JP2002533786A - 写真材料の処理およびそのための処理システム - Google Patents

写真材料の処理およびそのための処理システム

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JP2002533786A
JP2002533786A JP2000591474A JP2000591474A JP2002533786A JP 2002533786 A JP2002533786 A JP 2002533786A JP 2000591474 A JP2000591474 A JP 2000591474A JP 2000591474 A JP2000591474 A JP 2000591474A JP 2002533786 A JP2002533786 A JP 2002533786A
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stain
washing
tank
wash
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ジェファリー トゥイスト，ピーター
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イーストマン コダック カンパニー
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Abstract

(57)【要約】 現像および漂白−定着に付された、像様露光された写真材料の処理方法は複数の一連の洗浄工程を含んでなり、当該洗浄工程では汚染低減剤が用いられ、最初の洗浄工程の洗液中で当該写真材料を有効量の汚染低減剤と接触させ、当該写真材料を後に続く洗浄工程に付して、当該汚染低減剤を除去する。当該方法は複数の洗浄タンクを用いてもよく、この方法において、現像された材料が逐次的に洗浄され、最初の洗浄タンクの洗液中に汚染低減剤が存在し、当該汚染低減剤が、後に続く１つ以上の洗浄タンクの洗液によって当該写真材料から除去される。これらのタンクの洗液の温度は40〜70℃、好ましくは45〜65℃の範囲内にあるのが好ましい。本発明は、直列に連結された複数の洗浄タンクの中の最初のものと結合している漂白−定着タンクと結合している現像タンクを含んでなり、汚染低減剤のための溜めおよび当該汚染低減剤を最初の洗浄タンクに供給するための手段を備えている、写真材料（例えばフィルムまたは印画紙）の処理のための写真処理システムを含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明の分野 本発明は、写真材料の処理およびそのための処理システムに関する。
【０００２】本発明の背景 印画紙およびフィルムなどの写真材料の処理において、現像された材料に汚染
が現れることが時々見出されている。この汚染は、主に、残留増感色素に起因す
るものである。汚染の危険性は、短いサイクル時間を用いて現像され、現像、漂
白−定着および洗浄の個々の段階の継続時間が相応じて短い迅速処理において、
より大きい。
【０００３】本発明によって解決すべき課題 当該技術分野において汚染低減剤(stain reducing agent)として知られている
特定の化合物は以前から汚染を低減させるために使用されてきたものであり、汚
染低減剤を現像液に添加することが提案されている。しかしながら、例えば約15
秒の短い洗浄時間を用いる場合、現像された材料に汚染が生ずることが見出され
ていた。本発明の発明者は、現像溶液中の汚染低減剤の濃度を上げると、初めは
汚染が減少するけれども、約４週間後には相当増加することを見出した。そのう
え、本発明者は、汚染低減剤が現像溶液にあまり可溶性ではなく、沈殿する傾向
があることも見出した。当該汚染低減剤を漂白−定着溶液に添加して、汚染を低
減させる効果を得ることができるけれども、漂白−定着溶液中の汚染低減剤は現
像液中よりもいっそう沈殿しやすい。汚染低減剤を洗浄水または安定剤補充液に
添加する場合、汚染低減剤は高度に可溶性であり、初めは汚染を防止するけれど
も、全洗浄液に存在するので、写真材料に残留する。
