し、０．１５ｍ２ ／ｇを超えるＢＥＴ表面を示すプリルを製造することが可能である。粒子の寸法
（粒径又は粒度）ｄｐは、０．５〜３ｍｍであり、０．８〜２ｍｍであるのが好
ましい。
【０００９】 以下、製造方法をより詳細に説明する。フェノール含有量が低く、ダスト含有
量が低いビスフェノールＡプリルを製造するために必須のことは、広い動作範囲
内でノズルによる微粒化に関して可能な限り正確であるビスフェノールＡ溶融物
の温度設定である。この温度制御は、好ましくは多管式熱交換器（shell-and-tu
be exchanger）によって可能となる。本発明の製造方法では、ビスフェノールＡ
溶融物は、１８５℃〜２５０℃で得られるのが好ましい。上述の多管式熱交換器
で、ビスフェノールＡ溶融物は、結晶化温度である１５６℃に近い温度に冷却さ
れる。噴射造粒塔に仕込まれるビスフェノールＡ溶融物の温度は、好ましくは１
６５℃である（又は１６５℃に達する）。
【００１０】 本発明の更なる教示によると、温度制御のために、３つのチャンバーの多管式
熱交換器が都合良く用いられ、それにより、冷却のために、溶融物は多管式熱交
換器のチューブに通される。ビスフェノールＡ溶融物から熱を吸収するために、
チューブの周囲の外側のチャンバーに、加圧された水が供給され、蒸発させられ
る。溶融物の温度は、加圧された水によって取りかこまれたチューブの数及び水
の蒸発圧力の双方によって設定される。熱交換器のラジエーター側は、ビスフェ
ノールＡの結晶化温度よりも低い温度で運転されるので、熱交換器に、追加の加
熱ジャケットが設けられる。不安定な段階の間、即ち、始動の際に又は低負荷運
転の際に、例えば、生成物側での凝固は、該加熱ジャケットに熱媒体（heat car
rier）を供給することによって確実に防止される。
【００１１】 本発明の更なる改良として、溶融物の精製を、噴射造粒塔にビスフェノールＡ
溶融物を仕込む直前に溶融物フィルター（又はメルト・フィルター：melt filte
r）で行う。８０μｍより小さいメッシュサイズ（又はメッシュ寸法）の金属ク
ロスのふるいを、この濾過に用いるのが好ましい。
【００１２】 更に本発明の改良として、溶融物を仕込むためのノズル・プレートは０．０５
〜１バール（bar）の範囲のわずかな過圧下で運転され、０．１５〜０．３バー
ルの範囲のわずかな過圧下で運転されるのが好ましい。差圧は、実質的に、穴の
形態（形状又はジオメトリー）、ノズル・プレート１つ当たりの穴の数、溶融物
の温度及びフィードの量（体積流量）によって定められる。ビスフェノールＡ溶
融物を均一に分配するために、ノズル・プレートは、丸く半球形にふくらみ、噴
射造粒塔の塔頂部の中央に配置するのが好ましい。更に、本発明のさらなる改良
として、数本の排気パイプ（又は排出パイプ）が、噴射造粒塔の上部に配置され
、噴射造粒塔の断面に均一に分配され、当該パイプを介して冷却ガスが排気（又
は排出）される。これらの排気パイプは、付随的な加熱装置とともに構成される
のが好ましい。このようにして、生成物の析出を確実に防止することができる。
【００１３】 冷却ガスは、循環誘導される（循環路を流れる又は循環して導かれる）という
事実のために、冷却ガスを精製しなければならず、それは、バッグフィルターの
形態で行うのが好ましい。
【００１４】 本発明は、循環誘導されて連続的に冷却され、かつモノフェノールが除去され
るべき冷却ガスに関し、冷却は、第２の冷却循環を有する洗浄塔で行うのが好ま
しいことを更に教示する。この方法によって、冷却循環の物理的な寸法が明らか
に減少し、連続運転もまた、この配置によって可能となる。それは、冷却の目的
のために用いる多管式熱交換器の場合、再利用する窒素ガスからフェノールを凝
固して分離することを可能にするために、該熱交換器を可逆熱交換器として常に
単に使用することができることによる。
【００１５】 泡（気泡又はフォーム）の発生を確実に防止するために、循環誘導される冷却
ガスの冷却は、溶存酸素を有さない脱イオン水を用いて行うのが好ましい。
【００１６】 好ましい態様を示す図面に基づいて、以下、本発明の装置を更に十分に説明す
る。
【００１７】 図１に、冷却ガスの循環誘導（又はリサイクル）を伴なう、本発明のビスフェ
ノールＡプリルの製造装置の全体図を示す。溶融物冷却器（又はメルト・クーラ
ー：melt cooler）で温度制御されたＢＰＡ溶融物（図示せず）を、ノズル・プ
