JP2002501917A - 除草剤として使用する置換ヘテロアリールメチル化合物 - Google Patents

除草剤として使用する置換ヘテロアリールメチル化合物

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JP2002501917A JP2000529329A JP2000529329A JP2002501917A JP 2002501917 A JP2002501917 A JP 2002501917A JP 2000529329 A JP2000529329 A JP 2000529329A JP 2000529329 A JP2000529329 A JP 2000529329A JP 2002501917 A JP2002501917 A JP 2002501917A
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バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、一般式(I) 【化1】 [式中、Q、X1、X2、Z1及びZ2は明細書中の詳細な説明において述べた意味を有する。]の新規な置換ヘテロアリールメチル化合物、同化合物の製造方法及び除草剤としてのそれらの使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、新規な置換ヘテロアリールメチル化合物、それらの製造方法並びに
除草剤としてのそれらの使用に関する。
【0002】 置換アリールメチル化合物は、(特許)文献から強力な除草剤として既に知ら
れている(DE−A−2526358、US−A−4249934、US−A−
5262390、WO−A−9621647参照)。しかしながら、これらの化
合物は、名を挙げるに足る実用上重要な地位を得るに至っていない。
【0003】 従って、本発明は、一般式(I)
【0004】
【化10】
【0005】 {式中、QはO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、ハロゲンを表すか、又はそ
れぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキ
ル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニ
ル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキルスル
ホニルアミノを表し、 X2は水素又はハロゲンを表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリル
を表し、並びに Z2は、下記原子団
【0006】
【化11】
【0007】 [原子団中、Q1はO又はSを表し、 R1は、水素、シアノ、ハロゲンを表すか、又はそれぞれの場合に場合によりシ アノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルコキシ、アルキルチ
オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ジアルキル
アミノ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルチオ、アルケニルアミノ、
アルキニル、アルキニルオキシ、アルキニルチオ、シクロアルキル、シクロアル
キルオキシ、シクロアルキルチオ又はシクロアルキルアミノを表すか、又は隣接
するR1と場合により一緒になってアルカンジイル(アルキレン)を表し、並び に R2は、水素、シアノ、ホルミルを表すか、又はそれぞれの場合に場合によりシ アノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルキルカルボニル、ア
ルコキシカルボニル、アルケニル又はアルキニルを表す。] の中の1つを表す。} の新規な置換ヘテロアリールメチル化合物を提供する。
【0008】 定義において、アルキル等の炭化水素鎖は―アルコキシの場合のようにヘテロ
原子と結合した場合を含めて―それぞれの場合に直鎖又は枝分れ鎖である。
【0009】 本発明は、好ましくは、QがO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、ハロゲンを表すか、又はそ
れぞれの場合にアルキル基中に1個乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場
合に場合によりシアノ、ハロゲン又はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル
、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ア
ルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル
、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキルスルホ
ニルアミノを表し、 X2は水素又はハロゲンを表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリー
ルを表し、その場合可能な置換基は、好ましくは下記のリスト: ニトロ、アミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、カルバモイル、チオカ
ルバモイル、スルホ、クロロスルホニル、アミノスルホニル、ハロゲン、それぞ
れの場合にアルキル基中に1個乃至4個の炭素原子を有する、それぞれの場合に
場合によりシアノ、ハロゲン又はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキ
ルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボ
ニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキルス
ルホニルアミノもしくはフェニル から選択され、並びに Z2は、下記原子団
【0010】
【化12】
【0011】 [原子団中、Q1はO又はSを表し、 R1は、水素、シアノ、ハロゲンを表し、それぞれの場合にアルキル基中に1個 乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又
はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アル
キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ又はジアルキルアミノ
を表し、それぞれの場合にアルケニル基又はアルキニル基中に2個乃至6個の炭
素原子を有する、それぞれの場合に場合によりハロゲンで置換されたアルケニル
、アルケニルオキシ、アルケニルチオ、アルケニルアミノ、アルキニル、アルキ
ニルオキシ又はアルキニルチオを表し、それぞれの場合にシクロアルキル基中に
3個乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲ
ン又はC1−C4アルキルで置換されたシクロアルキル、シクロアルキルオキシ、
シクロアルキルチオ又はシクロアルキルアミノを表すか、又は隣接するR1と場 合により一緒になって3個乃至5個の炭素原子を有するアルカンジイル(アルキ
レン)を表し、並びに R2は、水素、シアノ、ホルミルを表し、それぞれの場合にアルキル基中に1個 乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又
はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシ
カルボニルを表すか、又はそれぞれの場合に3個乃至6個の炭素原子を有する、
それぞれの場合にハロゲンで置換されたアルケニル又はアルキニルを表す。] の中の1つを表す式(I)の化合物を提供する。
【0012】 本発明は、特に、QがO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、塩素、臭素を表し、
それぞれの場合に場合によりシアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換
されたメチル、エチル、n−又はi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−又は
i−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−又はi−プロピルチオ、メチル
スルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メ
チルアミノ、エチルアミノ、n−又はi−プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エト
キシカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、n
−又はi−プロピルスルホニルアミノを表し、 X2は、水素、弗素、塩素又は臭素を表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリー
ルを表し、その場合可能な置換基は、好ましくは下記リスト: ニトロ、アミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、カルバモイル、チオカ
ルバモイル、アミノスルホニル、弗素、塩素、臭素、それぞれの場合に場合によ
りシアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n
−又はi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキシ、
n−又はi−プロポキシ、n−、i−、s−又はt−ブトキシ、メチルチオ、エ
チルチオ、n−又はi−プロピルチオ、n−、i−、s−又はt−ブチルチオ、
メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニ
ル、メチルアミノ、エチルアミノ、n−又はi−プロピルアミノ、n−、i−、
