JP2002500966A - フィラメント供給スプールモニタリングを備えたラピッドプロトタイプシステム - Google Patents

フィラメント供給スプールモニタリングを備えたラピッドプロトタイプシステム

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JP2002500966A JP2000528411A JP2000528411A JP2002500966A JP 2002500966 A JP2002500966 A JP 2002500966A JP 2000528411 A JP2000528411 A JP 2000528411A JP 2000528411 A JP2000528411 A JP 2000528411A JP 2002500966 A JP2002500966 A JP 2002500966A
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Abstract

(57)【要約】 ラピッドプロトタイプシステムで使用されるフィラメントスプール(42)は、スプール(42)上のフィラメントのタイプおよび量に関するデータを維持する回路(188)を保有する。スプール(42)がラピッドプロトタイプシステム内の紡錘体(43)上に載設される場合、回路(188)はシステムの電気制御に接続される。スプール(42)上のフィラメントの量のを示すデータは、フィラメントがシステムによって使用されるにつれて更新される。フィラメントスプール(42)は、フィラメントが巻かれ得る中央樽形円筒(180)、および紡錘体(43)、スリーブ内に搭載される回路(188)を受容するための樽形円筒(180)内のスリーブ(182)を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (発明の背景) 本発明は三次元プロトタイプモデル化の分野に関する。詳細には、本発明は、
ベース上に押出ヘッドから液体状態の材料の複数の層を堆積することによって、
所定の設計の三次元物体を形成するためのラピッドプロトタイプシステムである
。所望の物体を形成する複数の層の生成に伴い、材料が押出後に固化されまたベ
ース上で分配するように材料が選択され、温度が制御される。本発明において、
三次元物体は、スプール上のフィラメントのタイプおよび量に関するデータを維
持するための関連する回路を有するスプールから供給されるフィラメントを用い
て形成される。
【0002】 ラピッドプロトタイプシステムは、コンピュータ支援設計(CAD)システム
から提供される設計データに基づいて三次元物体を作る工程を含む。固化材料の
層を堆積することによる三次元物体のラピッドプロトタイプ用の装置および方法
の例は、Crumpの米国特許第5,121,329号、Batchelder
らの米国特許第5,303,141号、Crumpの米国特許第5,340,4
33号、Batchelderの米国特許第5,402,351号、Batch
elderの米国特許第5,426,722号、Crumpらの米国特許第5,
503,785号およびAbramsらの米国特許第5,587,913号にお
いて開示されている(これらすべては、Stratasys,Inc.に譲渡さ
れている)。フィラメント給送あるいは固体ロッド給送を有するラピッドプロト
タイプシステムは、Crumpの’329号特許およびCrumpの’433号
特許に記載される。
【0003】 固体ロッド給送を使用するラピッドプロトタイプシステムにおいては、モデル
化材料のロッドまたは「ウェハ」は典型的には、Stratasys,Inc.
に譲渡された同時係属出願第08/556,583号で記載されるように、ロッ
ドをシステムに分配するカセット内に格納される。フィラメント給送を使用する
ラピッドプロトタイプシステムにおいては、フィラメントスプールに巻きつけら
れる所定長のフィラメントがシステムにフィラメントを供給する。
【0004】 フィラメント給送または固体ロッド給送のいずれかを使用する際に、ラピッド
プロトタイプシステムの制御システムがカセット内またはスプール上に残るモデ
ル化材料の量を把握することが望ましい。また、制御システムが、カセットまた
はスプール上にあるモデル化材料のタイプおよび材料を分配するための適切な押
出パラメータを知ることが望ましい。
【0005】 データを制御システムに提供する電子的に読み出しおよび書き込み可能なメモ
リ装置を有するロッド分配カセットが、同時係属出願第08/556,583に
記載される。メモリ装置がカセットに取り付けられるので、カセットが手動で挿
入される場合、コネクタを介して制御システムに電気コンタクトがなされる。メ
モリ装置は電子タグとして機能し、電子タグは、カセット内にある材料のタイプ
、材料を分配するための適切な押出パラメータ、カセット内の現在のロッド数、
およびカセットのシリアル番号を制御システムに通知する。
【0006】 (発明の要約) 本発明は、フィラメントスプールおよびフィラメント供給化ラピッドプロトタ
イプシステムであり、これはフィラメントスプール上のフィラメントに関するデ
ータをモニタリングするための回路を提供する。詳しくは、本発明は、スプール
上のフィラメントのタイプおよび量に関するデータを提供し、フィラメントのタ
イプが物体仕様データによって認識された材料のタイプと一致しない場合、また
はスプール上のフィラメントの量が所望の物体を生成するのに不十分な場合、オ
ペレータに通知する。さらに本発明のスプールは、フィラメントが完全にスプー
ルから除去される前にシステムの動作を抑制するので、オペレータはフィラメン
トドライブおよび押出ヘッドからフィラメントを掴みそして除去をし得、それに
より使用されるスプールおよびフィラメントの除去、ならびに次の新しいフィラ
