JP2002525345A - 6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソヘキサン酸エステルの製造方法 - Google Patents
6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソヘキサン酸エステルの製造方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/333—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C67/343—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
この発明は、一般式(I)の6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソヘキサン酸エステルの製造方法に関する。この方法においては、アセト酢酸アルキルエステルのジアニオンがアルデヒドと反応する。一般式(I)の6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソヘキサン酸エステルは、HMG−CoAリダクターゼ阻害剤を製造するための、重要な合成用ビルディングブロックである。
Description
【0001】
本発明は、一般式(I)の6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキ
ソヘキサン酸エステルを製造する方法に関する。
ソヘキサン酸エステルを製造する方法に関する。
【0002】
【化4】
【0003】 (式中、R1およびR2は同一または異なるものであって、C1−6アルキル基
である。)
である。)
【0004】 上記の化合物は、種々のHMG−CoAリダクターゼ阻害剤を製造するための
、重要な合成用ビルディングブロックである(WO−A92/10503)。
、重要な合成用ビルディングブロックである(WO−A92/10503)。
【0005】
WO−A92/10503によれば、これらの化合物は、酢酸エステルをγ−
ジアルコキシ−β−ヒドロキシエステルと反応させることにより得られる。しか
し、この合成法には、後者の出発物質が入手しにくいこと、それゆえ高価である
こと、という不利益がある。
ジアルコキシ−β−ヒドロキシエステルと反応させることにより得られる。しか
し、この合成法には、後者の出発物質が入手しにくいこと、それゆえ高価である
こと、という不利益がある。
【0006】
本発明の目的は、上記の合成用ビルディングブロックに至る、より簡単で、費
用対効果がより高い合成ルートを開発することにある。
用対効果がより高い合成ルートを開発することにある。
【0007】
この目的は、本発明の請求項1の方法により達成される。
【0008】 本発明に従う方法は、一般式(II)のアセト酢酸アルキルを、
【0009】
【化5】
【0010】 (式中、R1は上記した意義を有する。) 塩基の存在下に、式(III)のアルデヒド
【0011】
【化6】
【0012】 (式中、R2は上記した意義を有する。) と反応させることを特徴とする。
【0013】 この明細書で、「C1−6アルキル基」の語は、直鎖の、または分岐鎖の、炭
素原子1〜6個のアルキル基、すなわちメチル、エチル、イソプロピル、n−プ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、tert.-ブチル、ペンチルおよびその異性体、
ならびにヘキシルおよびその異性体を意味する。好ましいのは、上に名を挙げた
中のC1−4アルキル基である。
素原子1〜6個のアルキル基、すなわちメチル、エチル、イソプロピル、n−プ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、tert.-ブチル、ペンチルおよびその異性体、
ならびにヘキシルおよびその異性体を意味する。好ましいのは、上に名を挙げた
中のC1−4アルキル基である。
【0014】 本発明の製造方法の有利な点は、一般式(II)のアセト酢酸エステルが工業的
に入手できることである。
に入手できることである。
【0015】 一般式(II)のアセト酢酸エステルは、ジケテンを適切なアルコールと反応さ
せることにより、得ることができる。一般式(II)のアセト酢酸エステルは、ジ
ケテンから出発して、その場で(in situ)製造することもできる。一般式(II
)のアセト酢酸エステルのうち好ましいものは、メチルエステル、エチルエステ
ル、n−プロピルエステル、イソプロピルエステル、n−ブチルエステル、イソ
