JP2002525342A - 移動水素化法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
触媒移動水素化法が提供される。この方法において用いられる触媒は、定義された二座配位子に配位する金属中性ヒドロカルビル複合体である。好ましい二座配位子はジアミン及びアミノアルコール、特には、キラル中心を有するものである。水素供与体はトリエチルアミン及びギ酸の混合液であることが有利である。この方法は、好ましくはプロキラルである、イミン塩の移動水素化に用いることができる。
Description
【０００１】 本発明は、特には錯体化遷移金属の存在下における、触媒移動水素化（cataly
tic transfer hydrogenation）、及び光学的に活性の化合物の製造方法に関する
。
tic transfer hydrogenation）、及び光学的に活性の化合物の製造方法に関する
。
【０００２】 本発明の第１の側面によると、式（１）の化合物の移動水素化方法であって、
【０００３】
【化４】
【０００４】 （ここで； Ｘは（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-、Ｎ+Ｒ5−Ｏ-、（ＮＲ6ＯＲ7）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9Ｒ1 0 ）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9Ｃ（＝ＮＲ11）Ｒ12）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9ＳＯ2Ｒ13）+
Ｑ-、又は（ＮＲ8ＮＲ9ＣＯＲ14）+Ｑ-を表し； Ｑ-は、一価アニオンを表し； Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、各々独
立に、水素原子、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロ
カルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ1
及びＲ3、Ｒ2及びＲ4、Ｒ3及びＲ4、Ｒ1及びＲ5、Ｒ1及びＲ6、Ｒ2及びＲ7、Ｒ1 及びＲ8、Ｒ1及びＲ9、Ｒ6及びＲ7、Ｒ8及びＲ9並びにＲ9及びＲ10のうちの１つ
以上が置換されていてもよい環（１つもしくは複数）を形成するような方法で結
合していてもよく；並びに Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、
ペルハロゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクロ基を表す
。） 式（１）の化合物を触媒の存在下において水素供与体と反応させることを含み、
該触媒が下記一般式：
Ｑ-、又は（ＮＲ8ＮＲ9ＣＯＲ14）+Ｑ-を表し； Ｑ-は、一価アニオンを表し； Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、各々独
立に、水素原子、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロ
カルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ1
及びＲ3、Ｒ2及びＲ4、Ｒ3及びＲ4、Ｒ1及びＲ5、Ｒ1及びＲ6、Ｒ2及びＲ7、Ｒ1 及びＲ8、Ｒ1及びＲ9、Ｒ6及びＲ7、Ｒ8及びＲ9並びにＲ9及びＲ10のうちの１つ
以上が置換されていてもよい環（１つもしくは複数）を形成するような方法で結
合していてもよく；並びに Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、
ペルハロゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクロ基を表す
。） 式（１）の化合物を触媒の存在下において水素供与体と反応させることを含み、
該触媒が下記一般式：
【０００５】
【化５】
【０００６】 （ここで： Ｒ15は中性の置換されていてもよいヒドロカルビル又はペルハロゲン化ヒドロ
カルビル配位子を表し； Ａは−ＮＲ16−、−ＮＲ17−、−ＮＨＲ16、−ＮＲ16Ｒ17又は−ＮＲ17Ｒ18を
表し、ここで、Ｒ16はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ18、ＳＯ2Ｒ18、Ｃ（Ｏ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ
（Ｓ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ（＝ＮＲ22）ＳＲ23又はＣ（＝ＮＲ22）ＯＲ23であり、Ｒ 17 及びＲ18は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲ
ン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつＲ 22 及びＲ23は、各々独立に、水素又はＲ18について定義される基であり； Ｂは−Ｏ−、−ＯＨ、ＯＲ19、−Ｓ−、−ＳＨ、ＳＲ19、−ＮＲ19−、−ＮＲ 20 −、−ＮＨＲ20、−ＮＲ19Ｒ20、−ＮＲ19Ｒ21、−ＰＲ19−又は−ＰＲ19Ｒ21 を表し、ここで、Ｒ20はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ21、ＳＯ2Ｒ21、Ｃ（Ｏ）ＮＲ21Ｒ24、
Ｃ（Ｓ）ＮＲ21Ｒ24、Ｃ（＝ＮＲ24）ＳＲ25又はＣ（＝ＮＲ24）ＯＲ25であり、
Ｒ19及びＲ21は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロ
ゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつ
Ｒ24及びＲ25は、各々独立に、水素又はＲ21について定義される基であり； Ｅは連結基を表し； Ｍは移動水素化を触媒することが可能な金属を表し；並びに Ｙはアニオン基、塩基性配位子又は空の部位を表し； ただし、Ｙが空の部位ではない場合、Ａ又はＢの少なくとも１つは水素原子を
担持する。） を有することを特徴とする方法が提供される。
カルビル配位子を表し； Ａは−ＮＲ16−、−ＮＲ17−、−ＮＨＲ16、−ＮＲ16Ｒ17又は−ＮＲ17Ｒ18を
表し、ここで、Ｒ16はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ18、ＳＯ2Ｒ18、Ｃ（Ｏ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ
（Ｓ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ（＝ＮＲ22）ＳＲ23又はＣ（＝ＮＲ22）ＯＲ23であり、Ｒ 17 及びＲ18は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲ
ン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつＲ 22 及びＲ23は、各々独立に、水素又はＲ18について定義される基であり； Ｂは−Ｏ−、−ＯＨ、ＯＲ19、−Ｓ−、−ＳＨ、ＳＲ19、−ＮＲ19−、−ＮＲ 20 −、−ＮＨＲ20、−ＮＲ19Ｒ20、−ＮＲ19Ｒ21、−ＰＲ19−又は−ＰＲ19Ｒ21 を表し、ここで、Ｒ20はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ21、ＳＯ2Ｒ21、Ｃ（Ｏ）ＮＲ21Ｒ24、
Ｃ（Ｓ）ＮＲ21Ｒ24、Ｃ（＝ＮＲ24）ＳＲ25又はＣ（＝ＮＲ24）ＯＲ25であり、
Ｒ19及びＲ21は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロ
ゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつ
Ｒ24及びＲ25は、各々独立に、水素又はＲ21について定義される基であり； Ｅは連結基を表し； Ｍは移動水素化を触媒することが可能な金属を表し；並びに Ｙはアニオン基、塩基性配位子又は空の部位を表し； ただし、Ｙが空の部位ではない場合、Ａ又はＢの少なくとも１つは水素原子を
担持する。） を有することを特徴とする方法が提供される。
【０００７】 この触媒種は、実質的に、上記式に表される通りであるものと信じられる。こ
れは固体支持体上に導入されていてもよい。 Ｘが（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-を表す場合、式（１）の化合物はイミニウム塩である。
イミニウム塩にはプロトン化イミン塩及び四級イミン塩が含まれ、好ましくは四
級イミン塩である。四級イミン塩は、Ｒ3及びＲ4の両者が水素ではない式（１）
の化合物で表される。
れは固体支持体上に導入されていてもよい。 Ｘが（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-を表す場合、式（１）の化合物はイミニウム塩である。
イミニウム塩にはプロトン化イミン塩及び四級イミン塩が含まれ、好ましくは四
級イミン塩である。四級イミン塩は、Ｒ3及びＲ4の両者が水素ではない式（１）
の化合物で表される。
【０００８】 Ｑ-で表すことができるアニオンには、ハライド、置換されていてもよいアリ
ールスルホネート、例えば、置換されていてもよいフェニル及びナフチルスルホ
ネート、ハロゲン化アルキルスルホネートを含む置換されていてもよいアルキル
スルホネート、例えば、Ｃ1-10アルキルスルホネート、置換されていてもよいカ
ルボキシレート、例えば、Ｃ1-10アルキル及びアリールカルボキシレート、ホウ
素、リンもしくはアンチモンの多ハロゲン化から誘導されるイオン、及び他の一
般的な無機イオン、例えば、ペルクロレートが含まれる。存在し得るアニオンの
例は、ブロミド、クロリド、ヨーダイド、硫酸水素、トシレート、ホルメート、
アセテート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ペルクロレート、トリフルオロメタンスルホネート及び
トリフルオロアセテートである。好ましいアニオンにはブロミド、クロリド、ヨ
ーダイド、ホルメート及びトリフルオロアセテートが含まれ、特に好ましいアニ
オンにはヨーダイド、ホルメート及びトリフルオロアセテートが含まれる。
ールスルホネート、例えば、置換されていてもよいフェニル及びナフチルスルホ
ネート、ハロゲン化アルキルスルホネートを含む置換されていてもよいアルキル
スルホネート、例えば、Ｃ1-10アルキルスルホネート、置換されていてもよいカ
ルボキシレート、例えば、Ｃ1-10アルキル及びアリールカルボキシレート、ホウ
素、リンもしくはアンチモンの多ハロゲン化から誘導されるイオン、及び他の一
般的な無機イオン、例えば、ペルクロレートが含まれる。存在し得るアニオンの
例は、ブロミド、クロリド、ヨーダイド、硫酸水素、トシレート、ホルメート、
アセテート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフ
ルオロアンチモネート、ペルクロレート、トリフルオロメタンスルホネート及び
トリフルオロアセテートである。好ましいアニオンにはブロミド、クロリド、ヨ
ーダイド、ホルメート及びトリフルオロアセテートが含まれ、特に好ましいアニ
オンにはヨーダイド、ホルメート及びトリフルオロアセテートが含まれる。
【０００９】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるヒドロカルビル基
には、独立に、アルキル、アルケニル及びアリール基、並びにそれらのあらゆる
組み合わせ、例えば、アラルキル及びアルカリール、例えば、ベンジル基が含ま
れる。
には、独立に、アルキル、アルケニル及びアリール基、並びにそれらのあらゆる
組み合わせ、例えば、アラルキル及びアルカリール、例えば、ベンジル基が含ま
れる。
【００１０】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるアルキル基には、
２０個までの炭素原子、特には１ないし７個の炭素原子、好ましくは１ないし５
個の炭素原子を含む直鎖及び分岐鎖アルキル基が含まれる。アルキル基が分岐鎖
である場合、それらの基はしばしば１０個までの分岐鎖炭素原子、好ましくは４
個までの分岐鎖原子を含む。特定の態様においては、アルキル基は環状であって
もよく、これは、通常、最大環内に３ないし１０個の炭素原子を含み、１つ以上
の架橋環を特徴としていてもよい。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表
すことができるアルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、２−プロピル
、ブチル、２−ブチル、ｔ−ブチル及びシクロヘキシル基が含まれる。
２０個までの炭素原子、特には１ないし７個の炭素原子、好ましくは１ないし５
個の炭素原子を含む直鎖及び分岐鎖アルキル基が含まれる。アルキル基が分岐鎖
である場合、それらの基はしばしば１０個までの分岐鎖炭素原子、好ましくは４
個までの分岐鎖原子を含む。特定の態様においては、アルキル基は環状であって
もよく、これは、通常、最大環内に３ないし１０個の炭素原子を含み、１つ以上
の架橋環を特徴としていてもよい。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表