【０００４】 この問題に対する解決策が今ここに発明された。この解決策においては、汚染
低減剤を最初の洗浄液または安定剤のタンクにのみ添加し、後の洗浄液または安
定剤のタンクには添加しない。汚染低減剤は、この溶液中の方が、現像液または
漂白−定着液中よりも可溶性が高く、ゆえに、溶液中の量は汚染を防止するのに
十分である。本発明の好ましい態様においては、これらの洗浄液タンクまたは安
定剤タンクを、汚染低減剤を写真材料から除去するのに十分高い温度で運転され
る。
【０００５】本発明の要約 本発明によれば、現像および漂白−定着に付された、像様露光された写真材料
の処理方法であって、複数の一連の洗浄工程を含んでなり、当該洗浄工程では汚
染低減剤が用いられ、最初の洗浄工程の洗液中で当該写真材料を有効量の汚染低
減剤と接触させ、当該写真材料を後に続く洗浄工程に付して、当該汚染低減剤を
除去する方法が提供される。
【０００６】本発明の好都合な効果 本発明の利点は汚染が低レベルに保たれることである。
【０００７】本発明の詳細な説明 汚染低減剤が無い洗液とは、写真材料によって前のタンクから持ち越されるも
のを除けば、汚染低減剤がまったく存在しないことを意味する。
【０００８】 洗液という用語は安定化液を含むものと解される。本発明は短いサイクル時間
および相応して短い個々の工程を使用する迅速処理に特に適用可能である。
【０００９】 本発明は、ミニラボとして知られるようになった小型写真処理機における使用
に好適である。これらは通常は全部で４つの洗浄タンクまたは安定剤タンクを有
する。このような処理機を用いる場合、汚染低減剤は普通は最初のタンクの洗液
にのみ添加され、後のタンクの洗液には持ち越しによる混入を除き汚染低減剤が
無いであろう。汚染低減剤は、増感色素を除去し、現像された写真材料に残留し
ないように水洗によって除去可能であるものから選ばれるであろう。好適な薬剤
には、ジアミノスチルベン構造を含有するものが含まれる。好適な汚染低減剤は
米国特許第 5,395,742号明細書において開示されている。
【００１０】 上記洗液における汚染低減剤の好適な濃度は約12ｇ／Ｌ以下、好ましくは約１
〜約９ｇ／Ｌである。
【００１１】 好適な汚染低減剤は、Phorwite REU、Tinopal SFP およびUvitex MST 300とい
う商品名で販売されているものである。Phorwiteが好ましい。
【００１２】 Phorwiteは下記化学式を有する。
【００１３】
【化１】
【００１４】 本発明のもう１つの態様によれば、写真材料（例えばフィルムまたは印画紙）
の処理のための写真処理システムは、直列に連結された複数の洗浄タンク（６、
８、１０および１２）の中の最初のものと結合している漂白−定着タンク（４）
と結合している現像タンク（２）を含んでなり、汚染低減剤のための溜め（１４
）および当該汚染低減剤を最初の洗浄タンク（６）に供給するための手段（１６
）を備えている。
【００１５】 写真処理機は、当該技術分野においてミニラボとして知られるようになった小
型写真処理機であってもよい。この場合、汚染低減剤は、最初の洗浄タンクの洗
液には存在するけれども、後の洗浄タンク（通常は合計で４つの洗浄タンクがあ
るので、通常は３個である）の洗液は持ち越しを除けば、汚染低減剤をまったく
含有していない。
【００１６】 図２を参照すると、ミニラボは参照数字１によって一般的に示されている。矢
印によって示されているように左から右の方向に動く写真印画紙がタンク２の現
像液を通過する。タンク２は、矢印および文字Ｒによって示されているように補
充される。次に、印画紙はタンク４の漂白−定着液を通過する。タンク４もまた
矢印およびＲによって示されているように補充される。
【００１７】 タンク２および４における液面はオーバーフロー（示されていない）によって
一定に維持されている。
【００１８】 次に、上記印画紙は洗浄タンク６（４つの洗浄タンク６、８、１０および１２
の中の最初のもの）の洗液を通る。
【００１９】 汚染低減剤をタンク６の洗液に添加し、濃度を２〜12ｇ／Ｌの範囲にある所望
のレベルに維持するように補充する。タンク６の液面は、文字Ｒによって示され
ている補充およびオーバーフロー（示されていない）によって一定に維持されて
