JP2002504191A - 液体供給システム、液体供給システムのための加熱装置および気化器 - Google Patents

液体供給システム、液体供給システムのための加熱装置および気化器

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Abstract

(57)【要約】 最初は液体の試薬を気化した形態で化学気相成長反応器(110)に供給するための液体供給システム(100)。液体供給システムは、細長い気化流体流路(130)と、長手方向の軸を横断し流体流路内に含まれる気化素子(120)と、気化素子(120)の正面に垂直な方向に液体を放出するように配置された先端を備えるソース試薬液体送り通路(122)と、気化素子を加熱するための加熱器と、蒸気を化学気相成長反応器に流すためのマニホルド(137)とを含み、マニホルドは、不揮発性の残渣が化学気相成長反応室に流れることを防止する分岐手段(138)を含む。加熱器アセンブリ(161、162、164、166)を用いて液体供給システムの構成要素を加熱してもよく、システムは交換可能な気化器キャップ(500)を利用してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】 液体供給システム、液体供給システムのための加熱装置および気化器 説明 発明の分野 この発明は、化学気相成長システムに関し、より特定的には液体供給システム ならびにこのようなシステムで用いるための加熱器および気化器に関する。関連技術の説明 多くの材料が基板上の薄膜の形態で利用されており、これらは気相成長技術に よって形成されるものである。その例には、YBa2Cu3x(xは約6から7 .3)、BiSrCaCuOおよびTlBaCaCuOを含めた高温超伝導(H TSC)材料といった高融点材料が含まれる。チタン酸バリウムBaTiO3お よびチタン酸バリウムストロンチウムBaxSr1-xTiO3は、このような材料 の薄膜への応用に際し独自でかつ本質的に非常に有用な特性を示す強誘電および 光子材料として認められている。BaxSr1-xNb26は、その屈折率が電界の 関数としてかつ入射する光の強度の関数として変化する光子材料である。ジルコ ン酸チタン酸鉛PbZr1-xTix3は非常に興味深い特性を有する強誘電材料 である。II族フッ化金属BaF2、CaF2およびSrF2は、シンチレーショ ン検出および光ファイバのコーティングにおいて有用性がある。Ta25のよう な高融点酸化物は、マイクロエレクトロニクス産業においてその用途が拡大しつ つある。 Ta25は、これを使用することにより製造する記憶装置の密度を高めることが できる薄膜キャパシタ材料として見込まれている。 これらの材料の潜在的な応用の多くにおいては、これらを薄膜、コーティング または層形態で使用する必要がある。基板の上に形成された膜または層は、有利 にも基板に対しエピタキシャルの関係を有する。高融点材料を膜または層形態で 堆積する必要がある応用例には、集積回路、スイッチ、放射線検出器、薄膜キャ パシタ、ホログラフィ記憶媒体およびこれら以外の種々のマイクロエレクトロニ クス装置が含まれる。 化学気相成長(CVD)は、こうした層を形成する特に魅力的な方法である。 その理由は、これが生産量に合わせて容易に拡大されること、および電子産業が 新しいCVDプロセスに応用可能なCVD技術を用いる際には幅広い経験および 既に確立した機器を備えていることである。一般的には、化学量論および膜厚と いった重要な変数ならびに多岐にわたる基板ジオメトリのコーティングの制御を CVDで行なうことができる。薄膜をCVDで形成すると、これらの材料を既存 のデバイス製造技術に統合することができるであろう。CVDはまた、高密結晶 構造を有する基板にエピタキシャルの関係を有する高融点材料の層の形成を可能 にする。 CVDでは、元素ソース試薬すなわち対象となる元素または成分を含む前駆物 質化合物および錯体は、気相を化学気相成長反応器に搬送するのに十分な揮発性 を有していなければならない。元素成分ソース試薬がCVD反応器内で分解して 所望の元素のみが所望の成長温度で堆積するようにしなければならない。微粒子 の形成に繋がる早期の気相反応は生じてはならず、ソース試薬はラインにおいて 反応室の堆積室に到達する前に分解してはならない。化合物の堆積が求められる とき、最適特性を得るには、試薬が制御可能なやり方で反応器内に供給可能な場 合に行なうことができる化学量論の厳密な制御が必要である。この点について、 試薬は堆積室内で反応しないほど化学的に安定であってはならない。 したがって望ましいCVD試薬は非常に反応性および揮発性が高いものである 。不都合にも上記のような高融点材料の多くについて揮発性の試薬は存在しない 。本質的に有用性の高い高融点材料の多くは共通して、それらの成分のうち1つ 以上が元素すなわちII族金属バリウム、カルシウム、もしくはストロンチウム 、または早期遷移金属ジルコニウムもしくはハフニウムであり、これに対してC VDに適切な揮発性化合物はほとんど知られていない。多くの場合、ソース試薬 は固体であり、その昇華温度は分解温度に非常に近い可能性があり、この場合試 薬はラインにおいて反応器に到達する前に分解するので、このような分解が生じ 易い試薬から堆積した膜の化学量論を制御することは非常に困難である。 これ以外の場合では、CVD試薬は液体であるが、これを蒸気相でCVD反応 器に供給することは実際的ではないことが証明されている。その理由は早期分解 または化学量論制御の問題である。その例には、液体ソースエトキシドタンタル からの酸化タンタルの堆積およびビス(ジアルキルアミド)チタン試薬からの窒 化チタンの堆積が含まれる。 CVDにより堆積させている膜が純元素ではなくチタン酸バリウムまたは酸化 物超伝導体のような多成分物質であるとき、膜の化学量論の制御は所望の膜特性 を得るために重要である。このような材料を堆積させることにより広範囲にわた る化学量論を有する膜が形成され得るが、この場合にソース試薬を既知の割合で CVD反応室に制御しながら供給することが重要である。 ソース試薬液体供給システムは従来の技術に対し際立った利点を有するが、前 駆物質化合物のうちのいくぶんかが分解して非常に揮発性の低い化合物となりこ れが気化ゾーンに留まることがしばしばある。この欠点は、熱的に不安定な固体 のソース前駆物質を用いるCVDプロセスの動作においては重要な問題であり、 このソース前駆物質は昇華に必要な条件でかなり分解するものである。このよう な分解は、フラッシュ気化器液体供給システムならびにバブラーおよびキャリヤ ガスなしで動作する加熱容器を含むより従来的な試薬供給システムを含め、気化 ステップを含むすべての試薬供給システムにおいて起こり得る。 「理想的な」条件下で気化する行儀のよいCVD前駆物質は、気化ゾーンにお いて沈殿物も残渣も形成しないものであるが、これ以外の状況も一般的には見う けられいくつかのカテゴリに分類可能である。 1) 昇華温度において熱的に不安定なCVD前駆物質が用いられる。 2) 前駆物質またはキャリヤガスいずれかにおける反応性不純物が気化器温 度で分解する。 3) 気化ゾーンにおいて空間的時間的温度変化が生じ、ある領域の温度は分 解を生じさせるのに十分である。 試薬供給システムの気化器において用いられる条件を最適化することによって 、供給された前駆物質のうち気化ゾーンにおいて分解(かつ残留)する部分を最 小にとどめることが可能であるが、事実上すべての固体および液体の前駆物質は 気相への変換のために加熱されたときに何らかの形で分解する。この部分は「行 儀のよい」化合物においては無視できるほど小さい。