メントスプールの置換を容易にする。
【0007】 (好適な実施形態の詳細な説明) 好適な実施形態において、ラピッドプロトタイプシステム10は、図1に示さ
れるようにキャビネット12内に含まれる。キャビネット12は、キャビネット
の正面、および左右の面に位置するドアおよびカバーを有している。キャビネッ
ト12の正面に、包絡面(envelope)ドア14、包絡面ドア14の右に
モデル化廃棄物用トレードア16、モデル化廃棄物用トレードア16の右にタッ
チスクリーン表示パネル21、包絡面ドア14の左に支持廃棄用トレードア18
、包絡面ドア14の下にプラットフォームカバー20がある。モデル化ドライボ
ックスドア22および電子部品仕切カバー24が、キャビネット12の右手側に
位置する。支持ドライボックスドア26がキャビネット12の左手側のコンプレ
ッサ仕切カバー28上に位置する。
【0008】 キャビネット12の上方右手側にはモデル化押出装置30を収容する。モデル
化押出装置30は、モデル化x―y強制器(forcer)33の下に取り付け
られ、モデル化回転軸接合部36に関して回転するモデル化アーム34の端部に
接続されるモデル化押出ヘッド32を含む。モデル化押出装置30は、回転軸接
合部36の下のモデル化ドライボックス45(図2)内に位置するモデル化フィ
ラメントスプール42からモデル化ドライボックスドア22を通じてアクセス可
能なモデル化材料のフィラメント40を受容する。ドライボックス45は、低湿
度状態を維持してフィラメント40の状態を最適化する。モデル化押出装置30
を用いて基板60上の層状のモデル化材料を分配する。ドライボックス45内の
モデル化スピンドル43上に載設されるモデル化フィラメントスプール42を図
2でより明確に示す。
【0009】 キャビネット12の左手側には支持押出装置44を収容する。支持押出装置4
4は、支持x―y強制器52の下に取り付けられ、支持回転軸接合部50に関し
て回転する支持アーム48の端部に接続された支持押出ヘッド46からなる。支
持押出装置44は、支持回転軸接合部50の直下の支持フィラメントドライボッ
クス57(図3)内に位置する支持フィラメントスプール56からドライボック
スドア26を介してアクセス可能な支持材料のフィラメント54を受容する。ド
ライボックス57は、低湿度状態を維持してフィラメント54の状態を最適化す
る。支持押出装置44を用いて層状の支持材料を分配する。ドライボックス57
中の支持スピンドル58上に載設された支持フィラメントスプール56を、図3
により明確に示す。
【0010】 モデル化押出装置30によって層状に押出されたモデル化材料は物体64を生
成する。物体が生成されるにつれて、任意の余分に覆いかぶさった部分を支持す
るために支持材料を用いる。物体を生成する際に、モデル化材料によって最的な
幾何学的形状に直接支持されない余分に覆いかぶさった断片または部分は、支持
構造を必要とする。支持フィラメント54は必要とされる支持を提供するための
材料を堆積する押出ヘッド46を支持するために供給される。モデル化材料のよ
うな支持材料は、多層状に堆積される。
【0011】 物体を生成する際には、同時に1つの押出装置だけが動作状態かつ成形状態に
ある。図1において、システム10は、モデル化押出装置30が動作形成状態で
あり、支持押出装置44がホーム静止位置にある三次元物体64の生成を示す。
モデル化押出装置30が動作状態にある場合、モデル化フィラメント40はアー
ム34から押出ヘッド32まで移動し、押出ヘッド32において液体状体まで加
熱される。溶融状態のモデル化材料の層は、ヘッド32によって、ヘッド32の
下部表面を介して突出する液化器59を通じて基板60上に堆積される。基板6
0は真空圧盤62上で支持され真空の力によってその位置で保持される。支持押
出装置44が動作形成状態にある場合、支持ヘッド46は同様にアーム48を介
して支持フィラメント54を受容し、液体状体まで加熱する。溶融状態の支持材
料の層は、ヘッド46によってヘッド32の下部表面を介して突出する液化器5
9を通じて基板60上に堆積される。
【0012】 モデル化材料および支持材料のフィラメントは、それぞれ固体材料である。固
体材料はその固化温度で比較的急速に加熱され得、押出ヘッドから分配された後
温度のわずかな減少により極めて急速に固化される。モデル化材料に対してホッ
トが選択される場合、それ自体に比較的高い粘着性を有する組成物が堆積される
。組成物が堆積されるモデル化材料に対して比較的低い粘着性を有する組成物が
支持材料にたいして選択され、それにより支持材料はモデル化材料およびそれ自
身に対して弱く壊れやすい結合を形成する。物体が完成した場合、支持材料はオ
ペレータによって破壊され、モデル化材料から形成された物体を無傷にする。
【0013】 モデル化材料は好適には熱可塑性材料である。モデル化材料フィラメントに使
用され得る他の材料は、蜜蝋、鋳型ワックス、機械および産業用ワックス、パラ
フィン、様々な熱可塑性樹脂、金属および金属合金を含む。適した金属は、銀、
金、白金、ニッケル、これらの合金、アルミニウム、銅、金、鉛、マグネシウム
、鋼、チタン、シロメ、マンガンおよび青銅を含む。またガラス、特定的にはコ
ーニングガラスも十分である。2つの部分のエポキシを含む化学硬化材料もまた
適している。特に適切と思われるモデル化材料は、アクリロニトリル−ブタジエ
ン−スチレン(ABS)組成物である。支持材料に特に適切と思われる材料は、
フィラー(約80%まで)としてポリスチレン共重合体を添加されたアクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン(ABS)組成物であり、ABS組成物の低表面
エネルギーを形成し、材料の小さな粘着力および小さな接着力を提供する。両方