すことができるアルキル基の例には、メチル、エチル、プロピル、２−プロピル
、ブチル、２−ブチル、ｔ−ブチル及びシクロヘキシル基が含まれる。
【００１１】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるアルケニル基には
、Ｃ2-20、好ましくはＣ2-6アルケニル基が含まれる。１つ以上の炭素−炭素二
重結合が存在していてもよい。アルケニル基は１つ以上の置換基、特には、フェ
ニル置換基を担持することができる。アルケニル基の例には、ビニル、スチリル
及びインデニル基が含まれる。Ｒ1又はＲ2のいずれかがアルケニル基を表す場合
、炭素−炭素二重結合は、好ましくは、Ｃ＝Ｘ部分に対するβ位置に位置する。
Ｒ1又はＲ2のいずれかがアルケニル基を表す場合、式（１）の化合物は、好まし
くは、α，β−不飽和イミニウム化合物である。
、Ｃ2-20、好ましくはＣ2-6アルケニル基が含まれる。１つ以上の炭素−炭素二
重結合が存在していてもよい。アルケニル基は１つ以上の置換基、特には、フェ
ニル置換基を担持することができる。アルケニル基の例には、ビニル、スチリル
及びインデニル基が含まれる。Ｒ1又はＲ2のいずれかがアルケニル基を表す場合
、炭素−炭素二重結合は、好ましくは、Ｃ＝Ｘ部分に対するβ位置に位置する。
Ｒ1又はＲ2のいずれかがアルケニル基を表す場合、式（１）の化合物は、好まし
くは、α，β−不飽和イミニウム化合物である。
【００１２】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるアリール基は１つ
の環又は２つ以上の縮合環を含むことができ、これにはシクロアルキル、アリー
ルもしくは複素環式環が含まれ得る。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で
表すことができるアリール基の例には、フェニル、トリル、フルオロフェニル、
クロロフェニル、ブロモフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アニシル、ナ
フチル及びフェロセニル基が含まれる。
の環又は２つ以上の縮合環を含むことができ、これにはシクロアルキル、アリー
ルもしくは複素環式環が含まれ得る。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で
表すことができるアリール基の例には、フェニル、トリル、フルオロフェニル、
クロロフェニル、ブロモフェニル、トリフルオロメチルフェニル、アニシル、ナ
フチル及びフェロセニル基が含まれる。
【００１３】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるペルハロゲン化ヒ
ドロカルビル基には、独立に、ペルハロゲン化アルキル及びアリール基、並びに
それらのあらゆる組み合わせ、例えば、アラルキル及びアルカリール基が含まれ
る。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるペルハロゲン化
ヒドロカルビル基の例には、−ＣＦ3及び−Ｃ2Ｆ5が含まれる。
ドロカルビル基には、独立に、ペルハロゲン化アルキル及びアリール基、並びに
それらのあらゆる組み合わせ、例えば、アラルキル及びアルカリール基が含まれ
る。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができるペルハロゲン化
ヒドロカルビル基の例には、−ＣＦ3及び−Ｃ2Ｆ5が含まれる。
【００１４】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができる複素環基には、独
立に、芳香族の飽和及び部分的に不飽和の環系が含まれ、シクロアルキル、アリ
ールもしくは複素環式環を含み得る１つの環又は２つ以上の縮合環を構成してい
てもよい。この複素環基は少なくとも１つの複素環式環を含み、そのうちの最大
のものは一般に３ないし７個の環原子を含み、それらの原子においては少なくと
も１つの原子が炭素であり、かつ少なくとも１つの原子がＮ、Ｏ、ＳもしくはＰ
のいずれかである。Ｒ1又はＲ2のうちのいずれかが複素環基を表すか、又はそれ
を含む場合、Ｃ＝Ｘ基に結合するＲ1又はＲ2内の原子は、好ましくは、炭素原子
である。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができる複素環基の
例には、ピリジル、ピリミジル、ピロリル、チオフェニル、フラニル、インドリ
ル、キノリル、イソキノリル、イミダゾイル及びトリアゾイル基が含まれる。
立に、芳香族の飽和及び部分的に不飽和の環系が含まれ、シクロアルキル、アリ
ールもしくは複素環式環を含み得る１つの環又は２つ以上の縮合環を構成してい
てもよい。この複素環基は少なくとも１つの複素環式環を含み、そのうちの最大
のものは一般に３ないし７個の環原子を含み、それらの原子においては少なくと
も１つの原子が炭素であり、かつ少なくとも１つの原子がＮ、Ｏ、ＳもしくはＰ
のいずれかである。Ｒ1又はＲ2のうちのいずれかが複素環基を表すか、又はそれ
を含む場合、Ｃ＝Ｘ基に結合するＲ1又はＲ2内の原子は、好ましくは、炭素原子
である。Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25で表すことができる複素環基の
例には、ピリジル、ピリミジル、ピロリル、チオフェニル、フラニル、インドリ
ル、キノリル、イソキノリル、イミダゾイル及びトリアゾイル基が含まれる。
【００１５】 Ｒ1-14、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ21-25のいずれかが置換ヒドロカルビル又は
複素環基である場合、その置換基（１つもしくは複数）は反応の速度又は立体選
択性に悪影響を及ばさないようなものでなければならない。任意の置換基には、
ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、チオール、アシル、ヒドロカ
ルビル、ペルハロゲン化ヒドロカルビル、ヘテロシクリル、ヒドロカルビルオキ
シ、モノもしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、
カーボネート、アミド、スルホニル及びスルホンアミド基が含まれ、ここで、ヒ
ドロカルビル基は上でＲ1について定義される通りである。１つ以上の置換基が
存在することができる。
複素環基である場合、その置換基（１つもしくは複数）は反応の速度又は立体選
択性に悪影響を及ばさないようなものでなければならない。任意の置換基には、
ハロゲン、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ、チオール、アシル、ヒドロカ
ルビル、ペルハロゲン化ヒドロカルビル、ヘテロシクリル、ヒドロカルビルオキ
シ、モノもしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒドロカルビルチオ、エステル、
カーボネート、アミド、スルホニル及びスルホンアミド基が含まれ、ここで、ヒ
ドロカルビル基は上でＲ1について定義される通りである。１つ以上の置換基が
存在することができる。
【００１６】 Ｒ1及びＲ2、Ｒ1及びＲ3、Ｒ2及びＲ4、Ｒ3及びＲ4、Ｒ1及びＲ5、Ｒ1及びＲ6 、Ｒ2及びＲ7、Ｒ1及びＲ8、Ｒ1及びＲ9、Ｒ6及びＲ7、Ｒ8及びＲ9並びにＲ9及
びＲ10のいずれかが、式（１）の化合物の炭素原子及び／又は原子Ｘのいずれか
と一緒になったときに環が形成されるような様式で結合する場合、これらは５、
６又は７員環であることが好ましい。このようにして形成される環は、さらに、
互いに、又は他の環系に縮合していてもよい。そのようにして形成され得る環の
例には、
びＲ10のいずれかが、式（１）の化合物の炭素原子及び／又は原子Ｘのいずれか
と一緒になったときに環が形成されるような様式で結合する場合、これらは５、
６又は７員環であることが好ましい。このようにして形成される環は、さらに、
互いに、又は他の環系に縮合していてもよい。そのようにして形成され得る環の
例には、
【００１７】
【化６】
【００１８】 が含まれ、ここで、Ｘは上述の通りであり、かつこれらの環は置換されていても
よく、又は他の環に縮合していてもよい。 特定の好ましい態様においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14が全て独立にＣ1-6アルキルであるか、又
はアリール、特にはフェニル、Ｃ1-6アルキル及びＣ6-10アラルキルの組み合わ
せである。置換基、特に、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14のうちの１つ以上がフェニル基である場合にはＣ
＝Ｘ基に対してパラの置換基が存在していてもよい。
よく、又は他の環に縮合していてもよい。 特定の好ましい態様においては、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14が全て独立にＣ1-6アルキルであるか、又
はアリール、特にはフェニル、Ｃ1-6アルキル及びＣ6-10アラルキルの組み合わ
せである。置換基、特に、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ1 0 、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14のうちの１つ以上がフェニル基である場合にはＣ
＝Ｘ基に対してパラの置換基が存在していてもよい。
【００１９】 特に好ましい態様においては、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、又はＲ8がＣ1-6アルキル又は
Ｃ6-10アラルキル、特には、メチル、ベンジル又はＰｈＣＨＣＨ3である。 特定の非常に好ましい態様においては、Ｘが式（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-の基であり、
Ｒ1及びＲ3が、式（１）の化合物のＣ＝Ｘ基の炭素原子及び窒素原子と一緒にな
ったときに５、６もしくは７員環を形成するような様式で結合し、Ｒ4がＣ1-6ア
ルキル又はＣ6-10アラルキル、特には、メチル、ベンジルもしくはＰｈＣＨＣＨ 3 であり、並びにＲ2が置換されていてもよいヒドロカルビル、好ましくはＣ1-6
アルキル、又は置換されていてもよいフェニル、特にはメトキシ、ヒドロキシも
しくはフルオロ置換フェニルである。Ｒ1及びＲ3が結合することによって形成さ
れる５、６もしくは７員環は他の環系、好ましくは、置換されていてもよい（好
ましい置換基にはヒドロキシ、メトキシ及びフルオロが含まれる）ベンゼノイド
系に縮合していてもよい。
Ｃ6-10アラルキル、特には、メチル、ベンジル又はＰｈＣＨＣＨ3である。 特定の非常に好ましい態様においては、Ｘが式（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-の基であり、
Ｒ1及びＲ3が、式（１）の化合物のＣ＝Ｘ基の炭素原子及び窒素原子と一緒にな
ったときに５、６もしくは７員環を形成するような様式で結合し、Ｒ4がＣ1-6ア
ルキル又はＣ6-10アラルキル、特には、メチル、ベンジルもしくはＰｈＣＨＣＨ 3 であり、並びにＲ2が置換されていてもよいヒドロカルビル、好ましくはＣ1-6
アルキル、又は置換されていてもよいフェニル、特にはメトキシ、ヒドロキシも
しくはフルオロ置換フェニルである。Ｒ1及びＲ3が結合することによって形成さ
れる５、６もしくは７員環は他の環系、好ましくは、置換されていてもよい（好
ましい置換基にはヒドロキシ、メトキシ及びフルオロが含まれる）ベンゼノイド
系に縮合していてもよい。
【００２０】 最も有利には、式（１）の化合物はプロキラルであり、そのハロゲン化生成物
が、Ｒ1、Ｒ2及びＸが各々結合するキラル原子を含む。そのような非対称性移動
水素化法は本発明の特に好ましい側面を形成する。最も一般的には、式（１）の
化合物がプロキラルである場合、Ｒ1及びＲ2は異なり、かついずれもが水素では
ない。有利には、Ｒ1及びＲ2のうちの一方が脂肪族であり、他方がアリール又は
ヘテロシクリルである。
が、Ｒ1、Ｒ2及びＸが各々結合するキラル原子を含む。そのような非対称性移動
水素化法は本発明の特に好ましい側面を形成する。最も一般的には、式（１）の
化合物がプロキラルである場合、Ｒ1及びＲ2は異なり、かついずれもが水素では
ない。有利には、Ｒ1及びＲ2のうちの一方が脂肪族であり、他方がアリール又は
ヘテロシクリルである。
【００２１】 式（１）の化合物の例には以下のものが含まれ、
【００２２】
【化７】
【００２３】 ここで、Ｒ2及びＲ4は上述の通りであり、かつＧ1、Ｇ2及びＧ3は、独立に、水
素、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ
、チオール、アシル、ヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロカルビル、ヘテロ
シクリル、ヒドロカルビルオキシ、モノもしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒ
ドロカルビルチオ、エステル、カーボネート、アミド、スルホニル及びスルホン
アミド基であり、ここで、ヒドロカルビル基は上でＲ1について定義される通り
である。