ブチルエステルおよびtert.-ブチルエステルであり、とくに好ましいものはtert
.-ブチルエステルである。
せることにより、得ることができる。一般式(II)のアセト酢酸エステルは、ジ
ケテンから出発して、その場で(in situ)製造することもできる。一般式(II
)のアセト酢酸エステルのうち好ましいものは、メチルエステル、エチルエステ
ル、n−プロピルエステル、イソプロピルエステル、n−ブチルエステル、イソ
ブチルエステルおよびtert.-ブチルエステルであり、とくに好ましいものはtert
.-ブチルエステルである。
【0016】 一般式(III)のアルデヒドは、一般に市場で入手可能である。式(III)のア
ルデヒドのうちで好ましいものは、グリオキザール−1,1−ジメチルアセター
ルである。
ルデヒドのうちで好ましいものは、グリオキザール−1,1−ジメチルアセター
ルである。
【0017】 本発明の製造方法は、有機溶媒中で、実質的に水の存在しない状態で実施する
のが有利である。適切な溶媒は、エーテル類たとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテル、tert.-ブチルメチルエーテルなど、芳香族化合物た
とえばベンゼンまたはトルエン、または炭化水素類たとえばヘキサンであり、こ
れらの溶媒の混合物も使用できる。
のが有利である。適切な溶媒は、エーテル類たとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジエチルエーテル、tert.-ブチルメチルエーテルなど、芳香族化合物た
とえばベンゼンまたはトルエン、または炭化水素類たとえばヘキサンであり、こ
れらの溶媒の混合物も使用できる。
【0018】 反応温度は、一般に、−80℃から130℃の範囲、好ましくは−40℃から
20℃の範囲から選択する。
20℃の範囲から選択する。
【0019】 一般式(II)のアセト酢酸アルキルのジアニオンを形成することを目的として
、塩基を使用する。原理的に、このジアニオン形成は、直接強い塩基たとえばブ
チルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウムまたはナトリウムアミド、リ
チウムジイソプロピルアミド、またはリチウムヘキサメチルジシラザンを使用し
て行なうことができる。
、塩基を使用する。原理的に、このジアニオン形成は、直接強い塩基たとえばブ
チルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウムまたはナトリウムアミド、リ
チウムジイソプロピルアミド、またはリチウムヘキサメチルジシラザンを使用し
て行なうことができる。
【0020】 一般には、しかし、二段階方式を採用する。はじめは、一般式(II)のアセト
酢酸アルキルがもつ−CH2−官能基の脱プロトン化を、相対的に弱い、かつコ
スト的に有利な塩基を用いて行ない、ジアニオンの形成を、第二の段階ではじめ
て、上記した強い塩基を用いて行なう。相対的に弱い塩基の適切なものは、金属
水素化物、たとえばアルカリ金属水素化物およびアルカリ土類金属水素化物であ
り、好ましいのはナトリウムハイドライドである。しかし、第二アミン(好まし
くはピロリジン)であって、アセト酢酸エステルとアニオン相当物としてエンア
ミンを形成するものも使用できる。後者の場合、ジアニオンは対応するエンアミ
ンのアニオンと理解される。
酢酸アルキルがもつ−CH2−官能基の脱プロトン化を、相対的に弱い、かつコ
スト的に有利な塩基を用いて行ない、ジアニオンの形成を、第二の段階ではじめ
て、上記した強い塩基を用いて行なう。相対的に弱い塩基の適切なものは、金属
水素化物、たとえばアルカリ金属水素化物およびアルカリ土類金属水素化物であ
り、好ましいのはナトリウムハイドライドである。しかし、第二アミン(好まし
くはピロリジン)であって、アセト酢酸エステルとアニオン相当物としてエンア
ミンを形成するものも使用できる。後者の場合、ジアニオンは対応するエンアミ
ンのアニオンと理解される。
【0021】 所望する6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソヘキサン酸エス
テルは、当業者によく知られた手法で、たとえば反応混合物を中性化し、続いて
適当な溶媒を用いて抽出することにより、取得することができる。
テルは、当業者によく知られた手法で、たとえば反応混合物を中性化し、続いて
適当な溶媒を用いて抽出することにより、取得することができる。
【0022】
[実施例1]6,6−ジメトキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソ−tert.-ブチル
