JP2002511478A - ラミナリビオースの合成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、グリコシル供与体及び受容体間のグリコシド結合の工程からなるラミナリビオース調製方法に関する。本発明は、グリコシル供与体はピラノース型で、式（ＩＩ）に相当し；グリコシル受容体はフラノース型であり、式（ＩＩＩ）に相当し；上記結合工程は、無水有機溶媒の溶液で、−８０℃〜４０℃の温度範囲で、１分〜８時間の時間範囲で適当な助触媒の存在下で行うことを特徴とする。 【化１】 【化２】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、一般にラミナリビオースと称される式（Ｉ）のβ−Ｄ−グルコピラノ
シル−（１→３）−Ｄ−グルコピラノース

【０００２】

【化５】

【０００３】 の新規化学調製方法に関する。 ラミナリビオースは、特に農業分野で殺菌剤として使用される二糖である。 この二糖は、植物由来の天然多糖の加水分解又はアセトリシスによって一般に得
られる（Ｖｉｌｌａ，Ｐｈａｆｆ，Ｎｏｔａｒｉｏ，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅ
ｓ．，１９７９，７４，３６９；Ｋｕｓａｍａ，Ｋｕｓａｋａｂｅ，Ｚａｍａ，
Ｍｕｒａｋａｍｉ，Ｙａｓｕｉ，Ａｇｒｉｃ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９８
４， ４８， １４３３； Ｗａｎｇ， Ｓａｋａｉｒｉ， Ｋｕｚｕｈａｒａ
，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９９１，２１９，１３３；Ｍｏｒｅａｕ，
Ｖｉｌａｄｏｔ，Ｓａｍａｉｎ，Ｐｌａｎａｓ，Ｄｒｉｇｕｅｚ，Ｂｉｏｏｒ
ｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９６，４，１８４９参照）。 ラミナリビオースは、化学的に、特に、糖ハロゲン化物をグリコシル供給体とし
て利用するＯ−グリコシル化のケーニッヒス・クノール方法（Ｋｏｅｎｉｇｓ，
Ｋｎｏｒｒ，Ｂｅｒ．Ｄｔｓｃｈ．Ｃｈｅｍ．Ｇｅｓ．，１９０１， ３４，
９５７）から派生した方法でも調製できる。

【０００４】 第一の方法は、１９５１年にＦｒｅｕｄｅｎｂｅｒｇとｖｏｎ Ｏｅｒｔｚｅｎ
により提唱された（Ｆｒｅｕｄｅｎｂｅｒｇ，ｖｏｎ Ｏｅｒｔｚｅｎ，Ｊｕｓ
ｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．，１９５１，５７４，３７）、そ
して、第二の方法は、１９５２年にＢａｃｈｌｉとＰｅｒｃｉｖａｌにより記さ
れた（Ｂａｃｈｌｉ，Ｐｅｒｃｉｖａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９５２，
１２４３参照）。 これらの２つの方法の主な欠点は、実行困難な精製及び総収率が１０％未満であ
ることにある。 第三の方法は、１９７９年にＴａｋｅｏにより提唱されたが（Ｔａｋｅｏ，Ｃａ
ｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９７９，７７，２４５）、使用するグルコピラノ
ース型の受容体の水酸基の選択的保護及び脱保護に数回の工程が必要である。オ
ルト−エステルよりラミナリビオースを生成することも提唱された（Ｋｏｃｈｅ
ｔｋｏｖ，Ｂｏｃｈｔｏｖ，Ｓｏｋｏｌｏｖｓｋａｙａ，Ｓｎｙａｔｋｏｖａ，
Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９７１，１６，１７参照）。しかしながら、
この方法は実行困難で、ラミナリビオースが総収率１０％程度しか得られないこ
とが証明されている。

【０００５】 以上の状況に鑑み、本発明の目的は、実行が容易な限られた数の工程で、目的物
が高い総収率で純粋な形で得られるラミナリビオースの新規化学調製方法を提供
することである。 上記技術的問題を解決する本発明による解決は、 グリコシル供与体及びグリコシル受容体間のグリコシルカップリング工程からな
るラミナリビオースの調製方法であって、 ・グリコシル供与体はピラノース型で、式（ＩＩ）：

【０００６】

【化６】

【０００７】 式中： Ｒ_１は： −１〜６の炭素原子を有するアルキル基又はハロアルキル基 −ハロゲン原子、１〜６の炭素原子を有するアルコキシル基及びニトロ基から選
択される１つ若しくは複数の基で置換、又は、無置換のアリール基； を表し、 Ｘは： −式中、Ｒ’は１〜６の炭素原子を有するアルキル基、又は、１〜６の炭素原子
を有するアルコキシル基及びニトロ基若しくはアセトアミド基で置換された若し
くは無置換のアリール基で、ｎは整数０又は１である式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基；及
び、 −トリクロロアセトイミデート基； から選択される親電子脱離基を表す で表され、 ・グリコシル受容体はフラノース型で、式（ＩＩＩ）

【０００８】

【化７】

【０００９】 式中、Ｒ_２及びＲ_３は、一緒になって、メチリジル基、エチリジル基、トリクロ
ロエチリジル基、イソプロピリジル基、ヘキサフルオロイソプロピリジル基、シ
クロペンチリジル基、シクロヘキシリジル基、シクロヘプチリジル基、ブチリジ
ル基、１−ｔｅｒｔ−ブチルエチリジル基、１−フェニルエチリジル基、ベンジ
リジル基、メトキシベンジリジル基、又は、１−フェニルベンジリジル基を表し
；そして、 Ｒ_４及びＲ_５は、一緒になって、メチリジル基、エチリジル基、トリクロロエチ
リジル基、イソプロピリジル基、ヘキサフルオロイソプロピリジル基、シクロペ
ンチリジル基、シクロヘキシリジル基、シクロヘプチリジル基、ブチリジル基、
１−ｔｅｒｔ−ブチルエチリジル基、１−フェニルエチリジル基、ベンジリジル
基、メトキシベンジリジル基若しくは１−フェニルベンジリジル基を表すか、又
は、各々、ベンジル基、アセチル基、ベンゾイル基、クロロベンゾイル基、メト
キシベンゾイル基、ニトロベンゾイル基、アリル基、クロロベンジル基、メトキ
シベンジル基若しくはニトロベンジル基を表し；

【００１０】 ・上記カップリング工程は、無水有機溶媒の溶液内で、−８０℃〜４０℃の温度
で、１分〜８時間、 −Ｘが上記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基であり、ｎが整数０である場合、ルイ
ス酸若しくは強酸塩と併用する又は併用しないハロニウムイオン源、 −Ｘが上記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基であり、ｎが整数１である場合、アミ
ンと併用するルイス酸、 −Ｘがトリクロロアセトイミデートである場合、ブレンステッド酸又はルイス酸
から選択される適当な助触媒の存在下で行われ；そして、 ・このように得られた反応生成物は、中和され、精製され、脱保護処理して、精
製した後、ラミナリビオースを与える ことを特徴とするラミナリビオースの調製方法にある。