素、クロロ、ブロモ、フルオロ、ヨード、シアノ、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ
、チオール、アシル、ヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロカルビル、ヘテロ
シクリル、ヒドロカルビルオキシ、モノもしくはジ−ヒドロカルビルアミノ、ヒ
ドロカルビルチオ、エステル、カーボネート、アミド、スルホニル及びスルホン
アミド基であり、ここで、ヒドロカルビル基は上でＲ1について定義される通り
である。
【００２４】 水素供与体には、水素、一級及び二級アルコール、一級及び二級アミン、カル
ボン酸並びにそれらのエステル及びアミン塩、容易に脱水素化が可能な炭化水素
、清浄な還元剤、並びにそれらのあらゆる組み合わせが含まれる。
ボン酸並びにそれらのエステル及びアミン塩、容易に脱水素化が可能な炭化水素
、清浄な還元剤、並びにそれらのあらゆる組み合わせが含まれる。
【００２５】 水素供与体として用いることができる一級及び二級アルコールは、一般に、１
ないし１０個の炭素原子、好ましくは２ないし７個の炭素原子、より好ましくは
３もしくは４個の炭素原子を含む。水素供与体として表すことができる一級及び
二級アルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパン−１−オール、プ
ロパン−２−オール、ブタン−１−オール、ブタン−２−オール、シクロペンタ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、及びメントールが含まれる
。水素供与体がアルコールである場合、二級アルコールが好ましく、特にはプロ
パン−２−オール及びブタン−２−オールである。
ないし１０個の炭素原子、好ましくは２ないし７個の炭素原子、より好ましくは
３もしくは４個の炭素原子を含む。水素供与体として表すことができる一級及び
二級アルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパン−１−オール、プ
ロパン−２−オール、ブタン−１−オール、ブタン−２−オール、シクロペンタ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、及びメントールが含まれる
。水素供与体がアルコールである場合、二級アルコールが好ましく、特にはプロ
パン−２−オール及びブタン−２−オールである。
【００２６】 水素供与体として用いることができる一級及び二級アミンは、一般には１ない
し２０個の炭素原子、好ましくは２ないし１４個の炭素原子、最も好ましくは３
もしくは８個の炭素原子を含む。水素供与体として表すことができる一級及び二
級アミンの例には、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチ
ルアミン、イソブチルアミン、ヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン及びピペリジンが含まれる。水素
供与体がアミンである場合、一級アミン、特には、第２アルキル基を含む一級ア
ミン、特にはイソプロピルアミン及びイソブチルアミンが好ましい。
し２０個の炭素原子、好ましくは２ないし１４個の炭素原子、最も好ましくは３
もしくは８個の炭素原子を含む。水素供与体として表すことができる一級及び二
級アミンの例には、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチ
ルアミン、イソブチルアミン、ヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジヘキシ
ルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン及びピペリジンが含まれる。水素
供与体がアミンである場合、一級アミン、特には、第２アルキル基を含む一級ア
ミン、特にはイソプロピルアミン及びイソブチルアミンが好ましい。
【００２７】 水素供与体として用いることができるカルボン酸又はそれらのエステルは、一
般には１ないし１０個の炭素原子、好ましくは１ないし３個の炭素原子を含む。
特定の態様においては、カルボン酸は、有利には、ベータ−ヒドロキシ−カルボ
ン酸である。エステルはカルボン酸及びＣ1-10アルコールから誘導することがで
きる。水素供与体として用いることができるカルボン酸の例には、ギ酸、乳酸、
アスコルビン酸及びマンデル酸が含まれる。最も好ましいカルボン酸はギ酸であ
る。特定の態様においては、カルボン酸を水素供与体として用いる場合、そのカ
ルボン酸の少なくとも幾らかは好ましくは塩として、好ましくは、アミン、アン
モニウム又は金属塩として存在する。好ましくは、金属塩が存在する場合、その
金属は周期律表のアルカリもしくはアルカリ土類金属から選択され、より好まし
くはＩ族元素、例えば、リチウム、ナトリウムもしくはカリウムから選択される
。そのような塩の形成に用いることができるアミンには芳香族及び非芳香族アミ
ンの両者が含まれ、また一級、二級及び三級アミンも含まれ、これらは、典型的
には、１ないし２０個の炭素原子を含む。三級アミン、特には、トリアルキルア
ミンが好ましい。塩の形成に用いることができるアミンの例には、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン及びピリジンが含まれる
。最も好ましいアミンはトリエチルアミンである。カルボン酸の少なくとも幾ら
かがアミン塩として存在する場合、特には、ギ酸及びトリエチルアミンの混合物
が用いられる場合、酸のアミンに対するモル比は１：１ないし５０：１、好まし
くは１：１ないし１０：１、最も好ましくは約５：２である。カルボン酸の少な
くとも幾らかが金属塩として存在する場合、特には、ギ酸及びＩ族金属塩の混合
物が用いられる場合、酸の存在する金属イオンに対するモル比は１：１ないし５
０：１、好ましくは１：１ないし１０：１、最も好ましくは約２：１である。酸
の塩に対する比は、いずれかの成分を添加することにより、しかしながら、通常
は、カルボン酸を添加することにより、反応の過程を通して維持することができ
る。
般には１ないし１０個の炭素原子、好ましくは１ないし３個の炭素原子を含む。
特定の態様においては、カルボン酸は、有利には、ベータ−ヒドロキシ−カルボ
ン酸である。エステルはカルボン酸及びＣ1-10アルコールから誘導することがで
きる。水素供与体として用いることができるカルボン酸の例には、ギ酸、乳酸、
アスコルビン酸及びマンデル酸が含まれる。最も好ましいカルボン酸はギ酸であ
る。特定の態様においては、カルボン酸を水素供与体として用いる場合、そのカ
ルボン酸の少なくとも幾らかは好ましくは塩として、好ましくは、アミン、アン
モニウム又は金属塩として存在する。好ましくは、金属塩が存在する場合、その
金属は周期律表のアルカリもしくはアルカリ土類金属から選択され、より好まし
くはＩ族元素、例えば、リチウム、ナトリウムもしくはカリウムから選択される
。そのような塩の形成に用いることができるアミンには芳香族及び非芳香族アミ
ンの両者が含まれ、また一級、二級及び三級アミンも含まれ、これらは、典型的
には、１ないし２０個の炭素原子を含む。三級アミン、特には、トリアルキルア
ミンが好ましい。塩の形成に用いることができるアミンの例には、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン及びピリジンが含まれる
。最も好ましいアミンはトリエチルアミンである。カルボン酸の少なくとも幾ら
かがアミン塩として存在する場合、特には、ギ酸及びトリエチルアミンの混合物
が用いられる場合、酸のアミンに対するモル比は１：１ないし５０：１、好まし
くは１：１ないし１０：１、最も好ましくは約５：２である。カルボン酸の少な
くとも幾らかが金属塩として存在する場合、特には、ギ酸及びＩ族金属塩の混合
物が用いられる場合、酸の存在する金属イオンに対するモル比は１：１ないし５
０：１、好ましくは１：１ないし１０：１、最も好ましくは約２：１である。酸
の塩に対する比は、いずれかの成分を添加することにより、しかしながら、通常
は、カルボン酸を添加することにより、反応の過程を通して維持することができ
る。
【００２８】 水素供与体として用いることができる容易に脱水素化可能な炭化水素には、芳
香族化する傾向を有する炭化水素又は高度な共役系を形成する傾向を有する炭化
水素が含まれる。水素供与体として用いることができる、容易に脱水素化可能な
炭化水素の例には、シクロヘキサジエン、シクロヘキセン、テトラリン、ジヒド
ロフラン及びテルペンが含まれる。
香族化する傾向を有する炭化水素又は高度な共役系を形成する傾向を有する炭化
水素が含まれる。水素供与体として用いることができる、容易に脱水素化可能な
炭化水素の例には、シクロヘキサジエン、シクロヘキセン、テトラリン、ジヒド
ロフラン及びテルペンが含まれる。
【００２９】 水素供与体として表すことができる清浄な還元剤（clean reducing agents）
には、高い還元電位を有する還元剤、特には、約−０．１ｅＶを上回り、しばし
ば約−０．５ｅＶを上回り、好ましくは約−１ｅＶを上回る、標準水素電極に対
する還元電位を有するものが含まれる。水素供与体として表すことができる清浄
な還元剤の例には、ヒドラジン及びヒドロキシルアミンが含まれる。
には、高い還元電位を有する還元剤、特には、約−０．１ｅＶを上回り、しばし
ば約−０．５ｅＶを上回り、好ましくは約−１ｅＶを上回る、標準水素電極に対
する還元電位を有するものが含まれる。水素供与体として表すことができる清浄
な還元剤の例には、ヒドラジン及びヒドロキシルアミンが含まれる。
【００３０】 最も好ましい水素供与体は、プロパン−２−オール、ブタン−２−オール、ト
リエチルアンモニウムホルメート及びトリエチルアンモニウムホルメートとギ酸
との混合物である。しかしながら、式（１）の化合物がプロトン化イミニウム塩
である特定の態様においては、カルボン酸又はそれらの塩ではない水素供与体を
用いることが望ましい。
リエチルアンモニウムホルメート及びトリエチルアンモニウムホルメートとギ酸
との混合物である。しかしながら、式（１）の化合物がプロトン化イミニウム塩
である特定の態様においては、カルボン酸又はそれらの塩ではない水素供与体を
用いることが望ましい。
【００３１】 Ｒ15で表すことができる、中性の置換されていてもよいヒドロカルビル又はペ
ルハロゲン化ヒドロカルビル配位子には、置換されていてもよいアリール及びア
ルケニル配位子が含まれる。
ルハロゲン化ヒドロカルビル配位子には、置換されていてもよいアリール及びア
ルケニル配位子が含まれる。
【００３２】 Ｒ15で表すことができる置換されていてもよいアリール配位子は、シクロアル
キル、アリールもしくは複素環式環を含む、１つの環又は２つ以上の縮合環を有
することができる。好ましくは、この配位子は６員芳香族環を含む。アリール配
位子の環（１つもしくは複数）は、しばしば、ヒドロカルビル基で置換されてい
る。置換パターン及び置換基の数は変化し、存在する環の数によって影響を受け
ることがあるが、しばしば１つないし６つのヒドロカルビル置換基が存在し、好
ましくは２つ、３つもしくは６つのヒドロカルビル基、より好ましくは６つのヒ
ドロカルビル基が存在する。好ましいヒドロカルビル置換基には、メチル、エチ
ル、イソプロピル、メンチル、ネオメンチル及びフェニルが含まれる。特には、
アリール配位子が単環である場合、その配位子は、好ましくは、ベンゼン又は置
換ベンゼンである。配位子がペルハロゲン化ヒドロカルビルである場合、好まし
くは、多ハロゲン化ベンゼン、例えば、ヘキサクロロベンゼン又はヘキサフルオ
ロベンゼンである。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性及び／又はジアステレオ異
性中心を有する場合、これらの鏡像異性的及び／又はジアステレオ異性的に純粋
な形態を用いることが好ましい。ベンゼン、ｐ−シミル（p-cymyl）、メシチレ
ン及びヘキサメチルベンゼンが特に好ましい配位子である。
キル、アリールもしくは複素環式環を含む、１つの環又は２つ以上の縮合環を有
することができる。好ましくは、この配位子は６員芳香族環を含む。アリール配
位子の環（１つもしくは複数）は、しばしば、ヒドロカルビル基で置換されてい
る。置換パターン及び置換基の数は変化し、存在する環の数によって影響を受け
ることがあるが、しばしば１つないし６つのヒドロカルビル置換基が存在し、好
ましくは２つ、３つもしくは６つのヒドロカルビル基、より好ましくは６つのヒ
ドロカルビル基が存在する。好ましいヒドロカルビル置換基には、メチル、エチ
ル、イソプロピル、メンチル、ネオメンチル及びフェニルが含まれる。特には、
アリール配位子が単環である場合、その配位子は、好ましくは、ベンゼン又は置
換ベンゼンである。配位子がペルハロゲン化ヒドロカルビルである場合、好まし
くは、多ハロゲン化ベンゼン、例えば、ヘキサクロロベンゼン又はヘキサフルオ
ロベンゼンである。ヒドロカルビル置換基が鏡像異性及び／又はジアステレオ異
性中心を有する場合、これらの鏡像異性的及び／又はジアステレオ異性的に純粋
な形態を用いることが好ましい。ベンゼン、ｐ−シミル（p-cymyl）、メシチレ
ン及びヘキサメチルベンゼンが特に好ましい配位子である。
【００３３】 Ｒ15で表すことができる置換されていてもよいアルケニル配位子には、Ｃ2-30 、好ましくはＣ6-12のアルケン又はシクロアルケンが含まれ、これらは、好まし
くは、２つ以上の炭素−炭素二重結合、好ましくは２つだけの炭素−炭素二重結