s−又はt−ブチルアミノ、アセチル、プロピオニル、n−又はi−ブチロイル
、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−又はi−プロポキシカルボニ
ル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、n−又はi−プロピル
アミノカルボニル、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、n−又はi−ブチロ
イルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、n−又は
i−プロポキシカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニル
アミノ、n−又はi−プロピルスルホニルアミノ、n−、i−、s−又はt−ブ
チルスルホニルアミノ又はフェニル から選択され、 並びに Z2は、下記原子団
【0013】
【化13】
【0014】 [原子団中、Q1はO又はSを表し、 R1は、水素、シアノ、弗素、塩素、臭素を表し、それぞれの場合に場合により シアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n−
又はi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−又はi−プロポキシ、メチルチオ
、エチルチオ、n−又はi−プロピルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフ
ィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミノ、
n−又はi−プロピルアミノ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノを表し、それ
ぞれの場合に場合により弗素、塩素又は臭素で置換されたエテニル、プロペニル
、プロペニルオキシ、プロペニルチオ、プロペニルアミノ、エチニル、プロピニ
ル、プロピニルオキシ又はプロピニルチオを表し、それぞれの場合に場合により
シアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、n−又はi−プロピルで置換されたシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピル
オキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、
シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ又はシクロ
ヘキシルアミノを表すか、又は隣接するR1と場合により一緒になってプロパン −1,3−ジイル(トリメチレン)又はブタン−1,4−ジイル(テトラメチレ
ン)を表し、並びに R2は、水素、シアノ、ホルミルを表し、それぞれの場合に場合によりシアノ、 弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n−又はi−
プロピル、アセチル、プロピオニル、n−又はi−ブチロイル、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、n−又はi−プロポキシカルボニルを表すか、又は
それぞれの場合に場合により弗素、塩素又は臭素で置換されたプロペニル、ブテ
ニル、プロピニル又はブチニルを表す。] の中の1つを表す式(I)の化合物に関する。
【0015】 極めて特に好ましいグループは、Z2が下記の複素環式原子団
【0016】
【化14】
【0017】 を表し、Q、X1、X2及びZ1並びにR2が特に好ましいとして上述した意味を有
する一般式(I)の化合物である。
【0018】 さらに極めて特に好ましいグループは、Z2が下記の複素環式原子団
【0019】
【化15】
【0020】 を表し、Q、X1、X2及びZ1並びにR1及びR2が特に好ましいとして上述した 意味を有する一般式(I)の化合物である。
【0021】 最も好ましい化合物は式(Ia)
【0022】
【化16】
【0023】 [式中、Q、X1、X2、Z1及びZ2は(製造実施例の次の)表1に示した意味を
有する。] の化合物、及び製造実施例1及び2の化合物である。
【0024】 上述の一般的な又は好ましい基の定義は、式(I)の最終生成物のみならず、
それに対応してそれぞれの場合に製造に必要な出発物質又は中間体に対しても適
用される。これらの基の定義は、自由に、すなわち説明した好ましい範囲内での
組み合わせを含めて相互に組み合わせることができる。
【0025】 一般式(I)の新規な置換ヘテロアリールメチル化合物は、強力且つ選択的な
除草活性を示す。
【0026】 一般式(I)の新規な置換ヘテロアリールメチル化合物は、 (a)無水フタル酸又は3,4,5,6−テトラヒドロ−無水フタル酸を、適切
であれば希釈剤の存在下で、また、適切であれば反応助剤の存在下で、一般式
(II)
【0027】
【化17】
【0028】 [式中、Q、X1、X2及びZ1は上で定義したと同じである。] のアミノベンゼン誘導体と反応させるか、 又は (b)一般式(III)
【0029】
【化18】
【0030】 [式中、Q、X1、X2及びZ2は上で定義したと同じである。] のヘテロシクリルアレーン類を、適切であれば希釈剤の存在下で、また、適切で
あれば反応助剤の存在下で、一般式(IV) X3−CH2−Z1 (IV) [式中、Z1は上で定義したと同じであり、並びに X3 はハロゲンを表す。] のヘテロアリールメチルハロゲン化物と反応させるか、 又は (c)一般式(V)
【0031】
【化19】
【0032】 [式中、X1、X2及びZ2は上で定義したと同じであり、並びに X4はハロゲンを表す。] のヘテロシクリルアレーン類を、適切であれば希釈剤の存在下で、また、適切で
あれば反応助剤の存在下で、一般式(VI) HQ−CH2 −Z1 (VI) [式中、Q及びZ1は上で定義したと同じである。] のヘテロアレーン類と反応させ、 また、適切であれば、その後に置換基の定義の範囲内で求電子置換反応又は求核
置換反応もしくは酸化反応又は還元反応を通例の方法で行うと得られる。
【0033】 例えば、出発物質として無水フタル酸と、1−アミノ−2−フルオロ−4−(
3,5−ジメチル−イソオキサゾール−4−イル−メトキシ)−ベンゼンを用い
る場合、本発明方法(a)の反応の経過は、下記の図式で説明することができる
【0034】
【化20】
【0035】 例えば、出発物質として4−(5−クロロ−2−フルオロ−4−メルカプト−
フェニル)−1,2−ジメチル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオンと
、2−クロロ−5−クロロメチル−チアゾールを用いる場合、本発明方法(b)
の反応の経過は、下記の図式で説明することができる:
【0036】
【化21】
【0037】 例えば、出発物質として3−(2,4−ジフルオロ−5−ニトロ−フェニル)
−4−ブロモ−1−メチル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾールと、フ
ルフリルアルコールを用いる場合、本発明方法(c)の反応の経過は下記の図式
で説明することができる:
【0038】
【化22】
【0039】 式(I)の化合物を製造するための本発明方法(a)において出発物質として
使用すべき化合物の無水フタル酸及び3,4,5,6−テトラヒドロ−無水フタ
ル酸は、合成用の公知の有機化学薬品である。
【0040】 式(II)は、式(I)の化合物を製造するための本発明方法(a)において
出発物質としてさらに用いるべきアミノベンゼン誘導体に関する一般的な定義を
与える。式(II)において、Q、X1、X2及びZ1は、好ましくは又は詳細に は、本発明による式(I)の化合物の説明に関連してQ、X1、X2及びZ1につ いて好ましいか又は特に好ましいものとして上で既に言及した意味と同じである
【0041】 一般式(II)の出発物質は知られており及び/又はそれ自体公知の方法で製
造することができる(Justus Liebigs Ann.Chem.73
3(1970)、125−140;DE−A−2842186;US−A−53
44812;US−A−5399543;WO−A−9517096;製造実施
例参照)。
【0042】 式(III)は、式(I)の化合物を製造するための本発明方法(b)におい
て出発物質として用いるべきヘテロシクリルアレーン類に関する一般的な定義を
与える。式(III)において、Q、X1、X2及びZ2は、好ましくは又は詳細 には、本発明による式(I)の化合物の説明に関連してQ、X1、X2及びZ2に ついて好ましいか又は特に好ましいものとして上で既に言及した意味と同じであ
る。
【0043】 一般式(III)の出発物質は知られており及び/又はそれ自体公知の方法で
製造することができる(EP−A−545206;JP−A−04178373
;WO−A−9618618;製造実施例参照)。
【0044】 式(IV)は、本発明方法(b)において出発物質としてさらに用いるべきヘ
テロアリールメチルハロゲン化物に関する一般的な定義を与える。式(IV)に
おいてZ1は好ましくは又は詳細には、本発明による式(I)の化合物の説明に 関連してZ1について好ましいか又は特に好ましいものとして上で既に言及した 意味と同じであり;X3は、好ましくは弗素、塩素、臭素又はヨウ素、特に塩素 又は臭素を表す。
【0045】 一般式(IV)の出発物質は、合成用の公知の有機化学薬品である。
【0046】 式(V)は、式(I)の化合物を製造するための本発明方法(c)において出
発物質として用いるべきヘテロシクリルアレーン類に関する一般的な定義を与え
る。式(V)においてX1、X2及びZ2は、好ましくは又は詳細には、本発明に よる式(I)の化合物の説明に関連してX1、X2及びZ2について好ましいか又 は特に好ましいものとして上で既に言及した意味と同じであり;X4は、好まし くは、弗素、塩素又は臭素、特に弗素又は塩素を表す。
【0047】 一般式(V)の出発物質は、知られており及び/又はそれ自体公知の方法で製
造することができる(US−A−5281571、WO−A−9206962;
WO−A−9618618参照)。