の材料のフィラメントは、好ましくは極めて小さな直径、すなわち0.070イ
ンチのオーダーである。しかしフィラメントは直径0.001インチと同じくら
い小さい。
【0014】 図4は、システム10の中央内部領域にあり、包絡面ドア14を介してアクセ
ス可能な生成包絡面70である。図4において、ドア14、プラットフォームカ
バー20およびキャビネット12の隣接する面の板は取り除いてある。包絡面7
0は、ここで三次元物体を形成する。包絡面70は、生成プラットフォーム74
を含む。生成プラットフォーム74は、プラットフォーム引き器78上に載設す
る1組の脚76によって支持される真空圧盤62を含む。生成プラットフォーム
74は、包絡面70内のz方向である垂直方向に運動する。生成プラットフォー
ム74の運動は、zモータ114(図5で模式的に示す)によって駆動するz駆
動チェーン80によって制御される。生成プラットフォーム74は、単一の層を
形成中、静止した状態にある。各追加の層が基板60上に堆積されるにつれて、
生成プラットフォーム74は、次の層を形成するためのスペースを与えるように
わずかに低下する。プラットフォーム引き器78は、オペレータが真空圧盤62
へのアクセスの準備が可能になるように前方に引く。
【0015】 図5に模式的に示される電気システム90がシステム10を制御する。第1の
入出力(IO)カード94および第2の入出力(IO)カード96と共にCPU
92が、電気システム90の全体の動作を制御する。CPU92は、タッチスク
リーンディスプレイ21から通信を介してオペレータからの命令を受信する。同
様に、CPU92はタッチスクリーンディスプレイ21と通信し、オペレータへ
のメッセージを表示し、オペレータから入力を要求する。次にCPU92はIO
カード94および96と通信する。電源98は動力を電気システム90に供給す
る。
【0016】 包絡面ヒータ100および包絡面送風機102は、包絡面70内の温度を約8
0℃に維持する。包絡面熱遮断(THCO)スイッチ108は、機械の主制御器
動作コイルを介して電流を運ぶ。温度が約120℃に達すると、THCOスイッ
チが開き、システムへの主制御器を介する電流を遮断する。ヘッド送風機104
および106は、大気温度の空気を供給してフィラメント40および54の通路
を冷却する。それにより空気がモデル化押出ヘッド32および支持押出ヘッド4
6それぞれに伝わる。
【0017】 またCPU92はコンプレッサ110を制御する。コンプレッサ110は、圧
縮空気を交互にx−y強制器33および52に供給し、圧盤62に真空を提供す
る。CPU92は、層状化の駆動信号を提供し、選択的にzモータ114を作動
させる。zモータ114は、z軸に沿ってプラットフォーム74を駆動させる。
【0018】 CPU92のコントロールの下にあるIOカード94は、モデル化押出ヘッド
32およびそこへのフィラメント供給に関連する信号を送受信する。IOカード
94は、x−y強制器33の運動および位置を制御する駆動信号を送信する。I
Oカード94は、さらにモデル化押出ヘッド32を行き来する信号を送受信し、
モデル化押出ヘッド32は、熱電対222(TC)、ヒータ220(HTR)、
モータ246(MTR)、および安全スイッチ210(SS)を含む(図8〜1
0に示す)。モデル化押出ヘッド32の温度が高くなりすぎると、安全スイッチ
210がシステムをシャットダウンする。
【0019】 IOカード94はモデル化ドライボックスプロセッサ基板116を用いた通信
を介してモデル化材料のフィラメントスプール42に関するデータをモニタする
。モデル化ドライボックスプロセッサ基板116は、モデル化フィラメントドラ
イボックス45の内部に搭載される。モデル化ドライボックスプロセッサ基板1
16は、モデル化フィラメントセンサ118(図8に示されるフィラメントガイ
ド236への入口に位置する)およびモデル化EEPROM基板120からモデ
ル化フィラメントに関するデータを受信する。モデル化EEPROM基板120
は、モデル化材料のフィラメントスプール42に取り付けられた電気的に読み出
しおよび書き込み可能なデバイス(図7に示されるEEPROM188)を保有
する回路基板である。EEPROM基板120は、様々な機能を有する電気的タ
グとして機能する。EEPROM基板120は、スプール上およびスプール上の
フィラメントの線の末端(lineal feet)のフィラメントのタイプに
関して制御システム90に情報を伝える。フィラメント40がスプール42から
巻ほどかれるにつれて、CPUはどの程度材料が押出されるために命令されたか
を把握し、EEPROM188上にこの量を全量から減じ、新しい値をEEPR
OM188に書き込む。好ましくは、EEPROM基板120上のデータは、暗
号化され、それによりCPU92によってのみ更新され得る。フィラメントセン
サ118は、フィラメント給送管の入口にフィラメントが存在するかしないかを
探知し示す。フィラメントがスプール上にある場合は、オペレータがフィラメン
トを掴み、押出ヘッド32から引き抜き得る。従って使用したフィラメントおよ
びスプールのアンロードおよび新しいスプール再ロードはより容易になる。
【0020】 CPU92はモデル化フィラメントデータをIOカード94から受信する。作
業の最初にCPU92は、スプール42または56がその作業を完了するのに十
分なフィラメントを含むかどうかを計算する。次いでタッチスクリーンディスプ
レイ21を介してオペレータに通知し、フィラメントが作業を完了するのに十分
であるか、またはフィラメントスプールがプロセス中に交換および再ロードを必
要とするかのいずれかを知らせる。また作業の初めにCPUはスプール上のモデ
ル化フィラメント材料が物体のデータに指定された同じ材料であることを確認す
る。これらの材料が同じでない場合、タッチスクリーンディスプレイ21を介し