気化温度近くで分解する傾 向がある前駆物質の使用は、入手可能性(すなわち選択された前駆物質が可能な 選択肢のうちで最高の特性を有する場合)によって、または前駆物質のコストが そ の合成の複雑度に大きく左右される場合には経済的な理由によって指定されるか もしれない。 さらに、CVD前駆物質が不純物を含んでいることがしばしばあり、こうした 不純物が存在すると気化ゾーンにおいて望ましくない熱活性化化学反応が生じる 可能性があり、これもまたその場所における不揮発性の固体および液体の形成を 生む。たとえば、種々のCVD前駆物質(ペンタエトキシドタンタルなど)は水 に対する感度が高く、加熱された気化器ゾーンにおいて加水分解が起こる可能性 があり、そうすれば有害な影響を伴って成長しつつある酸化タンタル膜に合体し 得る酸化タンタルの粒子が形成される。 液体供給の取組みの利点(多くの液体および固体CVD前駆物質についての精 度および正確度の向上ならびにより早い膜成長速度を含む)にもかかわらず、前 記の欠陥は、CVD反応器に気化した試薬を与えるための気化液体供給技術の広 範囲にわたる用途に対し重大な障害となる。 現在開発中の広範囲にわたるCVDプロセスは、固体および液体の前駆物質を 利用する。多くの場合、こうした化学物質は、対象となる元素の気体搬送という 点において唯一の適切な選択肢であり、これはBa、Sr、Laなどの多数の金 属元素にとりわけ特徴的である。たとえばBaは、ベータ−ジケトン(たとえば Ba(thd)2、Ba(thd)2−テトラグリムなど)の有機金属化合物に取 込んで気相で最も容易に搬送される。このような種類の化合物については、材料 の昇華に必要な温度は200℃を上回ることが多く、昇華または気化プロセスに は化合物の一部の分解が伴い、この結果揮発性が低減したその他の有機金属錯体 が形成される。こうした分解副産物は気化ゾーンに残留して集まり気化プロセス の効率を大幅に劣化させることになる。分解副産物が引き続いて蓄積し、これに 付随して効率が低下すると、分解速度が高まる。蒸気でない副産物の分解産物が 蓄積すると、気化器の動作寿命が制限される。このような産物の増加により最終 的には気化器および供給システムは最低の動作効率も達成することができず、し たがって洗浄プロセスにより気化および供給ユニットから蓄積した副産物を除去 する必要がある。こうしたメンテナンスの手順は非常に労働および時間集約的か もしれず、気化器/供給ユニットをすべて交換することが含まれるかもしれない 。 したがって、気化/供給ユニットの動作(オンライン)耐用年数は、これに対応 する、分解による不揮発性の副産物の蓄積が生じない気化/供給ユニットに比較 して実質的に短縮し得る。 上記の問題の例を挙げると、チタン酸バリウムストロンチウムの化学気相成長 は結果として気化室において前駆物質の分解を生じさせ、不揮発性の液体副産物 を生じさせる。気化器の温度が低下したときに、不揮発性の液体は、3つの元素 すべて(バリウム、ストロンチウムおよびチタン)を含む褐色のガラスになる。 一部はトラップに向かって流れるが、一部はまたPeter S.Kirlin他の名で19 95年6月7日に出願された先行する同時係属中の出願第08/484,025 号においてより詳細に述べられている典型的にはフリット構造といった気化素子 上に留まる。フリット素子上で残留するガラス質の残渣のコンダクタンスは低下 し、液体供給システムの気化効率をますます劣化させる。 したがって、液体供給システムの動作の効率を高めるためには、気化ゾーンに おける不揮発性の残渣物の形成を最小にすること、気化器が不揮発性の残渣物を 収集する傾向を最小にとどめること、および好ましくは本来の場所での技術(気 化ゾーン内で利用できる)を施して気化ゾーンで集まる残渣を簡単に除去できる ことが望ましい。 液体供給システムの気化器構成要素について望ましいのは、ガラス質の残渣物 が各メンテナンスサイクルで除去された後に、このようなメンテナンスに先行す る性能に関し摂動またはプロセス変動が生じることなく、その構成要素の性能が 一貫していることである。気化器もまた望ましくは設置および維持が容易である 。さらに、液体供給システムは、漏れの検出が容易であり、簡単なユーザ動作サ ポートおよびメンテナンス工程に対処し、かつシステム動作における加熱ゾーン が最小であるコンパクトな特性を有するように設計されていなければならない。 気化器は200℃を上回り±5℃という高い空間的均一度となるように加熱し なければならないので、気化器の加熱器が気化室および関連する管路を同じ温度 帯内に保つことも望ましい。 したがって、この発明の目的は、CVDソース試薬前駆物質をCVD反応器に 導入するための向上した供給システムを提供することである。 この発明の他の目的は、ソース試薬不揮発性分解副産物の形成を抑えかつこれ がCVD反応器に送られることを最小にとどめるCVDプロセスシステムのため の向上した液体ソース試薬気化装置を提供することである。 この発明のさらなる目的は、本来の場所でのソース試薬不揮発性分解副産物の 除去および処分手段を含む向上した液体供給システムを提供することである。 この発明のさらなる目的は、維持、修理および交換が容易で、かつコンパクト であり使用の際に非常に効率の高い、向上した気化器を提供することである。 この発明の他の目的および利点は、以下の開示および添付のクレームよりさら に明らかになるであろう。 発明の概要 この発明は、液体供給システム、そのサブアセンブリおよび構成要素、ならび にその動作方法に関する。 以下でより詳細に述べるこの発明の種々の局面は、液体供給システム、このよ うな液体供給システムのための加熱器アセンブリ、およびこのような液体供給シ ステムの気化室のための交換可能な気化器キャップを含む。 ある局面において、この発明は、最初は液体の試薬を気化した形態で、化学気 相成長反応器に供給するための液体供給システムに関し、化学気相成長反応器は 液体供給システムから蒸気を受ける関係で配置される。 この液体供給システムは、たとえば、(a)長手方向の軸を定めかつ囲い壁に よって囲まれた細長い気化流体流路を含み、壁は長手方向の軸を横断する流体流 路の断面を定めており、さらに、(b)長手方向の軸を横断する流体流路内に含 まれた気化素子と、(c)対向する気化素子の面に垂直な方向に液体を放出する ように配置された先端を有するソース試薬液体供給路と、(d)気化素子を液体 試薬の気化のための温度まで加熱するための加熱手段と、(e)気化素子での液 体試薬の気化により形成された蒸気を流体流路から化学気相成長反応器に送るた めに放出するマニホルドとを含み、マニホルドは、不揮発性の残渣が化学気相成 長反応器に流れ込むのを防止する迂回手段を含む。 他の局面において、この発明は液体供給システムにとって有用な加熱器アセン ブリに関する。このような加熱器アセンブリは、(a)液体供給システムの構造 部を包む加熱器本体と、(b)加熱器本体に埋込まれ加熱器本体を加熱して熱エ ネルギを加熱器本体から液体供給システムのこのような構造部分に伝達する加熱 素子とを含む。加熱器本体は、たとえば好ましい実施例において、液体供給シス テムの気化器を囲む対流オーブンを含む。 この発明の他の局面は、最初は液体の試薬の気化が行なわれる気化室に係合す るための交換可能な気化器キャップに関する。ある実施例においてこのような気 化器キャップは、(a)長手方向の軸および長手方向の軸を横断する断面を定め る細長い外側本体と、(b)正面が長手方向をほぼ横断する方向を向いた、細長 い外側本体内に位置決めされた気化素子と、(c)液体試薬を流し、かつ液体試 薬を気化素子の正面に垂直な方向に放出するように配置された毛細管と、(d) 気化素子を液体試薬の気化のための温度まで加熱するための手段と、(e)外側 本体を気化室と取外し可能に係合させるための手段とを含む。 