【0048】 式(VI)は、本発明方法(c)において出発物質としてさらに用いるべきヘ
テロアレーン類に関する一般的な定義を与える。式(VI)においてQ及びZ1 は、好ましくは又は詳細には、本発明による式(I)の化合物の説明に関連して
Q及びZ1について好ましいか又は特に好ましいものとして上で既に言及した意 味と同じである。
【0049】 一般式(VI)の出発物質は、合成用の公知の有機化学薬品である。
【0050】 一般式(I)の化合物を製造するための本発明方法は、希釈剤を用いて行うの
が好ましい。本発明方法(a)乃至(c)を行うのに適切な希釈剤は、とりわけ
不活性有機溶媒である。これらのものとしては、特に、脂肪族、脂環式又は芳香
族の、場合によりハロゲン化された炭化水素類、例えば、ベンジン、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、石油エーテル、ヘキ
サン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素;エーテル
類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン又はエチレングリコールジメチルエーテル又はエチレングリコールジ
エチルエーテル;ケトン類、例えばアセトン、ブタノン又はメチルイソブチルケ
トン;ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル又はブチロニトリ
ル;アミド類、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N−メチル−ホルムアニリド、N−メチル−ピロリドン又はヘキサメチ
ルリン酸トリアミド;エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチル;スルホキ
シド類、例えばジメチルスルホキシド;アルコール類、例えばメタノール、エタ
ノール、n−又はi−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエー
テル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、水又は純水とそれらとの混合
物が挙げられる。
【0051】 本発明方法(a)乃至(c)用の適切な反応助剤は、一般に、通例の無機塩基
又は有機塩基もしくは酸受容体である。これらのものとしては、好ましくはアル
カリ金属又はアルカリ土類金属の酢酸塩類、アミド類、炭酸塩類、重炭酸塩類、
水素化物、水酸化物又はアルコキシド類、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
又は酢酸カルシウム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミド又は
カルシウムアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は炭酸カルシウム、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウム又は重炭酸カルシウム、水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウム又は水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウム、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウムn−又はi−プロポキシド、ナトリウムn−、i−
、s−又はt−ブトキシド、又はカリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カ
リウムn−又はi−プロポキシド、カリウムn−、i−、s−又はt−ブトキシ
ド;更に、塩基性有機窒素化合物、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチル−ジイソプロピルアミン、
N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチル−ジ
シクロヘキシルアミン、N,N−ジメチル−アニリン、N,N−ジメチル−ベン
ジルアミン、ピリジン、2−メチル−、3−メチル−、4−メチル−、2,4−
ジメチル−、2,6−ジメチル−、3,4−ジメチル−及び3,5−ジメチル−
ピリジン、5−エチル−2−メチル−ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジン
、N−メチル−ピペリジン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]−オクタン
(DABCO)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−ノナ−5−エン(D
BN)又は1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデカ−7−エン(DB
U)が挙げられる。
【0052】 本発明方法(a)乃至(c)を行う場合、反応温度は比較的広い範囲内で変え
ることができる。一般に、これらの方法は0℃〜200℃、好ましくは10℃〜
150℃の温度で行われる。
【0053】 本発明方法(a)乃至(c)は、通常大気圧下で行われる。しかしながら、本
発明方法を高圧又は減圧下で―通常0.1バールと10バールの間で行うことも
可能である。
【0054】 本発明方法(a)乃至(c)を行うために、出発物質は通常ほぼ等モル量で用
いる。しかしながら、成分の一方を比較的大過剰に用いることもできる。反応は
、通常適切な希釈剤中で反応助剤の存在下で行われ、反応混合物は、通常必要な
温度で数時間撹拌する。後処理は通例の方法で行う(製造実施例参照)。
【0055】 本発明の活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、除茎剤(haulm−killer
)として、特に除草剤として用いることができる。最も広い意味での雑草とは、
望ましくない場所に成育する全ての植物と理解されるべきである。本発明による
物質が非選択的除草剤として作用するか、又は選択的除草剤として作用するかは
、本来、用いる量に依存する。
【0056】 本発明の活性化合物は、例えば下記の植物に関連して用いることができる。
【0057】 次の属の双子葉雑草: カラシ属(Sinapis)、マメグンバイナズナ属
(Lepidium)、ヤエムグラ属(Galium)、ハコベ属(Stell
aria)、シカギク属(Matricaria)、カミツレモドキ属(Ant
hemis)、ガリンソガ属(Galinsoga)、アカザ属(Chenop
odium)、イラクサ属(Urtica)、キオン属(Senecio)、ヒ
ユ属(Amaranthus)、スベリヒユ属(Portulaca)、オナモ
ミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(Convolvulus)、サツマイ
モ属(Ipomoea)、タデ属(Polygonum)、セスバニア属(Se
sbania)、オナモミ属(Ambrosia)、アザミ属(Cirsium
)、ヒレアザミ属(Carduus)、ノゲシ属(Sonchus)、ナス属(
Solanum)、イヌガラシ属(Rorippa)、キカシグサ属(Rota
la)、アゼナ属(Lindernia)、ラミウム属(Lamium)、クワ
ガタソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutilon)、エメクス属
(Emex)、チョウセンアサガオ属(Datura)、スミレ属(Viol
a)、チシマオドリコ属(Galeopsis)、ケシ属(Papaver)、
ケンタウレア属(Centaurea)、シロツメクサ属(Trifolium
)、キンポウゲ属(Ranunculus)、タンポポ属(Taraxacum
)。
【0058】 次の属の双子葉作物: ワタ属(Gossypium)、ダイズ属(Glyc
ine)、フダンソウ属(Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲン
マメ属(Phaseolus)、エンドウ属(Pisum)、ナス属(Sola
num)、アマ属(Linum)、サツマイモ属(Ipomoea)、ソラマメ
属(Vicia)、タバコ属(Nicotiana)、トマト属(Lycope
rsicon)、ラッカセイ属(Arachis)、アブラナ属(Brassi
ca)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キウリ属(Cucumis)、ウ
リ属(Cucurbita)。
【0059】 次の属の単子葉雑草: ヒエ属(Echinochloa)、エノコログサ属
(Setaria)、キビ属(Panicum)、メヒシバ属(Digitar
ia)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ属(Poa)、ウシ
ノケグサ属(Festuca)、オヒシバ属(Eleusine)、ブラキアリ
ア属(Brachiaria)、ドクムギ属(Lolium)、スズメノチャヒ
キ属(Bromus)、カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(Cyp
erus)、モロコシ属(Sorghum)、カモジグサ属(Agropyro
n)、シノドン属(Cynodon)、ミズアオイ属(Monochoria)
、テンツキ属(Fimbristylis)、オモダカ属(Sagittari
a)、ハリイ属(Eleocharis)、ホタルイ属(Scirpus)、パ
スパルム属(Paspalum)、カモノハシ属(Ischaemum)、スペ
ノクレア属(Sphenoclea)、ダクチロクテニウム属(Dactylo
ctenium)、ヌカボ属(Agrostis)、スズメノテッポウ属(Al
opecurus)、アペラ属(Apera)。
【0060】 次の属の単子葉作物: イネ属(Oryza)、トウモロコシ属(Zea)、
コムギ属(Triticum)、オオムギ属(Hordeum)、カラスムギ属
(Avena)、ライムギ属(Secale)、モロコシ属(Sorghum)