てオペレータに通知され、オペレータにスプールをスイッチする機会を提供する
【0021】 さらにIOカード94は、包絡面熱電対122から受信される信号を介して包
絡面70内の温度をモニタし、モデル化ヘッド近接センサ124、高−z近接セ
ンサ126、低−z近接センサ128およびxyz非接触先端位置センサ130
へおよびそこから信号を送信する。これらすべては以下で記述する。
【0022】 IOカード96は支持押出ヘッド52およびそこへのフィラメント供給のため
にIOカード94と同様の機能を果たす。IOカード96は、x−y強制器52
の運動および位置を制御する駆動信号を送信する。さらにIOカード96は、支
持押出ヘッド46へおよびそこから信号を送受信する。支持押出ヘッド46は、
熱電対(TC)、ヒータ(HTR)、モータ(MTR)および安全スイッチ(S
S)を含む。安全スイッチSSは、モデル化押出ヘッド46内の温度が高くなり
すぎた場合システムをシャットダウンする。
【0023】 IOカード96は、支持ドライボックスプロセッサ基板132との通信を介し
て支持材料のフィラメントスプール56に関するデータをモニタする。IOカー
ド96は、支持フィラメントセンサ134および支持EEPROM基板136か
ら支持フィラメントに関するデータを受信する。支持EEPROM基板136は
、支持材料フィラメントスプール56に取り付けられる。EEPROM基板13
6は、電子タグとしてEEPROM基板120と同様の様態で機能する。CPU
92は、支持プロセッサ基板132から支持フィラメントデータを受信し、それ
を用いてモデル化フィラメントに関して上述したように同様の様態でオペレータ
情報を提供する。
【0024】 さらにIOカード96は、第1圧力バルブ138および第2圧力バルブ140
を制御する。第1圧力バルブ138および第2圧力バルブ140は、コンプレッ
サ110からの空気の流れを方向付けするように交互に開閉される。バルブ13
8が閉じ、バルブ140が開いている場合、コンプレッサ110からの空気はモ
デル化x−y強制器33に向けられる。バルブ138が開き、バルブ140が閉
じている場合、コンプレッサ110からの空気は支持ヘッドx−y強制器52に
向けられる。さらにIOカード96は、以下に記述される支持ヘッド近接センサ
142と通信する。
【0025】 ラピッドプロトタイプシステ10を用いて物体を生成するために、オペレータ
はまずタッチスクリーンディスプレイ21上に位置するパワーオンスイッチ(図
示せず)を押してシステムを立ち上げる。次いでシステム10は、メンテナンス
モードに入り、その状態でシステムはルーチンを実行し、モデル化押出ヘッド3
2、支持押出ヘッド46および生成プラットフォーム74の位置を較正する。較
正は2つの局面で実行される。第1の局面は、システムが押出ヘッドおよびプラ
ットフォームのための運動境界を初期化する。モデル化ヘッド近接センサ124
はモデル化ヘッド32の境界を初期化し、支持ヘッド近接センサ142は支持ヘ
ッド44の境界を初期化する。高−z近接センサ126および低−z近接センサ
128は共にプラットフォーム74の境界を初期化する。第2の段階は、xyz
非接触先端位置センサ130が液化器59および65の先端の位置を初期化する
。xyz非接触先端位置センサ130は、プラットフォーム74内に埋め込まれ
る磁気センサである。磁気センサは、3つの変位自由度を有する液化器先端の位
置を検出する。先端位置センサ130は、参照として援用される継続中の特許出
願第08/556,583号に記載されるタイプである。
【0026】 較正が完了した後、システムはメンテナンスモードから出て待機状態に入る。
待機状態では三次元物体64の設計が、Stratasys,Inc.のQUI
CKSLICE(登録商標)のようなCADソフトウェアを利用したLANネッ
トワーク接続(図5に模式的に示す)を介してCPU92に入力される。Str
atasys,Inc.のQUICKSLICE登録商標のようなCADソフト
ウェアは、物体の設計を複数の層に分割し、各別個の層の特定の形状に対応する
多層データを提供する。層状データが受信された後、包絡面70が加熱される間
、システム10はウォームアップ局面に入る。温度が80℃に達するとすぐにシ
ステムは三次元物体を生成する形成状態に入る。
【0027】 モデル化押出装置30を図6により詳細に示す。モデル化押出装置30は、水
平面内のxおよびy方向に移動可能である。モデル化x−y強制器33は、ステ
ータ要素のグリッド(図示せず)を含む平面ステータ150の下に位置し、平面
ステータ150に対して平行である。x−y強制器33および平面ステータ15
0は共に電磁リニアステッピングモータ152を形成する。線形ステッピングモ
ータは、California州Santa ClaritaのNorther
n Magnetics Inc.で市販されている。x−y強制器33は、互
いに対して90°で載設される2組の単軸強制器およびステータ(図示せず)に
対して強制器33を保持する永久磁石からなる。コンプレッサ110によって供
給される圧縮空気サプライ154は、モデル化装置30が動作状態の場合、x−
y強制器33に提供される。圧縮空気サプライ154は、x−y強制器33を通
じて上方に流れ、図6Bに示されるようにその上部表面を通って排出される。排
出空気は、x−y強制器33および平面ステータ150との間の空気ベアリング
156を形成する。空気ベアリング156によって、平面ステータ150の下の
水平面内で強制器がほぼ摩擦のない運動を可能にする。x−y強制器33への駆
動信号33は、電気サプライ158を介して受信される。電気サプライ158は
、動作を達成するためにx−y強制器33(図示せず)内に位置するステッピン
グモータドライバに動力を供給する。通常、このタイプの線形ステッピングモー