いる。タンク１２の洗液は、文字Ｒによって示されているように、汚染低減剤が
無い水または安定剤を補充され、その面はタンク１０へのオーバーフローによっ
て一定に維持され、タンク１０は順番にタンク８にオーバーフローし、タンク８
はタンク６にオーバーフローするる。従って、写真印画紙の方向は洗浄タンクの
液体の流れとは逆流である。タンク６を通過した結果、印画紙上の汚染低減剤は
後の洗浄タンク８、１０および１２において除去される。
【００２０】 本発明を以下の例によって説明する。
【００２１】例１ この例において、表Ｉに示す短い処理サイクルを、最初の洗浄タンクが比較と
しての水または Phorwite REU のいずれかを含有しているシンクライン(sinklin
e)で運転した。
【００２２】 表Ｉ ─────────────────── 短い処理サイクル 温度 ─────────────────── 現像 15秒 40℃ 漂白−定着 15秒 40℃ 最初の洗浄 ５〜20秒 37℃ 主たる洗浄 15秒 37℃ ───────────────────
【００２３】 上記において、現像液は Kodak（商標）Ektacolor SM（商標）現像液、漂白−
定着液は Kodak Ektacolor SM 漂白−定着液（pH 6.3）である。使用した印画紙
は Ektacolor Edge 7 である。最初の洗浄段階は２ｇ／Ｌおよび８ｇ／Ｌの水（
対照標準）および Phorwite REU の溶液を含んでいた。 Phorwite REU は蛍光増
白剤である。基準処理サイクルを表IIに示す。
【００２４】 表II ──────────────────── 長い処理サイクル 温度 ──────────────────── 現像 45秒 37.8℃ 漂白−定着 45秒 37.8℃ 洗浄 90秒 35℃ ────────────────────
【００２５】 上記において、現像液は Kodak（商標）RA-12 現像液、漂白−定着液は Kodak
RA-12漂白−定着液である。この方法により、Ektacolor （商標） Edge 7 印画
紙についてのCIELAB汚染測定値のための基準値を得たので、これらを表III に示
す。これらは、短い処理サイクルについて、目標とすべき値である。
【００２６】 上記結果を、本明細書に報告されているすべての場合において光源にＵＶフィ
ルターを有する特殊ア濃度計で測定されたCIELAB汚染測定値Ｌ、ａ* およびｂ* で表して表III に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】 表III のデータから、最初の洗浄タンクに Phorwite REU が存在することによ
り、Ｌおよびａ* はあまり影響されず、目的とする基準値に向かって小さな改良
しか示さないことを理解することができる。ｂ* における改良は、はるかに大き
い。より高レベルの Phorwite については、90秒の洗浄時間と比較して35秒とい
うはるかに短い洗浄時間でも、ｂ* が基準値よりも良好である。
【００２９】 紫外線ランプ（ 366nm）の下に置いて上記印画紙ストリップを観察すると、最
初の洗浄タンクに Phorwite REU があり、続いて15秒間の洗浄を施したストリッ
プについては少量の蛍光が認められた。最後の15秒間の洗浄を省いたストリップ
では強い蛍光が認められた。このことは、最後の15秒間の洗浄で、すべてではな
いけれども幾らかの Phorwite REU が除去されることを示している。
【００３０】 すべての残留 Phorwite を除去するために、最後の洗浄をより長く60秒間とし
て別の実験を行った。データを表IVに示す。
【００３１】
【表２】
【００３２】 表IVから、たとえ最後の洗浄を長くしても、最初の洗浄タンクに Phorwite RE
U が存在することにより、同じタンクに Phorwite が無い場合と比較して、汚染
状況が改善されることを理解することができる。さらに、最終的な汚染は70秒以
上の全洗浄時間で基準よりも良好であり、たとえ65秒でさえ基準値に非常に近い
。
【００３３】 366nmの紫外線ランプ下での上記ストリップの検査では、非常に僅かな蛍光し