【００１１】 カップリング反応時に使用するグリコシル供与体、グリコシル受容体及び助触媒
を適当に選択することにより、比較的高い総収率で得られる限られた数の工程で
ラミナリビオースを化学的に調製することが可能であることが発見され、このこ
とが本発明の基礎を構成する。 本記載及び請求項において： −「１〜６の炭素原子を有するアルキル基」は、例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、
ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基等の直鎖又は分枝の
炭化水素基を意味するものと解され、 −「１〜６の炭素原子を有するハロアルキル基」は、例えば、クロロメチル基、
ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、
ペンタフルオロエチル基又はヘプタフルオロプロピル基等、１〜７の水素原子が
１〜７のハロゲン原子で置換されたアルキル基を意味するものと解され、 −「アリール基」は、フェニル基、ピリジル基、チエニル基、フラニル基若しく
はピリミジル基等の、５若しくは６の炭素原子又はヘテロ原子を有する芳香族環
を意味するものと解される。

【００１２】 上記式（ＩＩ）のグリコシル供与体及び上記式（ＩＩＩ）のグリコシル受容体は
、D−グルコースから１つ又は２つの工程で比較的簡単に得られる。 好ましくは、グリコシル供与体は、一般に、式中： Ｒ_１が、メチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基及びニトロフェニル基
からなる群より選択される基を表し； Ｘが、チオメチル基、チオエチル基、チオプロピル基、チオフェニル基、チオニ
トロフェニル基及びチオピリジル基からなる群より選択される基を表す； 式（ＩＩ）の化合物から選択されるものである。

【００１３】 上記カップリング工程時に使用される助触媒は、 −Ｘが上記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’基を表し、式中ｎが０である場合、 塩化鉄、銅ジトリフラート、錫ジトリフラート、ジエーテル三フッ化ホウ素、四
塩化錫若しくはジルコニウム、メチルトリフラート、トリメチル−（若しくはト
リエチル−）シリルトリフラート、銀トリフラート、カドミウムジトリフラート
、コバルトジトリフラート、ニッケルジトリフラート、亜鉛ジトリフラート、ビ
スマストリトリフラート、鉄トリトリフラート、ガリウムトリトリフラートから
選択されるルイス酸、又は、テトラブチルアンモニウムトリフラート等の強酸塩
と併用する又は併用しないＮ−ブロモスクシンイミド又はＮ−ヨードスクシンイ
ミド、 −Ｘが上記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’基を表し、式中ｎが１である場合、無水ト
リフリック酸、塩化鉄、銅ジトリフラート、錫ジトリフラート、ジエーテル三フ
ッ化ホウ素、四塩化錫若しくはジルコニウム、メチルトリフラート、トリメチル
−（若しくはトリエチル−）シリルトリフラート、銀トリフラート、カドミウム
ジトリフラート、コバルトジトリフラート、ニッケルジトリフラート、亜鉛ジト
リフラート、ビスマストリトリフラート、鉄トリトリフラート、ガリウムトリト
リフラートから選択されるルイス酸で、特にジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルピリジ
ン等のアミンと併用するもの、並びに、 −Ｘがトリクロロアセトイミデートを表す場合、特にトリフリック酸若しくはパ
ラ−トルエンスルホン酸等のブレンステッド酸、又は、無水トリフリック酸、塩
化鉄、銅ジトリフラート、錫ジトリフラート、ジエーテル三フッ化ホウ素、四塩
化錫若しくはジルコニウム、メチルトリフラート、トリメチル−（若しくはトリ
エチル−）シリルトリフラート、銀トリフラート、カドミウムジトリフラート、
コバルトジトリフラート、ニッケルジトリフラート、亜鉛ジトリフラート、ビス
マストリトリフラート、鉄トリトリフラート、ガリウムトリトリフラートから選
択されるルイス酸 から選択される。

【００１４】 本発明による方法の現時点で好ましい実施形態において、 ・グリコシル供与体は、 式中： Ｒ_１は、フェニル基を表し；そして、 Ｘは、式中ｎは０であり、Ｒ’はエチル基又はフェニル基を表す式Ｓ（Ｏ）ｎＲ
’基を表す、 上記式（ＩＩ）で表され、 ・グリコシル受容体は、 式中： Ｒ_２、Ｒ_３、及び、Ｒ_４、Ｒ_５は、シクロヘキシリジル基又はイソプロピリジル
基を表す、 上記式（ＩＩＩ）で表される。

【００１５】 上記の好ましい実施形態において、カップリング反応中使用される助触媒は、好
ましくは１：０．５〜１：０．００５の割合にあるＮ−ヨードスクシンイミド及
び錫トリフラートの混合物からなる。 一般に、上記カップリング工程は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、
又は、トルエンの溶液中、好ましくはモレキュラーシーブの存在下、−３０℃〜
３０℃の温度で、１分〜６時間、より好ましくは１０℃で、３０分間行われる。
グリコシル供与体、グリコシル受容体及び助触媒の量は、それぞれ当業者により
容易に決定できる。 一般に、カップリング反応は： −グリコシル受容体１当量； −グリコシル供与体１〜２当量を；そして、 −助触媒１〜２当量を； −受容体に対し、５〜２００重量当量の溶媒中 で反応させて行うことができる。

【００１６】 好ましくは、ジクロロメタン、１，２―ジクロロエタン、トルエン等の有機溶媒
が、例えば、１０〜２００ｍｇ／ｍｌ溶媒量の４Åモレキュラーシーブ等、（反
応時生じうる酸を捕捉するための）モレキュラーシーブを存在させて使用されう
る。 上記カップリング反応で得られた生成物は、一般に中和した後、精製される。 中和は、有機塩基、好ましくはトリエチルアミン若しくはエタノールアミンを添
加、又は、無機塩基、好ましくは炭酸若しくは炭酸水素ナトリウム又はカリウム
を添加して、得られた塩を濾過することにより行われる。

【００１７】 精製は： 例えばシリカゲル又は活性炭カラム等のカラムクロマトグラフィー、 又は、好ましくは有機溶媒、若しくは、エチルエーテル、酢酸エチル、シクロヘ
キサン若しくはエタノール等の有機溶媒の混合液中の分別結晶 により行うことができる。 カップリング反応、中和、精製した生成物は、脱保護処理、精製を経て、ラミナ
リビオースとなる。 一般に、上記脱保護処理は２つの工程からなり、第一の工程はグリコシル受容体
由来のアセタール基の解離により、カップリング反応の生成物を部分脱保護する
ことからなる。

【００１８】 本発明の方法の範疇において、脱保護処理は、 ａ）水溶液若しくは水−有機媒体中、又は、酸樹脂の存在下で、酸処理によりグ
リコシル受容体由来のアセタール基を解離し； ｂ）このようにして得られた生成物を精製して； ｃ）工程ｂ）で得られた生成物をエステル交換又は加水分解して；そして、 ｄ）このようにして得られた生成物を精製する； ことからなる。 上記解離反応ａ）は、好ましくは同量のトリフルオロ酢酸及び水からなる混合液
等の水−有機媒体中、１０〜７０℃の温度で、１時間〜１０日間行われ、この場
合、得られた部分脱保護生成物は、好ましくはメタノール中での分別結晶又はク
ロマトグラフィーにより精製できる。 トリフルオロ酢酸の代わりに、酢酸、蓚酸、蟻酸、硫酸、塩酸、リン酸を使用す
ることもできる。