、キビ属(Panicum)、サトウキビ属(Saccharum)、アナナス
属(Ananas)、クサスギカズラ属(Asparagus)、ネギ属(Al
lium)。
【0061】 しかしながら、本発明の活性化合物の使用は、これらの属にまったく限定され
るものではなく、同様にして他の植物にも及ぶものである。
【0062】 該化合物は、濃度次第では、例えば工業地域及び鉄道線路、また、木立が存在
するか又は存在しない通路及び空き地の雑草を完全に防除するのに適している。
同様に、該化合物は、多年生作物中の雑草、例えば森林、装飾用樹木、果樹園、
ぶどう園、柑橘類の果樹園、ナッツの果樹園、バナナ農園、コーヒー農園、茶農
園、ゴム栽培場、油ヤシ栽培場、ココア農園、小果樹園及びホップ畑の中の雑草
、芝地及び芝生並びに牧草地の雑草の防除に用いることができ、また一年生作物
中の雑草の選択的防除に用いることができる。
【0063】 本発明の式(I)の活性化合物は、発芽前及び発芽後の処置によって単子葉作
物及び双子葉作物中の単子葉雑草及び双子葉雑草を選択的に防除するのに特に適
している。
【0064】 本活性化合物は、液剤、エマルジョン、水和剤、懸濁剤、散剤、粉剤、ペース
ト、可溶性散剤、粒剤、懸濁エマルジョン濃縮物、活性化合物を含浸させた天然
並びに合成物質、及び重合体物質中の微小カプセル封入物等の通常の製剤に変え
ることができる。
【0065】 これらの製剤は、公知の方法で、例えば、場合により界面活性剤、すなわち、
乳化剤及び/又は分散剤及び/又は泡沫形成剤を用いて、活性化合物を増量剤、
すなわち、液体溶媒及び/又は固体担体と混合して製造される。
【0066】 用いる増量剤が水の場合には、例えば有機溶媒を補助溶媒として用いることも
できる。おもに適切な液体溶媒は、キシレン、トルエン又はアルキルナフタレン
類等の芳香族化合物;クロロベンゼン類、クロロエチレン類又は塩化メチレン等
の塩素化芳香族化合物及び塩素化脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン又はパラフ
ィン類、例えば石油留分、鉱油並びに植物油等の脂肪族炭化水素類;ブタノール
もしくはグリコール等のアルコール類並びにそれらのエーテル類及びエステル類
;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノ
ン等のケトン類;ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド等の強い極性
溶媒並びに水である。
【0067】 適切な固体担体は、例えばアンモニウム塩、並びにカオリン、クレイ、タルク
、チョーク、石英、アタパルガイト、モンモリロナイト又は珪藻土等の粉砕され
た天然鉱物、及び微細に分割されたシリカ、アルミナ並びにケイ酸塩等の粉砕さ
れた合成鉱物である。粒剤用に適切な固体担体は、例えば方解石、大理石、軽石
、海泡石及び白雲石等の粉砕且つ分別された天然岩石、並びに、無機粗粉及び有
機粗粉からなる合成粒状物、及びおがくず、ココヤシの実のから、とうもろこし
の穂軸並びにタバコの茎等の有機物質からなる粒状物である。適切な乳化剤及び
/又は泡沫形成剤は、例えばポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ポリオキシ
エチレン脂肪アルコールエーテル類等の非イオン及び陰イオン乳化剤、例えばア
ルキルアリールポリグリコールエーテル類、アルキルスルホン酸塩類、アルキル
硫酸塩類、アリールスルホン酸塩類並びにタンパク質水解物である。適切な分散
剤は、例えばリグノサルファイト廃液及びメチルセルロースである。
【0068】 カルボキシメチルセルロース;アラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリ
ビニルアセテート等の粉末、粒状物又はラテックスの形態の天然及び合成高分子
、並びにセファリン類及びレシチン類等の天然リン脂質、並びに合成リン脂質等
の粘着付与剤を製剤に用いることができる。さらに、添加剤には鉱物油及び植物
油を用いることができる。
【0069】 無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルー;アリザリン色素
、アゾ色素及び金属フタロシアニン色素等の有機染料、並びに鉄、マンガン、ホ
ウ素、銅、コバルト、モリブデン及び亜鉛の塩類等の微量栄養素等の色素を用い
ることができる。
【0070】 当該製剤は、通常、0.1〜95重量%の活性化合物、好ましくは0.5〜9
0重量%の活性化合物を含有する。
【0071】 雑草を防除するためには、本発明活性化合物を、そのまま又はそれらの製剤の
形態で、また、公知の除草剤との混合物としても使用でき、その場合完全な製剤
にしたもの又は使用する際にタンクで配合したものであってもよい。
【0072】 混合物用に適切な成分の例は、下記の公知除草剤である: アセトクロル(acetochlor)、アシフルオルフェン(−ナトリウム
)[acifluorfen(−sodium)、アクロニフェン(aclon
ifen)、アラクロル(alachlor)、アロキシジム(−ナトリウム)
[alloxydim(−sodium)]、アメトリン(ametryne)
、アミドクロル(amidochlor)、アミドスルフロン(amidosu
lfuron)、アニロホス(anilofos)、アスラム(asulam)
、アトラジン(atrazine)、アザフェニジン(azafenidin)
、アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベナゾリン(−エチル)[
benazolin(−ethyl)]、ベンフレセート(benfuresa
te)、ベンスルフロン(−メチル)[bensulfuron(−methy
l)]、ベンタゾン(bentazone)、ベンゾフェナプ(benzofe
nap)、ベンゾイルプロプ(−エチル)[benzoylprop(−eth
yl)]、ビアラホス(bialaphos)、ビフェノックス(bifeno
x)、ビスピリバク(−ナトリウム)[bispyribac(−sodium
)]、ブロモブチド(bromobutide)、ブロモフェノキシム(bro
mofenoxim)、ブロモキシニル(bromoxynil)、ブタクロル
(butachlor)、ブトロキシジム(butroxydim)、ブチレー
ト(butylate)、カフェンストロール(cafenstrole)、カ
ロキシジム(caloxydim)、カルベタミド(carbetamide)
、カルフェントラゾン(−エチル)[carfentrazone(−ethy
l)]、クロメトキシフェン(chlomethoxyfen)、クロラムベン
(chloramben)、クロリダゾン(chloridazon)、クロリ
イムロン(−エチル)[chlorimuron(−ethyl)]、クロルニ
トロフェン(chlornitrofen)、クロルスルフロン(chlors
ulfuron)、クロロトルロン(chlorotoluron)、シンメチ
リン(cinmethylin)、シノスルフロン(cinosulfuron
)、クレソジム(clethodim)、クロジナホプ(−プロパルギル)[c
lodinafop(−propargyl)]、クロマゾン(clomazo
ne)、クロメプロプ(clomeprop)、クロピラリド(clopyra
lid)、クロピラスルフロン(−メチル)[clopyrasulfuron
(−methyl)]、クロランスラム(−メチル)[cloransulam
(−methyl)]、クミルロン(cumyluron)、シアナジン(cy
anazine)、シクロエート(cycloate)、シクロスルファムロン
(cyclosulfamuron)、シクロキシジム(cycloxydim
)、シハロホプ(−ブチル)[cyhalofop(−butyl)]、2,4
−D、2,4−DB、2,4−DP、デスメジファン(desmedipham
)、ジアレート(diallate)、ジカムバ(dicamba)、ジクロホ
プ(−メチル)[diclofop(−methyl)]、ジクロスラム(di
closulam)、ジエタチル(−エチル)[diethatyl(−eth
yl)]、ジフェンゾクエト(difenzoquat)、ジフルフェニカン(
diflufenican)、ジフルフェンゾピル(diflufenzopy
r)、ジメフロン(dimefuron)、ジメピペレート(dimepipe
rate)、ジメタクロル(dimethachlor)、ジメタメトリン(d
imethametryn)、ジメセンアミド(dimethenamid)、
ジメキシフラム(dimexyflam)、ジニトラミン(dinitrami
ne)、ジフェンアミド(diphenamid)、ジクェート(diquat
)、ジチオピル(dithiopyr)、ジュロン(diuron)、ダイムロ
ン(dymron)、エポプロダン(epoprodan)、EPTC、エスプ
ロカルブ(esprocarb)、エタルフルラリン(ethalflural
in)、エタメトスルフロン(−メチル)[ethametsulfuron(
−methyl)]、エトフメセート(ethofumesate)、エトキシ
フェン(ethoxyfen)、エトキシスルフロン(ethoxysulfu
ron)、エトベンズアニド(etobenzanid)、フェノクサプロプ−
(−P−エチル)[fenoxaprop−(−P−ethyl)]、フラムプ
ロプ(−イソプロピル)[flamprop(−isopropyl)]、フラ
ムプロプ(−イソプロピル−L)[flamprop(−isopropyl−
L)]、フラムプロプ(−メチル)[flamprop(−methyl)]、
フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルアジホプ(−P−ブチ
ル)[fluazifop(−P−butyl)]、フルメトスラム(flum
etsulam)、フルミクロラク(−ペンチル)[flumiclorac(
−pentyl)]、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルミプ
ロピン(flumipropyn)、フルメトスラム(flumetsulam
)、フルオメチュロン(fluometuron)、フルオロクロリドン(fl
