JP2002513734A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 下記一般化学式により表されるキラルな触媒。
【化１】

（ここで、置換基R₁、R₂、Y₁、Y₂、X₁、X₂、X₃およびX₄が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し、
あるいは任意の2つ以上の置換基が合わさって、環構造内に4から8原子を有する炭素環または複素環を形成し、
R₁、Y₁、X₁およびX₂の少なくとも1つが、R₂、Y₂、X₃およびX₄の少なくとも1つに共有結合して4座配位子としてそれらが結合するβ−イミノカルボニルを提供し、かつY₁およびY₂の少なくとも1方が水素であることを条件とし；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；かつ
Aが対イオンまたは求核試薬を表し、
ここで置換基R₁、R₂、Y₁、Y₂、X₁、X₂、X₃およびX₄が、それぞれ、該触媒が不斉になるように選択される。）
【請求項２】 下記一般化学式104により表されるキラルな触媒。
【化２】

（ここで、B₁部分が−R₁₅−R₁₆−R₁₇−によって表されるジイミン架橋置換基を表し、ここでR₁₅およびR₁₇が、それぞれ独立して、存在しないか、またはアルキル、アルケニルもしくはアルキニルを表し、かつR₁₆が存在しないか、またはアミン、イミン、アミド、ホスホリル、カルボニル、シリル、酸素、硫黄、スルホニル、セレニウム、カルボニルもしくはエステルを表し；
B₂およびB₃が、それぞれ独立して、その環構造内に4から8原子を含む、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、および複素環より成る群から選択された環を表し；
Y₁およびY₂が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し、
R₁₂、R₁₃およびR₁₄が、それぞれ独立して、存在しないか、または、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇によるB₁、B₂およびB₃の少なくとも1つの共有結合置換を表し、ここで、R₁₂は、−R₁₅−R₁₆−R₁₇−の1つ以上の位置に存在でき、
あるいはR₁₂、R₁₃、R₁₄、Y₁およびY₂の任意の2つ以上が合わさって、架橋置換基を形成し；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；かつ
Aが対イオンまたは求核試薬を表し、
ここで置換基R₁₂、R₁₃、R₁₄、Y₁、Y₂は、該触媒が不斉になるように選択される。）
【請求項３】 下記一般化学式106により表されるキラルな触媒。
【化３】

（ここで、置換基R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、Y₁、Y₂、X₁、X₂、X₃、X₄、X₅、X₆、X₇およびX₈が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
あるいは、任意の2つ以上の置換基が合わさって、環構造内に4から10原子を有する炭素環または複素環を形成し；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；かつ
Aが対イオンまたは求核試薬を表し；
ここで、もしR₅が存在しなければ、R₁とR₂の少なくとも1方がR₃とR₄の少なくとも1方と合わさって架橋置換基を形成し、さらに化学式106の置換基のそれぞれが、サレネートが不斉になるように選択される。）
【請求項４】 下記一般化学式100により表されるキラルな触媒。
【化４】

（ここでZ₁、Z₂、Z₃およびZ₄がそれぞれルイス塩基を表し；
Z₁、Z₃およびMで形成されるC₁部分、およびZ₂、Z₄およびMで形成されるC₂部分が、それぞれ独立して、複素環を形成し；
R₁、R₂、R’₁およびR’₂が、それぞれ独立して、存在しないか、またはそれが結合する電子供与原子の原子価要求によって許容される有機または無機の置換基での共有結合置換を表し、
R₄₀およびR₄₁が、それぞれ独立して、存在しないか、またはそれが結合する環原子の原子価要求によって許容される有機または無機の置換基でのC₁およびC₂の1つ以上の共有結合置換を表し、
あるいはR₁、R₂、R’₁、R’₂、R₄₀およびR₄₁の任意の2つ以上が合わさって、架橋置換基を形成し；
C₁が少なくとも1つの部位でR₁、R’₁またはR₄₁によって置換され、かつC₂が少なくとも1つの部位でR₂、R’₂またはR₄₀によって置換され、さらにR₁、R’₁およびR₄₁の少なくとも1つがR₂、R’₂またはR₄₀の少なくとも1つと合わさって、4座配位子としてZ₁、Z₂、Z₃およびZ₄を提供するように架橋置換基を形成していることを条件とし；
Mが主族金属イオンを表し；
Aが対イオンまたは求核試薬を表し；
R₁、R₂、R’₁、R₂、R₄₀およびR₄₁が該4座配位子において、少なくとも1つの立体中心を提供するように選択される。）
【請求項５】 前記R₁、R₂、R’₁およびR₂が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
化学式100におけるR₄₀およびR₄₁が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数である；
ことを特徴とする請求項４記載の触媒。
【請求項６】 前記Z₁、Z₂、Z₃およびZ₄が、それぞれ独立して、窒素、酸素、リン、ヒ素、硫黄より成る群から選択されることを特徴とする請求項４または５記載の触媒。
【請求項７】 下記一般化学式により表されるエイジドメタロサレネート触媒を含む組成物。
【化５】