【００１９】 本発明の方法の範疇において、上記エステル交換工程ｃ）は、１分〜１０日間、
触媒量のナトリウム、ナトリウム若しくはカリウムメトキシド若しくはエトキシ
ドの存在下で、メタノール又はエタノール等のアルコール溶媒中で行うことが可
能である。 このようにして行われたエステル交換生成物は、一般に、 ｄ１）工程ｃ）で得られた生成物を中和して； ｄ２）水で共沸蒸発又は有機溶媒で抽出して、生成された安息香酸エステルを除
去し； ｄ３）低圧下で、残留水相を濃縮して； ｄ４）場合により、水―アルコール混合液中で得られたラミナリビオースを凍結
乾燥又は結晶化する。

【００２０】 本発明のその他の特徴又は利点は、以下の実施例を読むことにより、よりよく理
解されるが、以下の実施例は本発明を制限するものでない。実施例１：グリコシル受容体の調製実験 本実施例では、グリコシル受容体、すなわち、１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロ
ヘキシリデン−α−Ｄ−グルコフラノース（式中、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５が
シクロヘキシリジル基を表す式ＩＩＩの化合物）をＤ−グルコースより１つの単
独の工程で調製した。

【００２１】

【化８】

【００２２】 ２０ｍｌ（３７５ｍｍｏｌ；１．０３ｅｑ）濃硫酸を、６５ｇＤ−グルコース（
３６１ｍｍｏｌ；１ｅｑ）及び８５ｍｌ（８２０ｍｍｏｌ；２．２７ｅｑ）シク
ロヘキサノンの５０ｍｌの１，４−ジオキサン（５８７ｍｍｏｌ；１．６２ｅｑ
）液へ室温で滴下した。添加が終了して３０分後、生成物が反応媒体より沈殿し
た。沈殿を粉砕し、濾過して、水で洗浄した。粗成物をシクロヘキサンより再結
晶して、１０４ｇの１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘキシリデン−α−Ｄ−グ
ルコフラノースを得た。

【００２３】 収率（％）：８５ 白色固体 融点（℃）＝１３４〜１３６ ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．８（ジクロロメタン／メタノール（９／１；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１１２．４９，１１
０．３２（Ｃ ｑｕａｔ．）；１０４．９３（Ｃ１）；８４．６２（Ｃ２）；８
１．２３（Ｃ４）；７５．３９（Ｃ３）；７３．２７（Ｃ５）；６７．４０（Ｃ
６）；３６．５０，３６．４８，３５．６９，３４．６５，２５．０９，２４．
９４，２４．０８，２３．９５，２３．８２，２３．６３，（ＣＨ_２）^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：５．９３（ｄ，１Ｈ，
Ｈ１，Ｊ_{Ｈ１−Ｈ２}＝３．６Ｈｚ）；４．５０（ｄ，１Ｈ，Ｈ２，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ１} ＝３．６Ｈｚ）；４．３４−４．３０（ｍ，２Ｈ，Ｈ３，Ｈ５）；４．１４（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｈ６，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ５}＝６．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ６’}＝８．６Ｈｚ）；
４．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ４，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ３}＝２．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ５}＝７．
６Ｈｚ）；３．９５（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ５}＝５．４Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ ６’−Ｈ６} ＝８．６Ｈｚ）；１．７０−１．３６（ｍ，２０Ｈ，ＣＨ₂）実施例２：グリコシル供与体の調製実験： 本実施例では、グリコシル供与体（式中、Ｒ_１はフェニル基、Ｘは上記で定義し
た式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基であり、ｎ＝０であり、Ｒ’がエチル基である式ＩＩの
化合物）を２つの工程で調製した。 ａ）１，２，３，４，６−ペンタ−Ｏ−ベンゾイル−Ｄ−グルコピラノースの調
製

【００２４】

【化９】

【００２５】 １００ｇＤ−グルコース（５５５ｍｍｏｌ；１ｅｑ）を、２Ｌピリジンに溶解さ
せ、反応媒体を１時間還流加熱して、３８７ｍｌ（３３３０ｍｍｏｌ；６ｅｑ）
塩化ベンジルを加熱下で添加した。添加後、媒体を水で希釈して、生成物を沈殿
させ、濾過して、水で洗浄して中性にした。乾燥後、酢酸エチルより再結晶して
精製した。

【００２６】 収率（％）：１００ 白色固体 融点（℃）＝１６４〜１６６（βアノマー）；１８８〜１９１（αアノマー） ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．３（石油エーテル／酢酸エチル（８／２；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：βアノマー：１６６
．１７，１６５．７４，１６５．１９，１６５．１６，１６４．６６（Ｃ＝Ｏ）
；９２．７４（Ｃ１）；７３．２１，７２．８５（Ｃ３，Ｃ５）；７０．８７（
Ｃ２）；６９．０８（Ｃ４）；６２．７１（Ｃ６）；αアノマー：１６６．１５
，１６５．９６，１６５．４２，１６５．１８，１６４．４７（Ｃ＝Ｏ）；９０
．０８（Ｃ１）；７０．５４，７０．５１，７０．４５（Ｃ２，Ｃ３，Ｃ５）；
６８．８３（Ｃ４）；６２．４９（Ｃ６）

【００２７】^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：８．２０−７．１６（
ｍ，２５Ｈ，Ｈ ａｒｏｍ．）；βアノマー：６．３０（ｄ，１Ｈ，Ｈ１，Ｊ_{Ｈ １−Ｈ２} ＝８．０Ｈｚ）；６．０５（ｔ，１Ｈ，Ｈ３，Ｊ_{Ｈ３−Ｈ２}＝Ｊ_{Ｈ３− Ｈ４} ＝９．５Ｈｚ）；５．８７（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ１}＝８．０Ｈｚ
，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ３}＝９．５Ｈｚ）；５．８４（ｔ，１Ｈ，Ｈ４，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ３}＝Ｊ _{Ｈ４−Ｈ５} ＝９．６Ｈｚ）；４．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ５}＝２．
９Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ６’}＝１２．３Ｈｚ）；４．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’，Ｊ _{Ｈ６’−Ｈ５} ＝４．７Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ６}＝１２．３Ｈｚ）；４．４１（ｄｄ
ｄ，１Ｈ，Ｈ５，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ４}＝９．７Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ６}＝３．０Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ ５−Ｈ６’} ＝４．６Ｈｚ）；αアノマー：６．８５（ｄ，１Ｈ，Ｈ１，Ｊ_{Ｈ１− Ｈ２} ＝３．８Ｈｚ）；６．３３（ｔ，１Ｈ，Ｈ３，Ｊ_{Ｈ３−Ｈ２}＝Ｊ_{Ｈ３−Ｈ４} ＝１０．０Ｈｚ）；５．８８（ｔ，１Ｈ，Ｈ４，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ３}＝Ｊ_{Ｈ４−Ｈ５}＝
９．８Ｈｚ）；５．６９（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ１}＝３．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ ２−Ｈ３} ＝１０．３Ｈｚ）；４．６５−４．６０（ｍ，２Ｈ，Ｈ５，Ｈ６）；４
．４８（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ５}＝５．０Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ６}＝
１３．０Ｈｚ） ｂ）２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−１−チオ−Ｄ−グルコピラノシ
ドの調製