この発明の液体供給システムでは、気化器は、気化構造(気化素子)を有し流 路を定める流路部材を含む。正味またはこのような流路部材を通して流されるキ ャリヤガスにより増加した気化ソース試薬がこの流路を通して気化構造からCV D反応器へと流れる。CVD反応器の中には基板が配置されていてもよく、基板 は典型的には加熱したサセプタまたはその他の支持構造上に設けられ、かつ気化 したソース試薬材料を受取る関係で配置され、蒸気は分解して選択された1つ以 上の成分たとえば元素金属が基板上に堆積する。 他の局面および実施例での、この発明の種々の特徴には以下が含まれる。 1.気化ゾーンおよびプロセスマニホルドの非常に効率の高い構造、および気化 ゾーンにおける不揮発性の残渣物の望ましくない蓄積を防止するプロセスバイパ スラインおよび残渣トラップの提供。 2.プロセスシステムおよびプロセスバイパス管路に、気化ゾーンにおける不揮 発性の残渣の形成を最小にする流体流量コンダクタンス特性を有するマニホルド を提供すること。 3.気化ゾーンにおいて集まる不揮発性の残渣物除去のための手段および方法を 提供すること。 この発明の気化器アセンブリは、気化器における残渣の蓄積を最小にとどめ、 残渣がCVDプロセス室に向かって移動することを防止するように構成および配 置されている。これは、プロセスマニホルドをプロセス室への入口に向けて傾斜 するように配置するか、その代わりとして構造的バリアまたはバッフル、スクリ ーン、濠、迂回チューブなどの迂回手段を用いることによって残渣が残渣トラッ プに向かって流れその中へと入るように操作すれば可能になるであろう。 残渣トラップは、液体または流動可能な固体残渣が重力によって適切な容器ま たはその他の残渣トラップ収集手段へと流れるようにして、不揮発性残渣を収集 するように配置されている。この残渣トラップは、システムマニホルド流れ回路 のバイパス部分のみに結合されていてもよいし、CVDプロセス室からの排気管 と共有していてもよい。典型的には、有機金属ガスが流れるマニホルドは、分解 または凝縮を阻害する温度まで加熱され、最初に出会う低温面はシステムのコー ルドトラップである。コールドトラップの温度勾配が急であるので、気相の前駆 物質、および気化器で形成される液相の不揮発性分解副産物を局所的に集めるこ とができる。 液体供給システムの気化器において上記のように不揮発性の残渣を収集するこ とに加え、残渣の形成を最小にする傾向がある加圧流動特性がこの発明の実施に おいて有利に用いられる。 一般には、気化ゾーンの下流のマニホルドの流体の流量コンダクタンスが高い ことは、特にソース試薬がBaおよびSrのような元素の堆積膜への一体化のた めに利用されているときには有利である。以下で示した典型的なデータは、例示 のBa0.70Sr0.30TiO3(BST)薄膜の化学気相成長に対するこの依存性 を示している。 以下の説明のために、一体化効率を、例示の標準的な堆積プロセスにおいて形 成される直径6インチの膜に一体化される特定の元素(たとえばバリウム)のモ ル数を、堆積プロセス中に化学気相成長反応器に導入された元素のモル数で除し たものと定義する。この表現は膜厚および組成双方を反映し、特定のプロセス条 件が化学気相成長膜成分それぞれにどのように影響を及ぼすかを評価する際に役 立つ。 BST膜の堆積において他の場合であれば一定のプロセス条件下で、液体供給 システムのマニホルドにおけるバルブ本体の大きさを公称直径(外径)1/4イ ンチから3/4インチの管に増大すると、結果としてBaおよびSr種の一体化 効率はほぼ3倍に増大し、一方Ti種の一体化効率は一定のままであった。バル ブ本体は、液体供給システムの最大流体流量コンダクタンス低下の領域を定める 。 このBaおよびSrの一体化効率の上昇には、気化ゾーンにおけるBaおよび Sr残渣の減少が伴い、気化器の動作寿命(前駆物質の気化の不揮発性分解副産 物の蓄積の結果として再構築、洗浄または交換が必要になる時点の前)は、シス テムにおいて流路のコンダクタンスが低い場合に優る。 この発明の他の局面において、気化器において、堆積した分解副産物材料の除 去に効果のある洗浄媒体を、気化室を通して、堆積した材料の所望の除去を行な うのに十分な時間および十分なプロセス条件下で(温度および圧力)流す。 このようにして、この発明は本来の場所での洗浄方法を意図しており、洗浄媒 体はたとえば堆積した分解副産物材料の除去に対し溶媒和効果のある液体または その他の流体を含み得る。この発明のこの局面は、最も好ましくは、気化素子お よび気化室内面、ならびに分解副産物がはなはだしく蓄積しやすいさらなる流れ 回路部分(管路、バルブおよびコネクタ内面など)の、熱い溶媒による洗浄とし て高められたプロセス条件で行なわれる。 洗浄媒体の選択はもちろん、ソース試薬種の種類および数、特定の分解産物、 相互作用、ならびに含まれる特定のプロセス条件(温度、圧力、流量および組成 )次第である。本質的に有利に用いられる洗浄媒体の例は、アンモニア、アルカ ノール、グリコール、エーテル、炭化水素溶媒、含ハロゲン炭素化合物溶媒など である。好ましい液体は、アルカノール溶媒、テトラグリム、アンモニア、およ び塩素化炭化水素溶媒を含む。 この発明の他の局面、特徴および実施例は、以下の開示および添付の請求の範 囲よりさらに明らかになるであろう。 図面の簡単な説明 図1は、この発明の実施例における種々の特徴を示す液体供給および化学気相 成長システムの概略図である。 図2は、この発明の他の局面に従う、液体供給システムにおいて有利に用いら れる加熱器アセンブリの部分断面図である。 図3は、図2の一部の分解等角図である。 図4は、図1の液体供給および化学気相成長システムの一体化効率のパーセン トを、インチで示したマニホルド管直径の関数として示したグラフである。 図5は、図1に示したタイプの液体供給および化学気相成長システムにおいて 有利に用い得る他の液体供給気化装置の一部の概略図である。 図6は、この発明のさらなる実施例に従う他の気化器設計の断面図である。 発明および発明の好ましい実施例の詳細な説明 以下の特許出願および特許の開示全体を本明細書に引用により援用する。 Peter C.Van Buskirk他の名で1996年6月19日に出願された米国仮特許出 願第60/020,023号、Peter S.Kirlin他の名で1995年6月7日に 出願された米国特許出願第08/484,025号、Peter C.Van Buskirkの名 で1995年3月10日に出願された米国特許出願第08/402,142号、 Peter C.Van Buskirk他の名で1996年3月22日に出願された米国特許第0 8/621,088号、1994年3月7日に出願され米国を指定国とした国際 特許出願第PCT/US94/02512号、1994年7月25日に出願され た米国特許出願第08/280,143号、1992年8月7日に出願された米 国特許出願第08/927,134号、米国特許第5,204,314号、およ び1990年7月6日に出願された米国特許出願第07/549,389号であ る。 図1は、この発明の実施例においてこの発明の種々の特徴を示す液体供給およ び化学気相成長システムの概略図である。液体供給および化学気相成長システム 100は、細長い構造の気化室130を有する気化ゾーン110を含む。気化室 130は、供給ライン114により流れ管路122に接続される試薬供給容器1 12からの前駆物質ソース試薬が垂直の流れ管路122によって与えられる気化 フリット素子120を含む。 