uorochloridone)、フルオログリコフェン(−エチル)[flu
oroglycofen(−ethyl)]、フルポクサム(flupoxam
)、フルプロパシル(flupropacil)、フルルピルスルフロン(−メ
チル、−ナトリウム)[flurpyrsulfuron(−methyl,−
sodium)]、フルレノール(ブチル)[flurenol(−butyl
)]、フルリドン(fluridone)、フルロキシピル(−メチル)[fl
uroxypyr(−metyl)]、フルルプリミドール(flurprim
idol)、フルルタモン(flurtamone)、フルチアセト(−メチル
)[fluthiacet(−methyl)]、フルチアミド(fluthi
amide)、ホメサフェン(fomesafen)、グルホシネート(−アン
モニウム)[glufosinate(−ammonium)]、グリホセート
(−イソプロピルアンモニウム)[glyphosate(−isopropy
lammonium)]、ハロサフェン(halosafen)、ハロキシホプ
(−エトキシエチル)[haloxyfop(−ethoxyethyl)]、
ハロキシホプ(−P−メチル)[haloxyfop(−P−methyl)]
、ヘキサジノン(hexazinone)、イマザメタベンズ−(−メチル)[
imazamethabenz−(−methyl)]、イマザメタピル(im
azamethapyr)、イマザモックス(imazamox)、イマザピル
(imazapyr)、イマザクィン(imazaquin)、イマゼサピル(
imazethapyr)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)
、イオキシニル(ioxynil)、イソプロパリン(isopropalin
)、イソプロチュロン(isoproturon)、イソウロン(isouro
n)、イソキサベン(isoxaben)、イソキサフルトール(isoxaf
lutole)、イソキサピリホプ(isoxapyrifop)、ラクトフェ
ン(lactofen)、レナシル(lenacil)、リニュロン(linu
ron)、MCPA、MCPP、メフェナセット(mefenacet)、メタ
ミトロン(metamitron)、メタザクロル(metazachlor)
、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron)、メトベン
ズロン(metobenzuron)、メトブロミュロン(metobromu
ron)、(アルファ−)メトラクロル[(alpha−)metolachl
or]、メトスラム(metosulam)、メトクスロン(metoxuro
n)、メトリブジン(metribuzin)、メトスルフロン(−メチル)[
metosulfuron(−methyl)]、モリネート(molinat
e)、モノリニュロン(monolinuron)、ナプロアニリド(napr
oanilide)、ナプロパミド(napropamide)、ネブロン(n
eburon)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、ノルフルラゾ
ン(norflurazon)、オルベンカルブ(orbencarb)、オリ
ザリン(oryzalin)、オキサジアルギル(oxadiargyl)、オ
キサジアゾン(oxadiazon)、オキサスルフロン(oxasulfur
on)、オキサジクロメフォン(oxaziclomefone)、オキシフル
オルフェン(oxyfluorfen)、パラクェート(paraquat)、
ペラルゴン酸(pelargonic acid)、ペンジメタリン(pend
imethalin)、ペントオキサゾン(pentoxazone)、フェン
メジファン(phenmedipham)、ピペロホス(piperophos
)、プレチラクロル(pretilachlor)、プリミスルフロン(−メチ
ル)[primisulfuron(−methyl)]、プロメトリン(pr
ometryn)、プロパクロル(propachlor)、プロパニル(pr
opanil)、プロパクィザホプ(propaquizafop)、プロプイ
ソクロル(propisochlor)、プロピズアミド(propyzami
de)、プロスルホカルブ(prosulfocarb)、プロスルフロン(p
rosulfuron)、ピラフルフェン(−エチル)[pyraflufen
(−ethyl)]、ピラゾレート(pyrazolate)、ピラゾスルフロ
ン(−エチル)[pyrazosulfuron(−ethyl)]、ピラゾキ
シフェン(pyrazoxyfen)、ピリベンゾキシム(pyribenzo
xim)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ピリデート(pyr
idate)、ピリミノバク(−メチル)[pyriminobac(−met
hyl)]、ピリチオバク(−ナトリウム)[pyrithiobac(−so
dium)]、クィンクロラク(quinchlorac)、クィンメラク(q
uinmerac)、キノクラミン(quinoclamine)、クィザロホ
プ(−P−エチル)[quizalofop(−P−ethyl)]、クィザロ
ホプ(−P−テフリル)[quizalofop(−P−tefuryl)]、
リムスルフロン(rimsulfuron)、セソキシジム(sethoxyd
im)、シマジン(simazine)、シメトリン(simetryn)、ス
ルコトリオン(sulcotrione)、スルフェントラゾン(sulfen
trazone)、スルホメチュロン(−メチル)[sulfometuron
(−methyl)]、スルホセート(sulfosate)、スルホスルフロ
ン(sulfosulfuron)、テブタム(tebutam)、テブチュロ
ン(tebuthiuron)、テルブチラジン(terbuthylazin
e)、テルブトリン(terbutryn)、テニルクロル(thenylch
lor)、チアフルアミド(thiafluamide)、チアゾピル(thi
azopyr)、チジアジミン(thidiazimin)、チフェンスルフロ
ン(−メチル)[thifensulfuron(−methyl)]、チオベ
ンカルブ(thiobencarb)、チオカルバジル(tiocarbazi
l)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、トリアレート(tria
llate)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロ
ン(−メチル)[tribenuron(−methyl)]、トリクロピル(
triclopyr)、トリジファン(tridiphane)、トリフルラリ
ン(trifluralin)及びトリフルスルフロン(triflusulf
uron)。
【0073】 他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤
、鳥忌避剤、植物栄養剤、並びに土壌改良剤との混合物も可能である。
【0074】 本活性化合物は、そのまま、それらの製剤の形態又は更に希釈してそれらから
調製した使用形態、例えば調整済み溶液(ready−to−use solu
tions)、懸濁剤、エマルジョン、散剤、ペースト及び粒剤で用いることが
できる。それらのものは通例の方法、例えば液剤散布、液剤の噴霧、アトマイジ
ング(atomizing)又は粉剤散布で用いられる。
【0075】 本発明活性化合物は、植物の発芽前又は発芽後のいずれにおいても施用するこ
とができる。該活性化合物は種をまく前に土壌に配合することもできる。
【0076】 使用する活性化合物の量は、比較的広い範囲内で変えることができる。この量
は、本来、所望の効果の性質に依存する。一般に、使用量は土壌表面のヘクター
ル当たり活性化合物1g 〜10kg、好ましくはヘクタール当たり5g 〜5kgであ
る。
【0077】 本発明活性化合物の製造並びに使用は下記の実施例から了解することができる
【0078】 製造実施例: 実施例1
【0079】
【化23】
【0080】 (方法(a)) 1−アミノ−2−フルオロ−4−(2−クロロ−ピリジン−5−イル−メトキ
シ)−ベンゼン2.0g(8ミリモル)、無水フタル酸1.2g(8ミリモル)
及び酢酸50mlの混合物を還流下で5時間加熱し、次に室温で18時間撹拌し
、その後に還流下でさらに4時間加熱した。次に混合物を水流ポンプによる真空
下で濃縮し、残留物を水/酢酸エチルと共に振とうし、有機相を分離し、水で洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下で濃
縮し、残留物をジイソプロピルエーテルと共に温浸し、結晶性生成物を吸引濾過
により単離する。
【0081】 このようにして、融点183℃のN−(2−フルオロ−(2−クロロ−ピリジ
ン−5−イル−メトキシ)−フェニル]−フタルイミド1.9g(理論値の62
%)が得られる。
【0082】 実施例2
【0083】
【化24】
【0084】 (方法(b)) 4−(2−フルオロ−4−ヒドロキシ−フェニル)−2−ジフルオロメチル−
1−メチル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオン0.90g(3.3ミ
リモル)、2−クロロ−5−クロロメチル−ピリジン0.65g(3.3ミリモ
ル)、炭酸カリウム0.55g及びN,N−ジメチル−ホルムアミド10mlか
らなる混合物を80℃で3時間撹拌する。わずかに冷却した後に、この混合物を
、あらかじめ氷と混合した、1N塩酸とジエチルエーテルとの溶媒混合物中に注
ぐ。十分に撹拌した後に、結晶性生成物を吸引濾過により単離する。
【0085】 このようにして、融点134℃の4−[2−フルオロ−4−(2−クロロ−ピ
リジン−5−イル−メトキシ)−フェニル]−2−ジフルオロメチル−1−メチ
ル−1,2,4−トリアゾリン−3,5−ジオン0.35g(理論値の26.5
%)が得られる。
【0086】 製造実施例1及び2と類似的に、また、本発明による製造方法に関する一般的
な説明に従って、例えば下記表1に列挙した式(Ia)の化合物を製造すること
もできる。
【0087】
【化25】
