JP2002525402A - ジエン重合用触媒成分、それから得られる触媒、および同触媒を用いるポリジエン製造法 - Google Patents

ジエン重合用触媒成分、それから得られる触媒、および同触媒を用いるポリジエン製造法

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JP2002525402A JP2000572270A JP2000572270A JP2002525402A JP 2002525402 A JP2002525402 A JP 2002525402A JP 2000572270 A JP2000572270 A JP 2000572270A JP 2000572270 A JP2000572270 A JP 2000572270A JP 2002525402 A JP2002525402 A JP 2002525402A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、0.02cm3/gより高い多孔度(水銀)を有するポリマー上に支持された、Co、Niおよび希土類元素からなる群から選択された金属の化合物からなる触媒成分に関する。上記触媒成分を使用することにより、気相中で高収率でジエン性ポリマーを製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 この発明は、非溶液方法における使用に特に適した、ポリジエン製造用触媒成
分に関する。
【0002】 ポリジエンポリマーは、当該分野において広く知られている。特に、ブタジエ
ンベースのエラストマーは、シス−1,4単位を高含量で有し、タイヤや他のエ
ラストマー製品の製造に広く使用されている。
【0003】 通常、これらの製品は、チタン、コバルト、ニッケルまたは希土類元素をベー
スにしたZ/N触媒を用いた溶液重合によって得られる。溶液方法は、興味ある
製品、特に高含量のシス−1,4−単位を有するものの製造を可能にするが、固
形製品を得るために大量の溶媒を除去する必要があるから、経済的ではない。さ
らに、その方法の生産性は非常に高いレベルに達することはできない、というの
はポリマー濃度が上昇すると、重合媒体の粘度が高くなりすぎ、攪拌が不可能と
なるからである。
【0004】 従って、より経済的で、環境への影響も低い、気相方法のような方法が、ジエ
ン性ポリマーの製造用に望まれていた。
【0005】 実行可能な気相方法を得るために、使用する触媒系は、高収率で良好な(でき
れば球形)形態学を有するポリマーを生じることができなければならない。欧州
特許出願第EP−A−647657号には、ある特徴的な表面積および多孔度を
有する特定の無機固体上に支持された希土類元素化合物からなる触媒成分を用い
た共役ジエン重合用の気相方法が開示されている。この特許出願に従うと、上記
触媒成分は、固形無機支持体が存在しない触媒成分のものより高い活性を有する
。しかし、気相方法を経済的に行うためには、依然としてより高い活性が必要で
ある。
【0006】 第WO96/04322号には、ジエンモノマー(類)が液状となるような条
件下で、不活性な粒状物質の存在下に行われるポリジエンの製造用気相方法が開
示されている。該出願に従うと、上記方法は収率を向上させ、ポリマー付着物を
減らせることが可能である。該方法で用いた触媒系は、多孔性無機支持体上に支
持されたNi、CoまたはTiの金属成分からなり、一方カーボンブラックは反
応器内の不活性粒状物質として使用される。
【0007】 上記を考慮すると、容易な操作性、高い生産性および付着物の減少を特徴とす
るポリジエン製造用の気相方法が望ましい。この関係で、用語「容易な操作性」
は、反応器中モノマー以外の物質、触媒系および流動化ガスの使用を避け、かつ
限定的な重合条件の使用を避けることを含む。
【0008】 驚いたことに、我々は、特定成分と助触媒からなる触媒系の使用により、この
種の方法を行うことが可能であることを見出した。
【0009】 従って、本発明の目的は、以下に特定する水銀法により測定された、100,
000Åまでの半径を有する孔による0.02cm3/gより大きい多孔度を有
するポリマー上に支持され、Co、Niおよび希土類元素から選択される金属化
合物からなる、ジエン重合用触媒成分である。
【0010】 ニッケル化合物は、20までの炭素原子を含有する単座または二座の有機リガ
ンドを有するニッケルの有機化合物から選択されてもよい。これらの有機ニッケ
ル化合物は、通常不活性溶媒に溶解性である。有機ニッケル化合物の代表は、安
息香酸ニッケル、酢酸ニッケル、ナフテン酸ニッケル、オクタン酸ニッケル、ド
デカン酸ニッケル、2−エチルヘキサン酸ニッケル、ビス(π−アリルニッケル
)、ビス(π−シクロオクタ−1,5−ジエン)、ビス(π−アリルニッケルト
リフルオロ酢酸塩)、ビス(α−フリルジオキシム)ニッケル、パルミチン酸ニ
ッケル、ステアリン酸ニッケル、ニッケルアセチルアセトネート、ニッケルサリ
チアルデヒド、ビス(サリチルアルデヒド)エチレンジイミンニッケル、ビス(
シクロペンタジエン)ニッケル、シクロペンタジエニルニッケルニトロシルおよ
びニッケルテトラカルボニルである。好ましいニッケル化合物は、カルボン酸の
ニッケル塩またはニッケル有機錯体から選択される。
【0011】 コバルト化合物は、有機酸のコバルト塩、コバルト錯体のような、いずれの有
機化合物であってもよい。コバルト化合物は、コバルトβ−ケトン錯体(例えば
、コバルト(II)アセチルアセトネートおよびコバルト(III)アセチルアセト
ネート);コバルトβ−ケト酸エステル錯体(例えば、コバルトアセチルアセト
ネートエチルエステル錯体);6以上の炭素原子を有する有機カルボン酸のコバ
ルト塩(例えばオクタン酸コバルト、ナフテン酸コバルトおよび安息香酸コバル