タは、機械的共振を生成する突然の耳障りな動作を示す。この共振は、典型的に
はラピッドプロトタイプシステムのような高精度システムにおけるモータのよう
な使用を不可能にする。以下に記述するように、ヘッドへの供給管(umbil
ical)は、従来技術のラピッドプロトタイプシステムの速度をはるかに凌ぐ
高速で高精度堆積を可能にするのに十分な減衰効果を提供する驚くべき結果を生
成する。
【0028】 モデル化押出アーム34は、可撓性チェーン搬送器である。可撓性チェーン搬
送器は、水平面に対して可撓性であり、他の方向に対して実質的に強固である。
アーム34は、その中に空気サプライ154および強制器電気サプライ158を
運ぶ。アーム34はまた、その中にモデル化押出ヘッド電気サプライ160およ
び可撓性空気管162を保有する。可撓性空気管162は、図8に示されるよう
に外気供給およびモデル化フィラメント40を含む。空気サプライ154、強制
器電気サプライ158、押出ヘッド電気サプライ160およびフィラメント40
を含む空気管162を共に有するアーム34は、押出ヘッド32への供給管16
3を形成する。供給管163は、ステータ30に関して押出ヘッド32の機械的
共振を減衰する驚くべき結果を生成する。機械的共振は、強制器33によるヘッ
ド32の加速および減速によって生成される。好適な実施形態において、ヘッド
32およびx−y強制器33を併用した重量は、約8lbsに等しいかまたはそ
れ以下である。
【0029】 共振周波数は、小さな振動の場合約55Hzであり、大きな振動の場合約45
Hzである。この実施形態において最終的な値(約4時間の減衰時定数に等しい
)の98%に達するまでの減衰時間は、約150msに等しいかまたはそれ以下
である。振動および機械的共振の減衰は、A=A0sin(ωt+φ)e‐t/T
ように表され得、ここでA=振幅、A0=初期不減衰振幅、w=2πf、f=シ ステムの共振周波数、φ=位相定数、t=時間、およびT=減衰時定数である。
T=1/ωの場合、臨界減衰が生じる。記述された好適な実施形態において、シ
ステムには、臨界減衰に基づく約10の要因(factor)がある。従って所
望であれば、さらなる減衰が加えられる。減衰時定数は、押出ヘッド32および
x−y強制器33を組合せた重量に影響される。重量が軽くなればなるほど、減
衰時定数は短くなる。
【0030】 機械的共振の減衰は、供給管163の移動中に生成される摩擦力によって主に
達成される。あるいは、押出ヘッド32内に保有される振動分散器(またはショ
ックアブソーバ)のような他の形式の減衰手段が使用されてもよい。またさらな
る減衰が、(鋼ではなくて銅を使用するような)ステータ150のバッキングの
抵抗を減少することによって生成され、それによりステータ150内の渦電流の
損失を増加させ得る。
【0031】 図5はモデル化装置30を示すが、支持ヘッド装置44が同様の構造を有し、
モデル化装置30を参照して記述される同じタイプの供給管を有していることが
理解されるべきである。詳細には、支持x−y強制器52は、平面化ステータ1
50を共有するのでx−y強制器52およびステータ150は、第2のリニアモ
ータを形成する。支持装置44は、モデル化装置30からキャビネット12の対
向側から開始する。参照を容易にするために1つのヘッドのみを詳細に示す。
【0032】 真空圧盤62および基板60を図6内の分解様式で示す。真空圧盤62は、図
6Aに詳細に示されるように溝164のグリッドからなる上部表面167を有す
る。好適な実施形態において、溝164は、0.06インチの深さ、0.06イ
ンチの幅、ならびに中央においては1インチ離れている。開口部166は、真空
圧盤62の中央から広がっている。開口部166は真空ポンプ112に接続する
真空ホース168を受容する。システム10がエネルギーをパワーアップする場
合、真空は真空ホース168および真空ポンプ112によって真空圧盤62に適
用される。圧盤62に供給された真空は溝164を介して空気を引き、それによ
り圧盤に沿って真空が分布する。この真空は、基板60を圧盤62の上部表面1
67に対して保持される。好適な実施形態において、基板60は、可撓性シート
である。重合体材料は適した可撓性シート基板を形成する。約0.06インチの
厚さを有するアクリルシートは、基板として首尾よく使用されてきた。所望の物
体が形成される場合、オペレータは基板60をシートの一端をリフトすることお
よび適用される真空のシールを破ることによって圧盤62から除去し得る。
【0033】 基板60と物体との間の弱く壊れやすい結合がある場合、可撓性基板60は、
物体から基板をはがすために物体から離れて曲げられる。この弱く壊れやすい結
合は、基板60上の支持材料の第2の層(または複数の層)によって後に続くモ
デル化材料の第1の層(または複数の層)を堆積することによって生成され得る
。モデル化材料および基板は、モデル化材料が完全に基板に接着するように選択
される。物体を生成する際に、モデル化材料は基板60上に1つ以上の層状に堆
積される。次いで支持材料が、モデル化材料上に1つ以上の層状に堆積される。
次いで物体が、複数のモデル化材料および/または支持材料の層を用いて支持材
料上に生成される。物体が完成した場合、真空は基板60のコーナーをリフトす
ることで破られ、基板60はオペレータによって圧盤62から除去される。基板
60を曲げることによって次にオペレータは、物体から基板60をはがす。モデ
ル化材料の第1の層は基板に付着したままの状態となるが、モデル化材料の第1
の層と支持材料の第2の層との間の弱い結合は、物体を損傷することなく基板6
0の除去を可能にするように壊れる容易な別個の接合部である。
【0034】 他の可撓性シート材料を基板60として使用してもよい。例えば、コーティン