【００２８】

【化１０】

【００２９】 １００ｇ過安息香酸グルコース（１４３ｍｍｏｌ；１ｅｑ）を２Ｌジクロロメタ
ンに溶解させ、反応媒体を還流して、１２．７ｍｌエタンチオール（１７１ｍｍ
ｏｌ；１．２ｅｑ）及び５４．２ｍｌ（４２９ｍｍｏｌ；３ｅｑ）３フッ化ホウ
素エーテル酸をそこへ添加した。合計２時間反応して、媒体をジクロロメタンで
希釈して、５％炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄して、ｐＨが中性になるまで水で
洗浄した。生成物が酢酸エチルで再結晶して、７３ｇ生成物を回収した。

【００３０】 収率（％）：８０ 白色固体 融点（℃）＝１３３〜１３４（αアノマー） ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．４（βアノマー）；０．５（αアノマー）（石油エーテル／
酢酸エチル（８／２；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１６６．２３，１６
６．１８，１６５．８７，１６５．７１，１６５．５０，１６５．３８，１６５
．２７（Ｃ＝Ｏ）；αアノマー：８２．１０（Ｃ１）；７１．７４（Ｃ２）；７
０．９９（Ｃ３）；６９．６２（Ｃ４）；６８．２１（Ｃ５）；６３．１４（Ｃ
６）；２４．３４（ＣＨ_２）；１４．７１（ＣＨ_３）；βアノマー：８４．０２
（Ｃ１）；７６．３７（Ｃ５）；７４．１９（Ｃ３）；７０．６８（Ｃ２）；６
９．７１（Ｃ４）；６３．４２（Ｃ６）；２４．４７（ＣＨ_２）；１５．０１（
ＣＨ_３）

【００３１】^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：８．０６−７．２６（
２ｍ，４０Ｈ，Ｈ ａｒｏｍ．）；αアノマー：６．０８（ｔ，１Ｈ，Ｈ３，Ｊ _{Ｈ３−Ｈ２} ＝Ｊ_{Ｈ３−Ｈ４}＝９．９Ｈｚ）；５．９５（ｄ，１Ｈ，Ｈ１，Ｊ_{Ｈ１ −Ｈ２} ＝５．８Ｈｚ）；５．６８（ｔ，１Ｈ，Ｈ４，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ３}＝Ｊ_{Ｈ４−Ｈ ５} ＝９．９Ｈｚ）；５．５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ１}＝５．８Ｈｚ，
Ｊ_{Ｈ２−Ｈ３}＝１０．２Ｈｚ）；４．８８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ５，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ４} ＝１０．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ６}＝２．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ６’}＝５．４Ｈｚ）；
４．６０（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ５}＝２．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ６’}＝１
２．２Ｈｚ）；４．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ５}＝５．４Ｈｚ，
Ｊ_{Ｈ６−Ｈ６’}＝１２．２Ｈｚ）；２．６２（ｑｄ，２Ｈ，ＣＨ_２，Ｊ＝７．４
Ｈｚ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）；１．２５（ｔ，３Ｈ，ＣＨ_３，Ｊ＝７．４Ｈｚ）；β
アノマー：５．９３（ｔ，１Ｈ，Ｈ３，Ｊ_{Ｈ３−Ｈ２}＝Ｊ_{Ｈ３−Ｈ４}＝９．７Ｈ
ｚ）；５．６８（ｔ，１Ｈ，Ｈ４，Ｊ_{Ｈ４−Ｈ３}＝Ｊ_{Ｈ４−Ｈ５}＝９．８Ｈｚ）
；５．５７（ｔ，１Ｈ，Ｈ２，Ｊ_{Ｈ２−Ｈ１}＝Ｊ_{Ｈ２−Ｈ３}＝９．７Ｈｚ）；４
．８７（ｄ，１Ｈ，Ｈ１，Ｊ_{Ｈ１−Ｈ２}＝１０Ｈｚ）；４．６４（ｄｄ，１Ｈ，
Ｈ６，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ５}＝３．１Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６−Ｈ６’}＝１２．１Ｈｚ）；４．５０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’，Ｊ_{Ｈ６’−Ｈ５}＝５．５Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’− Ｈ６}＝１２
．１Ｈｚ）；４．１８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ５，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ４}＝１０．０Ｈｚ，Ｊ _{Ｈ５−Ｈ６} ＝３．０Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５−Ｈ６’}＝５．５Ｈｚ）；２．７７（ｑｄ，２
Ｈ，ＣＨ_２，Ｊ＝７．４Ｈｚ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）；１．２６（ｔ，３Ｈ，ＣＨ_３ ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）実施例３：本発明によるカップリング反応の実施 例 実施例２の供与体及び実施例１の受容体間のカップリング反応を行い、以下の新
規化合物を得た。 ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシル−（ １→３）−１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘキシリデン−α−Ｄ−グルコフラ
ノース

【００３２】

【化１１】

【００３３】 ６４ｇ（１００ｍｍｏｌ；１．０６ｅｑ）の２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベン
ゾイル−チオ−Ｄ−グルコピラノシド、３２ｇ（９４ｍｍｏｌ；１ｅｑ）１，２
：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘキシリデン−α−Ｄ−グルコフラノース、２２．５
ｇ（１００ｍｍｏｌ；１．０６ｅｑ）Ｎ−ヨードスクシンイミド、及び、４００
ｇの４Åモレキュラーシーブを、暗がりで丸底フラスコに入れ、温度１０℃で４
００ｍｌ無水ジクロロメタンに溶解させ、３．９２ｇ（９．４ｍｍｏｌ，０．１
ｅｑ）錫ジトリフラートを添加した。１時間の反応後、媒体をトリエチルアミン
で中和し、濾過し、濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（フラッシ
ュ、溶出液：トルエン／酢酸エチル（９５／５、そして９／１：ｖ／ｖ）で精製
を行い、６０．５ｇの精製物を得た。

【００３４】 収率（％）：７０ 白色固体 ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．４（トルエン／酢酸エチル（９／１；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１６６．１９，１６
５．８６，１６５．２０，１６４．８３（Ｃ＝Ｏ）；１１２．７１，１０９．３
２（Ｃ ｑｕａｔ．）；１０４．６６（Ｃ１ａ）；１００．０８（Ｃ１ｂ）；８
２．８３（Ｃ２ａ）；８１．６８（Ｃ３ａ）；８０．６６（Ｃ４ａ）；７２．７
９（Ｃ３ｂ）；７２．６３（Ｃ５ｂ）；７２．４６（Ｃ５ａ）；７１．９９（Ｃ
２ｂ）；６９．５７（Ｃ４ｂ）；６６．２６（Ｃ６ａ）；６３．１２（Ｃ６ｂ）
；３６．４３，３６．３３，３５．４９，３４．６１，２５．２３，２４．８４
，２４．１７，２３．８９，２３．８６，２３．５４（ＣＨ_２）