合を有する。炭素−炭素二重結合は、存在し得る他の不飽和系と共役していても
よいが、好ましくは互いに共役する。これらのアルケン又はシクロアルケンは、
好ましくは、ヒドロカルビル置換基で置換されていてもよい。アルケンが二重結
合を１つだけ有する場合、置換されていてもよいアルケニル配位子は２つの別々
のアルケンを含むことができる。好ましいヒドロカルビル置換基には、メチル、
エチル、イソプロピル及びフェニルが含まれる。置換されていてもよいアルケニ
ル配位子の例には、シクロ−オクタ−１，５−ジエン及び２，５−ノルボルナジ
エンが含まれる。シクロ−オクタ−１，５−ジエンが特に好ましい。
くは、２つ以上の炭素−炭素二重結合、好ましくは２つだけの炭素−炭素二重結
合を有する。炭素−炭素二重結合は、存在し得る他の不飽和系と共役していても
よいが、好ましくは互いに共役する。これらのアルケン又はシクロアルケンは、
好ましくは、ヒドロカルビル置換基で置換されていてもよい。アルケンが二重結
合を１つだけ有する場合、置換されていてもよいアルケニル配位子は２つの別々
のアルケンを含むことができる。好ましいヒドロカルビル置換基には、メチル、
エチル、イソプロピル及びフェニルが含まれる。置換されていてもよいアルケニ
ル配位子の例には、シクロ−オクタ−１，５−ジエン及び２，５−ノルボルナジ
エンが含まれる。シクロ−オクタ−１，５−ジエンが特に好ましい。
【００３４】 Ａ又はＢのいずれかが、−ＮＲ16−、−ＮＨＲ16、ＮＲ16Ｒ17、−ＮＲ20−、
−ＮＨＲ20もしくはＮＲ19Ｒ20で表されるアミド基であり、ここで、Ｒ17及びＲ 19 が前に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20が−Ｃ（Ｏ）Ｒ18もしくは−
Ｃ（Ｏ）Ｒ21で表されるアシル基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独立に、しばし
ば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-7アルキル、Ｃ1-8−シクロアルキル又はアリール、例
えば、フェニルである。Ｒ16又はＲ20で表すことができるアシル基の例には、ベ
ンゾイル、アセチル及びハロゲノアセチル、特にはトリフルオロアセチル基が含
まれる。
−ＮＨＲ20もしくはＮＲ19Ｒ20で表されるアミド基であり、ここで、Ｒ17及びＲ 19 が前に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20が−Ｃ（Ｏ）Ｒ18もしくは−
Ｃ（Ｏ）Ｒ21で表されるアシル基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独立に、しばし
ば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-7アルキル、Ｃ1-8−シクロアルキル又はアリール、例
えば、フェニルである。Ｒ16又はＲ20で表すことができるアシル基の例には、ベ
ンゾイル、アセチル及びハロゲノアセチル、特にはトリフルオロアセチル基が含
まれる。
【００３５】 Ａ又はＢのいずれかが−ＮＲ18−、−ＮＨＲ16、ＮＲ16Ｒ17、−ＮＲ20−、−
ＮＨＲ20又はＮＲ19Ｒ20で表されるスルホンアミド基として存在し、ここで、Ｒ 17 及びＲ19が前に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20が−Ｓ（Ｏ）2Ｒ18
又は−Ｓ（Ｏ）2Ｒ21で表されるスルホニル基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独
立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8シクロアルキル又はア
リール、例えば、フェニルである。好ましいスルホニル基には、メタンスルホニ
ル、トリフルオロメタンスルホニル及び、特には、ｐ−トルエンスルホニル基及
びナフチルスルホニル基が含まれる。
ＮＨＲ20又はＮＲ19Ｒ20で表されるスルホンアミド基として存在し、ここで、Ｒ 17 及びＲ19が前に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20が−Ｓ（Ｏ）2Ｒ18
又は−Ｓ（Ｏ）2Ｒ21で表されるスルホニル基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独
立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アルキル、Ｃ1-8シクロアルキル又はア
リール、例えば、フェニルである。好ましいスルホニル基には、メタンスルホニ
ル、トリフルオロメタンスルホニル及び、特には、ｐ−トルエンスルホニル基及
びナフチルスルホニル基が含まれる。
【００３６】 Ａ又はＢのいずれかが−ＮＲ16−、−ＮＨＲ16、ＮＲ16Ｒ17、−ＮＲ20−、−
ＮＨＲ20又はＮＲ19Ｒ20で表される基として存在し、ここで、Ｒ17及びＲ19が前
に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20がＣ（Ｏ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ（Ｓ）Ｎ
Ｒ18Ｒ22、Ｃ（＝ＮＲ22）ＳＲ23、Ｃ（＝ＮＲ22）ＯＲ23、Ｃ（Ｏ）ＮＲ21Ｒ24 、Ｃ（Ｓ）ＮＲ21Ｒ24、Ｃ（＝ＮＲ24）ＳＲ25又はＣ（＝ＮＲ24）ＯＲ25で表さ
れる基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1- 8 アルキル、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又は
アリール、例えば、フェニル基であり、かつＲ22-25は、しばしば、各々独立に
、水素又は直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アルキル、例えば、メチル、エチル、イソ
プロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又はアリール、例えば、フェニル基である。
ＮＨＲ20又はＮＲ19Ｒ20で表される基として存在し、ここで、Ｒ17及びＲ19が前
に定義される通りであり、かつＲ16又はＲ20がＣ（Ｏ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ（Ｓ）Ｎ
Ｒ18Ｒ22、Ｃ（＝ＮＲ22）ＳＲ23、Ｃ（＝ＮＲ22）ＯＲ23、Ｃ（Ｏ）ＮＲ21Ｒ24 、Ｃ（Ｓ）ＮＲ21Ｒ24、Ｃ（＝ＮＲ24）ＳＲ25又はＣ（＝ＮＲ24）ＯＲ25で表さ
れる基である場合、Ｒ18及びＲ21は、独立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1- 8 アルキル、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又は
アリール、例えば、フェニル基であり、かつＲ22-25は、しばしば、各々独立に
、水素又は直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アルキル、例えば、メチル、エチル、イソ
プロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又はアリール、例えば、フェニル基である。
【００３７】 Ｂが−ＯＲ19、−ＳＲ19、−ＰＲ19−又は−ＰＲ19Ｒ21で表される基として存
在する場合、Ｒ19及びＲ21は、独立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アル
キル、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又はアリ
ール、例えば、フェニルである。
在する場合、Ｒ19及びＲ21は、独立に、しばしば直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1-8アル
キル、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、Ｃ1-8シクロアルキル又はアリ
ール、例えば、フェニルである。
【００３８】 Ａ及びＢの正確な性質が、Ａ及び／又はＢが形式上金属に結合しているのか、
又は孤立電子対によって金属に配位しているのかによって決定されることは認識
されるであろう。
又は孤立電子対によって金属に配位しているのかによって決定されることは認識
されるであろう。
【００３９】 Ａ及びＢ基は連結基Ｅによって結合する。この連結基Ｅは、Ａ及びＢの両者が
金属Ｍに結合又は配位できるようなＡ及びＢの適切な立体配座を達成する。Ａ及
びＢは、一般には、２、３又は４個の原子を介して連結する。Ａ及びＢを連結す
るＥの原子は１つ以上の置換基を担持することができる。Ｅの原子、特には、Ａ
又はＢに対してアルファ位の原子は、複素環式環、好ましくは飽和環、及び、好
ましくは５、６又は７員環を形成するような様式でＡ及びＢに連結することがで
きる。このような環は１つ以上の他の環と縮合していてもよい。しばしば、Ａ及
びＢを連結する原子は炭素原子である。好ましくは、Ａ及びＢを連結する炭素原
子の１つ以上がＡ又はＢに加えて置換基を担持する。置換基には、上で定義され
るＲ1を置換し得るものが含まれる。そのような置換基は、金属Ｍに配位しない
基であるように選択することが有利である。好ましい置換基には、上で定義され
るハロゲン、シアノ、ニトロ、スルホニル、ヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒ
ドロカルビル及びヘテロシクリル基が含まれる。最も好ましい置換基はＣ1-6ア
ルキル基、及びフェニル基である。最も好ましくは、Ａ及びＢは２個の炭素原子
、特には、置換されていてもよいエチル部分によって連結される。Ａ及びＢが２
個の炭素原子によって連結される場合、Ａ及びＢを連結するこれら２つの炭素原
子は芳香族又は脂肪族環状基、特には、５、６もしくは７員環の一部を構成して
いてもよい。そのような環は１つ以上の他のそのような環と縮合していてもよい
。Ｅが２炭素原子分離を表し、かつそれらの炭素原子の一方もしくは両者が上に
定義される置換されていてもよいアリール基を担持するか、又はＥが、フェニル
環に縮合していてもよいシクロペンタンもしくはシクロヘキサン環を含む２炭素
原子分離を表す態様が特に好ましい。
金属Ｍに結合又は配位できるようなＡ及びＢの適切な立体配座を達成する。Ａ及
びＢは、一般には、２、３又は４個の原子を介して連結する。Ａ及びＢを連結す
るＥの原子は１つ以上の置換基を担持することができる。Ｅの原子、特には、Ａ
又はＢに対してアルファ位の原子は、複素環式環、好ましくは飽和環、及び、好
ましくは５、６又は７員環を形成するような様式でＡ及びＢに連結することがで
きる。このような環は１つ以上の他の環と縮合していてもよい。しばしば、Ａ及
びＢを連結する原子は炭素原子である。好ましくは、Ａ及びＢを連結する炭素原
子の１つ以上がＡ又はＢに加えて置換基を担持する。置換基には、上で定義され
るＲ1を置換し得るものが含まれる。そのような置換基は、金属Ｍに配位しない
基であるように選択することが有利である。好ましい置換基には、上で定義され
るハロゲン、シアノ、ニトロ、スルホニル、ヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒ
ドロカルビル及びヘテロシクリル基が含まれる。最も好ましい置換基はＣ1-6ア
ルキル基、及びフェニル基である。最も好ましくは、Ａ及びＢは２個の炭素原子
、特には、置換されていてもよいエチル部分によって連結される。Ａ及びＢが２
個の炭素原子によって連結される場合、Ａ及びＢを連結するこれら２つの炭素原
子は芳香族又は脂肪族環状基、特には、５、６もしくは７員環の一部を構成して
いてもよい。そのような環は１つ以上の他のそのような環と縮合していてもよい
。Ｅが２炭素原子分離を表し、かつそれらの炭素原子の一方もしくは両者が上に
定義される置換されていてもよいアリール基を担持するか、又はＥが、フェニル
環に縮合していてもよいシクロペンタンもしくはシクロヘキサン環を含む２炭素
原子分離を表す態様が特に好ましい。
【００４０】 Ｅは、好ましくは、少なくとも１つの立体特異的中心を有する化合物の一部を
構成する。Ａ及びＢを連結する２、３もしくは４個の原子のいずれかもしくは全
てがこれらの原子の１個以上に対して少なくとも１つの立体特異的中心を定義す
るように置換される場合、それらの立体特異的中心の少なくとも１つがＡ又はＢ
基のいずれかに隣接する原子に位置することが好ましい。そのような立体特異的
中心が少なくとも１つ存在する場合、それは鏡像異性的に純粋な状態で有利に存
在する。
構成する。Ａ及びＢを連結する２、３もしくは４個の原子のいずれかもしくは全
てがこれらの原子の１個以上に対して少なくとも１つの立体特異的中心を定義す
るように置換される場合、それらの立体特異的中心の少なくとも１つがＡ又はＢ
基のいずれかに隣接する原子に位置することが好ましい。そのような立体特異的
中心が少なくとも１つ存在する場合、それは鏡像異性的に純粋な状態で有利に存
在する。
【００４１】 Ｂが−Ｏ−又は−ＯＨを表し、かつＥにおける隣接原子が炭素である場合、Ｂ
はカルボン酸基の一部を形成しないことが好ましい。 Ａ−Ｅ−Ｂによって表すことができるか、又は脱プロトン化によってＡ−Ｅ−
Ｂを誘導することができる化合物は、しばしば、４−アミノアルカン−１−オー