【0088】
【表1】
【0089】
【表2】
【0090】 実施例番号6として表1に記載した化合物は、例えば次のようにして製造する
ことができる:
【0091】
【化26】
【0092】 鉱油中の60%水素化ナトリウム0.56g(14ミリモル)を、アセトニト
リル20ml中に2−クロロ−5−ヒドロキシメチル−ピリジン2.3g(15
ミリモル)を含む溶液に加える。この混合物を室温(約20℃)で15分間撹拌
し、次に4−クロロ−3−(2,4−ジフルオロ−5−ニトロ−フェニル)−1
−メチル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール3.4g(10ミリモル
)と混合し、室温で4時間撹拌する。次に、ほぼ等量の水と酢酸エチルで混合物
の容積の約3倍になるまで混合物を希釈し、2N塩酸で酸性化する。有機相を分
離し、飽和重炭酸水溶液で洗浄すると共に、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する。水流ポンプによる真空下で濾液から溶媒
を注意深く留去する。
【0093】 このようにして、融点170℃の4−クロロ−3−[4−[(2−クロロ−ピ
リジン−5−イル)−メトキシ]−2−フルオロ−5−ニトロ−フェニル]−1
−メチル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール4.6g(理論値の99
%)が得られる。
【0094】 実施例番号7として表1に記載した化合物は、例えば下記のようにして製造す
ることができる。
【0095】
【化27】
【0096】 80℃〜90℃において、酢酸120mlと酢酸エチル60mlの混合物中に
4−クロロ−3−[4−[(2−クロロ−ピリジン−5−イル)−メトキシ]−
2−フルオロ−5−ニトロ−フェニル]−1−メチル−5−トリフルオロメチル
−1H−ピラゾール27g(58ミリモル)を含む懸濁液を、鉄(粉末)32.
3g(0.58モル)と5%濃度の水性酢酸72mlとからなる懸濁液中に徐々
に計量する。この反応混合物を室温(約20℃)で150分間撹拌し、次にCe
liteR (多孔質ケイソウ土を主体とする濾過助剤)を通して濾過する。濾過
残留物を水と酢酸エチルで洗浄し、有機相を分離し、プールし、飽和重炭酸ナト
リウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濾過した。水流ポンプによる真空下で濾液から溶媒を注意深く留去する。
【0097】 このようにして、融点116℃の4−クロロ−3−[5−アミノ−4−[(2
−クロロ−ピリジン−5−イル)−メトキシ]−2−フルオロ−フェニル]−1
−メチル−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール24.8g(理論値の9
8%)が得られる。
【0098】 実施例番号4として表1に記載した化合物は、例えば次のようにして製造する
ことができる:
【0099】
【化28】
【0100】 亜硝酸n−ペンチル1.7ml(12.8ミリモル)を滴加しながら、テトラ
ヒドロフラン20ml中に4−クロロ−3−[5−アミノ−4−[(2−クロロ
−ピリジン−5−イル)−メトキシ]−2−フルオロ−フェニル]−1−メチル
−5−トリフルオロメチル−1H−ピラゾール2.8g(6.4ミリモル)を含
む溶液を加熱して還流させる。完成した反応混合物をさらに30分間還流下で加
熱し、次に水流ポンプによる真空下で濃縮する。油状の残留物をカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、ジクロロメタン/メタノール、容積:100:1)で
精製する。
【0101】 このようにして、融点73℃の4−クロロ−3−[4−[(2−クロロ−ピリ
ジン−5−イル)−メトキシ]−2−フルオロ−フェニル]−1−メチル−5−
トリフルオロメチル−1H−ピラゾール0.65g(理論値の24%)が得られ
る。
【0102】 式(II)の出発物質: 実施例(II−1)
【0103】
【化29】
【0104】 ステップ1
【0105】
【化30】
【0106】 3−フルオロ−4−ニトロ−フェノール8.65g(55ミリモル)、2−ク
ロロ−5−クロロメチル−ピリジン9.72g(60ミリモル)、炭酸カリウム
8.3g(60ミリモル)及びブタノン150mlからなる混合物を80℃で1
0時間加熱し、次に水流ポンプによる真空下で濃縮する。残留物を、2N水性塩
酸、酢酸エチル及びジエチルエーテルからなる溶媒混合物と一緒に撹拌し、結晶
性生成物を吸引濾過により単離する。
【0107】 このようにして、融点174℃の2−クロロ−5−(3−フルオロ−4−ニト
ロ−フェノキシメチル)−ピリジン9.8g(理論値の63%)が得られる。
【0108】 ステップ2
【0109】
【化31】
【0110】 酢酸150mlと水10mlの混合物中に、2−クロロ−5−(3−フルオロ
−4−ニトロ−フェノキシメチル)−ピリジン9.5g(33.6ミリモル)を
最初に入れ、この混合物を50℃まで加熱する。次に、鉄(粉末)9.5gを一
度に少しずつ加え、反応混合物を20℃〜25℃で約60分間撹拌し、次に濾過
した。濾液を濃縮し、残留物を水/酢酸エチルと一緒に振とうし、有機相を水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下で
濃縮し、残留物を石油エーテルと共に温浸し、結晶性生成物を吸引濾過により単
離する。
【0111】 このようにして、融点101℃の2−クロロ−5−(4−アミノ−3−フルオ
ロ−フェノキシメチル)−ピリジン7.3g(理論値の86%)が得られる。
【0112】 式(III)の出発物質: 実施例(III−1)
【0113】
【化32】
【0114】 ステップ1
【0115】
【化33】
【0116】 酢酸エチル400ml中に、1−アミノ−2−フルオロ−4−メトキシ−ベン
ゼン15.0g(106.4ミリモル)を最初に入れ、室温で撹拌しながらクロ
ロギ酸トリクロロメチル(ジホスゲン)47gを滴下混合する。次にこの混合物
を還流下で2時間加熱し、その後水流ポンプによる真空下で濃縮した。残留物を
アセトニトリル200ml中に取り出し、2−メチル−1−エトキシカルボニル
−ヒドラジン23g及び重炭酸ナトリウム9.8gと混合した。次に、この混合
物を還流下で16時間加熱し、その後、水流ポンプによる真空下で濃縮する。残
留物を1N塩酸とジエチルエーテルの混合物と一緒に撹拌し、結晶性生成物を吸
引濾過により単離する。
【0117】 このようにして、4−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−1−エト
キシカルボニル−2−メチル−セミカルバジド21.5g(理論値の71%)が
得られる。
【0118】 1H−NMR(DMSO−D6,δ,ppm):2.98(N−C 3). ステップ2
【0119】
【化34】
【0120】 4−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−1−エトキシカルボニル−
2−メチル−セメカルバジド21.0g(83.7ミリモル)と4N水酸化ナト
リウム水溶液210mlの混合物を80℃で20分間加熱し、次に10℃まで冷
却し、その後に濃塩酸70mlと混合した。次にこの混合物を塩化メチレンと共
に振とうし、有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過した。濾液を
水流ポンプによる真空下で濃縮し、残留物をジエチルエーテルと共に温浸し、結
晶性生成物を吸引濾過により単離する。
【0121】 このようにして、4−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−1−メチ
ル−1,2,3−トリアゾリン−3,5−ジオン13.9g(理論値の79%)
が得られる。
【0122】 1H−NMR(DMSO−D6,δ,ppm):3.81(O−C 3). ステップ3
【0123】
【化35】
【0124】 4−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−1−メチル−1,2,3−
トリアゾリン−3,5−ジオン14.0g(58.6ミリモル)、炭酸カリウム
8.5g及びN,N−ジメチル−ホルムアミド50mlからなる、100℃まで
加熱した混合物にクロロジフルオロメタンを3時間送通する。少し冷却した後に
、この混合物を氷−水中に注ぎ、2N塩酸で酸性化し、酢酸エチルと共に振とう
する。有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する。濾液
を水流ポンプによる真空下で濃縮し、残留物をカラムクロマトグラフィー(シリ
カゲル、酢酸エチル/ヘキサン,容積1:2)で分離する。
【0125】 このようにして、(第2画分として)融点88℃の4−(2−フルオロ−4−
メトキシ−フェニル)−2−ジフルオロメチル−1−メチル−1,2,3−ト
リアゾリン−3,5−ジオン4.0g(理論値の24%)が得られる。
【0126】 ステップ4
【0127】
【化36】
【0128】 4−(2−フルオロ−4−メトキシ−フェニル)−2−ジフルオロメチル−1
−メチル−1,2,3−トリアゾリン−3,5−ジオン2.0g(6.9ミリモ
ル)を塩化メチレン30ml中に溶解し、この混合物を、撹拌しながら、塩化メ
チレン30ml中に三弗化ホウ素3gを含む溶液に滴加する。次に反応混合物を
室温で6時間撹拌する。水50mlを加えてから、有機相を分離し、水で洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過する。水流ポンプによる真空下で濾液から溶媒
を注意深く留去する。
【0129】 このようにして、融点141℃の4−(2−フルオロ−4−ヒドロキシ−フェ
ニル)−2−ジフルオロメチル−1−メチル−1,2,3−トリアゾリン−3,
5−ジオン1.6g(理論値の84%)が得られる。
【0130】 使用実施例: 実施例A 発芽前テスト 溶 媒:アセトン 5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適切な製剤を製造するために、活性化合物1重量部を上述量の溶