（ここで、置換基R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、Y₁、Y₂、X₁、X₂、X₃、X₄、X₅、X₆、X₇およびX₈が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
あるいは、任意の2つ以上の置換基が合わさって、環構造内に4から10原子を有する炭素環または複素環を形成し；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；かつ
Aが対イオンまたは求核試薬を表し；
ここで、もしR₅が存在しなければ、R₁とR₂の少なくとも1方がR₃とR₄の少なくとも1方と合わさって架橋置換基を形成し、さらに化学式106の置換基のそれぞれが、サレネートが不斉になるように選択される。）
【請求項８】 一般化学式140により表されるキラルな触媒。
【化６】

（ここで、Z₁、Z₂およびZ₃が、それぞれ、ルイス塩基を表し；
Z₁、Z₂およびMで形成されているE₁部分、およびZ₂、Z₃およびMで形成されているE₂部分が、それぞれ独立して、複素環を形成し；
R₈₀およびR₈₁が、それぞれ独立して、存在しないか、または、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホリル、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し、あるいはR₈₀、R₈₁の置換基の任意の2つ以上が合わさって、架橋置換基を形成し；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；
Aが対イオンまたは求核試薬を表し；かつ
3座配位子が不斉である。）
【請求項９】 一般化学式150により表されるキラルな触媒。
【化７】

（ここで、R₁₀₆が、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
R₁₁₂およびR’₁₁₂が、それぞれ、存在しないか、またはそれが結合している複素環の1つ以上の共有結合置換を表し；
R₇が、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；ｍはゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；
Mが主族金属を表し；かつ
Aが対イオンまたは求核試薬を表す。）
【請求項１０】 一般化学式108により表されるキラルな触媒。
【化８】

（ここで、D₁、D₂、D₃およびD₄が、それぞれ、ピロール、ピロリジン、ピリジン、ピペリジン、イミダゾール、ピラジンを含む群から選択された複素環を表し；
R₁₈が、それぞれ、隣接する複素環を連結している架橋置換基を表し；
R₁₉が、それぞれ独立して、存在しないか、またはそれが結合している複素環の1つ以上の置換基を表し；該置換基が、それぞれ独立して、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、および−(CH₂)_m−R₇より成る群から選択され、あるいは置換基R₁₈およびR₁₉の２つ以上が共有結合して架橋置換基を形成し；
R₇が、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；さらに
Mが主族金属を表し、かつ
該触媒が不斉である。）
【請求項１１】 一般化学式110により表されるキラルな触媒。
【化９】

（ここで、R₁₉、R’₁₉およびR₂₀が、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシル、アルコキシル、シリロキシル、アミノ、ニトロ、チオ、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、または−(CH₂)_m−R₇を表し；
同じピロール上の任意の2つのR₁₉およびR’₁₉置換基が合わさって、環構造内に4から7の原子を有する縮合炭素環または縮合複素環を形成することができ；
R₁₉、R’₁₉およびR₂₀置換基の任意の2つ以上が共有結合して交差連結し、架橋置換基を形成していて差し支えなく；
R₇がアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、複素環または多環を表し；
ｍがゼロまたは1から8の範囲内の整数であり；さらに
Mが主族金属を表し；かつ
該触媒が不斉である。）
【請求項１２】 前記主族金属が、周期表の1、2、12、13、または14族から選択されることを特徴とする、請求項１から６および８から１１いずれか１項記載の触媒または請求項７記載の組成物。
【請求項１３】 前記主族金属が、12、13、または14族から選択されることを特徴とする、請求項１から６および８から１１いずれか１項記載の触媒または請求項７記載の組成物。
【請求項１４】 前記Mが、Li、Na、K、Pb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Hg、B、Al、Ga、In、Si、GeおよびSnより成る群から選択されることを特徴とする、請求項１から６および８から１１いずれか１項記載の触媒または請求項７記載の組成物。
【請求項１５】 前記MがAl(III)であることを特徴とする、請求項１から６および８から１１いずれか１項記載の触媒または請求項７記載の組成物。