か無く、当該印画紙には Phorwite が殆どまったく無いことを示している。
【００３４】 従って、最初の洗浄タンクには Phorwite REU を含ませるけれども、後に続く
洗浄タンクには含ませないという原則を使用することによって、洗浄時間を短縮
し、かつ基準と同じかまたは基準よりも良好な汚染状況を得ることが可能である
。また、この方法によって、基準処理よりも短い洗浄時間で、コーティング中に Phorwite REU が残留するのを防ぐことも可能である。
【００３５】 この例は、より短い洗浄時間で、残留 Phorwite がまったく無く、基準と同等
または基準よりも良好な初期汚染レベルが可能であるという点で、本発明の第１
の利点を明らかにしている。
【００３６】例２ （この例は、より高い洗浄温度の利点を明らかにする） この例においては、比較的不良な洗浄条件を故意に使用して、カラー印画紙に
おける汚染レベルに対する洗浄水温度の影響を調査した。使用した処理サイクル
を表Ｖに示す。
【００３７】 表Ｖ ───────────────────── 短い処理サイクル 温度 ───────────────────── 現像 15秒 40℃ 漂白−定着 15秒 40℃ 洗浄 30秒 21〜55℃ ─────────────────────
【００３８】 上記において、現像液は Kodak Ektacolor SM 現像液、漂白−定着液は Kodak
Ektacolor SM 漂白−定着液（pH 5.2）である。漂白−定着液のｐＨが例１にお
いて使用したよりも低く、30秒間の洗浄を伴うこの条件は、基準値よりも悪い汚
染状況となる。使用した印画紙は Ektacolor Edge 7 である。
【００３９】 図１から、１つ以上のユニットの温度を22℃から55℃に上げることによって、
ｂ* が平均値になることを理解することができる。これは汚染レベルのかなりの
改良である。次の例においては、洗浄温度を上げると共に、最初の洗浄タンクに
おける Phorwite REU と組み合わせて、印画紙における残留 Phorwite を減少さ
せる。
【００４０】例３ （本発明による） この例においては、 Phorwite REU が最初の洗浄タンクに存在し、表VI中の処
理サイクルに示されている２種の異なる温度で主たる洗浄を試験した。
【００４１】 表VI ─────────────────────── 短い処理サイクル 温度 ─────────────────────── 現像 15秒 40℃ 漂白−定着 15秒 40℃ 最初の洗浄 ５〜20秒 40℃ 主たる洗浄 15秒 37および56℃ ───────────────────────
【００４２】 結果を表VII に示す。
【００４３】
【表３】
【００４４】 表VII のデータにより、最後の洗浄温度が高い方が、Ｌ、ａ* およびｂ* の値
が基準値に近いことが示されている。さらに、 366nmの紫外線ランプの下でこれ
らのストリップを見ることによって、特に洗浄時間が短い場合の低温洗浄では幾
らかの蛍光があったけれども、高い方の洗浄温度では、いずれの洗浄時間でも蛍
光は殆どまったく無かったことが明らかとなった。これらのデータは、洗浄温度
が高いほど、汚染を低減し、さらに、 Phorwite REU が印画紙に残留するのを防
ぐことを示している。
【００４５】 Ｌ、ａ* およびｂ* の値は基準値に非常に近く、従って、 Phorwite REU が最
初の洗浄タンクにのみ存在し、後に続く主たる洗浄には Phorwite REU が含まれ
ておらず、より高温で運転される、本発明に記載されている方法により、非常に
短い洗浄時間でさえ低い汚染レベルとすることができる。
【００４６】 この例は、例１において既に示されている洗浄時間よりも短い洗浄時間でさえ
、基準と同じ良好な汚染レベルとすることがが可能であることを明らかにしてい
る。
【００４７】例４ （本発明による） 短い洗浄時間で処理された紙のストリップを室温でしばらくいっしょに重ねて
放置しておくと、入射光が概ねまったく無い状態で、汚染レベルが高くなること
がある。このことはｂ* 値において特に顕著であり、黄色の汚染の増大に相当す