ル、１−アミノアルカン−４−オール、３−アミノアルカン−１−オール、１−
アミノアルカン−３−オール、特には２−アミノアルカン−１−オール、１−ア
ミノアルカン−２−オール、３−アミノアルカン−２−オール及び２−アミノア
ルカン−３−オール、特に２−アミノエタノールもしくは３−アミノプロパノー
ルを含むアミノアルコール、又は１，４−ジアミノアルカン、１，３−ジアミノ
アルカン、特には１，２−もしくは２，３−ジアミノアルカン、特にエチレンジ
アミンを含むジアミンである。Ａ−Ｅ−Ｂで表すことができるさらなるアミノア
ルコールは、好ましくはフェニル環に縮合している、２−アミノシクロペンタノ
ール及び２−アミノシクロヘキサノールである。Ａ−Ｅ−Ｂで表すことができる
さらなるジアミンは、好ましくはフェニル環に縮合している、１，２−ジアミノ
シクロペンタン及び１，２−ジアミノシクロヘキサンである。アミノ基は有利に
Ｎ−トシル化することができる。ジアミンがＡ−Ｅ−Ｂで表される場合、好まし
くは、少なくとも１つのアミノ基がＮ−トシル化されている。これらのアミノア
ルコール又はジアミンは、特には連結基Ｅで、少なくとも１つのアルキル基、例
えばＣ1-4−アルキル、特にはメチル基、又は少なくとも１つのアリール基、特
にはフェニル基によって有利に置換される。
はカルボン酸基の一部を形成しないことが好ましい。 Ａ−Ｅ−Ｂによって表すことができるか、又は脱プロトン化によってＡ−Ｅ−
Ｂを誘導することができる化合物は、しばしば、４−アミノアルカン−１−オー
ル、１−アミノアルカン−４−オール、３−アミノアルカン−１−オール、１−
アミノアルカン−３−オール、特には２−アミノアルカン−１−オール、１−ア
ミノアルカン−２−オール、３−アミノアルカン−２−オール及び２−アミノア
ルカン−３−オール、特に２−アミノエタノールもしくは３−アミノプロパノー
ルを含むアミノアルコール、又は１，４−ジアミノアルカン、１，３−ジアミノ
アルカン、特には１，２−もしくは２，３−ジアミノアルカン、特にエチレンジ
アミンを含むジアミンである。Ａ−Ｅ−Ｂで表すことができるさらなるアミノア
ルコールは、好ましくはフェニル環に縮合している、２−アミノシクロペンタノ
ール及び２−アミノシクロヘキサノールである。Ａ−Ｅ−Ｂで表すことができる
さらなるジアミンは、好ましくはフェニル環に縮合している、１，２−ジアミノ
シクロペンタン及び１，２−ジアミノシクロヘキサンである。アミノ基は有利に
Ｎ−トシル化することができる。ジアミンがＡ−Ｅ−Ｂで表される場合、好まし
くは、少なくとも１つのアミノ基がＮ−トシル化されている。これらのアミノア
ルコール又はジアミンは、特には連結基Ｅで、少なくとも１つのアルキル基、例
えばＣ1-4−アルキル、特にはメチル基、又は少なくとも１つのアリール基、特
にはフェニル基によって有利に置換される。
【００４２】 Ａ−Ｅ−Ｂで表すことができる化合物、及びそれらを誘導することができるプ
ロトン化等価物の具体的な例は以下のものである：
ロトン化等価物の具体的な例は以下のものである：
【００４３】
【化８】
【００４４】 好ましくは、これらの鏡像異性的及び／又はジアステレオ異性的に純粋な形態
が用いられる。例には、（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−ノルエフェドリン、（１Ｒ，
２Ｓ）−（＋）−シス−１−アミノ−２−インダノール、（１Ｓ，２Ｒ）−２−
アミノ−１，２−ジフェニルエタノール、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−シス−１−
アミノ−２−インダノール、（１Ｒ，２Ｓ）−（−）−ノルエフェドリン、（Ｓ
）−（＋）−２−アミノ−１−フェニルエタノール、（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミ
ノ−１，２−ジフェニルエタノール、Ｎ−トシル−（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−ジ
フェニルエチレンジアミン、Ｎ−トシル−（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニル
エチレンジアミン、（１Ｒ，２Ｓ）−シス−１，２−インダンジアミン、（１Ｓ
，２Ｒ）−シス−１，２−インダンジアミン、（Ｒ）−（−）−２−ピロリジン
メタノール及び（Ｓ）−（＋）−２−ピロリジンメタノールが含まれる。
が用いられる。例には、（１Ｓ，２Ｒ）−（＋）−ノルエフェドリン、（１Ｒ，
２Ｓ）−（＋）−シス−１−アミノ−２−インダノール、（１Ｓ，２Ｒ）−２−
アミノ−１，２−ジフェニルエタノール、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−シス−１−
アミノ−２−インダノール、（１Ｒ，２Ｓ）−（−）−ノルエフェドリン、（Ｓ
）−（＋）−２−アミノ−１−フェニルエタノール、（１Ｒ，２Ｓ）−２−アミ
ノ−１，２−ジフェニルエタノール、Ｎ−トシル−（１Ｒ，２Ｒ）−１，２−ジ
フェニルエチレンジアミン、Ｎ−トシル−（１Ｓ，２Ｓ）−１，２−ジフェニル
エチレンジアミン、（１Ｒ，２Ｓ）−シス−１，２−インダンジアミン、（１Ｓ
，２Ｒ）−シス−１，２−インダンジアミン、（Ｒ）−（−）−２−ピロリジン
メタノール及び（Ｓ）−（＋）−２−ピロリジンメタノールが含まれる。
【００４５】 Ｍで表すことができる金属には、移動水素化を触媒することが可能である金属
が含まれる。好ましい金属には遷移金属、より好ましくは周期律表のVIII族の金
属、特にはルテニウム、ロジウム又はイリジウムが含まれる。金属がルテニウム
である場合、好ましくは原子価状態IIで存在する。金属がロジウム又はイリジウ
ムである場合、好ましくは原子価状態Ｉで存在する。
が含まれる。好ましい金属には遷移金属、より好ましくは周期律表のVIII族の金
属、特にはルテニウム、ロジウム又はイリジウムが含まれる。金属がルテニウム
である場合、好ましくは原子価状態IIで存在する。金属がロジウム又はイリジウ
ムである場合、好ましくは原子価状態Ｉで存在する。
【００４６】 Ｙで表すことができるアニオン基には、ハイドライド、ヒドロキシ、ヒドロカ
ルビルオキシ、ヒドロカルビルアミノ及びハロゲン基が含まれる。好ましくは、
ハロゲンがＹで表される場合、そのハロゲンはクロリドである。ヒドロカルビル
オキシ又はヒドロカルビルアミノ基がＹで表される場合、その基はその反応にお
いて利用される水素供与体の脱プロトン化から誘導することができる。
ルビルオキシ、ヒドロカルビルアミノ及びハロゲン基が含まれる。好ましくは、
ハロゲンがＹで表される場合、そのハロゲンはクロリドである。ヒドロカルビル
オキシ又はヒドロカルビルアミノ基がＹで表される場合、その基はその反応にお
いて利用される水素供与体の脱プロトン化から誘導することができる。
【００４７】 Ｙで表すことができる塩基性配位子には、水、Ｃ1-4アルコール、Ｃ1-8一級も
しくは二級アミン、又はその反応系に存在する水素供与体が含まれる。Ｙで表さ
れる好ましい塩基性配位子は水である。
しくは二級アミン、又はその反応系に存在する水素供与体が含まれる。Ｙで表さ
れる好ましい塩基性配位子は水である。
【００４８】 最も好ましくは、Ａ−Ｅ−Ｂ、Ｒ15及びＹの性質は、その触媒がキラルである
ように選択される。そのような場合、鏡像異性的及び／又はジアステレオ異性的
に純粋な形態が好ましく用いられる。そのような触媒は、非対称性移動水素化法
において最も有利に用いられる。多くの態様において、触媒のキラリティーはＡ
−Ｅ−Ｂの性質に由来する。
ように選択される。そのような場合、鏡像異性的及び／又はジアステレオ異性的
に純粋な形態が好ましく用いられる。そのような触媒は、非対称性移動水素化法
において最も有利に用いられる。多くの態様において、触媒のキラリティーはＡ
−Ｅ−Ｂの性質に由来する。
【００４９】 この方法は、特にＹが空の部位ではない場合、好ましくは塩基の存在下におい
て実施する。塩基のｐＫaは、好ましくは少なくとも８．０、特には少なくとも
１０．０である。都合のよい塩基は、アルカリ金属の水酸化物、アルコキシド及
び炭酸塩；三級アミン及び四級アンモニウム化合物である。好ましい塩基は、ナ
トリウム２−プロポキシド及びトリエチルアミンである。水素供与体が酸ではな
い場合、用いられる塩基の量は触媒のモルを基準にして５．０まで、一般には３
．０まで、しばしば２．５まで、特には１．０ないし３．５の範囲であり得る。
水素供与体が酸である場合、水素供与体を導入する前に触媒を塩基と接触させる
ことができる。そのような場合、水素供与体を導入する前の、塩基の触媒に対す
るモル比は、しばしば１：１ないし３：１、好ましくは約１：１である。
て実施する。塩基のｐＫaは、好ましくは少なくとも８．０、特には少なくとも
１０．０である。都合のよい塩基は、アルカリ金属の水酸化物、アルコキシド及
び炭酸塩；三級アミン及び四級アンモニウム化合物である。好ましい塩基は、ナ
トリウム２−プロポキシド及びトリエチルアミンである。水素供与体が酸ではな
い場合、用いられる塩基の量は触媒のモルを基準にして５．０まで、一般には３
．０まで、しばしば２．５まで、特には１．０ないし３．５の範囲であり得る。
水素供与体が酸である場合、水素供与体を導入する前に触媒を塩基と接触させる
ことができる。そのような場合、水素供与体を導入する前の、塩基の触媒に対す
るモル比は、しばしば１：１ないし３：１、好ましくは約１：１である。
【００５０】 気体状水素が存在していてもよいが、それは不必要であると思われるため、こ
の方法は、通常、気体状水素の不在下で実施される。 この方法は、二酸化炭素の実質的な不在下で行うことが有利である。
の方法は、通常、気体状水素の不在下で実施される。 この方法は、二酸化炭素の実質的な不在下で行うことが有利である。
【００５１】 水素供与体の脱水素化からの生成物（１種類もしくは複数種類）が揮発性、例
えば、１００℃未満で沸騰する場合、この揮発性生成物を除去することが好まし
い。この除去は、好ましくは大気圧未満での、蒸留によって、又は不活性ガス噴
霧の使用によって達成することができる。減圧蒸留を用いる場合、その圧力はし
ばしば５００ｍｍＨｇ以下、一般には２００ｍｍＨｇ以下、好ましくは５ないし
１００ｍｍＨｇの範囲、最も好ましくは１０ないし８０ｍｍＨｇである。水素供
与体の脱水素化からの生成物（１種類もしくは複数種類）が気体状物質である場
合、例えば、ギ酸が水素供与体として存在する場合、その除去は、最も好ましく
は、例えば窒素を用いる、不活性ガス噴霧の使用によって達成される。
えば、１００℃未満で沸騰する場合、この揮発性生成物を除去することが好まし
い。この除去は、好ましくは大気圧未満での、蒸留によって、又は不活性ガス噴
霧の使用によって達成することができる。減圧蒸留を用いる場合、その圧力はし
ばしば５００ｍｍＨｇ以下、一般には２００ｍｍＨｇ以下、好ましくは５ないし
１００ｍｍＨｇの範囲、最も好ましくは１０ないし８０ｍｍＨｇである。水素供
与体の脱水素化からの生成物（１種類もしくは複数種類）が気体状物質である場
合、例えば、ギ酸が水素供与体として存在する場合、その除去は、最も好ましく
は、例えば窒素を用いる、不活性ガス噴霧の使用によって達成される。
【００５２】 適切には、この方法は、マイナス７８ないしプラス１５０℃、好ましくはマイ
ナス２０ないしプラス１１０℃、より好ましくはマイナス５ないしプラス６０℃
の範囲の温度で行われる。基質、式（１）の化合物の初期濃度は、モル濃度ベー
スで、適切には０．０５ないし１．０の範囲であり、都合のよいより大規模の操
作に対しては、例えば６．０まで、特には０．２５ないし２．０である。基質の
触媒に対するモル濃度比は、適切には５０：１以上で５００００：１までが可能
であり、好ましくは１００：１ないし５０００：１、より好ましくは２００：１
ないし２０００：１である。水素供与体は、基質よりモル濃度過剰、特には５な
いし２０倍、都合が許すのであれば、より多く、例えば５００倍までで好ましく
用いられる。反応後、混合物を標準手順によって後処理する。
ナス２０ないしプラス１１０℃、より好ましくはマイナス５ないしプラス６０℃
の範囲の温度で行われる。基質、式（１）の化合物の初期濃度は、モル濃度ベー
スで、適切には０．０５ないし１．０の範囲であり、都合のよいより大規模の操
作に対しては、例えば６．０まで、特には０．２５ないし２．０である。基質の
触媒に対するモル濃度比は、適切には５０：１以上で５００００：１までが可能
であり、好ましくは１００：１ないし５０００：１、より好ましくは２００：１
ないし２０００：１である。水素供与体は、基質よりモル濃度過剰、特には５な
いし２０倍、都合が許すのであれば、より多く、例えば５００倍までで好ましく
用いられる。反応後、混合物を標準手順によって後処理する。
【００５３】 反応の間、溶媒、好ましくは極性溶媒、より好ましくは極性非プロトン性溶媒
、例えば、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド又はジクロロメタンが存在し
得る。都合のよいことには、水素供与体は、それが反応温度で液体である場合に
は溶媒であってもよく、又は希釈剤と組み合わせて用いることができる。通常は
、実質的な水の不在下で実施することが好ましいが、水が反応を妨げるものとは
思われない。水素供与体又は反応溶媒が水と混和性ではなく、かつ所望の生成物
が水溶性である場合には、生成物を抽出し、平衡を移動させ、かつ反応の進行に
伴う生成物の光学的純度の喪失を防止する第２相として水を存在させることが望