【００３５】^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：８．０３−７．２６（
２ｍ，２０Ｈ，Ｈ ａｒｏｍ．）；５．９０（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ｂ，Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ ２ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ４ｂ}＝９．６Ｈｚ）；５．７１（ｔ，１Ｈ，Ｈ４ｂ，Ｊ_{Ｈ４ ｂ−Ｈ３ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ４ｂ−Ｈ５ｂ}＝９．６Ｈｚ）；５．５２（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２ｂ
，Ｊ_{Ｈ２ｂ−Ｈ１ｂ}＝８．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ２ｂ−Ｈ３ｂ}＝９．４Ｈｚ）；５．４５
（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ａ，Ｊ_{Ｈ１ａ−Ｈ２ａ}＝３．６Ｈｚ）；４．９９（ｄ，１Ｈ，
Ｈ１ｂ，Ｊ_{Ｈ１ｂ−Ｈ２ｂ}＝７．８Ｈｚ）；４．６４（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ｂ，Ｊ _{Ｈ６ｂ−Ｈ５ｂ} ＝２．４Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６ｂ−Ｈ６ｂ’}＝１２．２Ｈｚ）；４．４９
（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’ｂ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ５ｂ}＝５．０Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ６ ｂ} ＝１２．２Ｈｚ）；４．３８（ｑ，１Ｈ，Ｈ５ａ，Ｊ_{Ｈ５ａ−Ｈ４ａ}＝Ｊ_{Ｈ５ ａ−Ｈ６ａ} ＝Ｊ_{Ｈ５ａ−Ｈ６’ａ}＝６．１Ｈｚ）；４．３５（ｄ，１Ｈ，Ｈ３ａ
，Ｊ_{Ｈ３ａ−Ｈ４ａ}＝３．０Ｈｚ）；４．３２（ｄ，１Ｈ，Ｈ２ａ，Ｊ_{Ｈ２ａ− Ｈ１ａ} ＝３．６Ｈｚ）；４．１８（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ４ａ，Ｊ_{Ｈ４ａ−Ｈ３ａ}＝２
．９Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ４ａ−Ｈ５ａ}＝６．３Ｈｚ）；４．１１（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ５ｂ
，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ４ｂ}＝Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ６ｂ}＝Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ６’ｂ}＝Ｈ
ｚ）；４．０３（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ａ，Ｊ_{Ｈ６ａ−Ｈ５ａ}＝６．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６ ａ−Ｈ６’ａ} ＝８．３Ｈｚ）；３．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’ａ，Ｊ_{Ｈ６’ａ− Ｈ５ａ} ＝５．６Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ａ−Ｈ６ａ}＝８．３Ｈｚ）；１．６２−１．３０
（ｍ，２０Ｈ，ＣＨ_２）実施例４：本発明によるカップリング反応のさらなる実施例 本実施例において、２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコ
ピラノシル−（１→３）−１，２：５，６−ジ−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ
−グルコフラノース：

【００３６】

【化１２】

【００３７】 をカップリング反応で得た。 本実施例では、グリコシル受容体化合物は、Ｄ−グルコース及びアセトンから容
易に得られるジアセトンＤ−グルコースである。 実施例２で調製した６４ｇ（１００ｍｍｏｌ；１．０６ｅｑ）２，３，４，６−
テトラ−Ｏ−ベンゾイル−１−チオ−Ｄ−グルコピラノシドエチル、２４．５ｇ
（９４ｍｍｏｌ；１ｅｑ）ジアセトン−Ｄ−グルコース、２２．５ｇ（１００ｍ
ｍｏｌ；１．０６ｅｑ）Ｎ−ヨードスクシンイミド、及び、４００ｇの４Åモレ
キュラーシーブを、暗がりで丸底フラスコに入れ、４００ｍｌ無水ジクロロメタ
ンに溶解させた。反応媒体を０℃に冷却し、３．９２ｇ（９．４ｍｍｏｌ，０．
１ｅｑ）錫ジトリフラートをそこへ添加した。２０分の反応後、媒体をトリエチ
ルアミンで中和し、濾過し、濃縮した。シリカゲルカラム（フラッシュ、溶出液
：トルエン／酢酸エチル（９５／５：ｖ／ｖ）で精製を行い、２８ｇの生成物を
得た。

【００３８】 収率（％）：３５ 白色固体 融点（℃）：９０−９４ ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．５（トルエン／酢酸エチル（８／２；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１６６．１６，１６
５．８５，１６５．１９，１６４．８１（Ｃ＝Ｏ）；１１２．００，１０８．７
２（Ｃ ｑｕａｔ．）；１０４．９９（Ｃ１ａ）；９９．９９（Ｃ１ｂ）；８２
．７８（Ｃ２ａ）；８１．４８（Ｃ３ａ）；８０．４７（Ｃ４ａ）；７３．０５
（Ｃ５ａ）；７２．７２（Ｃ３ｂ）；７２．６５（Ｃ５ｂ）；７１．８５（Ｃ２
ｂ）；６９．５４（Ｃ４ｂ）；６６．２５（Ｃ６ａ）；６２．９８（Ｃ６ｂ）；
２６．７３，２６．６７，２６．０３，２５．１５（ＣＨ_３）

【００３９】^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：８．０３−７．２６（
２ｍ，２０Ｈ，Ｈ ａｒｏｍ．）；５．９０（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ｂ，Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ ２ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ４ｂ}＝９．７Ｈｚ）；５．７１（ｔ，１Ｈ，Ｈ４ｂ，Ｊ_{Ｈ４ ｂ−Ｈ３ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ４ｂ−Ｈ５ｂ}＝９．７Ｈｚ）；５．５０（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２ｂ
，Ｊ_{Ｈ２ｂ−Ｈ１ｂ}＝７．８Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ２ｂ−Ｈ３ｂ}＝９．７Ｈｚ）；５．４８
（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ａ，Ｊ_{Ｈ１ａ−Ｈ２ａ}＝３．７Ｈｚ）；４．９８（ｄ，１Ｈ，
Ｈ１ｂ，Ｊ_{Ｈ１ｂ−Ｈ２ｂ}＝７．８Ｈｚ）；４．６６（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ｂ，Ｊ _{Ｈ６ｂ−Ｈ５ｂ} ＝３．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６ｂ−Ｈ６’ｂ}＝１２．２Ｈｚ）；４．５０
（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’ｂ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ５ｂ}＝５．１Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ６ ｂ} ＝１２．２Ｈｚ）；４．３８（ｍ，１Ｈ，Ｈ５ａ）；４．３４（ｄ，１Ｈ，Ｈ
２ａ，Ｊ_{Ｈ２ａ−Ｈ１ａ}＝３．７Ｈｚ）；４．３３（ｄ，１Ｈ，Ｈ３ａ，Ｊ_{Ｈ３ ａ−Ｈ４ａ} ＝３．２Ｈｚ）；４．２３（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ４ａ，Ｊ_{Ｈ４ａ−Ｈ３ａ} ＝３．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ４ａ−Ｈ５ａ}＝５．５Ｈｚ）；４．１６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ
５ｂ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ４ｂ}＝９．７Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ６ｂ}＝３．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ ｂ−Ｈ６’ｂ} ＝５．１Ｈｚ）；４．０４（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ａ，Ｊ_{Ｈ６ａ−Ｈ５ ａ} ＝６．５Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６ａ−Ｈ６’ａ}＝８．６Ｈｚ）；３．９７（ｄｄ，１Ｈ，
Ｈ６’ａ，Ｊ_{Ｈ６’ａ−Ｈ５ａ}＝５．７Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ａ−Ｈ６ａ}＝８．６Ｈｚ
）；１．４２，１．３７，１．２５，１．１２（４ｓ，１２Ｈ，ＣＨ_３）実施例５：本実施例は、ラミナリビオースを与え、本発明に従う２つの工程で行 われる脱保護反応を示した。 ａ）２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシル−（
１→３）−Ｄ−グルコピラノース

