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- 125000004432 carbon atoms Chemical group C* 0.000 description 43
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 26
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 15
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 0 C=C(CC(C1)*=I)C2=C1C=CCC2 Chemical compound C=C(CC(C1)*=I)C2=C1C=CCC2 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatoms Chemical group 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing Effects 0.000 description 3
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexanol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N Benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N Chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N Diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N Diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N Methyl salicylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1O OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N iso-propanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N methylene dichloride Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N n-butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 150000002829 nitrogen Chemical group 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N oxygen atom Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-Ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- GMDYDZMQHRTHJA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-ol Chemical compound CC(C)C(O)C1=CC=CC=C1 GMDYDZMQHRTHJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-Methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKMZBGMEVYDZSR-UHFFFAOYSA-M 4-butoxy-2,3-dihydroxy-4-oxobutanoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(O)C(O)C([O-])=O NKMZBGMEVYDZSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SAOKZLXYCUGLFA-UHFFFAOYSA-N Bis(2-ethylhexyl) adipate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCCCC(=O)OCC(CC)CCCC SAOKZLXYCUGLFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTLHYXBCVIBUFC-UHFFFAOYSA-N CC(CCN1C2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)C1=O Chemical compound CC(CCN1C2CC(C)(C)NC(C)(C)C2)C1=O UTLHYXBCVIBUFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N Cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N Ethyl lactate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N Isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940113115 POLYETHYLENE GLYCOL 200 Drugs 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006356 alkylene carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atoms Chemical group 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- -1 cyclic amine Chemical class 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (Z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- XGRMVENQJLQMLT-UHFFFAOYSA-N dimethyl 2-ethylpropanedioate Chemical compound COC(=O)C(CC)C(=O)OC XGRMVENQJLQMLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- PMAFWTNVAFHRKT-UHFFFAOYSA-N ethanol;2-methoxyethanol Chemical compound CCO.COCCO PMAFWTNVAFHRKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229960001047 methyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229940017144 n-butyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- KIWATKANDHUUOB-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(C)OC(=O)C(C)O KIWATKANDHUUOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 (a)化学線に暴露したときにカチオンを開放する化合物であって、(1)下記式
【化1】
(式中、AはI、S、Se、PおよびNからなる群より選ばれる元素であり、
R 1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環もしくは複素環アリール基であり、
R 2 はR 1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
nは1〜v+1の範囲の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の範囲の整数であり、n+m=v+1である)のカチオン部分を有する少なくとも1種のオニウム塩、または、
下記式
【化2】
(式中、R 3 は1〜20個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルキル基、3〜20個の炭素原子を含むシクロアルキル基、または、アリール基である)の1種以上のオキソイソチオクロマニウム塩を含み、
(2)下記式
【化3】
(式中、aは0〜3の整数であり、
bは1〜4の整数であり、但し、a+b=4であり、
Xは、ハロゲン原子であってaは0〜3であるか、または、−OH基であってaは0〜2であり、
R 4 は同一であってもまたは異なっていてもよく、そして
少なくとも1個の電子求引性基により置換されたフェニル基であるか、または、少なくとも2個の芳香環を含むアリール基である)のアニオン部分を有する、
化合物、および、
(b)アミン安定剤であって、(1)下記式(VIII)
【化4】
(式中、R 9 、R 10 およびR 11 は同一でありおよび/または異なり、そして