グしない紙またはコーティングした紙、金属箔および他の重合体材料が適してい
る。高温の支持材料およびモデル化材料の場合、重合体材料(例えば、Kapt
on)または金属箔が特に望ましい。
【0035】 真空は、基板60を圧盤62に対して押えるように適切な保持力を達成するた
めの好適な方法であるが、適切な保持力を提供するための他の手段もまた使用さ
れ得る。例えば、基板60が静電チャックまたは基板60の下部表面あるいは圧
盤62の上部表面(または両方)に塗布される弱い接着によって圧盤62に対し
て保持される。
【0036】 図7は、図2および図3で示されるフィラメントスプールおよびスピンドルの
詳細な分解図を示す。フィラメントスプールおよびスピンドルの機械的構成は、
モデル化フィラメントおよび支持フィラメントの両方と同一である。参照を容易
にするために、図7はモデル化フィラメントスプール42およびモデル化スピン
ドル43を詳細に示す。スピンドル43は、ドライボックス45から水平方向に
延び、半円形を有する。1組の6つの押し込み可能なコネクタピン176を有す
る半円コネクタ174が、ドライボックス45に隣接するスピンドル43の上部
に載設される。バネ押しラッチ178が外側エッジ179においてスピンドル4
3の上部に埋め込まれる。
【0037】 フィラメントスプール42は、フィラメントが巻かれ得るセンターバレル18
0、バレル180の両端から広がる一対のスプールフランジ181、スピンドル
43を受容するためのバレル180内に嵌合するスリーブ182、スリーブ18
2内に載設されバレル180に対して垂直であるモデル化EEPROM基板12
0からなる。バレル180はスリーブ182に関して回転し、それによりフィラ
メント40がスプール42から巻きほどかれ得る。スリーブ182は、その一端
にフランジ184、対向端にフランジ186およびスピンドル43を支えるため
の内部半円形空洞を有している。好適な実施形態において、フランジ184は除
去可能であり、フランジ186は固定されている。フランジ184の除去によっ
てバレル180からスリーブ182の引き出しを可能にする。上述のように、E
EPROM基板120はEEPROM188を保有する。好適な実施形態におい
て、EEPROM基板120は、一対のネジ190によって固定フランジ186
に隣接して載設される。それによりEEPROM188は保護のためのスリーブ
182と内向きに面する。その外側に面してEEPROM基板120は図7Aに
示すように1組6個の丸形電気的コンタクト192を保有する。コネクタ192
は、スプール42がスピンドル43上に載設された場合にコネクタピン176用
の受容表面を提供するように構築される。
【0038】 ラッチ178がスリーブ182からスピンドル43の挿入または除去を可能に
するように手動で押し込まれなければならない。スリーブ182がスピンドル4
3上に載設される場合、ラッチ179は上向きの位置で静止し、コンタクト19
2がコネクタピン176を完全に押し込むようにスプール42をその位置でロッ
クする。フィラメントスプール42が手動でスプールホルダ43内に挿入される
場合、EEPROM基板120およびドライボックスプロセッサ基板116との
間の電気的接触がコネクタ190を介してなされる。
【0039】 図8に押出装置の詳細を示す。図8はモデル化押出装置30を示すが、支持押
出装置44は同じ部分を含み、180°回転した位置においてモデル化押出装置
30と同様の様態で動作することを理解されるべきである。押出ヘッド32は、
一対の載設板200によってx−y強制器38の下に載設される。二対のボルト
202がヘッド32を板200に取り付ける。2つのボルト204は、板200
をx−y強制器38に接続し、ヘッド32を保持する。
【0040】 押出ヘッド32は、液化器59、フィラメントドライブ208および安全スイ
ッチ210を保持するエンクロージャ206から形成される。液化器59は、熱
伝導性の薄壁管212、加熱ブロック214、押出先端216、先端保持具21
8、ヒータ220および熱電対222を含む。図9は、液化器59の分解図を示
す。図9に示されるように、薄壁管212は、入口端部224、出口端部226
を有し、90°曲げられている。好適な実施形態において、先端216は管21
2の出口端部内にハンダ付けされる。あるいは、先端216は管212に鑞付け
または溶接されてもよい。0.070インチのフィラメントを使用する場合、管
212は好適には約0.074インチの内径を有する。管212の壁の厚さは好
適には0.005〜0.015インチの間である。管212からフィラメント4
0まで最大熱伝導が達成されるように可能な限り管212を薄くすることが望ま
しい。黄銅、銅、タングステン、チタン、モリブデン、ベリリウム銅または他の
鋼のような他の金属を使用してもよい。また、ポリアミド(polymide)
(Kapton)、高融点を有するプラスチックのような他の熱伝導性材料を薄
壁管を形成するために使用してもよい。
【0041】 管212は加熱ブロックの正面部分228と背面部分230との間の加熱ブロ
ック214のチャネル229に嵌合する。加熱ブロック214は、アルミニウム
またはベリリウム銅のような熱伝導性材料から形成される。1組4個のボルト2
32は、加熱ブロック214の外側部分228および背面部分230を通って延
び、管212を保持する。加熱ブロック214が載設された場合、入口端部22
4に隣接する管212の第1の部分は、加熱ブロック214の外部にあり、管2
12の第2の中間部分は加熱ブロック214内にクランプされ、先端216を含
む管212の第3の部分はブロック214の下部を通じて延びる。管212の第
1の部分は液化器59用のキャップゾーンを形成し、管212の第2の部分は加
熱ゾーンを形成し、第3の部分はノズルゾーンを形成する。ノズルゾーンは、押