【００４０】

【化１３】

【００４１】 同量のトリフルオロ酢酸及び水からなる混合液６００ｍｌに、反応媒体中で生成
物が良く溶解するように６０ｍｌテトラヒドロフランを添加し、そこへ実施例３
で調製した８２ｇの２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコ
ピラノシル−（１→３）−１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘキシリデン−α−
Ｄ−グルコフラノースを溶解した。１日の反応後、４０℃で水で反応媒体を希釈
して、生成物を沈殿させ、濾過し、水で洗浄して中性にし、乾燥して、メタノー
ル中で結晶化した。このようにして５４ｇの目的化合物を得た。

【００４２】 収率（％）：８０ 白色固体 融点（℃）：１８３−１８６；１９７−２００（２α及びβアノマー） ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．６（ジクロロメタン／メタノール（９／１；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ｐｙｒ，ｄ^５，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１６５．９０，１
６５．８７，１６５．８１，１６５．６５，１６５．５８，１６５．３９，１６
５．３７（Ｃ＝Ｏ）；１３３．４１，１３３．２２，１３３．００，１３２．９
６，１３２．９３（Ｃ ｉｐｓｏ ａｒｏｍ．）；１３０．０５−１２８．２８
（Ｃ ａｒｏｍ．）；１０１．８９，１０１．７０（Ｃ１ｂ）；９８．４６（Ｃ
１ａβ）；９３．５９（Ｃ１ａα）；８６．４８（Ｃ３ａβ）；８４．６９（Ｃ
３ａα）；７７．７８（Ｃ５ａβ）；７５．８０（Ｃ２ａβ）；７４．０９，７
４．０６（Ｃ３ｂ）；７３．２４（Ｃ２ａα）；７３．０４，７２．９５，７２
．９０（Ｃ５ａα，Ｃ２ｂ）；７２．０４（Ｃ５ｂ）；７０．３６，７０．２９
（Ｃ４ｂ）；６９．５５，６５．４５（Ｃ４ａ）；６３．３４，６３．２４（Ｃ
６ｂ）；６２．５１，６２．３６（Ｃ６ａ）

【００４３】^１ ＨＮＭＲ（ｐｙｒ，ｄ^５，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：８．２９−７．０９
（３ｍ，４０Ｈ，Ｈ ａｒｏｍ．）；６．５８（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ｂ，Ｊ_{Ｈ３ｂ− Ｈ４ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ２ｂ}＝９．５Ｈｚ）；６．５２（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ｂ，Ｊ_{Ｈ ３ｂ−Ｈ４ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ２ｂ}＝９．５Ｈｚ）；６．３２（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ｂ
，Ｊ_{Ｈ１ｂ−Ｈ２ｂ}＝８．０Ｈｚ）；６．２３−６．１０（ｍ，５Ｈ，２Ｈ４ｂ
，Ｈ１ｂ，２Ｈ２ｂ）；５．６９（ｄ，１Ｈ，Ｃ１ａα，Ｊ_{Ｈ１ａα−Ｈ２ａα} ＝３．４Ｈｚ）；５．２２（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ａβ，Ｊ_{Ｈ１ａβ−Ｈ２ａβ}＝７．
４Ｈｚ）；４．９４（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ｂ，Ｊ_{Ｈ６ｂ−Ｈ５ｂ}＝２．７Ｈｚ，Ｊ _{Ｈ６ｂ−Ｈ６’ｂ} ＝１２．１Ｈｚ）；４．８８−４．６９（ｍ，６Ｈ，Ｈ６ｂ，
Ｈ３ａα，Ｈ６ｂ，Ｈ５ａα，Ｈ６ｂ，Ｈ５ｂ）；４．５２−４．５７（ｍ，３
Ｈ，Ｈ６ａα，Ｈ６ａβ，Ｈ５ｂ）；４．４５（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ａβ，Ｊ_{Ｈ３ａ β−Ｈ４ａβ} ＝Ｊ_{Ｈ３ａβ−Ｈ２ａβ}＝９．１Ｈｚ）；４．３４−４．２６（ｍ
，２Ｈ，Ｈ６’ａα，Ｈ６’ａβ）；４．２０−４．１３（ｍ，２Ｈ，Ｈ４ａα
，Ｈ４ａβ）；４．１０−４．０３（ｍ，２Ｈ，Ｈ２ａα，Ｈ２ａβ）；３．９
７−３．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ５ａβ）ｂ）ラミナリビオースの収得

【００４４】

【化１４】

【００４５】 ４０ｇ（５２．７ｍｍｏｌ；１ｅｑ）の２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイ
ル−β−Ｄ−グルコピラノシル−（１→３）−Ｄ−グルコピラノースを、予め４
０Ｌ無水メタノールに６ｇナトリウムを溶解して調製した１Ｌナトリウムメトキ
シドの溶液（１ｅｑナトリウム）で処理した。４日、３５℃の反応後、水で媒体
を希釈して、酸樹脂ＩＲ１２０で中和して、濾過し、濃縮した。凍結乾燥後、１
８ｇラミナリビオースを回収した。生成物を、メタノール−水又はエタノール−
水混合液で結晶化することができた。

【００４６】 収率（％）：１００ 白色固体 融点（℃）：１９９−２０４（エタノール−水；Ｂａｃｈｌｉ，Ｐｅｒｃｉｖａ
ｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９５２，１２４３：１９６−２０６；Ｔａｋｅ
ｏ，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９７９，７７，２４５：２０２−２０４
）。 融点（℃）：１２４−１３０（凍結乾燥したラミナリビオース） ［α］_Ｄ ^２０＝＋１９．３°（２０分）→＋１８．７°（２４時間；ｃ＝１．０
；水）（Ｔａｋｅｏ，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９７９，７７，２４５
）：［α］_Ｄ ^２０＝＋１５．５°（１０分）→＋１８．６°（２４時間；ｃ＝２
．３；水）） ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．１（酢酸エチル／イソプロパノール／メタノール／水（１０
／６／１／１；ｖ／ｖ））^１３ ＣＮＭＲ（ＤＭＳＯ，ｄ^６，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：βアノマー：１
０４．１６（Ｃ１ｂ）；９６．３３（Ｃ１ａ）；８８．４３（Ｃ３ａ）；αアノ
マー：１０４．０４（Ｃ１ｂ）；９１．７８（Ｃ１ａ）；８５．１９（Ｃ３ａ）
；７６．９３，７６．８７，７６．２４，７６．１０，７６．０７，７３．８７
，７３．８４，７３．５０，７１．９０，７０．９０，７０．１８，７０．１３
，６８．６６，６８．５７，６１．１０，６０．９２

【００４７】^１ ＨＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：５．１１（ｄ，１Ｈ，Ｈ１
ａα，Ｊ_{Ｈ１ａα−Ｈ２ａα}＝３．８Ｈｚ）；４．６１（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ｂ，Ｊ _{Ｈ１ｂ−Ｈ２ｂ} ＝７．９Ｈｚ）；４．６０（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ｂ，Ｊ_{Ｈ１ｂ−Ｈ２ ｂ} ＝７．６Ｈｚ）；４．５５（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ａβ，Ｊ_{Ｈ１ａβ−Ｈ２ａβ}＝８
．０Ｈｚ）；３．８１−３．５７（ｍ，１２Ｈ）；３．４２−３．２２（ｍ，１
２Ｈ）実施例６：ラミナリビオースの性質 得られた生成物を特徴付けるため、合成したラミナリビオースを無水酢酸（１２
ｅｑ）のピリジン液存在下でアセチル化し、エタノールより再結晶した。βアノ
マー、すなわち、１，２，２’，３’，４，４’，６，６’−オクタ−Ｏ−アセ
チル−β−Ｄ−グルコピラノース：