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)の第二級または第三級アミン、
(2)下記式(IX)
【化5】
(式中、R 12 は、
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む、未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれ、
R’およびR”は、同一であるか又は異なり、そして未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
Uは遊離価であるかまたはメチレン基でありそしてuは1〜9であり、環を形成し、
少なくとも1個の酸素、硫黄または窒素ヘテロ原子を含むか、または、
少なくとも1個のヘテロ原子または1〜4個の原子を含む直鎖または枝分かれアルキル基によって置換されていてよい)の立体配置された環式アミン、
(3)化学結合によりまたは少なくとも1個の飽和または不飽和有機基により相互に結合された、一般式(VIII)および(IX)を有する基からなるアミンであって、前記少なくとも1個の飽和または不飽和有機基は、少なくとも1個の2価または3価のR 13 基を有し、このR 13 基は、
2〜18個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれのアルキレン基、
アルキレン部分が2〜20個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよい、アルキレンカルボニル基、
アルキレン部分が2〜12個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよく、かつ、シクロヘキシレン部分がOH基を含む、アルキレンシクロヘキシレン基、
−R 14 −O−R 14 −、−O−CO−R 14 −または−R 14 −COO−R 14 −を有する基であり、R 14 基は、同一であってもまたは異なっていてもよく、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
−R 15 −O−R 16 −O−CO−R 15 −を有する基であり、R 15 およびR 16 は同一であってもまたは異なっていてもよく、2〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
下記式
【化6】
の3価の基であり、mは2〜20の数である基、および、
下記式
【化7】
の3価の基であり、pは2〜20の数である基、
からなる群より選ばれる、アミン、
からなる群より選ばれたアミン安定剤、
を含む組成物。
【請求項2】 R1 が窒素または硫黄ヘテロ原子をさらに含む、請求項1記載の組成物。
【請求項3】 R1 またはR2 は1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基またはメルカプト基により置換されたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項4】 成分(a)は、
【化8】
(式中、φはフェニル基である)からなる群より選ばれたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項5】 前記アミンは窒素に対してα−位に1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を含む、立体配置されたアミンである、請求項1記載の組成物。
【請求項6】 前記立体配置されたアミンは少なくとも1個のピペリジノ基を含むアミンである、請求項5記載の組成物。
【請求項7】 前記アミンは、
【化9】
からなる群より選ばれたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項8】 希釈剤をさらに含む、請求項1記載の組成物。
【請求項9】 前記希釈剤は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、塩素化された化合物およびニトリルからなる群より選ばれたものである、請求項8記載の組成物。
【請求項10】 前記希釈剤は、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコール、メチルイソブチルカルビノール、ジアセトンアルコール、2−エチルヘキサノール、パラ−トリルエタノール、イソプロピルベンジルアルコール、ベンジルアルコール、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール200、ジブチルマレエート、ジメチルエチルマロネート、メチルサリチレート、ジオクチルアジペート、ブチルタートレート、エチルラクテート、n−ブチルラクテート、イソプロピルラクテート、アセトニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびクロロベンゼンからなる群より選ばれたものである、請求項9記載の組成物。
【請求項11】 前記希釈剤はジアセトンアルコールを含む、請求項10記載の組成物。
【請求項12】 前記希釈剤は、下記式
【化10】
(式中、R5 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基、または、
1〜15個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアルコキシ基であり、
R6 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、または、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基である)のヒドロキシル化カルボン酸エステルである、請求項8記載の組成物。
【請求項13】 下記式
【化11】
の混合物から本質的になる組成物。
【請求項14】 (1)重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物または組成物を提供すること、
(2)請求項1記載の組成物を含む開始剤組成物の架橋または重合に有効な量を、前記化合物または組成物に添加すること、
(3)得られた組成物を化学線に暴露して、それにより、開始剤組成物に1以上のカチオンを生じさせること、および、
(4)前記重合可能であるかまたは架橋可能である基をカチオン重合または架橋させること、
の工程を含む、化合物または組成物を重合させまたは架橋させるための方法。
【請求項15】 前記重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物は、カチオン手段により架橋できる官能基を有するポリオルガノシロキサン、および、ポリオルガノシロキサンでなくかつ1個以上のエポキシ基を含むエチレン系不飽和化合物または組成物からなる群より選ばれる、請求項14記載の方法。
【請求項16】 前記化学線は紫外線を含む、請求項15記載の方法。
【請求項1】 (a)化学線に暴露したときにカチオンを開放する化合物であって、(1)下記式
【化1】
(式中、AはI、S、Se、PおよびNからなる群より選ばれる元素であり、
R 1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環もしくは複素環アリール基であり、
R 2 はR 1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
nは1〜v+1の範囲の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の範囲の整数であり、n+m=v+1である)のカチオン部分を有する少なくとも1種のオニウム塩、または、
下記式
【化2】
(式中、R 3 は1〜20個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルキル基、3〜20個の炭素原子を含むシクロアルキル基、または、アリール基である)の1種以上のオキソイソチオクロマニウム塩を含み、
(2)下記式
【化3】
(式中、aは0〜3の整数であり、
bは1〜4の整数であり、但し、a+b=4であり、
Xは、ハロゲン原子であってaは0〜3であるか、または、−OH基であってaは0〜2であり、
R 4 は同一であってもまたは異なっていてもよく、そして
少なくとも1個の電子求引性基により置換されたフェニル基であるか、または、少なくとも2個の芳香環を含むアリール基である)のアニオン部分を有する、
化合物、および、
(b)アミン安定剤であって、(1)下記式(VIII)
【化4】
(式中、R 9 、R 10 およびR 11 は同一でありおよび/または異なり、そして
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)の第二級または第三級アミン、
(2)下記式(IX)
【化5】
(式中、R 12 は、
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む、未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれ、
R’およびR”は、同一であるか又は異なり、そして未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