ト);およびコバルトハライド錯体(例えば、コバルトクロライド−ピリジン錯
体);コバルトクロライド−エチルアルコール錯体およびブタジエンと配位した
コバルト錯体(例えば、(1,3−ブタジエン)[1−(2−メチル−3−ブテ
ニル)−π−アリル]−コバルト)(例えば、コバルト化合物を有機アルミニウ
ム化合物、有機リチウム化合物またはアルキルマグネシウム化合物および1,3
−ブタジエンと混合することにより製造することができる)からなる群から選択
されるのが好ましい。他の代表的なコバルト化合物としては、コバルトソルベー
ト(sorbate)、アジピン酸コバルト、2−エチルヘキサン酸コバルト、ステア
リン酸コバルト、および分子の有機部分が約5〜20、好ましくは8〜18の炭
素原子と1または2のカルボン酸官能基を含む(アセチルアセトネートも含む)
同様な化合物である。
【0012】 希土類金属化合物は、以下: − 式(RO)3M (I)のアルコラート; − 式(RCO23M (II)のカルボン酸塩; − 以下の式:(R−CO−CH−CO−R)3M (III)および ML3・y供与体に相当する、ジケトンを有する希土類の錯体化合物および
/または酸素もしくは窒素供与化合物との希土類のハロゲン化物の付加化合物、
からなる群から選択されてもよい。
【0013】 上記の式中、Mは原子番号57〜71の希土類の三価の元素であり;R基は同
一または異なっていてもよく、1〜20炭素原子を含有する炭化水素基を意味し
;Lは塩素、臭素またはヨウ素であり;yは1〜6である。
【0014】 好ましい化合物は、Mがランタン、セリウム、プラセオジム、ガドリニウムも
しくはネオジム、または少なくとも10重量%の少なくとも1つの元素ランタン
、セリウム、プラセオジム、ガドリニウムもしくはネオジムを含む希土類元素の
混合物のものである。Mがランタンもしくはネオジム、または少なくとも30重
量%のランタンもしくはネオジムを含む希土類の混合物である化合物が最も好ま
しい。
【0015】 式(I)〜(IV)中の置換基Rは、詳細には、1〜15の炭素原子、好ましく
はメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、イソプロピル、
イソブチル、tert−ブチル、2−エチルヘキシル、ネオペンチル、ネオオクチル
、ネオデシル、ネオドデシルのような1〜10の炭素原子を含有する直鎖状また
は分岐状アルキル基である。
【0016】 式(I)のアルコラートの例としては、ネオジム(III)n−プロパノラート、
ネオジム(III)n−ブタノラート、ネオジム(III)n−デカノラート、ネオジム
(III)イソプロパノラート、ネオジム(III)2−エチルヘキサノラート、プラ
セオジム(III)n−プロパノラート、プラセオジム(III)n−ブタノラート、プ
ラセオジム(III)n−デカノラート、プラセオジム(III)イソプロパノラート
、プラセオジム(III)2−エチルヘキサノラート、ランタン(III)n−プロパノ
ラート、ランタン(III)n−ブタノラート、ランタン(III)n−デカノラート、
ランタン(III)イソプロパノラート、ランタン(III)2−エチルヘキサノラー
トが挙げられる。好ましい化合物としては、ネオジム(III)n−ブタノラート、
ネオジム(III)n−デカノラートおよびネオジム(III)2−エチルヘキサノラー
トが挙げられる。
【0017】 式(II)の適当なカルボン酸塩には、プロピオン酸ランタン(III)、ジエチ
ル酢酸ランタン(III)、2−エチルヘキサン酸ランタン(III)、ステアリン酸
ランタン(III)、安息香酸ランタン(III)、シクロヘキサンカルボン酸ランタ
ン(III)、オレイン酸ランタン(III)、ベルサ酸(versatate)ランタン(III
)、ナフテン酸ランタン(III)、プロピオン酸プラセオジム(III)、ジエチル
酢酸プラセオジム(III)、2−エチルヘキサン酸プラセオジム(III)、ステア
リン酸プラセオジム(III)、安息香酸プラセオジム(III)、シクロヘキサンカ
ルボン酸プラセオジム(III)、オレイン酸プラセオジム(III)、ベルサ酸プラ
セオジム(III)、ナフテン酸プラセオジム(III)、プロピオン酸ネオジム(II
I)、ジエチル酢酸ネオジム(III)、2−エチルヘキサン酸ネオジム(III)、ス
テアリン酸ネオジム(III)、安息香酸ネオジム(III)、シクロヘキサンカルボ
ン酸ネオジム(III)、オレイン酸ネオジム(III)、ベルサ酸ネオジム(III)
、ナフテン酸ネオジム(III)が挙げられる。好ましい化合物は、2−エチルヘキ
サン酸ネオジム(III)、ベルサ酸ネオジム(III)、およびナフテン酸ネオジム
(III)が挙げられる。ベルサ酸ネオジム(III)が特に好ましい。
【0018】 式(III)の適当な錯体化合物としては、ランタン(III)アセチルアセトネー
ト、プラセオジム(III)アセチルアセトネート、ネオジム(III)アセチルアセ
トネートであり、ネオジム(III)アセチルアセトネートが好ましい。
【0019】 式(IV)の付加化合物の例としては、例えば、トリ−ブチルホスフェートを有
する塩化ランタン(III)、テトラヒドロフランを有する塩化ランタン(III)、
イソプロパノールを有する塩化ランタン(III)、ピリジンを有する塩化ランタ
ン(III)、2−エチルヘキサノールを有する塩化ランタン(III)、エタノール
を有する塩化ランタン(III)、 トリブチルホスフェートを有する塩化プラセオジム(III)、テトラヒドロフラ
ンを有する塩化プラセオジム(III)、イソプロパノールを有する塩化プラセオ
ジム(III)、ピリジンを有する塩化プラセオジム(III)、2−エチルヘキサノ
ールを有する塩化プラセオジム(III)、エタノールを有する塩化プラセオジム