レート２（概略のみ示す）を介する微粒化によって、噴射造粒塔１に仕込む（チ
ャージする又は投入する）。ビスフェノールと冷却ガスとの間の十分な熱交換と
物質交換のために、噴射造粒塔の断面全体を利用するべく、ノズル・プレート２
を噴射造粒塔１の塔頂部の中央に配置する。冷却ガス、好ましくは窒素（Ｎ２）
ガスを、冷却ガス分配器３を介して噴射造粒塔１の底部から向流で導入する。こ
の方法によって、ＢＰＡ溶融物の仕込まれた小滴は、冷却され、固化してビスフ
ェノールＡプリルになる。プリルは、噴射造粒塔１の底部の円錐体（又はコーン
）に集められ、ふるい４を経由してきめの粗い粒子が除かれ、例えば、空気コン
ベヤーシステム５を介して貯蔵室に運ばれる。大きすぎる（又はオーバーサイズ
の）ものは、コンテナ６に集められる。熱せられた冷却ガスは、数本の排気パイ
プ７を介して噴射造粒塔の塔頂部から排気され、同伴した超微粒のダスト（又は
微微粒子）は固体フィルター８で除かれる。大きすぎるものと同様に、超微粒の
ダストは再利用するためにダストコンテナ９に集められる。
【００１８】 その後、冷却ガスは、洗浄塔１０で冷却され、冷却ガスとして噴射造粒塔１に
再び供給される前に、洗浄液と十分に接触させることで、取り出された（又はス
トリッピングされた）易揮発性モノフェノールが除かれる。ファン（又は送風機
）１１を使用して、循環運転が維持される。
【００１９】 図１から明らかなように、洗浄塔１０に関する冷却液は、同様に循環運転する
のが好ましい。加熱された洗浄液は、ポンプ１２を用いて熱交換器１３に供給さ
れ、そこで冷却され、その後洗浄塔１０の塔頂部へ送られる。洗い出されたフェ
ノールの濃縮を防ぐために、洗浄液循環の２つの矢印で示すように、一部は冷却
循環から排出され、新しい洗浄液と入れ代わる。
【００２０】 ビスフェノールＡ溶融物を最適に冷却し、またストリッピングするために、冷
却ガスと溶融物の滴との間で均一に十分接触させる必要がある。従って、噴射造
粒塔１内に、十分に形成された、上方に向いた、捩れのない冷却ガスの流れを迅
速に達成することが特に重要である。これは、本発明の冷却ガス分配器３によっ
て達成され、それを、図２及び３に示す。
【００２１】 冷却ガスの流れは、冷却ガス分配器３に半径方向に入り、バッフル・プレート
１４によって、２つの等しい大きさの部分に分かれる。両方の流れは、分配器の
ハウジング内の噴射造粒塔１の周囲で接線方向に運ばれる。噴射造粒塔１の周縁
方向において、冷却ガスの一部は、噴射造粒塔１の底部の円錐体１５に向かって
垂直方向に離れるように運ばれる。穴を有するプレート１６は、噴射造粒塔１の
周縁部で流れる冷却ガスの量を均等に分配するためのものである。更に、均等な
分配は噴射造粒塔１の周縁の分配器のチャンネルの一定の先細りする断面（図２
に明確に認められる）によって支援される。
【００２２】 本発明によれば、整流器要素１７は、その長さ／直径の比は５より大きいのが
好ましく、穴を有するプレート１６の下に配置される。これらの整流器要素１７
は、好ましくはハニカム状物から整流器充填物（又はパッキン）に組み立てられ
、その整流器要素１７の使用によって、下方に向いた、円錐体１５への均一な流
れが引き起こされる。円錐体の領域内で、大量の冷却ガスは、１８０°方向転換
し、短い導入部の後で、断面全体に均一に分配され、噴射造粒塔１を通って上方
へ流れる。
【００２３】 ノズル・プレート２を図４に示すが、これは、球状に形成されるのが好ましい
。複数の穴１８は、ノズル・プレート２の表面に均一に分配される。既に説明し
たように、残留フェノールとダストの要求される規格（又は仕様）を確保するこ
とを可能とするために、ノズル・プレート２を、わずかの差圧で運転する。穴１
８の形態（形状又はジオメトリー）、１つのノズル・プレート２当たりの穴１８
の数、ＢＰＡ溶融物の温度及び仕込み量によって、差圧は実質的に決まるので、
異なる負荷に適合するように、交換可能なノズル・プレート２が含まれるのが好
ましく、それにより各負荷の範囲について、噴射造粒塔１の断面で溶融物の滴の
最適な分配を達成する。
【００２４】 噴射造粒塔１の高さ全体にわたって、冷却ガスと溶融物の滴の均一な接触を確
保するために、噴射造粒塔１の上部領域もまた、可能な限り横断方向の流れがな
いものであることを要する。これは、上方への流れが、特に塔頂部領域において