媒と混合し、上述量の乳化剤を加え、濃厚液を水で希釈して所定の濃度にする。
【0131】 テスト植物の種子を正常な土壌にまく。約24時間後に、単位面積ごとに所定
の活性化合物の特定量が施用されるように、活性化合物の製剤を土壌に噴霧する
。ヘクタールごとの水1000l中に所定活性化合物の特定量が充当されるよう
に噴霧液の濃度を選定する。
【0132】 3週間後に、非処理対照の発育と比較して、植物に与えた損傷の程度を%損傷
として評価する。
【0133】 数字は次のことを表す: 0%=効果なし(非処理対照と同様) 100%=完全な駆除 このテストにおいて、例えば製造実施例1,2,3及び4の化合物は、雑草に
対して強い活性を発揮しており、また、これらの中の幾つかは作物植物、例えば
トウモロコシ及びコムギによって十分に許容される。
【0134】 実施例B 発芽後テスト 溶 媒:アセトン 5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適切な製剤を製造するために、活性化合物1重量部を上述量の溶
媒と混合し、上述量の乳化剤を加え、濃厚液を水で希釈して所定の濃度にする。
【0135】 所定の活性化合物の特定量が単位面積ごとに施用されるように、活性化合物製
剤を高さ5〜15cmのテスト植物に噴霧する。ヘクタール当たりの水1000
l中に所定の活性化合物の特定量が充当されるように、噴霧液の濃度を選定する
【0136】 3週間後に、非処理対照の発育と比較して、植物に与えた損傷の程度を%損傷
として評価する。
【0137】 数字は次のことを表す: 0%=効果なし(非処理対照と同様) 100%=完全な駆除 このテストにおいて、例えば製造実施例2,3,4及び5の化合物は、雑草に
対して強力な活性を発揮しており、また、それらの中の幾つかは作物植物、例え
ばコムギによって十分に許容される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A01N 43/78 A01N 43/78 A C07D 417/12 C07D 417/12 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM ,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE, KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,L T,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE, SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,U A,UG,US,UZ,VN,YU,ZW (72)発明者 シヤルナー,オツトー ドイツ・デー−40789モンハイム・ノルデ ベーク22 (72)発明者 ドリンガー,マルクス アメリカ合衆国カンザス州66213オーバー ランドパーク・ノツクス13210 (72)発明者 ドリユーズ,マーク・ビルヘルム ドイツ・デー−40764ランゲンフエルト・ ゲーテシユトラーセ38 (72)発明者 ベトコロウスキ,インゴ ドイツ・デー−51371レーフエルクーゼ ン・インスターシユトラーセ12 (72)発明者 マイヤース,ランデイ・アレン ドイツ・デー−40489デユツセルドルフ・ ヘルトルフアーマルク47 Fターム(参考) 4C063 AA01 BB08 CC12 CC23 CC62 DD06 EE03 4H011 AB01 BA01 BB09 BB10 BC03 BC05 BC18 DA14 DD04 DE15

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 {式中、QはO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、ハロゲンを表すか、又はそ
    れぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキ
    ル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、
    アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニ
    ル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキルスル
    ホニルアミノを表し、 X2は水素又はハロゲンを表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
    イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
    ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
    ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリー
    ルを表し、並びに Z2は、下記原子団 【化2】 [原子団中、Q1はO又はSを表し、 R1は、水素、シアノ、ハロゲンを表すか、又はそれぞれの場合に場合によりシ アノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルコキシ、アルキルチ
    オ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ、ジアルキル
    アミノ、アルケニル、アルケニルオキシ、アルケニルチオ、アルケニルアミノ、
    アルキニル、アルキニルオキシ、アルキニルチオ、シクロアルキル、シクロアル
    キルオキシ、シクロアルキルチオ又はシクロアルキルアミノを表すか、又は隣接
    するR1と場合により一緒になってアルカンジイル(アルキレン)を表し、並び に R2は、水素、シアノ、ホルミルを表すか、又はそれぞれの場合に場合によりシ アノ、ハロゲン又はアルコキシで置換されたアルキル、アルキルカルボニル、ア
    ルコキシカルボニル、アルケニル又はアルキニルを表す。] の中の1つを表す。} の置換ヘテロアリールメチル化合物。
  2. 【請求項2】 QはO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、ハロゲンを表すか、又はそ
    れぞれの場合にアルキル基中に1個乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場
    合に場合によりシアノ、ハロゲンもしくはC1−C4アルコキシで置換された、ア
    ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニ
    ル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカル
    ボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキル
    スルホニルアミノを表し、 X2は水素又はハロゲンを表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
    イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
    ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
    ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリー
    ルを表し、その場合に可能な置換基は、好ましくは、下記リスト: ニトロ、アミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、カルバモイル、チオカ
    ルバモイル、スルホ、クロロスルホニル、アミノスルホニル、ハロゲン、それぞ
    れの場合にアルキル基中に1個乃至4個の炭素原子を有する、それぞれの場合に
    場合によりシアノ、ハロゲン又はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、ア
    ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキ
    ルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボ
    ニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ又はアルキルス
    ルホニルアミノ、又はフェニル から選択され、並びに Z2は、下記原子団 【化3】 [原子団中、Q1はO又はSを表し R1は、水素、シアノ、ハロゲンを表し、それぞれの場合にアルキル基中に1個 乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又
    はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アル
    キルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルキルアミノ又はジアルキルアミノ
    を表し、それぞれの場合にアルケニル又はアルキニル基中に2個乃至6個の炭素
    原子を有する、それぞれの場合に場合によりハロゲンで置換されたアルケニル、
    アルケニルオキシ、アルケニルチオ、アルケニルアミノ、アルキニル、アルキニ
    ルオキシ又はアルキニルチオを表し、それぞれの場合にシクロアルキル基中に3
    個乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン
    又はC1−C4アルキルで置換されたシクロアルキル、シクロアルキルオキシ、シ
    クロアルキルチオ又はシクロアルキルアミノを表すか、又は隣接するR1と場合 により一緒になって、3個乃至5個の炭素原子を有するアルカンジイル(アルキ
    レン)を表し、並びに R2は、水素、シアノ、ホルミルを表し、それぞれの場合にアルキル基中に1個 乃至6個の炭素原子を有する、それぞれの場合に場合によりシアノ、ハロゲン又
    はC1−C4アルコキシで置換されたアルキル、アルキルカルボニル、アルコキシ