気化室130はまた、供給ライン126により入口ライン128に接続される キャリヤ流体供給容器124から、アルゴン、酸素またはその他のキャリヤ媒体 などのキャリヤ流体を受けるキャリヤ流体入口ライン128を特徴としている。 このキャリヤ流体を加熱装置により気化温度まで予備加熱してもよい。キャリヤ ガスを予備加熱することにより、Ta(OEt)5の気化における粒子形成を減 じ、Cupra SelectTM銅のソース試薬の気化における液体流動能力を高めることが わかっている。 気化フリット素子120のすぐ下流にある気化室130は、マニホルド管路1 37と結合されこの間で流れが生じる。マニホルド管路137は、上向きに傾斜 した入口部分138と下流の水平部分140とを含む。 マニホルド管路137の下流の水平部分140は、高コンダクタンスバルブ1 52によって主送り管路142に接合される。主送り管路142は図示のように 化学気相成長プロセス室144のシャワーヘッドディスペンサ146に放出が起 こる関係で接合される。シャワーヘッドディスペンサ146は、その開示全体を 本明細書に引用により援用する米国特許出願第08/402,142号および米 国特許出願第08/621,088号においてより詳細に示されるように構成可 能である。 シャワーヘッドディスペンサ146は、ウェハ150が載置されたサセプタ1 48と対面する関係でCVD室144内に配置される。シャワーヘッドディスペ ンサ146の前面には一連のオリフィスがあり(図示せず)、これを通して気化 したソース試薬蒸気は矢印Aの方向に進行し、ウェハ面に衝突して所望の種の堆 積を行なわしめる。 CVD室144は、真空ポンプ158の作用によって蒸気を放出するために排 気マニホルド156に接合され、蒸気は最終的に排気ライン160に放出され排 出処理手段および/または最終処分へと転送される。 気化室130の下端は高コンダクタンスバルブ132により高コンダクタンス マニホルドバイパスライン134に接合され、このバイパスラインは重力によっ て液体を不揮発性残渣トラップ136へと排出し、一方不揮発性残渣の中で減少 した気体はガスバイパスライン154において上記の排気マニホルド156へと 送られる。 マニホルド管路137の上向きに傾斜した入口部分138はこのようにして、 不揮発性材料がマニホルド管路137によって主送り入口管路142へと次にC VDプロセス室144へと送られることを防ぐ。したがって、気化素子により気 化されたソース試薬成分の分解により生まれた液体または流動可能な固体の分解 産物がCVD室へと流れることが上向きに傾斜した管路によって妨げられ、分解 産物はその代わりに不揮発性残渣トラップ136の収集容器へと流れる。 不揮発性残渣のための収集容器を、長期間にわたり気化室からの分解産物を受 取るようにその大きさを定めて配置してもよく、コールドトラップ容器はシステ ムの使い捨て可能部分でもよく、その代わりにこのような容器を、蓄積した残渣 を除去しその後システムに容器を再び設置し再利用するように加工してもよい。 コールドトラップで凝縮している分解しなかった試薬を任意に堆積プロセスにお いて用いるために再生および精製し試薬の利用レベルを高めてもよい。 気化効率は、高コンダクタンス流れ管路、マニホルドおよびバルブを用いるこ とによって高まる。一般には、比較的直径の大きな好ましくは外径が1/2から 3/4インチのオーダである流路がシステムにおける流れ管路として望ましいが 、流れ管路の大きさおよびコンダクタンス特性は、本発明の実施において採用さ れるバルブおよびマニホルドの寸法およびコンダクタンス特性と同様、本発明の 広範にわたる実施において大幅に変化し得る。この発明のある局面および実施例 では、管およびそれに関連するする各々の内径が約0.3から約3.0インチの バルブから構成されるマニホルドを、マニホルドを通る流体の高い流量コンダク タンスのために用いてもよい。 流れ管路、バルブおよびマニホルドの最適寸法および動作特性は、バルブおよ び流路のコンダクタンスを変化させ、ソース試薬種の一体化効率および/または 生成された分解副産物の量を測定し、このような性能データから適切な成分なら びにその流れおよび寸法特性を選択するという簡単な方法によって、この発明の 特定の応用例において容易に求めることができる。 以下で述べるように、本来の場所での洗浄は、洗浄媒体を気化室を通してかつ 気化素子およびその内面と洗浄に関して接触するように流すことによって実行可 能である。この本来の場所での洗浄は、洗浄媒体の供給容器を、たとえば例とし てソース試薬供給容器112および洗浄媒体供給容器に接合される適切なバルブ 調整マニホルドにより、交互に供給する関係で供給ライン114に与えることに よって可能である。こうすることによって、供給ライン114へのソース試薬の 供給は停止され、洗浄媒体の供給が開始され、この供給はその後、気化室から、 ならびにシステムの配管、バルブおよびマニホルドのその他の内面から分解産物 を除去するのに十分な時間および十分なプロセス条件下で行なわれる。 このような本来の場所での洗浄は、たとえば液体またはその他の流体洗浄媒体 を気化室を通してその中の気化素子と接触するように供給することを含む。洗浄 媒体は例としてアンモニア、アルカノール、グリコール、エーテル、炭化水素溶 媒、含ハロゲン炭素溶媒などを含む。好ましい液体は、アルカノール溶媒、テト ラグリム、アンモニア、および塩素化炭化水素溶媒を含む。 液体供給およびCVDシステム100のさらなる改良には、キャリヤ流体入口 ライン128、気化室130、マニホルド管路137、バイパスライン134お よび垂直流れ管路122の内壁に対する電解研磨技術の使用が含まれ、入口ライ ン128、気化室130、マニホルド管路137、バイパスライン134および 垂直流れ管路122は好ましくはステンレス鋼材料からなる。電解研磨により研 磨されかつ不動態化される表面の、前駆物質に対する付着効率は低下し、管の壁 で試薬が凝縮することも妨げる。管の壁の付着効率が低下すると、材料は管の厚 い壁に付着しにくくなる。 システムの内面の電解研磨の有益効果の例として、3ヵ月の動作後、例示のプ ロセスシステムにおいて電解研磨が行なわれた壁の面には目に見える物質の蓄積 はなかった。しかしながら、電解研磨が行なわれなかったラインには、管の壁に 薄い褐色の粉末状の被膜が見受けられた。キャリヤ流体入口ライン128、気化 室130、マニホルド管路137、バイパスライン134および垂直流れ管路1 22の内面の電解研磨はしたがって、不揮発性種の形成を減じることにより気化 器の寿命を延ばすものとして有利に用いられる。 液体供給およびCVDシステム100にはまた、電気抵抗加熱器、流れ追跡ラ イン、加熱ジャケット、包み込む対流オーブン、またはその他の適切な加熱手段 などの気化器加熱手段を与えてもよく、これによってキャリヤ流体入口ライン1 28、気化室130、マニホルド管路137および高コンダクタンスマニホルド バイパスライン134を加熱して、流通する蒸気の凝縮を防止する。垂直流れ管 路122を気化器加熱手段によって加熱することもできる。キャリヤ流体入口ラ イン128に近接して第1の気化器加熱手段161が設けられる。気化室130 に近接して第2の気化器加熱手段162が設けられる。マニホルド管路137に 近接して第3の気化器加熱手段164が設けられる。高コンダクタンスマニホル ドバイパスライン134に近接して第4の気化器加熱手段166が設けられる。 例示のために、各々の気化器加熱手段を加熱コイルとするが、各気化器加熱手 段は、熱エネルギを(キャリヤ流体入口ライン128の内部通路に、気化室13 0に、マニホルド管路137に、および高コンダクタンスマニホルドバイパスラ イン134に)伝達するための、当業者には既知の広範囲にわたる種々の加熱シ ステムのうちいずれかを含み得る。 