も、即ち、溶融物がノズルから噴射される場所においても、ほとんど乱されない
ことを仮定している。従って、噴射造粒塔の塔頂部のガスの排気は、図５に模式
的に示すように、ホールのサークル（又はホールが作る円）１９上に対称的に配
置される数本の、好ましくは３〜４本の排気（又は排出）パイプ２０を用いて行
われる。排気パイプ２０は、流れに好ましいように、断面が等しい収集用パイプ
（図示せず）にまとめられる。このように、排気パイプ２０の上述の配置によっ
て、ノズル・プレート２を用いてビスフェノールＡ溶融物を中央でノズルから噴
射させること（又はノズル・インジェクション）が可能となる。排気パイプ２０
は、付随的な加熱装置とともに構成されるのが好ましい。
【００２５】 最後に、ＢＰＡ溶融物の温度制御を行うために用いられる溶融物冷却器２１を
図６に模式的に示す。溶融物冷却器２１は、３チャンバー多管式熱交換器として
構成される。好ましくは１８５℃〜２５０℃の温度のプロセスで得られるＢＰＡ
溶融物は、仕込み口２２を介して、溶融物冷却器に付属しているパイプ２３に送
られる。パイプ２３の周囲の外側チャンバー２４に加圧された水が供給され、蒸
発させられる。熱は、この手段によって、ＢＰＡ溶融物から吸収される。熱交換
器のラジエーター側はＢＰＡの結晶化温度（１５６℃）よりも低温で運転される
ので、溶融物冷却器２１は、追加の加熱ジャケット２６を備えている。この加熱
ジャケット２６に熱媒体２７（例えば、蒸気）を供給することの結果として、噴
射造粒（プリル）プロセスの開始時又は低負荷運転時での生成物側の固化を、確
実に防止できる。
【００２６】 実施例 ＧＣ純度が９９．６９質量％のビスフェノールＡ溶融物を、噴射造粒塔の塔頂
部から連続的に仕込み、本発明の方法を用いてビスフェノールＡプリルにした。
この方法を用いて得られたビスフェノールＡは、全フェノール含有量（フェノー
ル、イソプロペニルフェノール及びｔ−ブチルフェノール含有量）がより低いこ
とで区別することができ、それにより、プリル操作の結果として、仕込んだビス
フェノールＡ溶融物と比較して、フェノール含有量の減少については４０ｐｐｍ
減少して１０ｐｐｍに、イソプロペニルフェノール含有量の減少については２０
ｐｐｍ減少して１０ｐｐｍに、ｔ−ブチルフェノール含有量の減少については６
０ｐｐｍ減少して２０ｐｐｍに減少し得る。プリルは、０．１７ｍ２／ｇのＢＥ
Ｔ表面及び５ハーゼン（Ｈａｚｅｎ）（ＤＩＮ５９４０９）の固有色度（又は色
相）を示した。
【００２７】 本発明の高品質のビスフェノールＡプリルは、優れた保存安定性も示す。この
良好な保存安定性は、５Ｈｚの固有色度を有するビスフェノールＡプリルを太陽
光下で一ヶ月間室温にて保管してもなお５Ｈｚの固有色度を有することから示さ
れる。これに対し、比較のためにフェノール含有量のより高いビスフェノールＡ
溶融物（フェノール含有量５０ｐｐｍ、イソプロペニルフェノール含有量３０ｐ
ｐｍ及びｔ−ブチルフェノール含有量８０ｐｐｍ）について同様の処理をすると
１５ＨｚのＨｚ色指数を示した。
【００２８】 大きなＢＥＴ表面を有し、ダスト含有量が低く、保存安定性が高く、透明であ
るビスフェノールＡプリル長所は、特に、ビスフェノールＡを更に処理してポリ
カーボネートにする工程で示される。ナトリウムビスフェノールＡの１５％水溶
液を１．０２２ｔ製造するために、６．５％のＮａＯＨ水溶液８６７．５ｋｇに
１５４．５ｋｇのビスフェノールＡプリルを不活性な条件下攪拌しながら１４分
間で溶解させる（全ての工程は、窒素で不活性にした）。その後、この溶液のＨ
ｚ色指数は、０．９Ｈｚになる。そのＮａＢＰＡ溶液は、その後、直ちに、それ
自体既知である、界面相プロセス（interface process）に従って、ポリカーボ
ネートの製造に使用される。１２００の相対溶液粘度を有するように形成された
ポリカーボネートのＹＩ（yellowness index：黄色指数）は、１．４８になる。
そのような良好な品質のポリカーボネートは、特に、それを用いて製造される高
品質の成形物を与える。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、ビスフェノールＡプリルを製造する本発明の方法の概略
図である。
【図２】 図２は、噴射造粒塔の底部の断面図である。
【図３】 図３は、噴射造粒塔の底部の水平方向の断面の概略図である。