(III)、 トリブチルホスフェートを有する塩化ネオジム(III)、テトラヒドロフランを
有する塩化ネオジム(III)、イソプロパノールを有する塩化ネオジム(III)、
ピリジンを有する塩化ネオジム(III)、2−エチルヘキサノールを有する塩化
ネオジム(III)、エタノールを有する塩化ネオジム(III)、 トリ−ブチルホスフェートを有する臭化ランタン(III)、テトラヒドロフラン
を有する臭化ランタン(III)、イソプロパノールを有する臭化ランタン(III)
、ピリジンを有する臭化ランタン(III)、2−エチルヘキサノールを有する臭
化ランタン(III)、エタノールを有する臭化ランタン(III)、 トリブチルホスフェートを有する臭化プラセオジム(III)、テトラヒドロフラ
ンを有する臭化プラセオジム(III)、イソプロパノールを有する臭化プラセオ
ジム(III)、ピリジンを有する臭化プラセオジム(III)、2−エチルヘキサノ
ールを有する臭化プラセオジム(III)、エタノールを有する臭化プラセオジム
(III)、 トリブチルホスフェートを有する臭化ネオジム(III)、テトラヒドロフランを
有する臭化ネオジム(III)、イソプロパノールを有する臭化ネオジム(III)、
ピリジンを有する臭化ネオジム(III)、2−エチルヘキサノールを有する臭化
ネオジム(III)、エタノールを有する臭化ネオジム(III)が挙げられる。希土
類の化合物は、個々に、または互いと共に混合物として用いられてもよい。
【0020】 ジエンの重合用触媒の調製に使用可能な化合物の別の群は、ランタニド−アリ
ル錯体のものである。これらの化合物は、一般式(V):
【0021】
【化4】
【0022】 [式中、R1基は互いに同一または異なっており、水素またはC1〜C10炭化
水素基、特にアルキルであり;nは1または2であり;Xはハロゲン化物、カル
ボン酸塩およびアルコラートから選択され;Mは上記の意味を有する] に属する。
【0023】 MがNdである錯体が好ましく、それらのうち、以下の式(VI):
【0024】
【化5】
【0025】 [式中、基R1およびnは上記と同じ意味を有し、XはClまたはBrであり、
mは0〜2の整数であり;pは0〜4の整数であり、Aは元素周期表のI〜IV
族の一つに属する金属の塩であり、EDは電子供与化合物である]のものが、特
に好ましい。
【0026】 上記式(V)の錯体は他の分子と錯体を形成することが見出されたという事実
は、おそらく、金属−アリル化合物およびNdハロゲン化物を出発物質として、
ならびにある電子供与化合物を反応媒体として使用することをしばしば含む、そ
の製造法の重大点であろう。上記式(VI)中、好ましい電子供与化合物としては
、エーテルおよびアミンであり、好ましい金属塩としてはMgCl2およびMg
Br2である。電子供与体がエーテルであるとき、そのエーテルはジエチルエー
テル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン(THF)およびジオキサンから
なる群から選択されるのが好ましい。
【0027】 使用できるアリル錯体の例としては、Nd(アリル)2Cl・1.5THFおよ
びNd(アリル)Cl2・2THF[その製造は、Journal of Organometallics C
hem. (1998) 552. 195〜204頁中に記載されている]ならびに式Nd(アリル)2 Cl・2MgCl2・4THF(Macromol. Symp. (1998) 128, 53〜61頁中に記載
されている)およびNd(アリル)2Cl・MgCl2・nTHF(式中、nは1〜
4である)の錯体である。該錯体は、その中にMgCl2も存在しているが、通
常エーテル溶媒中で、Mg−アリルのハロゲン化物とのNdトリハロゲン化物の
反応により得ることができる。Ndトリハロゲン化物がNdCl3であり、エー
テル溶媒がテトラヒドロフランであり、Mg−アリルのハロゲン化物がMg−塩
化アリルであるのが好ましい。
【0028】 多孔質ポリマーが、ポリオレフィン(コ)ポリマーからなる群から選択される
のが好ましい。それは、ポリエチレン;プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン
、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、シクロペンテン、シクロヘキセン
、スチレンから選択される20モル%より少ない割合のオレフィンとのエチレン
のコポリマー;80%より高いアイソタクチック指数を有するポリプロピレン;
少量(5モル%以下)のエチレンおよび/または1−ブテン、1−ヘキセンのよ
うなα−オレフィンとのプロピレンの結晶性コポリマーから作られるのが好まし
い。
【0029】 該多孔質ポリオレフィンポリマーは、有機−Al化合物と、MgCl2上に支
持された、Ti、ZrまたはVのハロゲン化物からなる固形触媒成分との間の反
応生成物からなる触媒の存在下に行って、モノマーの重合により製造することが
できる。該固形成分は、多孔度および表面積に関して、請求された多孔度範囲を
有するポリマーを製造するのに適当な性質を有している。該触媒成分が球形を有
し、5〜200ミクロンの粒子径を有し、200m2/gまでの表面積(BET
)と、約0.5cm3/gより高い、好ましくは0.6cm3/gより高い、半径
10,000Åまでの孔による多孔度(水銀法)を有しているのが好ましい。こ
の種類の固形成分からなる触媒系の例は、例えば欧州特許出願第EP−A−39
5083号、欧州特許出願第EP−A−395085号、第EP−A−5538
06号および第EP−A−601525号に開示してある。該多孔質ポリマーは
、また、予備重合された形態、すなわち先に記載した触媒を用いて低変換重合に
より得られるポリマーとして、であってもよい。プレポリマーは通常固形触媒成