ましいものであり得る。基質の濃度は、反応時間、収量及び鏡像異性過剰を最適
化するように選択することができる。
、例えば、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド又はジクロロメタンが存在し
得る。都合のよいことには、水素供与体は、それが反応温度で液体である場合に
は溶媒であってもよく、又は希釈剤と組み合わせて用いることができる。通常は
、実質的な水の不在下で実施することが好ましいが、水が反応を妨げるものとは
思われない。水素供与体又は反応溶媒が水と混和性ではなく、かつ所望の生成物
が水溶性である場合には、生成物を抽出し、平衡を移動させ、かつ反応の進行に
伴う生成物の光学的純度の喪失を防止する第２相として水を存在させることが望
ましいものであり得る。基質の濃度は、反応時間、収量及び鏡像異性過剰を最適
化するように選択することができる。
【００５４】 触媒種は、実質的には、上記式に表される通りであるものと信じられる。これ
はオリゴマーもしくは複分解生成物として、固体支持体上で用いることができ、
又はインサイチュで生成させてもよい。
はオリゴマーもしくは複分解生成物として、固体支持体上で用いることができ、
又はインサイチュで生成させてもよい。
【００５５】 特定の態様においては、特定の触媒がイミニウム塩の移動水素化に好ましいこ
とが見出されている。Ａ−Ｅ−ＢがＮ−トシルジアミン、好ましくはモノ−Ｎ−
トシルジアミン、特にはモノ−Ｎ−トシル化エチレンジアミンから誘導される触
媒が好ましい。特には、Ｍがルテニウム（II）でもあり、かつＲ15がアリール基
を表すか、又はＭがイリジウム（Ｉ）もしくはロジウム（Ｉ）であり、かつＲ15 がシクロ−オクタジエンである。さらに、トリエチルアミンが塩基として好まし
く用いられ、ギ酸及びトリエチルアミンの５：２（ギ酸：トリエチルアミン）の
好ましい比の混合物が水素供与体として好ましく用いられ、かつイミニウム塩が
好ましくはプロトン化イミンであるか、又はヨーダイド、ホルメートもしくはト
リフルオロアセテート対イオンを伴うメチル化もしくはベンジル化イミンである
。Ｙが空の部位ではなく、かつＭがロジウムもしくはイリジウムであって原子価
状態（Ｉ）にある場合、Ａ−Ｅ−Ｂは２つの配位結合（Ａ及びＢの両者における
ヘテロ原子の孤立電子対がＭと配位する）によってＭに結合し、これに対して、
Ｍがルテニウムであって原子価状態（II）にある場合には、Ａ−Ｅ−Ｂは１つの
配位結合及び１つの定石通りの結合によってＭに結合する。
とが見出されている。Ａ−Ｅ−ＢがＮ−トシルジアミン、好ましくはモノ−Ｎ−
トシルジアミン、特にはモノ−Ｎ−トシル化エチレンジアミンから誘導される触
媒が好ましい。特には、Ｍがルテニウム（II）でもあり、かつＲ15がアリール基
を表すか、又はＭがイリジウム（Ｉ）もしくはロジウム（Ｉ）であり、かつＲ15 がシクロ−オクタジエンである。さらに、トリエチルアミンが塩基として好まし
く用いられ、ギ酸及びトリエチルアミンの５：２（ギ酸：トリエチルアミン）の
好ましい比の混合物が水素供与体として好ましく用いられ、かつイミニウム塩が
好ましくはプロトン化イミンであるか、又はヨーダイド、ホルメートもしくはト
リフルオロアセテート対イオンを伴うメチル化もしくはベンジル化イミンである
。Ｙが空の部位ではなく、かつＭがロジウムもしくはイリジウムであって原子価
状態（Ｉ）にある場合、Ａ−Ｅ−Ｂは２つの配位結合（Ａ及びＢの両者における
ヘテロ原子の孤立電子対がＭと配位する）によってＭに結合し、これに対して、
Ｍがルテニウムであって原子価状態（II）にある場合には、Ａ−Ｅ−Ｂは１つの
配位結合及び１つの定石通りの結合によってＭに結合する。
【００５６】 触媒は、金属アリールもしくはアルケニルハライド複合体を上で定義される式
Ａ−Ｅ−Ｂの化合物、又はそれを誘導することができるプロトン化等価物と反応
させることによって製造することができ、Ｙが空の部位を表す場合には、それら
の生成物を塩基と反応させる。金属アリールもしくはアルケニルハライド複合体
は、好ましくは、Ｍがルテニウム（II）であるときには式［ＭＲ15Ｚ2］2を、Ｍ
がイリジウムもしくはロジウム（Ｉ）であるときには式［ＭＲ15Ｚ］2を有し、
ここで、Ｒ15は上に定義される通りであり、かつＺはハライド、特にはクロリド
を表す。
Ａ−Ｅ−Ｂの化合物、又はそれを誘導することができるプロトン化等価物と反応
させることによって製造することができ、Ｙが空の部位を表す場合には、それら
の生成物を塩基と反応させる。金属アリールもしくはアルケニルハライド複合体
は、好ましくは、Ｍがルテニウム（II）であるときには式［ＭＲ15Ｚ2］2を、Ｍ
がイリジウムもしくはロジウム（Ｉ）であるときには式［ＭＲ15Ｚ］2を有し、
ここで、Ｒ15は上に定義される通りであり、かつＺはハライド、特にはクロリド
を表す。
【００５７】 本発明による触媒の調製には、好ましくは、溶媒が存在する。適切な反応温度
は０−１００℃の範囲、例えば、２０−７０℃であり、この温度でしばしば０．
５−２４．０時間の反応時間がかかる。反応が完了した後、所望であれば触媒を
単離することができるが、より好都合には溶液として保存するか、又は調製後直
ちに使用する。この溶液は水素供与体を含むことができ、これは、二級アルコー
ルである場合、工程（ａ）及び／又は（ｂ）に存在してもよく、又はそこで溶媒
として用いることもできる。この調製及び後の取り扱いは、好ましくは不活性雰
囲気下、特には二酸化炭素及び酸素非含有条件で行うべきである。
は０−１００℃の範囲、例えば、２０−７０℃であり、この温度でしばしば０．
５−２４．０時間の反応時間がかかる。反応が完了した後、所望であれば触媒を
単離することができるが、より好都合には溶液として保存するか、又は調製後直
ちに使用する。この溶液は水素供与体を含むことができ、これは、二級アルコー
ルである場合、工程（ａ）及び／又は（ｂ）に存在してもよく、又はそこで溶媒
として用いることもできる。この調製及び後の取り扱いは、好ましくは不活性雰
囲気下、特には二酸化炭素及び酸素非含有条件で行うべきである。
【００５８】 触媒又は触媒溶液は、一般には、移動水素化反応における使用直前、又は使用
中のいずれかに塩基で処理する。これは、溶液中の触媒もしくは溶液中の式（１
）の化合物に塩基を添加することによって、又は移動水素化反応に添加すること
によって達成することができる。
中のいずれかに塩基で処理する。これは、溶液中の触媒もしくは溶液中の式（１
）の化合物に塩基を添加することによって、又は移動水素化反応に添加すること
によって達成することができる。
【００５９】 イミニウム塩は、一般には、公知の文献法、例えば、イミンをアルキル化剤で
処理することによるもののようなイミンの四級化によって得ることができる。 移動水素化は、触媒の溶液を基質、一般式Ｉの化合物の溶液に移動させること
によって達成することができる。あるいは、基質の溶液を触媒の溶液に添加する
こともできる。塩基は、触媒溶液及び／又は基質溶液に予め添加することができ
、又は後に添加することができる。水素供与体は、既に触媒溶液中に存在しない
場合には、基質溶液に添加することができ、又は反応混合物に添加することがで
きる。
処理することによるもののようなイミンの四級化によって得ることができる。 移動水素化は、触媒の溶液を基質、一般式Ｉの化合物の溶液に移動させること
によって達成することができる。あるいは、基質の溶液を触媒の溶液に添加する
こともできる。塩基は、触媒溶液及び／又は基質溶液に予め添加することができ
、又は後に添加することができる。水素供与体は、既に触媒溶液中に存在しない
場合には、基質溶液に添加することができ、又は反応混合物に添加することがで
きる。
【００６０】 本発明を以下の実施例によって説明する。 実施例１ Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ウムヨウ化物の還元
ウムヨウ化物の還元
【００６１】
【表１】
【００６２】 反応に先立ち、全ての溶媒を脱気した。例えば： １００ｍｌの無水プロパン−２−オールをシリンジにより密封清浄乾燥丸底フラ
スコに加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填すること
により、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気し
た。
スコに加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填すること
により、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気し
た。
【００６３】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン及び
ルテニウム化合物を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。フラスコに
‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をした。その内容物を排出した後、室温で窒素を
３回交換することによりパージした。混合物を８０℃で１時間加熱した。その後
、プロパン−２−オール溶媒を真空中で除去し、結晶を真空中、周囲温度で２時
間乾燥させた。その残滓をアセトニトリルに溶解して２．４９ｍＭ溶液を形成し
た。
ルテニウム化合物を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。フラスコに
‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をした。その内容物を排出した後、室温で窒素を
３回交換することによりパージした。混合物を８０℃で１時間加熱した。その後
、プロパン−２−オール溶媒を真空中で除去し、結晶を真空中、周囲温度で２時
間乾燥させた。その残滓をアセトニトリルに溶解して２．４９ｍＭ溶液を形成し
た。
【００６４】
【表２】
【００６５】 Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノ
リニウムヨウ化物をアセトニトリル（２ｍｌ）に溶解した後、脱気した。これに
、アセトニトリル（２ｍｌ）中の触媒の溶液を添加した。トリエチルアミン／ギ
酸混合物［２：５］を添加することにより反応を開始させた。反応物を規則的な
間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）は、各々、ジクロロメ
タン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液（３ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムと接
触させることによって乾燥させ、次いでその固体を濾過した後、直ちに真空中で
溶媒を除去した。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
リニウムヨウ化物をアセトニトリル（２ｍｌ）に溶解した後、脱気した。これに
、アセトニトリル（２ｍｌ）中の触媒の溶液を添加した。トリエチルアミン／ギ
酸混合物［２：５］を添加することにより反応を開始させた。反応物を規則的な
間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）は、各々、ジクロロメ
タン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液（３ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムと接
触させることによって乾燥させ、次いでその固体を濾過した後、直ちに真空中で
溶媒を除去した。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
【００６６】 ２０時間後、反応が完了した（＞９８％変換）。 実施例２ Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物の還元
ニウムヨウ化物の還元
【００６７】
【表３】
【００６８】 反応に先立ち、全ての溶媒を脱気した。例えば： １００ｍｌの無水プロパン−２−オールをシリンジにより密封清浄乾燥丸底フラ
スコに加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填すること
により、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気し
た。
スコに加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填すること
により、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気し
た。
【００６９】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン及び
ルテニウム化合物を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。フラスコに
‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をした。その内容物を排出した後、室温で窒素を
３回交換することによりパージした。混合物を８０℃で１時間加熱した。その後
、プロパン−２−オール溶媒を真空中で除去し、結晶を真空中、周囲温度で２時