【図４】 図４は、溶融物のノズルからの噴射に使用されるノズル・プレー
トの断面図である。
【図５】 噴射造粒塔の塔頂部の冷却ガス排気パイプ及び溶融物仕込み口の
配置の概略図である。
【図６】 図６は、仕込まれるべきビスフェノールＡプリルの温度を制御す
る溶融物冷却器の断面の概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ライナー・ノイマン ドイツ連邦共和国デー−47803クレーフェ ルト、クリートブルッフシュトラーセ92番 (72)発明者 シュテフェン・キューリング ドイツ連邦共和国デー−40670メーアブッ シュ、ゴッヒャー・ヴェーク５番 (72)発明者 フリーダー・ヘイデンライヒ ドイツ連邦共和国デー−40593デュッセル ドルフ、ハイドンシュトラーセ20番 (72)発明者 トニー・ファン・オセラー ドイツ連邦共和国デー−47800クレーフェ ルト、ゼバスティアンシュトラーセ14番 (72)発明者 ライナー・ベリングハウゼン ドイツ連邦共和国デー−51519オデンタル、 フォルストシュトラーセ21番 (72)発明者 ハイコ・ヘロルト ドイツ連邦共和国デー−41470ノイス、フ ォイヤードルンヴェーク３番 Ｆターム(参考） 4D019 AA03 BA02 BB02 BC12 CB04 4D064 AA23 AA40 BM40 4G004 CA02 4H006 AA02 AB46 AD15 BC51 BC52 BD10 BD30 BD53 BD82 BD84

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 溶融したビスフェノールＡを、複数のノズルを有するノズル
    ・プレートを介して噴射造粒塔の塔頂部から、循環誘導される冷却ガスが向流で
    導入される噴射造粒塔に仕込み、ほぼ室温に冷却されたビスフェノールＡプリル
    を、噴射造粒塔の底部で集めて、取り出すビスフェノールＡプリルの製造方法で
    あって、ビスフェノールＡ溶融物の仕込み及び冷却ガスの導入を、噴射造粒塔の
    横断面で均一に分配されるように実施することを特徴とするビスフェノールＡプ
    リルの製造方法。
  2. 【請求項２】 仕込み口でのビスフェノールＡ溶融物の温度を１６０℃〜１
    ７０℃にすることを特徴とする請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 仕込み口でのビスフェノールＡ溶融物の温度を１６５℃にす
    ることを特徴とする請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 溶融物の精製を、噴射造粒塔にビスフェノールＡ溶融物を仕
    込む直前に溶融物フィルターで行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに
    記載の方法。
  5. 【請求項５】 ノズル・プレートを、０．０５〜１バールの範囲のわずかな
    過圧下で運転することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
  6. 【請求項６】 過圧が０．１５〜０．３バールであることを特徴とする請求
    項５記載の方法。
  7. 【請求項７】 冷却ガスは、実質的に指向性の捩れのない流路で、噴射造粒
    塔の高さ全体に渡って導入されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
    載の方法。
  8. 【請求項８】 噴射造粒塔の上部の冷却ガスは、噴射造粒塔の断面に均一に
    分配される数本の排気パイプから排気されることを特徴とする請求項１〜７のい
    ずれかに記載の方法。
  9. 【請求項９】 排気パイプは、付随的な加熱に付されることを特徴とする請
    求項８記載の方法。
  10. 【請求項１０】 循環誘導される冷却ガスは、機械的に濾過されることを特
    徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の方法。
  11. 【請求項１１】 循環誘導される冷却ガスは、連続的に冷却されることを特
    徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の方法。