分のg当たり0.5g〜2000g/gの範囲の量で製造される。しかし、好まし
くは、その量は、固形成分g当たり5〜500gであり、固形成分g当たり10
〜100gの固形成分がより好ましい、
【0030】 いずれの場合においても、多孔度(水銀法により測定)が以下の水銀法により
測定されて0.02cm3/gより高いことが必須であり、好ましくは0.04
〜1.4cm3/gの範囲であり、0.04〜1.2cm3/gの範囲がより好ま
しい。特に、多孔質プレポリマーが使用されるとき、多孔度は0.3〜1.2c
3/gであることが好ましく、多孔質ポリマーが使用されるとき、多孔度は0
.04〜0.3が好ましい。本発明で用いる多孔質ポリマーは、気孔率として表
される、10%より高い、好ましくは15%より高い多孔度にもさらに特徴があ
る。加えて、多孔質ポリマーは上記触媒成分を用いることにより例えば得られう
る球形を有するのが好ましい。
【0031】 金属化合物は、いくつかの方法を用いて該多孔質ポリマー上に支持されてもよ
い。以下および以上で用いた用語「支持された金属化合物」は、80℃で2時間
でヘプタンで50%より高い程度まで抽出可能ではない金属化合物を意味する。
【0032】 ある方法は、次いで除去される液体媒体の存在下における支持体と金属化合物
の接触からなる。そのようにして得られた触媒成分は、次いで最終的な活性触媒
を形成するために適当な助触媒と反応させる。
【0033】 代わりにある好ましい実施形態に従えば、金属化合物は最初に助触媒との適当
な反応により最終的に活性な触媒に変換され、次いで全体の系を多孔質ポリマー
上に支持する。従って、支持のこの方法は、詳細には、 (a)多孔質ポリマーを炭化水素媒体、好ましくはプロパン中に懸濁させ、 (b)そのようにして得られた混合物を、金属成分、助触媒および任意にジエン
性モノマーを含有する炭化水素混合物と接触させ、 (c)生じた混合物を攪拌し、最終的に、 (d)液体炭化水素媒体を除去すること からなる。
【0034】 ステップ(b)は通常、0〜100℃、好ましくは10〜60℃の温度で操作
して行われ、一方ステップ(c)は1分〜10時間の範囲の時間枠の間行われる
。そのとき単にフラッシュすることにより除去可能であるため、低沸点炭化水素
媒体の使用が好ましい。ステップ(a)を行う前に、多孔質ポリマーをAl−ア
ルキル化合物と接触させるのが好ましい。ジイソブチルアルミニウムヒドリド(
DIBAH)の使用が好ましい。
【0035】 別の実施形態に従えば、支持方法は、不活性ガス気流が多孔質ポリマーを動か
しつづけるような気相ループ反応器中で都合よく行うことができる。金属化合物
は、任意に炭化水素溶媒中に溶解され、例えば噴霧器を使用して、気相ループ反
応器に連続的に供給し、さらさらな製品が処理の終了後に得られる。
【0036】 上述のように、ジエンの重合において使用可能な活性触媒は、適当な助触媒化
合物との金属成分の反応により形成される。
【0037】 適当な助触媒には有機−Al化合物が含まれる。特に、好ましい有機Al化合
物には、式AlHpqr[式中、Rは1〜20の炭素原子を有する炭化水素基
、好ましくはアルキル基であり、Xはハロゲン、好ましくは塩素であり、pは0
〜2であり、rは1〜3であり、qは0〜2である]のものがある。特定な例は
、トリエチルアルミニウム(TEAL)、トリイソブチルアルミニウム(TIB
A)、トリス−2,3−ジメチルブチルアルミニウムジエチルアルミニウムクロ
リド(DEAC)、ジイソブチルアルミニウムヒドリドおよび部分的に加水分解
されたジエチルアルミニウムクロリド(DEACO)である。
【0038】 アルモキサンはまた、助触媒として使用されてもよい。特に、アリル−ランタ
ニド錯体が触媒成分として用いられるときには。特に、有用なアルモキサンは、
この型:
【0039】
【化6】
【0040】 [式中、R7置換基は、同一または異なって、水素、任意にSiもしくはGe原
子を含む、直鎖状もしくは分岐状、飽和もしくは不飽和な、C1〜C20アルキル
、C3〜C20シクロアルキル、C6〜C20アリール、C7〜C20アルキルアリール
およびC7〜C20アリールアルキル基からなる群から選択されるか、またはR7
基−O−Al(R72である] の基を少なくとも1つ含む、直鎖状、分岐状または環式化合物であると考えられ
る。
【0041】 特に、直鎖状アルモキサンは、式:
【0042】
【式7】
【0043】 [式中、mは0〜40の範囲の整数であり、R7は上記で報告した意味を有する
]を有し、環式アルモキサンは式:
【0044】
【式8】
【0045】 [式中、mは2〜40の範囲の整数であり、R7は上記で報告した意味を有する
]を有する。
【0046】 上述の直鎖状および環式アルモキサンにおいて、R7はメチル、エチル、イソ
ブチルまたは2,4,4−トリメチル−ペンチルであるのが好ましい。
【0047】 本発明に従った触媒系における活性化助触媒として適するアルモキサンの例は
、メチルアルモキサン(MAO)、C2〜C12アルキル基、好ましくはイソブ
チル(MMAO)での20〜80%のメチル基の置換により得られる修飾された
メチルアルモキサン、イソブチルアルモキサン(TIBAO)、2,4,4−ト
リメチル−ペンチルアルモキサン(TIOAO)および2−メチル−ペンチルア
ルモキサンである。異なるアルモキサンの混合物も使用してもよい。
【0048】 本発明の触媒系における適当な活性化助触媒はまた、水と、好ましくは式Al
7 3またはAl27 6[式中、R7は上記で報告した意味を有する]の、有機金属
アルミニウム化合物との間の反応生成物である。特に好ましいのは、欧州特許第
EP0575875号において開示された有機金属アルミニウム化合物(式(II
))および国際特許出願公開第WO96/02580号において開示されたもの