ヘキサノエートの製造 まず、0.88g(22mmol)のナトリウムハイドライド(ミネラルオイル中
55〜60%)を50mlのテトラヒドロフランに入れたものを、0℃において、
容量250mlの丸底フラスコに装入した。続いて、注射器を使用して、3.16
g(20mmol)のアセト酢酸tert.-ブチルを、上記のナトリウムハイドライド分
散液に、5〜10分の時間を費やして加えた(水素ガスの発生)。撹拌を5分間
継続し、13.1mlのn−BuLi溶液(ヘキサン中1.6M)を、0℃におい
て、約10分間にわたって、滴下して加えた。撹拌を約1時間継続し、それから
、5.7g(22mmol)のグリオキザール−1,1−ジメチルアセタール溶液を
、反応混合物に、5分間かけて滴下して加えた。さらに撹拌を、0℃で3時間継
続した。0℃において、5mlの濃HClを注ぐことにより、反応を停止させた(
>pH8)。混合物を30mlの水で希釈し、各回50mlのジエチルエーテルで2
回、抽出した。有機層を濃縮して得られた粗生成物を、カラムクロマトグラフィ
ーで精製した。このようにして、所望の化合物を、わずかに粘い、うす黄色の油
状物として単離した。(収率:11%)
ヘキサノエートの製造 まず、0.88g(22mmol)のナトリウムハイドライド(ミネラルオイル中
55〜60%)を50mlのテトラヒドロフランに入れたものを、0℃において、
容量250mlの丸底フラスコに装入した。続いて、注射器を使用して、3.16
g(20mmol)のアセト酢酸tert.-ブチルを、上記のナトリウムハイドライド分
散液に、5〜10分の時間を費やして加えた(水素ガスの発生)。撹拌を5分間
継続し、13.1mlのn−BuLi溶液(ヘキサン中1.6M)を、0℃におい
て、約10分間にわたって、滴下して加えた。撹拌を約1時間継続し、それから
、5.7g(22mmol)のグリオキザール−1,1−ジメチルアセタール溶液を
、反応混合物に、5分間かけて滴下して加えた。さらに撹拌を、0℃で3時間継
続した。0℃において、5mlの濃HClを注ぐことにより、反応を停止させた(
>pH8)。混合物を30mlの水で希釈し、各回50mlのジエチルエーテルで2
回、抽出した。有機層を濃縮して得られた粗生成物を、カラムクロマトグラフィ
ーで精製した。このようにして、所望の化合物を、わずかに粘い、うす黄色の油
状物として単離した。(収率:11%)
【0023】1 H−NMR (400MHz, CDCl3): 1.47(s,9H) 2.73(dd,1H) 2.75(brd.s,1H) 2.82(dd,1H) 3.41(s,2H) 3.44(s,3H) 3.45(s,3H) 4.13(m,1H) 4.25(d,1H)
【0024】 [実施例2]6,6−ジメトキシ−5−ヒドロキシ−3−オキソ−tert.-ブチル
ヘキサノエートの製造 まず、6.6g(165mmol)のナトリウムハイドライド(ミネラルオイル中
55〜60%)を400mlのテトラヒドロフランに入れたものを、0℃において
、容量1000mlの二重ジャケット付きフラスコに装入した。続いて、滴下ロー
トを使用して、23.75g(150mmol)のアセト酢酸tert.-ブチルを、上記
のナトリウムハイドライド分散液に、15分の時間を費やして加えた(水素ガス
の発生)。撹拌を60分間継続したのち、0℃において、100mlのn−BuL
i溶液(ヘキサン中1.6M、160mmol)を、反応混合物に、約40分間にわ
たって、滴下して加えた。撹拌を約25分間継続し、それから、34.7g(1
50mmol)のグリオキザール−1,1−ジメチルアセタール溶液(TBME中の
濃度45%の溶液)を、反応混合物に、30分間かけて滴下して加えた。さらに
撹拌を、0℃で20分間、20℃で1時間継続した。0℃において、37mlの濃
HClおよび250mlの水を注いで、反応を停止させた(>pH8)。混合物を
、各回250mlのジエチルエーテルで2回、抽出した。有機層を濃縮して得られ
た粗生成物を、カラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして、所望の
化合物を純粋な形で取得した。(収量:17.3g、収率:44%)
ヘキサノエートの製造 まず、6.6g(165mmol)のナトリウムハイドライド(ミネラルオイル中
55〜60%)を400mlのテトラヒドロフランに入れたものを、0℃において
、容量1000mlの二重ジャケット付きフラスコに装入した。続いて、滴下ロー
トを使用して、23.75g(150mmol)のアセト酢酸tert.-ブチルを、上記
のナトリウムハイドライド分散液に、15分の時間を費やして加えた(水素ガス
の発生)。撹拌を60分間継続したのち、0℃において、100mlのn−BuL