熱ジャケット168もまた、キャリヤ流体入口ライン128、気化室130、 マニホルド管路137、高コンダクタンスマニホルドバイパスライン134、残 渣トラップ136、気体バイパスライン154、ならびに加熱手段16、162 および166の長さを収容する。熱ジャケット168は、中に収容された素子に 対し絶縁特性を与え、気化器加熱手段と協働して管路137およびバイパスライ ン134の内部温度を上昇させる。 熱ジャケット168に代わるものとしては、対流オーブンまたはその他の加熱 室に囲まれた気化器がある。オーブンの側壁は気化器を囲む囲いまたは箱を定め る。次にオーブンを加熱して以下で説明する凝縮を防止する。 図2および3は、特に有利な気化器加熱手段を示す。図示の気化器加熱手段は 、気化器の管路、気化室、バイパスラインまたはバルブを囲む鋳造アルミニウム ヒータである。電気抵抗加熱素子が各ヒータに埋込まれる。各ヒータは、気化器 の管路、気化室およびバイパスラインを囲む等温動作条件を生み出しかつこれを 維持するように設計される。こうすることによって、試薬が通される管路、気化 室およびバイパスラインのすべての境界面での等温条件が生み出される。各アル ミニウムヒータは、それぞれのヒータ間の熱接触がよくなるように二重球面接合 を 取入れる。所望の等温動作条件は典型的には200−300℃の範囲にあるので 、図2および3の鋳造アルミニウムヒータは、より典型的な加熱装置の接合部で の熱損失を取り除いている。 図2は、気化室(図示せず)を加熱するのに用いられる鋳造アルミニウムヒー タアセンブリ200の一部断面図である。ヒータアセンブリ200は、本体の第 1および第2の半分を含み、本体の第1半分202がこの図面に示されている。 本体の第1半分202および本体第2半分(図示せず)はクラムシェル配置でバ ルブ206を囲む。バルブ206は、気化装置を通してCVD反応器に流れ込む 蒸気または流体の流量を制御するために用いられる2つのバルブの一方である。 加熱器208は、少なくとも1つの埋込まれた加熱素子210を含む。 ストラップバンド、ホースクランプ、溶接、ばね鋼クリップ、接着剤またはね じ部品などのクランプ手段を設けて第1および第2の本体半分をクランプしても よい。例示のために、以降クランプ手段は球形のホースクランプ212として説 明するが、各クランプ手段は、構造アセンブリの部分を結合または一体構造とし て保持するための当業者には既知のクランプシステムを含み得る。 タブおよびキー溝構造、ねじ部品、クリップ、バンドまたは溶接などの接合手 段を設けて本体の第1および第2の半分を加熱器208に接合または結合しても よい。例示のために、接合手段はボールソケット球形接合214として説明する が、各接合手段は、加熱器208を本体半分に固定し熱エネルギを本体半分各々 に伝達するための当業者には既知の適切な接合素子、部材またはシステムを含み 得ることが理解されるであろう。 図3は、図2の本体半分の分解等角図である。本体の第1半分202および本 体第2半分216は図2および3に示すように成形されている。球面クランプ2 12(一部のみが示されている)は本体半分を固定する。キャップ218は、前 駆物質ソース試薬を流すための垂直流れ管路(図示せず)を収容し、好ましくは アルミニウムまたはその他の適切な材料から構成されたキャップは、気化室(図 示せず)の囲いを完成させる。 図2および3を参照して説明した加熱器アセンブリは気化室の等温条件を維持 するために使用されるが、当業者であれば、加熱器アセンブリを液体供給システ ムの他の構成要素に合せることが容易であることを認識するであろう。第1およ び第2の加熱器半分はアルミニウムから鋳造されるものであるので、型を製造し て本体半分を形成しマニホルド、管路、トラップまたは図1のその他の構成要素 を囲むことは容易である。 図2および3を参照して述べた加熱器アセンブリにはいくつかの利点がある。 アルミニウムは優れた熱導体であるので、熱勾配を避けることは容易であり、し たがって均一的な温度を得ることは容易である。アルミニウムを複雑な形状に鋳 造するコストは比較的低い。アルミニウム加熱器アセンブリは好ましく用いられ るステンレス鋼構成要素を囲んでいるので、ステンレス鋼構成要素は、アルミニ ウムからの放射の組合せにより、ステンレス鋼およびアルミニウムが接触してい る場所での伝導により、およびアルミニウム本体半分およびステンレス鋼構成要 素間の空気の隙間を通した対流により加熱される。好都合なことに、アルミニウ ム加熱器本体には孔211に埋込まれた「ばねプランジャ」により適切な場所で ステンレス鋼気化管に対抗するばねが搭載されている。このパネルプランジャの 配置により、アルミニウムジャケットは強制的にこうした場所でステンレス鋼管 路と熱的に密に接触させられる。 図4は、インチで表わしたマニホルド管直径の関数として一体化効率をパーセ ントで示したもののグラフであり、図1において概略的に示したタイプのシステ ムにおいて本発明を実施した際の流路手段のコンダクタンスの効果を示す。上記 のように、この発明の液体供給および気化システムの管路、バルブおよびマニホ ルドの流路のコンダクタンス特性を選択的に変化させて気化ステップにおける前 駆物質ソース試薬の分解の発生を最小にとどめ、かつ基板上で形成されている膜 において堆積された種の一体化効率を最大にすることができる。 図4に反映される一体化効率データは、図1に概略的に示したタイプのプロセ スシステムを、プロセスシステムのCVD室において直径6インチのウェハ上に 例としてBa0.70Sr0.30TiO3(BST)の薄膜を化学気相成長形成するた めに用いた場合に得たものである。 BST膜の堆積のためのプロセス条件はそれぞれのテストにおいて一定とした が、液体供給システムのマニホルドにおいて標準的な厚みの壁を有し外径が1/ 4インチ、1/2インチおよび3/4インチのステンレス鋼管を用いて、管の直 径を実行するごとに変化させた。 各直径の値でそれぞれ実行したときのデータを図にし、図4に示したようなグ ラフを得た。このグラフで示したように、液体供給気化およびCVDプロセスシ ステムにおけるバリウムおよびストロンチウムの一体化効率はマニホルドの管の 直径が1/4インチのときはおよそ4%であったが、これに対応するチタンの一 体化効率は約11.5%であった。マニホルドの管の直径が1/2インチの場合 、バリウムの一体化効率は約10.5%まで高まり、ストロンチウムの一体化効 率はおよそ11%まで高まったが、チタンの一体化効率は1/4インチの管を用 いた最初の実行時と同じレベルにとどまった。3/4インチのマニホルド管を用 いたときは、バリウムおよびストロンチウムの一体化効率はおよそ13%まで上 昇したが、チタンの一体化効率は最初2回の実行時と同じ大きさのオーダにとど まった。 プロセスシステムにおけるBaおよびSrの一体化の効率の上昇は、システム における分解副産物材料の発生および蓄積が減じたことと関連しているので、テ ストシステムにおけるマニホルド管の流量コンダクタンスの上昇によりシステム 動作の効率が向上したことは明らかである。上記のように、この発明の実施にお ける管路、バルブおよびマニホルドの最適流量コンダクタンス特性を、当業者の 範囲内でかつ過剰な実験を行なうことなく、コンダクタンス変動判定テストシス テムにおける流量コンダクタンステストの方法により容易に決定することができ る。 フリット細孔の適切な大きさを選択することもまた、フリット気化器素子のコ ンダクタンスおよび気化特性を大幅に変化させ得る。