(式(II))である。式AlR7 3またはAl27 6の有機金属アルミニウム化合
物の非限定的な例としては、トリス(メチル)アルミニウム、トリス(イソブチ
ル)アルミニウム、トリス(イソオクチル)アルミニウム、ビス(イソブチル-
)アルミニウムヒドリド、メチル−ビス(イソブチル-)アルミニウム、ジメチ
ル(イソブチル-)アルミニウム、トリス(イソヘキシル)アルミニウム、トリ
ス(ベンジル)アルミニウム、トリス(トリル)アルミニウム、トリス(2,4
,4−トリメチルペンチル)アルミニウム、ビス(2,4,4−トリメチルペン
チル-)アルミニウムヒドリド、イソブチル-ビス(2−フェニル-プロピル)ア
ルミニウム、ジイソブチル-(2−フェニル-プロピル)アルミニウム、イソブチ
ル-ビス(2,4,4−トリメチル-ペンチル)アルミニウムおよびジイソブチル
−(2,4,4−トリメチル-ペンチル)アルミニウムである。
【0049】 特に好ましいアルミニウム化合物は、トリス(2,4,4−トリメチルペンチ
ル)アルミニウム(TIOA)およびトリスイソブチルアルミニウム(TIBA
)である。
【0050】 異なる有機金属アルミニウム化合物および/またはアルモキサンの混合物も、
使用してもよい。
【0051】 本発明に従った適当な活性化助触媒はまた、式Y+-[式中、Y+はブレンス
テッド酸であり、プロトンを供与でき、金属化合物の置換基Xと不可逆的に反応
でき、Z-は活性な触媒種を安定化させることができ、2つの化合物の反応から
生ずる、オレフィン基質により置きかえられるのに十分不安定である相溶性非配
位性アニオンである]の化合物であってもよい。好ましくは、アニオンZ-は1
またはそれ以上のホウ素原子からなる。より好ましくは、アニオンZ-は式BA
4 -[式中、置換基Arは、同一または互いに異なって、フェニル、ペンタフル
オロフェニルまたはビス(トリフルオロメチル)フェニルのようなアリール基で
ある]のアニオンである。テトラキス-ペンタフルオロフェニルボレートは、特
に好ましい。さらに、式BAr3の化合物が都合よく用いられる。
【0052】 金属化合物がNi化合物から選択されるとき、助触媒はトリエチルアルミニウ
ム(TEAL)、トリス(イソブチル)アルミニウム(TIBAL)ジエチルア
ルミニウムクロリド(DEAC)、MAOおよびそれらの混合物から選択される
のが好ましい。さらに、フッ化水素、三フッ化ホウ素およびそれらのエーテル付
加物(etherate)誘導体を含む促進剤を使用するのも好ましい。
【0053】 金属化合物がCo化合物から選択されるとき、助触媒はエチルアルミニウムセ
スキクロリド(EASC)、エチルアルミニウムジクロリド(EADC)、部分
的に加水分解されたジエチルアルミニウムクロリド(DEACO)、MAOおよ
びそれらの混合物から選択されるのが好ましい。
【0054】 金属化合物が希土類金属化合物から選択されるとき、助触媒はトリエチルアル
ミニウム(TEAL)、トリス(イソブチル)アルミニウム(TIBAL)、ジ
イソブチルアルミニウムヒドリド(DIBAH)、MAOおよびそれらの混合物
から選択されるのが好ましい。
【0055】 触媒成分が金属化合物として式(V)〜(VI)の錯体を含むとき、助触媒はM
AOが好ましい。
【0056】 金属化合物が式(I)〜(III)に属するものから、特にNdカルボン酸塩から
選択されるとき、触媒系はNd化合物を、アルキル化剤とおよびハロゲン化剤と
反応させることにより都合よく製造される。アルキル化剤は、TIBALのよう
なトリアルキルアルミニウム化合物から選択されるのが好ましく、一方、ハロゲ
ン化剤はDEACまたはEASCのようなハロゲン化アルミニウムアルキルから
選択されるのが好ましい。
【0057】 触媒のAl/NdおよびCl/Ndの両方のモル比は、幾分、重合活性にとっ
て重大である。Al/Ndモル比は10より高いのが好ましく、15〜70がよ
り好ましい。Cl/Ndモル比は2より高いのが好ましく、特に2.5〜5を意
味する。
【0058】 ブタジエンが重合されるとき、触媒の熟成の結果、触媒系の活性は向上するこ
とが見られる。特に、熟成時間が、2日以上、詳細には10〜40日であるのが
、新鮮な触媒よりも非常に向上した収率を得るのに適当である。
【0059】 Ndカルボン酸塩、アルキル化剤および塩素化剤の加える順序でさえ、触媒の
最終的な性質に影響を及ぼす。一般に、触媒はNdカルボン酸塩の炭化水素溶液
に塩素化剤を最初に加え、次いでそのようにして得られたスラリー混合物にアル
キル化剤を反応させることにより製造される。この方法を発展させ、第1の混合
物をアルキル化剤を加える前に、少量のジエン性モノマーと接触させることによ
り、活性を増大させるのに特に有利であることが見出された。
【0060】 別の好ましい具体例において、アルキル化剤は第一にNdカルボン酸塩の炭化
水素溶液に加えられる。そのようにして得られた混合物(第1の混合物)は次い
で、4時間以上の間熟成され、それにより均質な混合物を得、その後ハロゲン化
剤を加える。このテクニックにより、炭化水素媒体中に完全に溶解性な、多孔質
ポリマー上に支持するのに特に適した最終的な触媒系を得ることができる。
【0061】 第1の混合物の熟成の期間は、特に少なくとも10炭素原子を有するカルボン
酸塩を使用するときには約1日が好ましい。低級カルボン酸塩に対しては、より
長い、特に約2〜10日の熟成時間が好ましい。通常、第1の混合物のより長い
熟成時間を使用すると、5日より長い時間透明であり続け得る最終的な触媒系溶
液を生じる。また、この場合、最終的な触媒溶液の熟成は活性に有益である。特
に、約2〜4日の熟成時間が特に好ましい。
【0062】 触媒系の製造に用いられる炭化水素媒体は、通常、プロパン、ブタン、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタンのような飽和炭化水素またはトルエンおよびベンゼンの