【００４８】

【化１５】

【００４９】 のみを得た。 収率（％）：１００ 白色固体 融点（℃）：１６５−１６７（Ｔａｋｅｏ，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１
９７９，７７，２４５：１６１−１６２）。 ［α］_Ｄ ^２０＝−２７°（ｃ＝１．０；クロロホルム）（Ｔａｋｅｏ，Ｃａｒｂ
ｏｈｙｄｒ．Ｒｅｓ．，１９７９，７７，２４５：［α］_Ｄ ^２０＝−２７．６°
（ｃ＝１．２；クロロホルム）） ＴＬＣ：Ｒｆ＝０．３（トルエン／酢酸エチル（１／１；ｖ／ｖ））

【００５０】^１３ ＣＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１０１ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：１７０．７９，１７
０．５７，１７０．４５，１６９．３８，１６９．３７，１６９，２９，１６９
．２０，１６８．９２（Ｃ＝Ｏ）；１０１．０２（Ｃ１ｂ）；９１．８０（Ｃ１
ａ）；７８．９２（Ｃ３ａ）；７２．９８，７２．８７（Ｃ５ａ，Ｃ３ｂ、又は
、その反対）；７１．１５（Ｃ２ｂ）；６７．９９（Ｃ４ｂ）；６７．５６（Ｃ
４ａ）；６１．７３，６１．７１（Ｃ６ａ，Ｃ６ｂ、又は、その反対）；２０．
９１，２０．８８，２０．８４，２０．７４，２０．６４，２０．６２，２０．
５２，２０．３９（ＣＨ_３）

【００５１】^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ）δ（ｐｐｍ）：５．６１（ｄ，１Ｈ，
Ｈ１ａ，Ｊ_{Ｈ１ａ−Ｈ２ａ}＝８．４Ｈｚ）；５．１３（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ｂ，Ｊ_{Ｈ ３ｂ−Ｈ２ｂ} ＝Ｊ_{Ｈ３ｂ−Ｈ４ｂ}＝９．４Ｈｚ）；５．１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２
ａ，Ｊ_{Ｈ２ａ−Ｈ１ａ}＝８．４Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ２ａ−Ｈ３ａ}＝９．５Ｈｚ）；５．０
６（ｔ，１Ｈ，Ｈ４ｂ，Ｊ_{Ｈ４ｂ−Ｈ３ｂ}＝Ｊ_{Ｈ４ｂ−Ｈ５ｂ}＝９．６Ｈｚ）；
５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｈ４ａ，Ｊ_{Ｈ４ｂ−Ｈ３ａ}＝Ｊ_{Ｈ４ａ−Ｈ５ａ}＝９．６Ｈ
ｚ）；４．９０（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ２ｂ，Ｊ_{Ｈ２ｂ−Ｈ１ｂ}＝８．１Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ２ ｂ−Ｈ３ｂ} ＝９．３Ｈｚ）；４．５９（ｄ，１Ｈ，Ｈ１ｂ，Ｊ_{Ｈ１ｂ−Ｈ２ｂ}＝
８．１Ｈｚ）；４．３７（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ａ，Ｊ_{Ｈ６ｂ−Ｈ５ａ}＝４．３Ｈｚ
，Ｊ_{Ｈ６ａ−Ｈ６’ａ}＝１２．４Ｈｚ）；４．２１（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６ｂ，Ｊ_{Ｈ ６ｂ−Ｈ５ｂ} ＝４．６Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６ｂ−Ｈ６’ｂ}＝１２．４Ｈｚ）；４．１３（
ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’ｂ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ５ｂ}＝２．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ｂ−Ｈ６ｂ} ＝１２．４Ｈｚ）；４．０５（ｄｄ，１Ｈ，Ｈ６’ａ，Ｊ_{Ｈ６’ａ−Ｈ５ａ}＝２
．２Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ６’ａ−Ｈ６ａ}＝１２．４Ｈｚ）；３．９３（ｔ，１Ｈ，Ｈ３ａ
，Ｊ_{Ｈ３ａ−Ｈ２ａ}＝Ｊ_{Ｈ３ａ−Ｈ４ａ}＝９．４Ｈｚ）；３．７８（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｈ５ａ，Ｊ_{Ｈ５ａ−Ｈ４ａ}＝１０．１Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ａ−Ｈ６ａ}＝２．２Ｈｚ
，Ｊ_{Ｈ５ａ−Ｈ６’ａ}＝４．６Ｈｚ）；３．６８（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｈ５ｂ，Ｊ_{Ｈ ５ｂ−Ｈ４ｂ} ＝９．９Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ６ｂ}＝４．３Ｈｚ，Ｊ_{Ｈ５ｂ−Ｈ６’ ｂ} ＝２．３Ｈｚ）；２．１２，２．０９，２．０８，２．０３，２．００，１．
９８（６ｓ，２４Ｈ，ＣＨ_３）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ (72)発明者 ヴァンサン・フェリエール フランス国 35000 レンヌ 13，スクエ ール デュ ボア ペラン (72)発明者 ダニエル・プリュスケレック フランス国 35230 ノヤル シャティオ ン 38，リュ ドュ ムラン Ｆターム(参考） 4C057 AA19 BB03 BB04 KK02