間乾燥させた。その残滓をアセトニトリルに溶解して２．４９ｍＭ溶液を形成し
た。
ルテニウム化合物を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。フラスコに
‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をした。その内容物を排出した後、室温で窒素を
３回交換することによりパージした。混合物を８０℃で１時間加熱した。その後
、プロパン−２−オール溶媒を真空中で除去し、結晶を真空中、周囲温度で２時
間乾燥させた。その残滓をアセトニトリルに溶解して２．４９ｍＭ溶液を形成し
た。
【００７０】
【表４】
【００７１】 Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノ
リニウムヨウ化物をアセトニトリル（３ｍｌ）に溶解した後、脱気した。これに
、アセトニトリル（３ｍｌ）中の触媒の溶液を添加した。トリエチルアミン／ギ
酸混合物［２：５］を添加することにより反応を開始させた。反応物を規則的な
間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）を、各々、ジクロロメ
タン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液（３ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムと接
触させることによって乾燥させ、次いでその固体を濾過した後、直ちに真空中で
溶媒を除去した。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
リニウムヨウ化物をアセトニトリル（３ｍｌ）に溶解した後、脱気した。これに
、アセトニトリル（３ｍｌ）中の触媒の溶液を添加した。トリエチルアミン／ギ
酸混合物［２：５］を添加することにより反応を開始させた。反応物を規則的な
間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）を、各々、ジクロロメ
タン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液（３ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムと接
触させることによって乾燥させ、次いでその固体を濾過した後、直ちに真空中で
溶媒を除去した。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
【００７２】 ２日後、反応が６９％ｅｅで完了した（＞９９％変換）。 実施例３ないし６ 一般手順 反応に先立ち、全ての溶媒を脱気した。例えば： １００ｍｌの無水アセトニトリルをシリンジにより密封清浄乾燥丸底フラスコに
加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填することにより
、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気した。
加え；溶媒が沸騰し始めるまで圧力を低下させて窒素を３回充填することにより
、又は溶液を通して少なくとも２０分間窒素を泡立てることにより脱気した。
【００７３】 還元体系として用いるトリエチルアミン／ギ酸混合液を以下のように調製した
。新たに蒸留したギ酸（４１．５ｍｌ、５０．６ｇ、１．１モル）をトリエチル
アミン（５８．８ｍｌ、４４．８２ｇ、０．４４モル）に、攪拌及び冷却（氷浴
）しながら窒素雰囲気下で徐々に添加し、５：２モル濃度比のギ酸：トリエチル
アミンからなる混合液を得た。 出発物質の調製 Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物の調製
。新たに蒸留したギ酸（４１．５ｍｌ、５０．６ｇ、１．１モル）をトリエチル
アミン（５８．８ｍｌ、４４．８２ｇ、０．４４モル）に、攪拌及び冷却（氷浴
）しながら窒素雰囲気下で徐々に添加し、５：２モル濃度比のギ酸：トリエチル
アミンからなる混合液を得た。 出発物質の調製 Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物の調製
【００７４】
【表５】
【００７５】 アセトン中の１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノ
リンの攪拌溶液にヨウ化メチルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌
した。淡黄色の沈殿が形成された。副生物及び未反応ヨウ化メチルを真空中で除
去し、所望の化合物を収率９３％で得た。 Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリニ
ウムヨウ化物の調製
リンの攪拌溶液にヨウ化メチルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌
した。淡黄色の沈殿が形成された。副生物及び未反応ヨウ化メチルを真空中で除
去し、所望の化合物を収率９３％で得た。 Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリニ
ウムヨウ化物の調製
【００７６】
【表６】
【００７７】 アセトン中の１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ンの攪拌溶液にヨウ化メチルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌し
た。明黄色の沈殿が形成された。副生物及びヨウ化メチルを真空中で除去し、所
望の化合物を収率９５％で得た。 Ｎ−ベンジル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウム臭化物の調製
ンの攪拌溶液にヨウ化メチルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌し
た。明黄色の沈殿が形成された。副生物及びヨウ化メチルを真空中で除去し、所
望の化合物を収率９５％で得た。 Ｎ−ベンジル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウム臭化物の調製
【００７８】
【表７】
【００７９】 アセトン中の１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ンの攪拌溶液に臭化ベンジルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌し
た。黄色の沈殿が形成され、それを濾過して氷冷アセトンで洗浄し、真空中で乾
燥させた。この生成物を、ヘキサン／ジクロロメタン混合液及びペンタンからの
再結晶化によってさらに精製し、所望の化合物を収率８１％で得た。 Ｎ−ベンジル−インドレニニウム臭化物の調製
ンの攪拌溶液に臭化ベンジルを添加し、その反応混合物を室温で１６時間攪拌し
た。黄色の沈殿が形成され、それを濾過して氷冷アセトンで洗浄し、真空中で乾
燥させた。この生成物を、ヘキサン／ジクロロメタン混合液及びペンタンからの
再結晶化によってさらに精製し、所望の化合物を収率８１％で得た。 Ｎ−ベンジル−インドレニニウム臭化物の調製
【００８０】
【表８】
【００８１】 アセトン中のインドレニンの攪拌溶液に臭化ベンジルを添加し、その反応混合
物を室温で１６時間攪拌した。沈殿が形成され、それを濾過して真空中で濃縮し
た。その生成物を、ヘキサン／ジクロロメタン混合液及びペンタンからの再結晶
化によってさらに精製し、所望の化合物を収率１０％で得た。 移動水素化反応 実施例３ Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物の移動水素化
物を室温で１６時間攪拌した。沈殿が形成され、それを濾過して真空中で濃縮し
た。その生成物を、ヘキサン／ジクロロメタン混合液及びペンタンからの再結晶
化によってさらに精製し、所望の化合物を収率１０％で得た。 移動水素化反応 実施例３ Ｎ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物の移動水素化
【００８２】
【表９】
【００８３】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、二
塩化ルテニウム二量体及びＮ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３
，４−ジヒドロイソキノリニウムヨウ化物を計量し、清浄乾燥 Schlenk フラス
コに入れた。そのフラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた
後、窒素を３回充填した。固体をアセトニトリルに溶解し、窒素噴霧を適用した
。この反応混合物を５−１０分攪拌した後、ギ酸／トリエチルアミン混合物を添
加して反応を開始させた。反応物を規則的な間隔でサンプリングした。これらの
試料（０．２５ｍｌ）を、ジクロロメタン（４ｍｌ）を添加することによって直
ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有
機相を固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中
で除去して白色粉末を得た。これらの試料をキラルＨＰＬＣによって分析した。
２時間後に反応は８７％完了し、７時間後に反応は＞９８％完了して所望の生成
物が〜６０％ｅｅで形成された。 実施例４ Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリニ
ウムヨウ化物の移動水素化
塩化ルテニウム二量体及びＮ−メチル−１−フェニル−６，７−ジメトキシ−３
，４−ジヒドロイソキノリニウムヨウ化物を計量し、清浄乾燥 Schlenk フラス
コに入れた。そのフラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた
後、窒素を３回充填した。固体をアセトニトリルに溶解し、窒素噴霧を適用した
。この反応混合物を５−１０分攪拌した後、ギ酸／トリエチルアミン混合物を添
加して反応を開始させた。反応物を規則的な間隔でサンプリングした。これらの
試料（０．２５ｍｌ）を、ジクロロメタン（４ｍｌ）を添加することによって直
ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有
機相を固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中
で除去して白色粉末を得た。これらの試料をキラルＨＰＬＣによって分析した。
２時間後に反応は８７％完了し、７時間後に反応は＞９８％完了して所望の生成
物が〜６０％ｅｅで形成された。 実施例４ Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリニ
ウムヨウ化物の移動水素化
【００８４】
【表１０】
【００８５】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン及び
二塩化ルテニウム二量体を秤量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。この
フラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充
填した。固体をイソプロパノールに溶解した。その反応混合物を一晩攪拌した後
、Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物を添加した。ひとたび固体が溶解したら、ナトリウムイソプロポ
キシドを一度に添加して反応を開始させた。その反応混合物を４０℃に加熱し、
攪拌した。
二塩化ルテニウム二量体を秤量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。この
フラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充
填した。固体をイソプロパノールに溶解した。その反応混合物を一晩攪拌した後
、Ｎ−メチル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウムヨウ化物を添加した。ひとたび固体が溶解したら、ナトリウムイソプロポ
キシドを一度に添加して反応を開始させた。その反応混合物を４０℃に加熱し、
攪拌した。
【００８６】 反応物を規則的な間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）を
直ちに後処理した。溶媒を真空中で除去し、残滓をジクロロメタン（４ｍｌ）に
取った。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を
固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去
してオフホワイトの粉末を得た。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析し、
ｅｅをキラルＨＰＬＣによって決定した。
直ちに後処理した。溶媒を真空中で除去し、残滓をジクロロメタン（４ｍｌ）に
取った。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を
固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去