ような芳香族炭化水素からなる群から選択される。
【0063】 上記で説明したように、この触媒系は、気相において行われる重合法方法によ
るポリジエンの製造に特に適している。特に、非常に驚いたことに、以下の例に
おいて示されるように、この発明のポリマー性多孔質支持体の使用により、先行
技術において開示されているようなシリカ上に支持された同じ触媒系で得られ得
るものに関して、向上した収率を得ることが可能である。
【0064】 気相方法は、流動床反応器中で、またはポリマーが機械的に攪拌される条件下
で1以上の反応器中で操作して行うことができる。重合温度は通常、−10℃〜
250℃であり、好ましくは10〜160℃である。圧力は通常0.1〜50バ
ールであり、1〜20バールが好ましい。
【0065】 生じたポリマーの分子量は、分子量調節剤を用いることにより、または重合条
件を用いることにより、調節することができる。
【0066】 不飽和単位を供給しうるポリエン単位として、共役または非共役ポリエンの両
方を使用することができる。
【0067】 共役ジエンの中で、1,3−ブタジエン、イソプレン、ペンタジエンまたはジ
メチルブタジエンを使用してもよい。直鎖状、非共役ジエンは1,4−(シスま
たはトランス)−ヘキサジエン、6−メチル−1,5−ヘプタジエン、3,7−
ジメチル−1,6−オクタジエン、アルケニルまたはアルキリデン−ノルボルネ
ン(5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボル
ネンのような)、単環式ジオレフィン(シス,シス−1,5−シクロオクタジエ
ン、5−メチル−1,5−シクロオクタジエン、4,5,8,9−テトラヒドロ
インデンのような)から選択されてもよい。
【0068】 当該分野で知られているように、ジエンはまた、特定の性質を有するコポリマ
ーを製造するために、スチレンのような他のモノマーとの混合物で使用されても
よい。
【0069】 本発明の触媒で得られたポリマーは、約60〜99%の含有量のシス−1,4
−二重結合を有する。分子量は触媒の組成により、重合条件を変えることにより
、調節されうる。典型的な分子量は、GPC(ゲル透過クロマトグラフィー)に
より測定されるように、103〜106の範囲である。
【0070】 ムーニー粘度、ML(1+4’、100℃)は典型的には30〜180MUの
範囲である。高い粘度および用いる溶媒を経て転移反応が起きる可能性があるた
めに溶液重合により得ることが非常に困難である、非常に高分子量を有するポリ
マーを、気相重合により、製造することも可能である。
【0071】 得られるポリマーは通常の方法で配合され、加硫されてもよい。 以下の実施例はこの発明をよりよく説明するためのものであり、限定するもの
ではない。
【0072】 (実施例) (特性化) −有効密度:ASTM−D 792 −多孔度(100,000Åまでの半径を有する孔による):この測定は、カル
ロ・エバ(Carlo Erba)による「多孔度計2000シリーズ」を使用
して行う。多孔度は圧力下の水銀の吸収により測定される。この測定のため、水
銀貯めと高真空ポンプ(1・10-2mba)に接続された検量膨張計(直径3m
m)CD3(カルロ・エバ)を使用する。秤量した量のサンプルを膨張計中に置
く。その装置を次いで高真空下(<0.1mmHg)におき、その状況を10分
間維持する。膨張計を次いで水銀貯めに接続し、膨張計上の10cmの高さに印
をつけた高さに達するまで、水銀をその中へゆっくりと流入させる。真空ポンプ
に膨張計を接続させるバルブは閉じて、次いで水銀圧を窒素により140kg/
cm2まで徐々に増加させる。圧力の効果の下、水銀は孔に入り、そのレベルは
材料の多孔度に従って低下する。
【0073】 多孔度(cm3/g)および孔の分布は、水銀の容積減少と作用させた圧力値
との関数である積分(integral)孔分布曲線から直接計算される(すべてのデー
タはC.エバによる「マイルストーン200/2.04」プログラムを備えたコ
ンピューターに接続した多孔度計により提供され練り上げられる)。
【0074】 気孔の割合として表された多孔度は、以下の式:
【数1】
【0075】 [式中、Vは孔の容積であり、V1はサンプルの見かけの容積である]から計算
される。
【0076】 Vの値は、水銀の最初の高さと最後の高さの間の相違をベースにして計算する
器械により直接提供される。サンプルの見かけ容積は、
【数2】
【0077】 [式中、Pはサンプルのグラムでの重量であり、P1は膨張計+水銀のグラムで
の重量であり、P2は膨張計+水銀+サンプルのグラムでの重量であり、Dは水
銀の密度(25℃において=13.546g/cm3)である]により得られる
【0078】実施例1 ネオジムをベースにした触媒系の支持 0.341cm3/gの多孔度を有するポリエチレンプレポリマー9.84g
を窒素雰囲気下で室温で、250mLの2首丸底フラスコに導入し、その後それ
を窒素雰囲気下でロータベーパーに接続させた。10mLのヘキサン中に5mm
molのDIBAHを含有する溶液を10分間で滴下して加えた。フラスコを室
温で窒素雰囲気下に1時間回転させた。フラスコを次いでロータベーパーから取
り外し、固体を減圧下に30分間室温で穏やかにフラスコを振り動かすことによ
り、完全にさらさらの粉末が得られるまで乾燥させた。
【0079】 その間に、磁気攪拌機を含む25mLのシュレンク中に、0.523mmol
のベルサ酸ネオジムの溶液(0.317Mヘキサン溶液、1.65mL)、0.
2mmolのイソプレン、15mmolのDIBAH(1.5Mトルエン溶液、
10mL)および0.3mmolのEASC(0.121Mヘキサン溶液、2.