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 グリコシル供与体及びグリコシル受容体間のグリコシルカップリ
   ング工程からなるラミナリビオースの調製方法であって、 ・グリコシル供与体はピラノース型で、式（ＩＩ）： 【化１】 式中： Ｒ_１は： −１〜６の炭素原子を有するアルキル基又はハロアルキル基 −ハロゲン原子、１〜６の炭素原子を有するアルコキシル基及びニトロ基から選
   択される１つ若しくは複数の基で置換、又は、無置換のアリール基； を表し、 Ｘは： −式中、Ｒ’が１〜６の炭素原子を有するアルキル基、又は、１〜６の炭素原子
   を有するアルコキシル基、ニトロ基若しくはアセトアミド基で置換又は無置換の
   アリール基で、ｎは整数０又は１である式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基；又は、 −トリクロロアセトイミデート基； から選択される親電子脱離基を表す で表され、 ・グリコシル受容体はフラノース型で、式（ＩＩＩ）； 【化２】 Ｒ_２及びＲ_３は、一緒になって、メチリジル基、エチリジル基、トリクロロエチ
   リジル基、イソプロピリジル基、ヘキサフルオロイソプロピリジル基、シクロペ
   ンチリジル基、シクロヘキシリジル基、シクロヘプチリジル基、ブチリジル基、
   １−ｔｅｒｔ−ブチルエチリジル基、１−フェニルエチリジル基、ベンジリジル
   基、メトキシベンジリジル基、又は、１−フェニルベンジリジル基を表し；そし
   て、 Ｒ_４及びＲ_５は、一緒になって、メチリジル基、エチリジル基、トリクロロエチ
   リジル基、イソプロピリジル基、ヘキサフルオロイソプロピリジル基、シクロペ
   ンチリジル基、シクロヘキシリジル基、シクロヘプチリジル基、ブチリジル基、
   １−ｔｅｒｔ−ブチルエチリジル基、１−フェニルエチリジル基、ベンジリジル
   基、メトキシベンジリジル基若しくは１−フェニルベンジリジル基を表すか、又
   は、各々、ベンジル基、アセチル基、ベンゾイル基、クロロベンゾイル基、メト
   キシベンゾイル基、ニトロベンゾイル基、アリル基、クロロベンジル基、メトキ
   シベンジル基若しくはニトロベンジル基を表し； ・前記カップリング工程は、無水有機溶媒の溶液中、−８０℃〜４０℃の温度で
   、１分〜８時間、 −Ｘが前記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基であり、ｎが整数０である場合、 ルイス酸若しくは強酸塩と併用する又は併用しないハロニウムイオン源、 −Ｘが前記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’の基であり、ｎが整数１である場合、アミ
   ンと併用するルイス酸、 −Ｘがトリクロロアセトイミデートである場合、ブレンステッド酸又はルイス酸
   から選択される適当な助触媒の存在下で行われ；そして、 ・このように得られた反応生成物は、中和され、精製され、脱保護処理して、精
   製した後、ラミナリビオースを与える ことを特徴とする調製方法。
2. 【請求項２】 グリコシル供与体は、式中、 Ｒ_１が、メチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
   基、フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基及びニトロフェニル基
   からなる群より選択される基を表し； Ｘが、チオメチル基、チオエチル基、チオプロピル基、チオフェニル基、チオニ
   トロフェニル基及びチオピリジル基からなる群より選択される基を表す； 前記式（ＩＩ）で表されることを特徴とする請求項1記載の方法。
3. 【請求項３】 前記助触媒は、 −Ｘが前記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’基を表し、式中ｎが０である場合、 塩化鉄、銅ジトリフラート、錫ジトリフラート、ジエーテル三フッ化ホウ素、四
   塩化錫若しくはジルコニウム、メチルトリフラート、トリメチル−（若しくはト
   リエチル−）シリルトリフラート、銀トリフラート、カドミウムジトリフラート
   、コバルトジトリフラート、ニッケルジトリフラート、亜鉛ジトリフラート、ビ
   スマストリトリフラート、鉄トリトリフラート、ガリウムトリトリフラートから
   選択されるルイス酸、又は、テトラブチルアンモニウムトリフラート等の強酸塩
   と併用する又は併用しないＮ−ブロモスクシンイミド又はＮ−ヨードスクシンイ
   ミド、 −Ｘが前記定義した式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’基を表し、式中ｎが１である場合、無水ト
   リフリック酸（ｔｒｉｆｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）、塩化鉄、銅ジトリフラ
   ート、錫ジトリフラート、ジエーテル三フッ化ホウ素、四塩化錫若しくはジルコ
   ニウム、メチルトリフラート、トリメチル−（若しくはトリエチル−）シリルト
   リフラート、銀トリフラート、カドミウムジトリフラート、コバルトジトリフラ
   ート、ニッケルジトリフラート、亜鉛ジトリフラート、ビスマストリトリフラー
   ト、鉄トリトリフラート、ガリウムトリトリフラートから選択されるルイス酸で
   、特にジ−ｔｅｒｔ−ブチルメチルピリジン等のアミンと併用するもの、並びに
   、 −Ｘがトリクロロアセトイミデートを表す場合、特にトリフリック酸（ｔｒｉｆ
   ｌｉｃ ａｃｉｄ）若しくはパラ−トルエンスルホン酸等のブレンステッド酸、
   又は、無水トリフリック酸、塩化鉄、銅ジトリフラート、錫ジトリフラート、ジ
   エーテル三フッ化ホウ素、四塩化錫若しくはジルコニウム、メチルトリフラート
   、トリメチル−（若しくはトリエチル−）シリルトリフラート、銀トリフラート
   、カドミウムジトリフラート、コバルトジトリフラート、ニッケルジトリフラー
   ト、亜鉛ジトリフラート、ビスマストリトリフラート、鉄トリトリフラート、ガ
   リウムトリトリフラートから選択されるルイス酸 から選択されるものであることを特徴とする請求項1又は２記載の方法。
4. 【請求項４】 ・グリコシル供与体は、 式中： Ｒ_１はフェニル基を表し；そして、 Ｘは式Ｓ（Ｏ）ｎＲ’基を表し、式中ｎが０であり、Ｒ’はエチル基又はフェニ
   ル基を表す 前記式（ＩＩ）で表され、 ・グリコシル受容体は、 式中： Ｒ_２、Ｒ_３、及び、Ｒ_４、Ｒ_５はシクロヘキシリジル基又はイソプロピリジル基
   を表す、 前記式（ＩＩＩ）で表される ものであることを特徴とする請求項２又は３記載の方法。
5. 【請求項５】 前記助触媒は、好ましくは１：０．５〜１：０．００５の割合に
   あるＮ−ヨードスクシンイミド及び錫トリフラートの混合物からなる ものであることを特徴とする請求項４記載の方法。
6. 【請求項６】 前記脱保護処理は、 ａ）水溶液若しくは水−有機媒体中、又は、酸樹脂の存在下で、酸処理によりグ
   リコシル受容体由来のアセタール基を解離し、 ｂ）このようにして得られた生成物を精製して； ｃ）工程ｂ）で得られた生成物をエステル交換又は加水分解して；そして、 ｄ）このようにして得られた生成物を精製する ことからなる ことを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の方法。
7. 【請求項７】 前記工程ａ）は、中和され精製されたカップリング生成物を、好
   ましくは同量のトリフルオロ酢酸及び水からなる混合液中、１０〜７０℃の温度
   で、１時間〜１０日間反応させることにより行い、前記精製工程ｂ）は、好まし
   くはメタノール中での分別結晶により行われることを特徴とする請求項６記載の
   方法。
8. 【請求項８】 前記エステル交換工程は、１分〜１０日間、触媒量のナトリウム
   、又は、ナトリウム若しくはカリウムメトキシド若しくはエトキシドの存在下で
   、メタノール又はエタノール等のアルコール溶媒中で行われるものであり、 前記精製工程ｄ）は ｄ１）工程ｃ）で得られた生成物を中和して、 ｄ２）水で共沸蒸発又は有機溶媒で抽出して、生成された安息香酸エステルを除
   去し、 ｄ３）低圧下で、残留水相を濃縮して、 ｄ４）場合により、このようにして水―アルコール混合液中で得られたラミナリ
   ビオースを凍結乾燥又は結晶化する ことからなることを特徴とする請求項６又は７記載の方法。
9. 【請求項９】 前記カップリング工程は、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエ
   タン、又は、トルエンの溶液中、好ましくはモレキュラーシーブの存在下、−３
   ０℃〜３０℃の温度で、１分〜６時間、より好ましくは１０℃で、３０分間行わ
   れるものであることを特徴とする先の請求項のいずれか記載の方法。
10. 【請求項１０】 以下の化合物： ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシル−（ １→３）−１，２：５，６−ジ−Ｏ−シクロヘキシリデン−α−Ｄ−グルコフラ
    ノース 【化３】 及び ２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンゾイル−β−Ｄ−グルコピラノシル−（ １→３）−Ｄ−グルコピラノース 【化４】 から選択されるものであることを特徴とする ラミナリビオース合成中間体。