してオフホワイトの粉末を得た。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析し、
ｅｅをキラルＨＰＬＣによって決定した。
【００８７】 ４８時間後、反応は７２％完了し、所望の生成物が６３％ｅｅで形成された。 実施例５ Ｎ−ベンジル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノリ
ニウム臭化物の移動水素化
ニウム臭化物の移動水素化
【００８８】
【表１１】
【００８９】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン及び
二塩化ルテニウム二量体を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。この
フラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充
填した。固体をイソプロパノールに溶解した。その反応混合物を一晩攪拌した後
、Ｎ−ベンジル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノ
リニウムヨウ化物を添加した。ひとたび固体が溶解したら、ナトリウムイソプロ
ポキシドを一度に添加して反応を開始させた。その反応混合物を４０℃に加熱し
、攪拌した。
二塩化ルテニウム二量体を計量して清浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。この
フラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充
填した。固体をイソプロパノールに溶解した。その反応混合物を一晩攪拌した後
、Ｎ−ベンジル−１−メチル−６，７−ジメトキシ−３，４−ジヒドロイソキノ
リニウムヨウ化物を添加した。ひとたび固体が溶解したら、ナトリウムイソプロ
ポキシドを一度に添加して反応を開始させた。その反応混合物を４０℃に加熱し
、攪拌した。
【００９０】 反応物を規則的な間隔でサンプリングした。これらの試料（０．２５ｍｌ）を
直ちに後処理した。溶媒を真空中で除去し、残滓をジクロロメタン（４ｍｌ）に
取った。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を
固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去
してオフホワイトの粉末を得た。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析し、
ｅｅをキラルＨＰＬＣによって決定した。
直ちに後処理した。溶媒を真空中で除去し、残滓をジクロロメタン（４ｍｌ）に
取った。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を
固体無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去
してオフホワイトの粉末を得た。これらの試料を1Ｈ ＮＭＲによって分析し、
ｅｅをキラルＨＰＬＣによって決定した。
【００９１】 ４８時間後、反応は７３％完了し、所望の生成物が６９％ｅｅで形成された。 実施例６ Ｎ−ベンジル−インドレニニウム臭化物の移動水素化
【００９２】
【表１２】
【００９３】 （Ｒ，Ｒ）−Ｎ−トシル−１，２−ジアミノ−１，２−ジフェニルエタン、二
塩化ルテニウム二量体及びＮ−ベンジル−インドレニニウム臭化物を計量して清
浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。このフラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で
栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充填した。固体をアセトニトリルに溶解し
た。その反応混合物を５−１０分間攪拌した後、ギ酸／トリエチルアミン混合物
を添加して反応を開始させた。これらの試料（０．２５ｍｌ）を、ジクロロメタ
ン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去して白色粉末を得た。これらの試
料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
塩化ルテニウム二量体及びＮ−ベンジル−インドレニニウム臭化物を計量して清
浄乾燥 Schlenk フラスコに入れた。このフラスコを‘Suba-seal’（ＲＴＭ）で
栓をし、空気を抜いた後、窒素を３回充填した。固体をアセトニトリルに溶解し
た。その反応混合物を５−１０分間攪拌した後、ギ酸／トリエチルアミン混合物
を添加して反応を開始させた。これらの試料（０．２５ｍｌ）を、ジクロロメタ
ン（４ｍｌ）を添加することによって直ちに後処理し、有機相を飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液（４ｍｌ）で洗浄した。有機相を固体無水硫酸マグネシウムで乾燥
させた後、固体を濾別し、溶媒を真空中で除去して白色粉末を得た。これらの試
料を1Ｈ ＮＭＲによって分析した。
【００９４】 ２２時間後、還元は＞９８％完了していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ， ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，Ｔ Ｍ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 キャンベル，リンネ イギリス国ウェスト・ヨークシャー エイ チディー２・１エフエフ，ハダースフィー ルド，リーズ・ロード，ピー・オー・ボッ クス エイ38 Ｆターム(参考） 4C034 AB20 4C204 AB20 CB03 DB01 FB10 GB01 4G069 AA06 BA27A BA27B BC70A BC70B BC71A BC74A BE14A BE14B BE21A BE36A BE37A BE37B BE46A BE46B CB02 CB57 CB62 4H006 AA02 AB84 AC50 AC81 BA22 BA23 BA24 BA39 BA44 BA46 BA81 BA92 4H039 CA42 CB30
Claims (14)
- 【請求項１】 式（１）の化合物の移動水素化方法であって、 【化１】 （ここで； Ｘは（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑ-、Ｎ+Ｒ5−Ｏ-、（ＮＲ6ＯＲ7）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9Ｒ1 0 ）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9Ｃ（＝ＮＲ11）Ｒ12）+Ｑ-、（ＮＲ8ＮＲ9ＳＯ2Ｒ13）+
Ｑ-、又は（ＮＲ8ＮＲ9ＣＯＲ14）+Ｑ-を表し； Ｑ-は、一価アニオンを表し； Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、及びＲ11は、各々独
立に、水素原子、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロ
カルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、Ｒ1及びＲ2、Ｒ1
及びＲ3、Ｒ2及びＲ4、Ｒ3及びＲ4、Ｒ1及びＲ5、Ｒ1及びＲ6、Ｒ2及びＲ7、Ｒ1 及びＲ8、Ｒ1及びＲ9、Ｒ6及びＲ7、Ｒ8及びＲ9並びにＲ9及びＲ10はうちの１つ
以上が置換されていてもよい環（１つもしくは複数）を形成するような方法で結
合していてもよく；並びに Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、
ペルハロゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表
す。） 式（１）の化合物を触媒の存在下において水素供与体と反応させることを含み、
該触媒が下記一般式： 【化２】 （ここで： Ｒ15は中性の置換されていてもよいヒドロカルビル又はペルハロゲン化ヒドロ
カルビル配位子を表し； Ａは−ＮＲ16−、−ＮＲ17−、−ＮＨＲ16、−ＮＲ16Ｒ17又は−ＮＲ17Ｒ18を
表し、ここで、Ｒ16はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ18、ＳＯ2Ｒ18、Ｃ（Ｏ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ
（Ｓ）ＮＲ18Ｒ22、Ｃ（＝ＮＲ22）ＳＲ23又はＣ（＝ＮＲ22）ＯＲ23であり、Ｒ 17 及びＲ18は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲ
ン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつＲ 22 及びＲ23は、各々独立に、水素又はＲ18について定義される基であり； Ｂは−Ｏ−、−ＯＨ、ＯＲ19、−Ｓ−、−ＳＨ、ＳＲ19、−ＮＲ19−、−ＮＲ 20 −、−ＮＨＲ20、−ＮＲ19Ｒ20、−ＮＲ19Ｒ21、−ＰＲ19−又は−ＰＲ19Ｒ21 を表し、ここで、Ｒ20はＨ、Ｃ（Ｏ）Ｒ21、ＳＯ2Ｒ21、Ｃ（Ｏ）ＮＲ21Ｒ24、
Ｃ（Ｓ）ＮＲ21Ｒ24、Ｃ（＝ＮＲ24）ＳＲ25又はＣ（＝ＮＲ24）ＯＲ25であり、
Ｒ19及びＲ21は、各々独立に、置換されていてもよいヒドロカルビル、ペルハロ
ゲン化ヒドロカルビル又は置換されていてもよいヘテロシクリル基を表し、かつ
Ｒ24及びＲ25は、各々独立に、水素又はＲ21について定義される基であり； Ｅは連結基を表し； Ｍは移動水素化を触媒することが可能な金属を表し；並びに Ｙはアニオン基、塩基性配位子又は空の部位を表し； ただし、Ｙが空の部位ではない場合、Ａ又はＢの少なくとも１つは水素原子を
担持する。） を有することを特徴とする方法。 - 【請求項２】 Ｘが（ＮＲ3Ｒ4）+Ｑを表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4が、各々独立に、置換さ
れていてもよいヒドロカルビル、ペルハロゲン化ヒドロカルビルもしくは置換さ
れていてもよいヘテロシクリル基を表すか、又はＲ1及びＲ2、Ｒ1及びＲ3、Ｒ2
及びＲ4並びにＲ3及びＲ4のうちの１つ以上が置換されていてもよい環（１つも
しくは複数）を形成するような様式で連結していてもよい、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項３】 ＭがVIII族遷移金属、特にはルテニウム、ロジウム又はイリジウムである、請
求項１又は２のいずれかに記載の方法。 - 【請求項４】 Ｒ15が置換されていてもよいアリール又は置換されていてもよいアルケンであ
る、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】 Ａ−Ｅ−Ｂが、好ましくは置換されていてもよい２−アミノエタノール、置換
されていてもよい３−アミノプロパノール及び置換されていてもよいエチレンジ
アミンから選択される、アミノアルコール又はジアミンであるか、又はそれらか
ら誘導される、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 Ａ又はＢのいずれかがアシル又はスルホニル基、好ましくは、トルエンスルホ
ニル、メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル又はアセチル基を担持
する、請求項５に記載の方法。 - 【請求項７】 Ａ−Ｅ−Ｂが以下のもののうちの１つであるか、又はそれから誘導される請求
項５に記載の方法。 【化３】 - 【請求項８】 式（１）の化合物がプロキラルであり、かつ触媒がキラルであって、鏡像異性
的及び／又はジアステレオ異性的に純粋な形態の触媒が用いられ、それにより式
（１）の化合物を非対称的に水素化する、請求項１ないし７のいずれかに記載の
方法。 - 【請求項９】 Ａ−Ｅ−Ｂが少なくとも１つの立体特異的中心を含む、請求項８に記載の方法
。 - 【請求項１０】 水素供与体が水素、一級及び二級アルコール、一級及び二級アミン、カルボン
酸及びそれらのエステル及びアミン塩、容易に脱水素化可能な炭化水素、清浄な
還元剤、並びにそれらのあらゆる組み合わせから選択される、請求項１ないし９
のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１１】 水素供与体がトリエチルアミン及びギ酸の混合物である、請求項１０に記載の
方法。 - 【請求項１２】 水素供与体の脱水素化に由来する生成物を不活性ガス噴霧又は真空蒸留によっ
て除去する、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１３】 Ａ−Ｅ−ＢがＮ−トシルジアミンであるか、又はそれから誘導されるものであ
る触媒の存在下で、式（１）の化合物を移動水素化する、請求項１ないし１２の
いずれか１項に記載の方法。 - 【請求項１４】 少なくとも８．０のｐＫaを有する塩基の存在下において実施される、請求項
１ないし１３のいずれか１項に記載の方法。
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