i溶液(ヘキサン中1.6M、160mmol)を、反応混合物に、約40分間にわ
たって、滴下して加えた。撹拌を約25分間継続し、それから、34.7g(1
50mmol)のグリオキザール−1,1−ジメチルアセタール溶液(TBME中の
濃度45%の溶液)を、反応混合物に、30分間かけて滴下して加えた。さらに
撹拌を、0℃で20分間、20℃で1時間継続した。0℃において、37mlの濃
HClおよび250mlの水を注いで、反応を停止させた(>pH8)。混合物を
、各回250mlのジエチルエーテルで2回、抽出した。有機層を濃縮して得られ
た粗生成物を、カラムクロマトグラフィーで精製した。このようにして、所望の
化合物を純粋な形で取得した。(収量:17.3g、収率:44%)
【0025】 [実施例3]3−N−ピロリジノ−tert.-ブチル−ブト−2−エノエートの製造 アセト酢酸tert.-ブチル(7.91g、50mmol)のトルエン50ml中の溶液
を、3.75gのピロリジン(52.5mmol)と混合し、水分離器上で1.5時
間還流させた。この時間で、理論量の水が分離された。反応混合物を濃縮するこ
とにより、エンアミンが実質上定量的な収率で得られた。
を、3.75gのピロリジン(52.5mmol)と混合し、水分離器上で1.5時
間還流させた。この時間で、理論量の水が分離された。反応混合物を濃縮するこ
とにより、エンアミンが実質上定量的な収率で得られた。
【0026】1 H−NMR (400MHz, CDCl3):1.46(s,9H) 1.91(m,4H) 2.43(s,3H) 3.27(brd.s,4H) 4.41(s,1H)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD ,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL, PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,S L,TJ,TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ ,VN,YU,ZA,ZW
Claims (5)
- 【請求項1】 式(I)の6,6−ジアルコキシ−5−ヒドロキシ−3−オ
キソヘキサン酸エステルを製造する方法であって、 【化1】 (式中、R1およびR2は同一または異なるものであって、C1−6アルキル基
である。) 一般式(II)のアセト酢酸アルキルを、 【化2】 (式中、R1は上記した意義を有する。) 塩基の存在下に、式(III)のアルデヒド 【化3】 (式中、R2は上記した意義を有する。) と反応させることを特徴とする製造方法。 - 【請求項2】 反応を、有機溶媒中で、実質的に水の存在しない状態で実施
することを特徴とする請求項1の製造方法。 - 【請求項3】 反応を、−80℃から130℃の温度において実施すること
を特徴とする請求項1または2の製造方法。 - 【請求項4】 一般式(II)のアセト酢酸アルキルのジアニオンを形成する
ことができる塩基を使用して行なう請求項1ないし3のいずれかの製造方法。 - 【請求項5】 当初は一般式(II)のアセト酢酸アルキルがもつ−CH2−
官能基の脱プロトン化を、相対的に弱い塩基を用いるか、またはエンアミン形成
により形成された対応するアニオン相当物を用いて行ない、ジアニオンの形成は
相対的に強い塩基を使用して行なうことを特徴とする請求項4の製造方法。
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US98118191.0 | 1999-08-03 | ||
US60/147,041 | 1999-08-03 | ||
PCT/EP1999/007100 WO2000018718A1 (de) | 1998-09-25 | 1999-09-23 | Verfahren zur herstellung von 6,6-dialkoxy-5-hydroxy-3-oxo-hexansäureestern |
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SK (1) | SK4202001A3 (ja) |
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- 1999-09-23 CN CNB998113530A patent/CN1209339C/zh not_active Expired - Fee Related
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