出先端216内に含まれ、そこに銀ハンダ付けされている。押出先端216は、
先端保持具218、中央開口部を有する四角い板によって加熱ブロック214に
対して支持される。先端保持具218は、押出先端216の周りに締り嵌めされ
、一対のネジ234によって加熱ブロック214の下に載設される。
【0042】 管212のキャップゾーン長は、0.15インチ〜2インチの範囲内である。
キャップゾーンは、約70℃の包絡面温度から約280℃の液化器温度までの温
度勾配を経なければならない。キャップゾーンをより短くすることにより溶融フ
ィラメントが押出される速度(すなわち流速)をシステムによるより大きな制御
を可能にするが、キャップゾーンを通じてフィラメントの冷却温度を維持するの
をより困難にする。加熱ゾーン長は、0.04インチから7インチまでのいずれ
かである。加熱ゾーンが長くなればなるほど、最大押出し流速は速くなるが、流
速が加速および減速され得るのが遅くなる。0.02〜0.04インチ長のキャ
ップゾーンおよび約2.5インチ長の加熱ゾーンを有する液化器は、本システム
の好適な実施形態において首尾よく使用されている。
【0043】 円柱状のヒータ220および熱電対222が加熱ブロック214の背面部分2
30内へ水平方向に延びる。ヒータ220は、管212の加熱ゾーンと熱交換関
係にある位置にされ、管をフィラメントの溶融温度以上の温度まで加熱する。フ
ィラメント40にABS組成物を用いた場合、管は約270℃まで加熱される。
熱電対222は、管212に隣接して位置し、管内の温度をモニタする。安全ス
イッチ210は、温度が所定のレベルを超える場合システム10をシャットダウ
ンする。
【0044】 ガイド管236は、フィラメント40を回転軸36から押出ヘッド32までガ
イドし、動作を支援するためのテフロンのような適した低摩擦材料から形成され
る。上述のように、ガイド管36内のフィラメント40は、アーム34の内部に
含まれる可撓性管60内に位置される。フィラメント40は、入口アパーチャ2
38を通じて押出ヘッド32に入る。押出ヘッド32の内部においてフィラメン
ト40は、制限されたガイド通路242を有するテーパー状のガイド240を通
じて供給される。フィラメントドライブ208は、ステッピングモータ246、
プーリ248および一対の供給ローラ250および252からなる。ローラ25
0は、ステッピングモータ246によって駆動するドライブシャフト254を有
する。ローラ252はゴムコーティングされたアイドラーである。フィラメント
40は、ローラ250および252との間のニップ内にテーパー状のガイド24
0のガイド通路242から供給される。ローラ250の回転がフィラメント40
を液化器59の方へ進める。薄壁管212の入口端部224は、フィラメント4
0がローラ250および252を通過するにつれてフィラメント40を受容する
ように位置される。液化器59外側の溶融フィラメントの流速は、フィラメント
ドライブ208がフィラメント40を液化器59内に進める速度で制御される。
【0045】 送風機256は、大気温度の空気を可撓性管60内に流し、ガイド管236お
よびフィラメント40を冷却する。ストランド40の冷却は、液化器59内へ通
じる通路内でぐにゃっとしたり曲がったりすることのない十分な低温でフィラメ
ントを維持するために重要である。送風機256からの空気は、管60を通じて
伝わり、空気導管258を介して押出ヘッド32に入る。空気導管258は、空
気用の経路を提供する。経路は押出ヘッド32内のフィラメント40から前方に
あり、フィラメント40から平行の位置にある。
【0046】 図10Aおよび10Bは、液化器の別の実施形態を示す。図10Aは、液化器
259の組立図である。一方図10Bは、液化器259の分解図である。この実
施形態において、上述のこのタイプの2つの薄壁管260Aおよび260Bは、
1つのノズル262内に流動する。このタイプの液化器は、図8に示される分配
ヘッド内において置換され得、交互に2つの異なる堆積材料を分配する押出ヘッ
ドに提供する。2つの堆積材料は、モデル化材料および支持材料であり得、ある
いはそれらは2つの異なる色のモデル化材料または他の多様な特性を有していて
もよい。ノズル262は、管260Aおよび260Bの出口端部264に鑞付け
または溶接される。ノズル262は、垂直方向に位置し、一方管260Aおよび
260Bは水平方向に対して角度付けされ得る。別個の供給機構(図示せず)は
、管260Aおよび260Bに提供され、それによりフィラメント材料は任意の
所与の時間で1つの管のみ内に供給される。
【0047】 薄壁260Aおよび260Bは、加熱ブロック266によって適所に保持され
る。加熱ブロック266は、外側板268、内側板270、背面板272からな
る。背面板272は、押出ヘッド内に載設され、管260間に延びるヒータ27
4を保持する。管260Aおよび260Bを保持する2つのチャネル276は、
内側のブロック270を通じて一定のルートで通過する。1組5個のボルト(図
示せず)は、外側板268、内側板270および背面板272を通って延び、液
化器259を脱着可能に共に保持する。液化器を交換および清掃の場合に加熱ブ
ロックから除去可能であることは有利である。
【0048】 本発明は好適な実施形態を参照して記載されてきたが、当業者は本発明の意図
および範囲を逸脱することなく形式および詳細を変更され得ることを認識し得る
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、生成状態のシステムを示す本発明の好適な実施形態の外側正面立面図
である。
【図2】 図2は、本発明の好適な実施形態の右側の外側正面立面図である。
【図3】 図3は、本発明の好適な実施形態の左側の外側正面立面図である。