例として、40ミクロンフ リットを用いて、たとえば前に用いた細孔の大きさがより小さなフリット素子と 比較して2以上のファクタだけ、コンダクタンスを実質的に向上させることがで きる。40ミクロンフリットの細孔は、前に用いたフリット素子よりも大きいた め、この細孔では、蓄積した不揮発性材料が詰まるまでに経過する時間が長い。 細孔がより大きなフリット(たとえば細孔の大きさが40ミクロンのフリット素 子)は、細孔がより小さなフリット(たとえば細孔の大きさが10−20ミクロ ン)よりも気化までに液体の試薬により湿潤化させるために利用できる表面積が 小さく、したがって詰りや閉鎖に対する抵抗の高い細孔の大きさは、湿潤化およ び気化については効率が低いことが認識されるべきである。したがって、多孔質 のフリット気化器素子の最適の細孔サイズは、システム全体の気化およびメンテ ナンス条件に対応する細孔サイズとして容易に求めることができることが理解さ れるであろう。 図5は、この発明のさらなる局面に従う液体供給気化システムの一部の概略図 を示す。図5に示した液体供給気化システム400は、バルブ402、404、 406および408ならびに関連する配管を含む流れ回路を含む。配管は、管路 412および414を結合する蒸気流れ管路410を含む。バルブ402は蒸気 流れ管路410に配置され、次に蒸気送り管路420と結合されてソース試薬蒸 気を化学気相成長反応器(図示せず)に搬送する。 図5の実施例では、蒸気流れ管路410は、傾斜をつけた壁面416を含み、 これが、対応する、蒸気流れ管路410を一部切取った形で示している内部リッ プ424を形成している。この内部リップ構造はこのようにして、システム全体 の動作において液体が蒸気流れ管路420に入り化学気相成長反応器へと進行す るのを防ぐためのダムまたは物理的バリア手段の役割を果たす。 図5に示した特定のリップ構造に代わるものとして、この発明の広範囲にわた る実施においてはこれ以外の物理的バリア構造を、相分離手段、気体の流れ/液 体引き離し装置およびそれ以外の手段および方法とともに用いて、気化室で形成 された液体および流動可能な固体の分解産物がCVD反応器へと進行することを 防止する。これらがCVD反応器へと送られた場合堆積動作および生産されたウ ェハ構造の存続の可能性にひどい悪影響を及ぼす可能性がある。 図6は、他の気化器設計の断面図である。この気化器の設計では、種々の気化 器構成要素を、単独の交換可能でかつコンパクトな気化器キャップユニットに取 込んでいる。気化器キャップユニット500は、適切な試薬供給源(図示せず) からの前駆物質ソース試薬を流す毛細管504から供給を受ける気化フリット素 子502を含む。 気化器キャップユニット500は、キャリヤ流体供給源(図示せず)からキャ リヤガスを受けるキャリヤガス供給管506を特徴としてもよい。キャリヤガス 通路508は、キャリヤガス供給管506と間を気体が流れる関係で結合され、 キャリヤガスをキャリヤガスノズル510に流す。ノズル510は、キャリヤガ スが気化ゾーン512に注入される前に予備加熱するためにキャリヤガスにおい て乱流を生じさせ、キャリヤガスの流量を制限する。 気化器キャップユニット500は、気化フリット素子502を気化器キャップ ユニットにおいて保持するのに使うためのスナップリング、割りリング、溶接、 ロックタブ、キー溝、プレスフィット設計などの保持手段を含んでいてもよい。 例示のために、保持手段はスナップリング514として説明を行なうが、保持手 段は当業者には既知である、フリット502を気化器キャップユニット500に 固定するための他の適切な保持手段を含み得る。 気化器キャップユニット500は、気化室(図示せず)と取外し可能に係合可 能な細長い外側本体を含む。細長い外側本体は、長手方向の軸および長手方向軸 を横断する断面を定める。外側本体は、外側本体を気化室に取り外し可能に係合 させるために用いるねじ、スナップリングまたはタブおよびキー溝といった係合 手段を含む。例示のために、係合手段は雄ねじ部516として説明するが、係合 手段は、当業者には既知である、外側本体を気化室に取り外し可能に係合させる ための他の適切な係合手段を含み得る。 外壁517は、第1の内壁518および第2の内壁520を囲む。第1の内壁 518は毛細管504を囲みその間の第1の気体流路522を定める。第1の気 体流路522とベローズ523との間には流体が流れ、第1の気体流路522は 、たとえば図1で示したように化学気相成長反応器からの真空がベローズにおけ る圧力差を生じさせるようにする。ベローズ523は真空の影響を受けるので、 大気圧の力がベローズに加圧し毛細管出口524が適切にフリット502に配置 される。気化器に圧力がかけられれば、ベローズ523により、毛細管出口52 4がフリットから引上げられて毛細管における詰りを取除く助けになる。ノズル 510はまた、その周囲にスロットを含んで毛細管504が常に固定されるよう にしてもよい。第1の内壁518はまた、毛細管504を気化キャップユニット 500に案内する働きをする。 第2の内壁520は第1の内壁518を囲み熱遮断室526を定める。第1の 気体流路522および熱遮断室526は協働して毛細管504が熱から遮断され るようにする。毛細管504は加熱されるフリット502に近接しているので、 通路522および遮断室526は協働して毛細管504の温度が200℃未満の 温度に保たれるようにする。 毛細管504の上端のゼロ死空間圧縮継手528は、試薬供給源(図示せず) からの前駆物質ソース試薬を流すために用いられる液体前駆物質供給管530と 取り外し可能に係合する。ベローズ523は圧縮継手528と第2の内壁520 との間に装着されて間に気密封止を形成する。 気化器キャップユニット300の任意のさらなる向上は、以下で述べるように 、電解研磨技術を利用して、前駆物質に対する付着効率が低下した不動態化され た表面を形成して、内壁で試薬が凝縮するのを防止しかつ材料が熱い壁に付着す る傾向を抑えることを含む。毛細管304、第1の内壁518、キャリヤガス供 給管506、および通路522の内面ならびに第2の内壁520の各表面を電解 研磨することにより、不揮発性種の形成が減じられて気化器の寿命が延びる。 気化器キャップユニット500はまた、気化器の機能性および寿命を向上させ る他の特徴とともに実施されてもよい。ベローズおよび環状のリザーバは、熱い 気化器本体と毛細管504との間で熱を遮断する。ベローズ523ならびに環状 のリザーバ522および526によりもたらされる熱遮断によって、毛細管50 4は低温に保たれる。以下で述べるように毛細管がまた本来の場所での洗浄のた めの洗浄媒体を流すために用いられるのならば、冷却された毛細管もまた洗浄媒 体が早期に沸騰することを最小にとどめることによって固体の前駆物質の堆積を 防止する。 ノズル510は熱い気体を集結させて気化を高める。ノズルは、加熱した気体 の流れを、液体の前駆物質が毛細管出口524から放出されるポイントに集める 。フリット504への熱伝達の一次モードはキャリヤガスからのものであるので 、熱いキャリヤガスをこの毛細管出口ゾーンに集めることによって気化が大幅に 向上する。 気化器キャップユニット500は有利にも市販されている構成部品から構成し てもよい。雄ねじ部516、第1の内壁518および第2の内壁520は有利に も、3/4インチの雄VCR溶接管継手、1/2インチのステンレス鋼管、およ び3/4インチのステンレス鋼管からそれぞれ構成することができる。ベローズ 523は、長さが短く1/4インチの厚みの壁で囲まれたベローズ材料から構成 することができる。ゼロ死空間圧縮継手528は、1/4インチのVCR溶接管 継手でもよい。 