る。（この報告に記載されている方法によって処理された）いくつかのストリッ
プを、室温（22℃）で４週間放置した後に再測定した。いくつかの結果を表VIII
に示す。
【００４８】
【表４】
【００４９】 表VIIIのデータにより、４週間保持後の汚染レベルがすべてのストリップにつ
いて高まったことが示されている。すべての場合において、水の比較用のものに
ついての汚染の方が、Phorwiteの例よりも、大きく増大している。
【００５０】 このことは、最初の洗浄タンクに Phorwite REU が存在する場合には、短い洗
浄時間後に保持した際の汚染の増大がより少ない点で、本発明の第３の利点を示
している。しかしながら、本発明の方法を用いて、保持時の汚染の増大をさらに
低減するのが望ましく、次の例にこのことを示す。
【００５１】例５ （本発明による） 表III に記載されている例におけるように最後の洗浄を延長すると、その方法
に関わりなく、保持時の一般的な汚染の増大を低下させることができる。データ
を表IXに示す。
【００５２】
【表５】
【００５３】 表IXのデータにより、例１において示されている洗浄時間と比較して、より長
い洗浄時間でさえも、Phorwiteが最初の洗浄タンクにあることの利点がなお明ら
かにされていることが意外にも示されている。保持時の汚染の増大はPhorwiteの
例ではより小さく、より長い時間において最小である。従って、これらの洗浄時
間は望まれるよりも長いけれども、これらの洗浄時間は、基準の方法において使
用したものよりもさらに短い。
【００５４】 このことは、 Phorwite REU をまったく残留させず、かつ、保持時の汚染の増
大を最小にして、基準よりも短い洗浄時間を達成することができる点で、本発明
の第４の利点を示している。
【００５５】 しかしながら、上記の例よりもさらになお洗浄時間を短縮するのが望ましい。
次の例において、このことを示す。
【００５６】例６ （本発明による） この例においては、最初の洗浄タンクにおいて Phorwite を使用し、後に続く
洗浄をより高温（56℃）で行った。これらの結果を表Ｘに示す。添え字ｂがある
ストリップ番号は、再測定されたストリップである。添え字ｂは、それらのスト
リップが４週後に再測定されたことを意味する。
【００５７】
【表６】
【００５８】 表Ｘから、最後の洗浄液の温度が高いほど、より良好な初期汚染値となり、ま
た保持後の汚染の増大もより小さいことを理解することができる。全洗浄が30秒
以上の場合の汚染値は基準値に非常に近く、保持時の増大をまったく示さない。 366nmの紫外線ランプ下でのストリップの試験では、たとえ洗浄時間が短くとも
、温度が高ければ蛍光が殆どまったく見られない。このことは、 Phorwite REU
が印画紙に残留していないことを示している。
【００５９】 このことは、初期汚染が少なく、 Phorwite REU をまったく残留させず、かつ
、保持時の汚染の増大を最小にして、非常に短い洗浄時間が可能である点で、本
発明の第５の利点を示している。
【００６０】例１ａ 他の２種の汚染低減剤を Phorwite REU と比較した。これらは、Tinopal SFP
および Uvitex MST 300 である。
【００６１】 これらの汚染低減剤を、水道水に０、２および８ｇ／Ｌで、最初の洗浄液に溶
解させた。印画紙は Ektacolor Edge 7 とした。この印画紙は、 Phorwite REU
を用いた元々の実験に使用したときよりも約６ヶ月古いので、本質的な汚染レベ
ルがより高いと予想された。
【００６２】 表Ia ────────────────── 処理サイクル 温度 ────────────────── 現像 14秒 40℃ 漂白−定着 14秒 40℃ 最初の洗浄 ５、10、15秒 40℃ 最後の洗浄 15秒 36℃ 乾燥 空気中 ──────────────────
【００６３】 上記において、現像液は Ektacolor SM タンク現像液であり、漂白−定着液は
Ektacolor SM タンク漂白−定着液である。漂白−定着液は使用前にｐＨを 6.2
に調整した。
【００６４】 上記結果を、２ｇ／Ｌの汚染低減剤については表IIa に、８ｇ／Ｌの汚染低減