    カルボニルを表すか、又は、それぞれの場合に3個乃至6個の炭素原子を有する
    、それぞれの場合に場合によりハロゲンで置換されたアルケニル又はアルキニル
    を表す。] の中の1つを表すことを特徴とする、請求項1に記載の置換ヘテロアリールメチ
    ル化合物。
  3. 【請求項3】 QはO、S、SO又はSO2を表し、 X1は、水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ニトロ、ホルミル、カルボ キシル、シアノ、カルバモイル、チオカルバモイル、弗素、塩素、臭素を表し、
    それぞれの場合に場合によりシアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換
    されたメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−
    もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピル
    チオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルス
    ルホニル、メチルアミノ、エチルアミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ、ジ
    メチルアミノ、ジエチルアミノ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル
    、エトキシカルボニル、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、メトキシカルボ
    ニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、エチルスル
    ホニルアミノ、n−又はi−プロピルスルホニルアミノを表し、 X2は、水素、弗素、塩素又は臭素を表し、 Z1は、フリル、ベンゾフリル、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリア ゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、チアゾリル、
    イソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ピリジニル、キノリ
    ニル、イソキノリニル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、キナゾリニ
    ル又はキノキサリニルから成る系列からの、場合により置換されたヘテロアリー
    ルを表し、その場合可能な置換基は、好ましくは、下記リスト: ニトロ、アミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、カルバモイル、チオカ
    ルバモイル、アミノスルホニル、弗素、塩素、臭素、それぞれの場合に場合によ
    りシアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n
    −もしくはi−プロピル、n−、i−、s−又はt−ブチル、メトキシ、エトキ
    シ、n−もしくはi−プロポキシ、n−、i−、s−又はt−ブトキシ、メチル
    チオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、n−、i−、s−もしくは
    t−ブチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル
    、エチルスルホニル、メチルアミノ、エチルアミノ、n−もしくはi−プロピル
    アミノ、n−、i−、s−もしくはt−ブチルアミノ、アセチル、プロピオニル
    、n−もしくはi−ブチロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n
    −もしくはi−プロポキシカルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノ
    カルボニル、n−もしくはi−プロピルアミノカルボニル、アセチルアミノ、プ
    ロピオニルアミノ、n−もしくはi−ブチロイルアミノ、メトキシカルボニルア
    ミノ、エトキシカルボニルアミノ、n−もしくはi−プロポキシカルボニルアミ
    ノ、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、n−もしくはi−プロ
    ピルスルホニルアミノ、n−、i−、s−もしくはt−ブチルスルホニルアミノ
    又はフェニル から選択され、 並びに Z2は、下記原子団 【化4】 [原子団中、Q1はO又はSを表し、 R1は、水素、シアノ、弗素、塩素、臭素を表し、それぞれの場合に場合により シアノ、弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n−
    もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メ
    チルチオ、エチルチオ、n−もしくはi−プロピルチオ、メチルスルフィニル、
    エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、メチルアミノ、エ
    チルアミノ、n−もしくはi−プロピルアミノ、ジメチルアミノ又はジエチルア
    ミノを表し、それぞれの場合に場合により弗素、塩素又は臭素で置換されたエテ
    ニル、プロペニル、プロペニルオキシ、プロペニルチオ、プロペニルアミノ、エ
    チニル、プロピニル、プロピニルオキシ又はプロピニルチオを表し、それぞれの
    場合に場合によりシアノ、弗素、塩素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロ
    ピルで置換されたシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
    シル、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シ
    クロヘキシルオキシ、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペン
    チルアミノ又はシクロヘキシルアミノを表すか、又は隣接するR1 と場合により
    一緒になってプロパン−1,3−ジイル(トリメチレン)もしくはブタン−1,
    4−ジイル(テトラメチレン)を表し、並びに R2は、水素、シアノ、ホルミルを表し、それぞれの場合に場合によりシアノ、 弗素、塩素、メトキシ又はエトキシで置換されたメチル、エチル、n−もしくは
    i−プロピル、アセチル、プロピオニル、n−もしくはi−ブチロイル、メトキ
    シカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニルを
    表すか、又はそれぞれの場合に場合により弗素、塩素又は臭素で置換されたプロ
    ペニル、ブテニル、プロピニル又はブチニルを表す。] の中の1つを表すことを特徴とする、請求項1に記載の置換ヘテロアリールメチ
    ル化合物。
  4. 【請求項4】 Z2は下記複素環式原子団: 【化5】 を表し、且つ、 Q、X1、X2及びZ1並びにR2は請求項1から3のいずれかにおいて定義したと
    同じであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の置換ヘテロアリ
    ールメチル化合物。
  5. 【請求項5】 Z2は下記複素環式原子団: 【化6】 を表し、且つ、 Q、X1、X2及びZ1並びにR1及びR2は請求項1から3のいずれかにおいて定 義したと同じであることを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の置換
    ヘテロアリールメチル化合物。
  6. 【請求項6】 (a)無水フタル酸又は3,4,5,6−テトラヒドロ無水
    フタル酸を、適切であれば希釈剤の存在下で、また、適切であれば反応助剤の存
    在下で、一般式(II) 【化7】 [式中、Q、X1、X2及びZ1は請求項1から3のいずれかにおいて定義したと 同じである。] のアミノベンゼン誘導体と反応させるか、 又は (b)一般式(III) 【化8】 [式中、Q、X1、X2及びZ2は請求項1から3のいずれかにおいて定義したと 同じである。] のヘテロシクリルアレーン類を、適切であれば希釈剤の存在下で、また、適切で
    あれば反応助剤の存在下で、一般式(IV) X3−CH2−Z1 (IV) [式中、Z1は上で定義したと同じであり、並びに X3はハロゲンを表す。] のヘテロアリールメチルハロゲン化合物と反応させるか、 又は (c)一般式(V) 【化9】 [式中、X1、X2及びZ2は請求項1から3のいずれかにおいて定義したと同じ であり、並びに X4はハロゲンを表す。] のヘテロシクリルアレーン類を、適切であれば希釈剤の存在下で、また、適切で
    あれば反応助剤の存在下で、一般式(VI) HQ−CH2 −Z1 (VI) [式中、Q及びZ1 は請求項1から3のいずれかにおいて定義したと同じである
    。] のヘテロアレーン類と反応させ、 並びに、適切であれば次に、置換基の定義の範囲内で求電子置換反応又は求核置
    換反応もしくは酸化反応又は還元反応を通例の方法で行うことを特徴とする、請
    求項1から3のいずれかに記載の置換ヘテロアリールメチル化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】 望ましくない植物を防除するための、請求項1から5のいず
    れかに記載の少なくとも1種の置換ヘテロアリールメチル化合物の使用。
  8. 【請求項8】 除草剤組成物が請求項1から5のいずれかに記載の少なくと
    も1種の置換ヘテロアリールメチル化合物と通例の増量剤を含むことを特徴とす
    る、前記除草剤組成物。
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