気化器キャップユニット500は、製造可能性が高く容易に利用される気化器 の向上した設計を実現する。このようなユニットは、既存のCVD設備に容易に 統合できる。気化器キャップユニット500により、液体供給システムおよび関 連の気相成長反応器の動作におけるウェハ処理能力を高め気化器の動作不能時間 を減じることもできる。 液体供給システムならびに関連する手段および構造は、その製造、アセンブリ 、動作およびメンテナンスにおいて好都合な構造の適切な材料から形成すること ができる。産業上の利用可能性 この発明の液体供給システムは、基板の上に、高融点材料、超伝導材料、強誘 電材料、光子材料、シンチレーション検出コーティング、光ファイバコーティン グ、および薄膜キャパシタ材料などのマイクロエレクトロニクスアプリケーショ ンのための高融点酸化物といった薄膜材料を、化学気相成長させるために有効に 用いられる。このような薄膜は、集積回路、スイッチ、放射検出器、薄膜キャパ シタ、ホログラフィ記憶媒体およびその他種々のマイクロエレクトロニクスデバ イスの製造に有効に用いられる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成11年4月13日(1999.4.13) 【補正内容】 16.キャリヤ流体を流し、気化した液体試薬を取り込むために、前記細長い流 体流路に対しその間を流体が流れる関係を有するキャリヤ流体入口ラインをさら に含む、請求項1に記載の液体供給システム。 17.前記キャリヤ流体入口ラインはステンレス鋼材料から構成される、請求項 16に記載の液体供給システム。 18.前記キャリヤ流体入口ラインは電解研磨された内面を有しその内面での不 揮発性残渣の凝縮および付着を防止する、請求項17に記載の液体供給システム 。 19.前記キャリヤ流体入口ラインを加熱するための気化器加熱手段をさらに含 む、請求項16に記載の液体供給システム。 20.当初液体の試薬を気化した形態で化学気相成長反応器に供給するために配 置された液体供給システムの構造部を加熱するための加熱器アセンブリであって 、前記化学気相成長反応器は前記液体供給システムから蒸気を受ける関係で配置 され、前記加熱器アセンブリは、 (a) 前記構造部を囲む加熱器本体と、 (b) 前記加熱器本体に埋込まれ前記加熱器本体を加熱して熱エネルギを前 記加熱器本体から前記構造部へ伝達する加熱素子とを含み、 前記液体供給システムは、 (c) 細長い気化流体流路と、 (d) 前記流体流路の気化素子と、 (e) ソース試薬液を前記気化素子に供給するためのソース試薬液送り通路 と、 (f) 前記気化素子を前記液体の試薬の気化のための温度まで加熱するため の手段と、 (g) 前記気化素子での前記液体の試薬の気化により形成された蒸気を前記 流体流路から前記化学気相成長反応器に流すための手段とを含む、加熱器アセン ブリ。 21.前記構造部を囲む前記加熱器本体は対流オーブンを含む、請求項20に記 載の加熱器アセンブリ。 22.前記加熱器本体は、第1の加熱器本体半分および第2の加熱器本体半分を 含み、各加熱器本体半分はアルミニウムから鋳造される、請求項21に記載の加 熱器アセンブリ。 23.前記第1および第2の本体半分をクランピングして前記構造部を囲むため のクランプ手段をさらに含む、請求項22に記載の加熱器アセンブリ。 24.前記クランプ手段は球形のホースクランプを含む、請求項23に記載の加 熱器アセンブリ。 25.当初液体の試薬を気化するための気化室と取り外し可能に係合可能な交換 可能の気化器キャップであって、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR, NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,L S,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL ,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR, BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,E E,ES,FI,GB,GE,GH,HU,IL,IS ,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK, LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,M N,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU ,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM, TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 カール・ジュニア,ラルフ・ジェイ アメリカ合衆国、12540 ニュー・ヨーク 州、ラグランジビル、ウォルシュ・ロード (番地なし)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.当初液体の試薬を気化した形態で化学気相成長反応器に供給するための液体 供給システムであって、前記化学気相成長反応器は前記液体供給システムから蒸 気を受ける関係で配置され、前記液体供給システムは、 (a) 細長い気化流体流路を含み、前記気化流体流路は長手方向の軸を定め かつ囲い壁により囲まれて前記流体流路の長手方向の軸を横断する断面を定め、 前記液体供給システムはさらに、 (b) 長手方向の軸をほぼ横断し前記流体流路の方向を向く正面を有する気 化素子と、 (c) 前記気化素子の正面に垂直の方向に液体を放出するように配置された 先端を有するソース試薬液体送り通路と、 (d) 前記気化素子を前記液体の試薬の気化のための温度まで加熱するため の加熱手段と、 (e) 前記気化素子での前記液体試薬の気化により形成される蒸気を前記流 体流路から前記化学気相成長反応器に流すためのマニホルドとを含み、マニホル ドは、液体試薬の気化において形成される不揮発性の残渣が前記化学気相成長反 応器へと流れることを防止する分岐手段を含む、液体供給システム。 2.前記分岐手段は、前記流体流路の長手方向の軸に対し上向きに傾斜する方向 で配置されたマニホルドの面を含み、不揮発性の残渣が前記化学気相成長反応器 へと流れることを防止する、請求項1に記載の液体供給システム。 3.流体流路の長手方向の軸は垂直である、請求項1に記載の液体供給システム 。 4.前記流体流路との間で流体が流れるように結合される残渣トラップ収集手段 をさらに含み、前記残渣トラップ収集手段は不揮発性の残渣を収集するように配 置される、請求項1に記載の液体供給システム。 5.前記残渣トラップ収集手段は、不揮発性の残渣が重力によって前記残渣トラ ップ収集手段へと流れ込むようにして不揮発性の残渣を収集するように配置され る、請求項4に記載の液体供給システム。 6.残渣トラップ収集手段は使い捨て可能な容器を含む、請求項4に記載の液体 供給システム。 7.前記残渣トラップ収集手段は再利用可能な容器を含む、請求項4に記載の液 体供給システム。 8.前記残渣トラップ収集手段はステンレス鋼材料から構成される、請求項4に 記載の液体供給システム。 9.前記ステンレス鋼の残渣トラップ収集手段は、電解研磨された内面を有しそ の内面上で不揮発性残渣が凝縮することおよび内面に不揮発性残渣が付着するこ とを防止する、請求項8に記載の液体供給システム。 10.前記細長い流体流路、ソース試薬液体送り通路、およびマニホルドはステ ンレス鋼材料から構成される、請求項1に記載の液体供給システム。 