5mL)を用意した。
【0080】 その溶液を5分間攪拌し、次いで窒素雰囲気下にフラスコ中にカニューレを挿
入し、固形支持体上に均質に分配した。固体を減圧下に30分間穏やかにフラス
コを振り動かすことにより乾燥した。
【0081】 フラスコを次いで検量し、支持された触媒の重量は12.4グラムと計算され
た。
【0082】1,3−ブタジエン重合 先のパラグラフにおいて記載したように製造した支持された触媒を含むフラス
コを、ロータベーパーに接続し、80〜100rpmで回転させ、40℃に温度
調節された水浴中に入れた。さきに2回モレキュラーシーブスのカラムをフラッ
シュして通した1,3−ブタジエンをロータベーパーに加え、0.26barg
の圧力で連続して放出させた。
【0083】 10分後、気相重合を1,3−ブタジエンの供給を停止し、フラスコ中に窒素
をフラッシュすることにより停止させた。10.4グラムのポリブタジエンを含
む22.8グラムの固体を得た(活性99gpol/mmolNd/時間/ba
r)。
【0084】比較実施例 ネオジムをベースにした触媒系の支持 実施例1に記載したのと同じ方法に従った。ただし、シリカをネオジムをベー
スにした触媒系の支持体としてポリエチレンプレポリマーの代わりに用いた。
【0085】 9.24グラムのシリカ(グレース(Grace) 955/60)を250
℃で24時間乾燥した後に支持体として用いた。21.04グラムの固体を触媒
系の支持の後に得た。
【0086】1,3−ブタジエン重合 重合を実施例1に記載の方法に従って、ただし、重合時間は1時間を用いて行
った。重合の終了時に、40グラムの固体が回収され、18.96グラムのポリ
ブタジエン(活性30gpol/mmolNd/時間/bar)に相当した。
【0087】実施例2 均質触媒溶液の製造 0.361mmolのベルサ酸Ndを含むヘキサン溶液に、10mmolのA
lを含むTIBALのヘキサン溶液を加えた。そのようにして得られた溶液を、
約1日間静置し、その後1.08mmolのDEACを含むヘキサン溶液を加え
た。0.02モル濃度の生じた透き通った混合物を、次のステップで用いた。
【0088】ネオジムをベースにした触媒系の支持 0.538cm3/gの多孔度を持つ15.3gのポリプロピレンポリマーを
、窒素雰囲気下に室温で、ヘキサンを含む250mLの2首丸底フラスコ中に導
入し、次いで窒素雰囲気下にロータベーパーに接続した。上述のようにして製造
した均質な触媒溶液を次いで10分間にわたって滴下した。そのフラスコを室温
で窒素雰囲気下に30分間回転させた。そのフラスコを次いでローターベーパー
からはずし、固体を減圧下に30分間室温で、フラスコを静かに振ることにより
、0.34%のNdを含む完全にさらさらな粉末が得られるまで乾燥させた。
【0089】1,3−ブタジエン重合 先のパラグラフにおいて記載したように製造した7.85gの支持された触媒
を含むフラスコを、ロータベーパーに接続し、80〜100rpmで回転させ、
40℃に温度調節された水浴中に入れ、さきに2回モレキュラーシーブスのカラ
ムをフラッシュして通した1,3−ブタジエンを圧力が約1.2気圧に達するま
でロータベーパーに加えた。
【0090】 15分後、気相重合を1,3−ブタジエンの供給を停止し、フラスコ中に窒素
をフラッシュすることにより停止させた。5グラムのポリブタジエンを得た。8
8gpol/mmolNd/時間/barの活性に相当する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジオイア,ギウセッペ イタリア、アイ−85040 アグロモンテ ミレオ、ヴィア プロヴィンシアレ、528 Fターム(参考) 4J015 DA14 4J028 AA01 AB00 AC47 AC48 BA00 BA01 BB00 BB01 BC25 CB28 CB30 CB47 DA01 DA02 DA03 DA04 EB12 EB13 EB14 EB15 EB17 EB18 EC01 EC02 FA04 GB01 4J100 AS01P AS02P AS03P AS11P CA01 CA04 FA08 FA10 FA22 FA43 4J128 DA01 DA02 DA03 DA04 EB12 EB13 EB14 EB15 EB17 EB18 EC01 EC02 FA04 GB01

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 100,000Åまでの半径を有する孔により、水銀法で測
    定して0.02cm3/gより高い多孔度を有するポリマー上に支持された、Co
    、Niおよび希土類元素から選択される金属の化合物からなるジエンの(共)重合
    用固形触媒成分。
  2. 【請求項2】 多孔質ポリマーが、ポリエチレン;プロピレン、1−ブテン
    、1−ヘキセン、4−メチル−1−ペンテン、1−オクテン、シクロペンテン、
    シクロヘキセンから選択される20モル%より少ない割合のオレフィンとのエチ
    レンのコポリマー;80%より高いアイソタクチック指数を有するポリプロピレ
    ン;5モル%までのエチレンおよび/または1−ブテン、1−ヘキセンのような
    α−オレフィンとのプロピレンの結晶性コポリマーからなる群から選択される請
    求項1の固形触媒成分。
  3. 【請求項3】 多孔質ポリマーが、固形触媒成分のg当たり0.5〜200
    0gの量で製造されたプレポリマーである請求項2の固形触媒成分。
  4. 【請求項4】 多孔質ポリマーが、水銀法で測定して0.04〜1.4cm 3 /gの範囲の多孔度を有する請求項3の固形触媒成分。
  5. 【請求項5】 多孔質ポリマーが、15%より高い、気孔率で表された多孔
    度によりさらに特徴づけられる請求項1の固形触媒成分。
  6. 【請求項6】 金属化合物が、20までの炭素原子を含む単座または二座の
    有機リガンドを有するニッケル化合物から選択される先の請求項のいずれか一つ
    の固形触媒成分。
  7. 【請求項7】 金属化合物が、有機酸のコバルト塩、またはコバルト有機錯
    体から選択される請求項1〜5のいずれか一つの固形触媒成分。
  8. 【請求項8】 金属化合物が、以下の群: − 式(RO)3M (I)のアルコラート; − 式(RCO23M (II)のカルボン酸塩; − 式:(R−CO−CH−CO−R)3M (III)および ML3・y供与体 (IV) [式中、Mは原子番号57〜71の希土類の三価の元素であり;R基は同一また
    は異なっていてもよく、1〜10の炭素原子を含有する炭化水素基を意味し;L
    は塩素、臭素またはヨウ素であり;yは1〜6である] に相当する、ジケトンを有する希土類の錯体化合物および/または酸素もしくは
    窒素供与化合物との希土類のハロゲン化物の付加化合物、 に属する希土類金属化合物から選択される請求項1〜5のいずれか一つの固形触
    媒成分。
  9. 【請求項9】 金属化合物が、式(II)のもの[式中、Mはネオジムであり
    、置換基Rは1〜10の炭素原子を有する直鎖または分岐状アルキル基である]