剤については表IIIaに示す。これらの実験において、最初の洗浄は５、10または
15秒とした。最後の洗浄は常に15秒とした。各々の場合において、最初の洗浄液
のための対照標準として水を使用した。
【００６５】 表IIa に示されているデータは、CIELAB汚染測定値（Ｌ、ａ* およびｂ* ）お
よび光源にＵＶフィルターが有る場合並びに無い場合の、赤、緑および青（ＲＧ
Ｂ）Ｄmin 濃度測定値を示している。すべての汚染低減剤は水（対照標準）に勝
る改良を示しているけれども、 Phorwite REU が他の材料よりもｂ* およびＢ
Ｄmin を大きく低下させる点で、一貫したパターン(consistent pattern)が明ら
かである。
【００６６】 表IIIaのデータは、より高レベルの汚染低減剤についての効果がより大きいこ
とを除き、表IIa のデータと類似している。すべての汚染低減剤は水（対照標準
）に勝る改良を示すけれども、 Phorwite REU はＵＶフィルターが有っても無く
ても一貫して他の汚染低減剤よりも低いｂ* 値およびＢ Ｄmin 値を有する。
【００６７】
【表７】
【００６８】
【表８】
【００６９】例２ａ この例においては、汚染低減剤のＤmax に対する効果を試験し、また、それら
のコーティングからの洗い出され易さについても試験した。上記ストリップを標
準的な Ektacolor SM 法によって処理し、乾燥した。次に、それらのＢ Ｄmax （１）を測定し、水または汚染低減剤（２ｇ／Ｌ）の溶液に15秒間浸し、乾燥し
て、Ｂ Ｄmax （２）を測定し、次に、15秒間洗浄し、乾燥して、Ｂ Ｄmax （
３）を測定した。
【００７０】 表IVa 汚染低減剤(2g/L)の青のＤmax に対する影響 ──────────────────────────── 化合物 B Dmax(1) B Dmax(2) B Dmax(3) ──────────────────────────── 水 2.14 2.14 2.14 Tinipal(2g/L) 2.14 1.99 2.03 Uvitex(2g/L) 2.13 2.00 2.05 Phorwite(2g/L) 2.14 2.06 2.11 ────────────────────────────
【００７１】 汚染低減剤による処理後、残留汚染低減剤の蛍光によって起こるＢ Ｄmax の
損失があることを理解することができる。従って、Ｂ Ｄmax の損失を最小化す
るけれども、汚染低減剤によって起こるＢ Ｄmin の改良を最大化するのが望ま
しい。いくつかの汚染低減剤、特に Phorwite REU の場合には、Ｂ Ｄmin の改
良は、（ａ）蛍光によっては部分的にしか起きず、主に（ｂ）残留増感色素の除
去を助けることによって起きる。従って、Ｂ Ｄmin の改良は、本発明の方法に
より、機構（ｂ）によって得られるべきである。上記に示されているデータは、
この通りであると思われる。表IVa では、Ｂ Ｄmax （２）の損失は、他のもの
よりも Phorwite の方が小さい。さらに、15秒間の洗浄後のＢ Ｄmax （３）の
回復は、他のものよりも Phorwite の方が良好である。全体として、 Phorwite
はＢ Ｄmax の損失が0.03だけであるのに対して、他のものは0.08（Uvitex）お
よび0.11（Tinopal ）である。これらのデータを Phorwite がＢ Ｄmin のかな
りの改良を示している表IIa およびIIIaのデータと組み合わせると、本発明が明
らかとなる。 ８ｇ／Ｌの汚染低減剤でも同じ実験を繰り返した。
【００７２】 表Va 汚染低減剤(8g/L)の青のＤmax に対する影響 ──────────────────────────── 化合物 B Dmax(1) B Dmax(2) B Dmax(3) ──────────────────────────── 水 2.13 2.13 2.13 Tinipal(8g/L) 2.14 1.84 1.96 Uvitex(8g/L) 2.13 1.92 2.00 Phorwite(8g/L) 2.14 1.94 2.06 ────────────────────────────