11.前記ステンレス鋼の細長い流体流路、ステンレス鋼のソース試薬液体送り 通路、およびステンレス鋼のマニホルドは各々、電解研磨された内面を有しその 内面上で不揮発性残渣が凝縮することおよび内面に不揮発性残渣が付着すること を防止する、請求項10に記載の液体供給システム。 12.前記マニホルドは管および関連するバルブから構成され、前記バルブ各々 の内径はマニホルドを通る流体の流量コンダクタンスを高いものとするために約 0.3から約3.0インチである、請求項10に記載の液体供給システム。 13.前記細長い流体流路を加熱するための気化器加熱手段をさらに含む、請求 項1に記載の液体供給システム。 14.前記ソース試薬液体送り通路を加熱するための気化器加熱手段をさらに含 む、請求項1に記載の液体供給システム。 15.前記マニホルドを加熱するための気化器加熱手段をさらに含む、請求項1 に記載の液体供給システム。 16.キャリヤ流体を流し、気化した液体試薬を取り込むために、前記細長い流 体流路に対しその間を流体が流れる関係を有するキャリヤ流体入口ラインをさら に含む、請求項1に記載の液体供給システム。 17.前記キャリヤ流体入口ラインはステンレス鋼材料から構成される、請求項 16に記載の液体供給システム。 18.前記キャリヤ流体入口ラインは電解研磨された内面を有しその内面での不 揮発性残渣の凝縮および付着を防止する、請求項17に記載の液体供給システム 。 19.前記キャリヤ流体入口ラインを加熱するための気化器加熱手段をさらに含 む、請求項16に記載の液体供給システム。 20.液体供給システムの構造部を加熱するための加熱器アセンブリであって、 (a) 前記構造部を囲む加熱器本体と、 (b) 前記加熱器本体に埋込まれ前記加熱器本体を加熱して熱エネルギを前 記加熱器本体から前記構造部へ伝達する加熱素子とを含む、加熱器アセンブリ。 21.前記構造部を囲む前記加熱器本体は対流オーブンを含む、請求項20に記 載の加熱器アセンブリ。 22.前記加熱器本体は、第1の加熱器本体半分および第2の加熱器本体半分を 含み、各加熱器本体半分はアルミニウムから鋳造される、請求項21に記載の加 熱器アセンブリ。 23.前記第1および第2の本体半分をクランピングして前記構造部を囲むため のクランプ手段をさらに含む、請求項21に記載の加熱器アセンブリ。 24.前記クランプ手段は球形のホースクランプを含む、請求項23に記載の加 熱器アセンブリ。 25.当初液体の試薬を気化するための気化室と取り外し可能に係合可能な交換 可能の気化器キャップであって、 (a) 長手方向の軸および前記長手方向の軸を横断する断面を定める細長い 外側本体と、 (b) 前記細長い外側本体に位置決めされ長手方向の軸を横断する正面を有 する気化素子と、 (c) 前記液体の試薬を流し液体の試薬を前記気化素子の正面に垂直な方向 に放出するように配置された毛細管と、 (d) 前記気化素子を前記液体の試薬の気化のための温度まで加熱するため の加熱手段と、 (e) 前記外側本体を前記気化室に取り外し可能に係合させるための係合手 段とを含む、交換可能の気化器キャップ。 26.前記係合手段はねじによって前記気化室と係合するための外側本体ねじ部 を含む、請求項25に記載の交換可能の気化器キャップ。 27.前記気化素子を前記気化器キャップにおいて保持するための保持手段をさ らに含む、請求項25に記載の交換可能の気化器キャップ。 28.前記保持手段は前記気化素子を前記気化器キャップにおいて保持するため のスナップリングを含む、請求項27に記載の交換可能の気化器キャップ。 29.(a) 前記外側本体内の内壁をさらに含み、前記内壁は前記毛細管を囲 みかつその間に気体流路を定め、前記気体流路と前記気化室との間には気体が流 通し、さらに、 (b) 前記毛細管の上端に装着された圧縮継手と、 (c) 前記内壁の上端と前記圧縮継手との間に装着されたベローズ要素とを さらに含み、前記ベローズ要素と前記気体流路との間には気体が流通し、前記気 化室の圧力と大気圧との差が、(i)前記気化室の圧力が大気圧よりも低いとき には前記毛細管が前記気化素子に当接し、または(ii)前記気化室の圧力が大気 圧よりも高いときには前記毛細管が前記気化素子から持上げられる、請求項25 に記載の交換可能の気化器キャップ。 30.(a) キャリヤガス供給管をさらに含み、 (b) 前記外側本体は内壁を囲みその間でキャリヤガス通路を定め、前記通 路と前記キャリヤガス供給管との間に気体が流通し、前記内壁は前記毛細管を囲 みその間に熱遮断リザーバを定める、請求項25に記載の交換可能の気化器キャ ップ。 31.キャリヤガスノズルをさらに含み、前記キャリヤガスノズルと前記キャリ ヤガス通路との間には気体が流通し、前記ノズルはキャリヤガスが前記気化素子 で放出される前にキャリヤガスに乱流を生じさせる、請求項30に記載の交換可 能の気化器キャップ。 32.当初液体の試薬を気化するための気化室と取り外し可能に係合可能な交換 可能の気化器キャップであって、 (a) 長手方向の軸および前記長手方向の軸を横断する断面を定める細長い 外側本体と、 (b) 前記細長い外側本体に位置決めされ長手方向の軸をほぼ横断する方向 の正面を備えた気化素子と、 (c) 液体の試薬を流すための、前記気化素子の正面に垂直な方向に液体の 試薬を放出するように配置された毛細管と、 (d) 前記気化素子を前記液体の試薬の気化のための温度まで加熱するため の加熱手段と、 (e) 前記外側本体を前記気化室と取り外し可能に係合させるための係合手 段と、 (f) 前記外側本体内の第1の内壁とを含み、前記第1の内壁は前記毛細管 を囲みその間に気体流路を定め、前記気体流路と前記気化室との間には気体が流 通し、前記気化器キャップはさらに、 (g) 前記毛細管の上端に装着された圧縮継手と、 (h) 前記第1の内壁の上端と前記圧縮継手との間に装着されたベローズ要 素とを含み、前記ベローズ要素と前記気体流路との間には気体が流通し、前記気 化室の圧力と大気圧との差が、(i)前記気化室の圧力が大気圧よりも低いとき は前記毛細管が前記気化素子に当接し、または(ii)前記気化室の圧力が大気圧 よりも高いときは前記毛細管が前記気化素子から持上げられ、前記気化器キャッ プはさらに、 (j) キャリヤガス供給管を含み、 (k) 前記外側本体は第2の内壁を囲みその間にキャリヤガス通路を定め、 前記キャリヤガス通路と前記キャリヤガス供給管との間にはガスが流通し、前記 第2の内壁は前記第1の内壁を囲みその間に熱遮断リザーバを定め、前記気化器 キャップはさらに、 (l) キャリヤガスノズルを含み、前記キャリヤガスノズルと前記キャリヤ ガス通路との間にはガスが流通し、前記ノズルは前記キャリヤガスが前記気化素 子で放出される前にキャリヤガスに乱流を生じさせる、交換可能の気化器キャッ プ。 33.前記係合手段は外側本体ねじ部を含み前記気化室とねじにより係合する、 請求項32に記載の交換可能の気化器キャップ。 34.前記気化素子を前記気化器キャップで保持するための保持手段をさらに含 む、請求項32に記載の交換可能の気化器キャップ。 35.前記保持手段は前記気化素子を前記気化器キャップで保持するためのスナ ップリングを含む、請求項34に記載の交換可能の気化器キャップ。 36.電解研磨された内面を含む、請求項34に記載の交換可能の気化器キャッ プ。 37.前記第1の内壁は電解研磨された内面を有する、請求項34に記載の交換 可能の気化器キャップ。 38.気化した試薬にさらされるすべての内面は電解研磨される、請求項34に 記載の交換可能の気化器キャップ。
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