【図4】 図4は、生成状態のシステムを示すプロトタイプ包絡面の正面立面図である。
【図5】 図5は、本発明の好適な実施形態のコントロールシステムの電気ブロック図で
ある。
【図6】 図6は、生成位置におけるモデル化押出ヘッドを示すプロトタイプ包絡面の部
分分解斜視図である。
【図6A】 図6Aは、真空圧盤溝を示す図5の一部の詳細図である。
【図6B】 図6Bは、リニアモータの空気ベアリングを示す図5の一部の詳細図である。
【図7】 図7は、図2および3に示されるフィラメントスピンドルおよびフィラメント
スプールの分解図である。
【図7A】 図7Aは、EEPROM基板の外表面の透視図である。
【図8】 図8は、組立式に示される部分のモデル化押出ヘッドの正面図である。
【図9】 図9は、液化器の分解図である。
【図10A】 図10Aは、液化器の別の実施形態を示す。
【図10B】 図10Bは、液化器の別の実施形態を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ネルソン, バーナード シー. アメリカ合衆国 ミネソタ 55431, ブ ルーミントン, ベアード アベニュー サウス 8918 (72)発明者 ドッケン, ケビン ディー. アメリカ合衆国 ミネソタ 55318, エ デン プレイリー, キンボール ドライ ブ 8298 Fターム(参考) 4F213 WA25 WA97 WB01 WL02 WL27 WL74 WL85 WL95

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多層状に固化可能材料を堆積することによって三次元の物理
    的物体を形成するためのラピッドプロトタイプシステムであって、該システムは
    、 移動可能な押出ヘッドであって、該移動可能な押出ヘッドは、所定の温度で固
    化する材料のフィラメントを受容するための入口、および溶融状態の該材料を送
    達するための出口を有する、移動可能な押出ヘッドと、 フィラメントのコイルを有するスプールであって、該スプールは、該スプール
    上のフィラメントのタイプおよび量に関するデータを維持するための関連する回
    路を有する、スプールと、 フィラメントを該スプールから引き出し、該フィラメントを液化器に供給する
    ためのフィラメントドライブと、 該フィラメントドライブによって該スプールから引き出されたフィラメントの
    関数として該フィラメント上のフィラメント量に関するデータを更新するための
    更新手段と、 を包含する、ラピッドプロトタイプシステム。
  2. 【請求項2】 前記押出ヘッドおよび前記フィラメントドライブの動作を制
    御するための制御手段をさらに含む、請求項1に記載のラピッドプロトタイプシ
    ステム。
  3. 【請求項3】 前記制御手段が、前記スプール上のフィラメントの量が所定
    の最小値に達した場合、前記フィラメントドライブおよび前記押出ヘッドの動作
    を抑制する手段を含む、請求項2に記載のラピッドプロトタイプシステム。
  4. 【請求項4】 前記制御手段が、前記スプール上のフィラメントのタイプが
    物体仕様データによって認識される材料のタイプに一致しない場合、オペレータ
    に通知を提供するための手段を含む、請求項2に記載のラピッドプロトタイプシ
    ステム。
  5. 【請求項5】 前記制御手段が、前記フィラメントスプールが所望の物体を
    生成するプロセス中に置換を必要とする場合、オペレータに通知を提供するため
    の手段を含む、請求項2に記載のラピッドプロトタイプシステム。
  6. 【請求項6】 所定の温度で固化する材料のフィラメントを受容するための
    入口および溶融状態の該材料を送達するための出口を有する押出ヘッドを備えた
    タイプのラピッドプロトタイプシステムを使用するための材料キャリアであって
    、該材料キャリアは、 該フィラメントが巻かれるスプールと、 該スプールによって保有される回路であって、該回路が該スプール上のフィラ
    メントのタイプおよび量に関するデータを維持し、フィラメントが該スプールか
    ら引き出されるにつれて該スプール上のフィラメントの量に関するデータを更新
    する、回路と、 該回路と該ラピッドプロトタイプシステムとの間の電気的接触を提供するため
    のコンタクトと、 を包含する、材料キャリア。
  7. 【請求項7】 所定の温度で固化する材料のフィラメントを受容するための
    入口および溶融状態の該材料を送達するための出口を有する押出ヘッドを備えた
    タイプのラピッドプロトタイプシステムを使用するためのフィラメントスプール
    であって、該フィラメントスプールは、 フィラメントが巻かれる得るセンターバレルと、 スピンドルを受容するための該センターバレル内のスリーブと、 該スリーブ内に搭載される回路基板であって、該回路基板は、該スプール上の
    フィラメントのタイプおよび量に関するデータを維持するための電子的に読み出
    しおよび書き込み可能なデバイス、および該システムに接続される1組の接合コ
    ネクタピンを受容するための1組の電気コンタクトとを保有する、回路基板と、
    を包含する、フィラメントスプール。
  8. 【請求項8】 前記スリーブがその両端にフランジを有し、一方の該フラン
    ジが前記バレルから該スリーブを引き出すのを可能にするように除去可能な、請
    求項7に記載のフィラメントスプール。
  9. 【請求項9】 前記回路基板が固定されたフランジに隣接し、前記バレルに
    対して垂直に搭載される、請求項8に記載のフィラメントスプール。
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