  12. 【請求項１２】 冷却ガスの冷却は、第二の冷却循環を有する洗浄塔で行わ
    れることを特徴とする請求項１１記載の方法。
  13. 【請求項１３】 循環誘導される冷却ガスの冷却は、溶存酸素のない脱イオ
    ン水を用いて行われる請求項１２記載の方法。
  14. 【請求項１４】 噴射造粒塔、ビスフェノールＡ溶融物のフィード、ファン
    と冷却器を有する冷却ガス循環、ビスフェノールＡプリルのドレーンを用いて、
    請求項１〜１３のいずれかに記載の方法を実施することによりビスフェノールＡ
    プリルを製造する製造装置であって、噴射造粒塔（１）に水平に導入され、断面
    が先細りになっている環状のラインが、冷却ガスを均一に供給するために設けら
    れていること、冷却ガスの流れを２つの部分流に分けるためのバッフル・プレー
    ト（１４）が、半径方向にフランジで取り付けられた冷却ガス・チャンネル・イ
    ンプットに設けられていること、複数のハニカム状の整流器要素（１７）が設け
    られて噴射造粒塔（１）の周縁部に均一に配置されていることを特徴とする製造
    装置。
  15. 【請求項１５】 ビスフェノールＡ溶融物の仕込み口の上流で、溶融物フィ
    ルターが使用されることを特徴とする請求項１４記載の装置。
  16. 【請求項１６】 ８０μｍよりメッシュ寸法が小さい金属クロスのふるいが
    溶融物フィルターとして設けられていることを特徴とする請求項１５記載の装置
    。
  17. 【請求項１７】 ビスフェノールＡ溶融物の温度制御のために、溶融物冷却
    器（２１）が設けられていることを特徴とする請求項１４〜１６記載の装置。
  18. 【請求項１８】 多管式冷却器が、溶融物冷却器（２１）として設けられて
    いることを特徴とする請求項１７記載の装置。
  19. 【請求項１９】 ３チャンバーの多管式冷却器が、多管式冷却器として設け
    られていることを特徴とする請求項１８記載の装置。
  20. 【請求項２０】 ノズル・プレート（２）は、半球形状に膨らんでいること
    を特徴とする請求項１４〜１９のいずれかに記載の装置。
  21. 【請求項２１】 ホールのサークル（１９）上に対称に配置される複数の排
    気パイプ（２０）が、冷却ガスの排気のために噴射造粒塔（１）の塔頂の領域に
    設けられていることを特徴とする請求項１４〜２０のいずれかに記載の装置。
  22. 【請求項２２】 数本の排気パイプ（２０）が噴射造粒塔の外部で対称的に
    一つの排気パイプに組み合わされていることを特徴とする請求項２１記載の装置
    。
  23. 【請求項２３】 噴射造粒塔の出口でのプリル中のダストの割合が、２質量
    ％より小さいことを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の方法に従って
    製造されたビスフェノールＡプリル。
  24. 【請求項２４】 プリルのＢＥＴ表面が、０．１５ｍ２／ｇより大きいこと
    を特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の方法に従って製造されたビスフ
    ェノールＡプリル。
  25. 【請求項２５】 プリルのハーゼン色指数が１０Ｈｚより小さいことを特徴
    とする請求項１〜１３のいずれかに記載の方法に従って製造されたビスフェノー
    ルＡプリル。
  26. 【請求項２６】 粒子の寸法が、０．５〜３ｍｍであることを特徴とする請
    求項１〜１３のいずれかに記載の方法に従って製造されたビスフェノールＡプリ
    ル。
  27. 【請求項２７】 粒子の寸法が、０．８〜２ｍｍであることを特徴とする請
    求項１〜１３のいずれかに記載の方法に従って製造されたビスフェノールＡプリ
    ル。
  28. 【請求項２８】 残留モノフェノール含有量が、プリル操作の工程の間に確
    かに減少していることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の方法を用
    いて製造されたビスフェノールＡプリル。
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