【００７３】 Phorwite はＢ Ｄmax の損失が0.08だけであるのに対して、 Uvitex は0.13
、Tinopal は0.18である。 従って、本発明の方法は、最初の洗浄液に汚染低減剤を含ませ、続いて汚染低
減剤無しで洗浄を完了することによって、青のＤmin 濃度を低減することができ
ることが明らかにされた。さらに、汚染低減剤の残留によって起こる青のＤmax の損失が最小化される。この望ましい結果の組み合わせは、表VIa に示されてい
る青のＤmax の青のＤmin に対する比によって強調することができる。
【００７４】 表VIa Ｂ Ｄmax ／Ｂ Ｄmin の比 ─────────────────────────── 化合物 Dmax/Dmin(2g/L) Dmax/Dmin(8g/L) ─────────────────────────── 水 24.2 24.2 Tinipal(8g/L) 26.7 28.0 Uvitex(8g/L) 26.3 27.3 Phorwite(8g/L) 27.4 30.7 ───────────────────────────
【００７５】 ここでは、水と比較して、上記汚染低減剤のすべてが最初の洗浄液において有
益である（本発明の原理を示している）けれども、 Phorwite REU が他の２種よ
りも良好であることを理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１は、洗浄液温度の上昇の汚染レベルに対する効果を示している。
【図２】 図２は、ミニラボ写真処理システムにおける現像液タンク、漂白−定着タンク
および洗浄タンクの典型的な配置を示している。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 現像および漂白−定着に付された、像様露光された写真材料
    の処理方法であって、 複数の一連の洗浄工程を含んでなり、当該洗浄工程では汚染低減剤が用いられ
    、最初の洗浄工程の洗液中で当該写真材料を有効量の汚染低減剤と接触させ、当
    該写真材料を後に続く洗浄工程に付して、当該汚染低減剤を除去する方法。
  2. 【請求項２】 複数の洗浄タンクを用い、現像された材料が逐次的に洗浄さ
    れ、最初の洗浄タンクの洗液中に汚染低減剤が存在し、当該汚染低減剤が、後に
    続く１つ以上の洗浄タンクの洗液によって当該写真材料から除去される、請求項
    １に記載の方法。
  3. 【請求項３】 上記タンクの洗液の温度が40〜70℃、好ましくは45〜65℃の
    範囲内にある、請求項１または２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 上記方法が、複数の洗浄工程を用い、個々の洗浄工程の継続
    時間が30秒以下である迅速処理である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方
    法。
  5. 【請求項５】 上記汚染低減剤がジアミノスチルベン構造を含有しているも
    のである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
  6. 【請求項６】 汚染低減剤が添加される洗液中の汚染低減剤の濃度が12ｇ／
    Ｌ以下、好ましくは 1.5〜９ｇ／Ｌである、請求項１〜５のいずれか１項に記載
    の方法。
  7. 【請求項７】 直列に連結された複数の洗浄タンクの中の最初のものと結合
    している漂白−定着タンクと結合している現像タンクを含んでなり、汚染低減剤
    のための溜めおよび当該汚染低減剤を最初の洗浄タンクに供給するための手段を
    備えている、写真材料（例えばフィルムまたは印画紙）の処理のための写真処理
    システム。
  8. 【請求項８】 ミニラボの形であり、最初のタンクが上記汚染低減剤を含有
    しており、後に続くタンクが汚染低減剤が無い洗液を含有している、請求項７に
    記載の写真処理システム。
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