    から選択される請求項8の固形触媒成分。
  10. 【請求項10】 カルボン酸塩が、2−エチルヘキサン酸ネオジム(III)
    、ベルサ酸ネオジム(III)およびナフテン酸ネオジム(III)からなる群から選
    択される請求項9の固形触媒成分。
  11. 【請求項11】 金属化合物が、式(V): 【化1】 [式中、R1基は互いに同一または異なっており、水素またはC1〜C10炭化
    水素基、特にアルキルであり;nは1または2であり;Xはハロゲン化物、カル
    ボン酸塩およびアルコラートから選択され;Mは上記の意味を有する] の希土類金属化合物から選択される請求項1〜5のいずれか一つの固形触媒成分
  12. 【請求項12】 Mが、Ndである請求項11の固形触媒成分。
  13. 【請求項13】 Nd化合物が、以下の式(VI): 【化2】 [式中、基R1およびnは上記と同じ意味を有し、XはClまたはBrであり、
    mは0〜2の整数であり;pは0〜4の整数であり、Aは元素周期表のI〜IV
    族の一つに属する金属の塩であり、EDは電子供与化合物である] のものから選択される請求項12の固形触媒成分。
  14. 【請求項14】 電子供与化合物が、エーテルおよびアミンから選択され、
    金属塩がMgCl2またはMgBr2である請求項13の固形触媒成分。
  15. 【請求項15】 電子供与体が、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テ
    トラヒドロフラン(THF)およびジオキサンからなる群から選択されるエーテ
    ルである請求項14の固形触媒成分。
  16. 【請求項16】 助触媒と先の請求項のいずれか一つの固形触媒成分の反応
    生成物からなるジエンの(共)重合用触媒。
  17. 【請求項17】 助触媒が、 − 式AlHpqr[式中、Rは1〜20の炭素原子を有する炭化水素基、好
    ましくはアルキル基であり、Xはハロゲン、好ましくは塩素であり、pは0〜2
    であり、rは1〜3であり、qは0〜2である]の有機Al化合物; − タイプ: 【化3】 [式中、R7置換基は、同一または互いに異なって、任意にSiまたはGe原子
    を含み、水素、直鎖または分岐状、飽和または不飽和なC1〜C20−アルキル、
    3〜C20−シクロアルキル、C6〜C20−アリール、C7〜C20−アルキルアリ
    ールおよびC7〜C20−アリール−アルキル基からなる群から選択されるか、ま
    たはR7は基−O−Al(R72である] の基を少なくとも一つ含むアルモキサン; − 式Y+-[Y+はプロトンを供与でき、金属化合物の置換基Xと不可逆的に
    反応できるブレンステッド酸であり、Z-は活性な触媒種を安定化させることが
    でき、2つの化合物の反応から生ずる、オレフィン基質により置きかえられるの
    に十分不安定である相溶性非配位性アニオンである]の化合物 からなる群から選択される請求項16の触媒。
  18. 【請求項18】 請求項6の固形触媒成分と、トリエチルアルミニウム(T
    EAL)、トリス(イソブチル)アルミニウム(TIBAL)ジエチルアルミニ
    ウムクロリド(DEAC)、MAOおよびそれらの混合物からなる群から選択さ
    れる助触媒との反応生成物からなるジエンの(共)重合用触媒。
  19. 【請求項19】 エチルアルミニウムセスキクロリド(EASC)、エチル
    アルミニウムジクロリド(EADC)、部分的に加水分解されたジエチルアルミ
    ニウムクロリド(DEACO)、MAOおよびそれらの混合物からなる群から選
    択される助触媒と、請求項7の固形触媒成分の反応生成物からなるジエンの(共
    )重合用触媒。
  20. 【請求項20】 請求項8〜10の固形触媒成分とアルキル化剤の、ハロゲ
    ン化剤との反応生成物からなるジエンの(共)重合用触媒。
  21. 【請求項21】 アルキル化剤が、トリアルキルアルミニウム化合物から選
    択され、ハロゲン化剤がハロゲン化されたアルミニウムアルキルから選択される
    請求項26の触媒。
  22. 【請求項22】 (a)100,000Åまでの半径を有する孔により、水
    銀法で測定して0.02cm3/gより高い多孔度を有する多孔質ポリマーと、
    (b)(i)請求項12の式(I)〜(III)の一つに属する希土類金属化合物と
    ;(ii)アルキル化剤と;(iii)ハロゲン化剤との間の反応生成物[該成分(i
    )〜(iii)は炭化水素媒体中で反応する]、 との反応生成物からなるジエンの(共)重合用触媒。
  23. 【請求項23】 アルキル化剤が、トリアルキルアルミニウム化合物から選
    択され、ハロゲン化剤が塩素化されたアルキルアルミニウムから選択される請求
    項22の触媒。
  24. 【請求項24】 式(I)〜(III)の希土類金属がNdであり;Al/Nd
    のモル比が30〜70であり、Cl/Ndのモル比が2.5〜6である請求項2
    3の触媒。
  25. 【請求項25】 反応生成物(b)が、2日より長い期間熟成される請求項
    28の触媒。
  26. 【請求項26】 成分(b)が、成分(i)と(ii)を接触させることによ
    り得られる混合物と、成分(iii)を反応させることにより得られ、4時間より
    長い期間熟成される請求項23の触媒。
  27. 【請求項27】 成分(i)と(ii)を接触させることにより得られる混合
    物が、1日より長い期間熟成される請求項26の触媒。
  28. 【請求項28】 Co、Niおよび希土類元素から選択される金属の化合物
    を、100,000Åまでの半径を有する孔により、水銀法で測定して0.02
    cm3/gより高い多孔度を有するポリマーと接触させることからなる請求項1
    〜15の触媒成分の製造法。
  29. 【請求項29】 接触が、液体炭化水素媒体中で行われる請求項28の方法
  30. 【請求項30】 接触が、気相で行われる請求項28の方法。
  31. 【請求項31】 請求項16〜27の1以上に従った触媒系の存在下に行わ
    れることを特徴とするジエンの(共)重合法。
  32. 【請求項32】 方法が、気相中で行われることを特徴とする請求項31の
    方法。
  33. 【請求項33】 ジエンが、1,3−ブタジエン、イソプレン、ペンタジエ
    ンまたはジメチルブタジエン、1,4−(シスまたはトランス)−ヘキサジエン
    、6−メチル−1,5−ヘプタジエン、3,7−ジメチル−1,6−オクタジエ
    ン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−イソプロピリデン−2−ノルボル
    ネン、シス,シス−1,5−シクロオクタジエン、5−メチル−1,5−シクロ
    オクタジエン、4,5,8,9−テトラヒドロインデンからなる群から選択され
    る請求項26の方法。
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