Uは遊離価であるかまたはメチレン基でありそしてuは1〜9であり、環を形成し、
少なくとも1個の酸素、硫黄または窒素ヘテロ原子を含むか、または、
少なくとも1個のヘテロ原子または1〜4個の原子を含む直鎖または枝分かれアルキル基によって置換されていてよい)の立体配置された環式アミン、
(3)化学結合によりまたは少なくとも1個の飽和または不飽和有機基により相互に結合された、一般式(VIII)および(IX)を有する基からなるアミンであって、前記少なくとも1個の飽和または不飽和有機基は、少なくとも1個の2価または3価のR 13 基を有し、このR 13 基は、
2〜18個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれのアルキレン基、
アルキレン部分が2〜20個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよい、アルキレンカルボニル基、
アルキレン部分が2〜12個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよく、かつ、シクロヘキシレン部分がOH基を含む、アルキレンシクロヘキシレン基、
−R 14 −O−R 14 −、−O−CO−R 14 −または−R 14 −COO−R 14 −を有する基であり、R 14 基は、同一であってもまたは異なっていてもよく、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
−R 15 −O−R 16 −O−CO−R 15 −を有する基であり、R 15 およびR 16 は同一であってもまたは異なっていてもよく、2〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
下記式
【化6】
の3価の基であり、mは2〜20の数である基、および、
下記式
【化7】
の3価の基であり、pは2〜20の数である基、
からなる群より選ばれる、アミン、
からなる群より選ばれたアミン安定剤、
を含む組成物。
【請求項2】 R1 が窒素または硫黄ヘテロ原子をさらに含む、請求項1記載の組成物。
【請求項3】 R1 またはR2 は1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基またはメルカプト基により置換されたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項4】 成分(a)は、
【化8】
(式中、φはフェニル基である)からなる群より選ばれたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項5】 前記アミンは窒素に対してα−位に1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を含む、立体配置されたアミンである、請求項1記載の組成物。
【請求項6】 前記立体配置されたアミンは少なくとも1個のピペリジノ基を含むアミンである、請求項5記載の組成物。
【請求項7】 前記アミンは、
【化9】
からなる群より選ばれたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項8】 希釈剤をさらに含む、請求項1記載の組成物。
【請求項9】 前記希釈剤は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、塩素化された化合物およびニトリルからなる群より選ばれたものである、請求項8記載の組成物。
【請求項10】 前記希釈剤は、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコール、メチルイソブチルカルビノール、ジアセトンアルコール、2−エチルヘキサノール、パラ−トリルエタノール、イソプロピルベンジルアルコール、ベンジルアルコール、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール200、ジブチルマレエート、ジメチルエチルマロネート、メチルサリチレート、ジオクチルアジペート、ブチルタートレート、エチルラクテート、n−ブチルラクテート、イソプロピルラクテート、アセトニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびクロロベンゼンからなる群より選ばれたものである、請求項9記載の組成物。
【請求項11】 前記希釈剤はジアセトンアルコールを含む、請求項10記載の組成物。
【請求項12】 前記希釈剤は、下記式
【化10】
(式中、R5 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基、または、
1〜15個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアルコキシ基であり、
R6 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、または、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基である)のヒドロキシル化カルボン酸エステルである、請求項8記載の組成物。
【請求項13】 下記式
【化11】
の混合物から本質的になる組成物。
【請求項14】 (1)重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物または組成物を提供すること、
(2)請求項1記載の組成物を含む開始剤組成物の架橋または重合に有効な量を、前記化合物または組成物に添加すること、
(3)得られた組成物を化学線に暴露して、それにより、開始剤組成物に1以上のカチオンを生じさせること、および、
(4)前記重合可能であるかまたは架橋可能である基をカチオン重合または架橋させること、
の工程を含む、化合物または組成物を重合させまたは架橋させるための方法。
【請求項15】 前記重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物は、カチオン手段により架橋できる官能基を有するポリオルガノシロキサン、および、ポリオルガノシロキサンでなくかつ1個以上のエポキシ基を含むエチレン系不飽和化合物または組成物からなる群より選ばれる、請求項14記載の方法。
【請求項16】 前記化学線は紫外線を含む、請求項15記載の方法。
(式中、Aはグループ15〜17中の元素、例えば、I、S、Se、PおよびNであり、
R1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環または複素環式アリール基であり、それは好ましくはフェニル、トリルまたはトルイルであり、この複素環式基は少なくとも1個のヘテロ原子を含んでよく、それは好ましくは窒素および/または硫黄であり、
R2 はR1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
R1 およびR2 基は以下の1個以上の基:1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基および/またはメルカプト基により置換されていてよく、
nは1〜v+1の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の整数であり、n+mはv+1である)を有するオニウム塩、
R1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環または複素環式アリール基であり、それは好ましくはフェニル、トリルまたはトルイルであり、この複素環式基は少なくとも1個のヘテロ原子を含んでよく、それは好ましくは窒素および/または硫黄であり、
R2 はR1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
R1 およびR2 基は以下の1個以上の基:1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基および/またはメルカプト基により置換されていてよく、
nは1〜v+1の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の整数であり、n+mはv+1である)を有するオニウム塩、
(式中、R3 は1〜20個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルキル基、3〜20個の炭素原子を含むシクロアルキル基、または、アリール基である)を有するオキソイソチオクロマニウム塩。
(式中、aは0〜3の整数であり、
bは1〜4の整数であり、但しa+bは4であり、
Xは、
ハロゲン原子、好ましくは塩素またはフッ素原子であるか、または、
−OH基でaは0〜2であり、
R4 は同一であるかまたは異なり、そして、
少なくとも1個の電子求引性基、好ましくはCF3 、OCF3 、NO2 またはCNによって置換されているか、または、少なくとも2個のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子によって置換されているフェニル基であるか、または、
少なくとも2個の芳香環を含むアリール基、例えば、ジフェニルまたはナフチルであって、少なくとも1個の元素または電子求引性基、好ましくはCF3 、NO2 またはCN、または、ハロゲン原子、特にフッ素原子によって置換されていてよいアリール基である)を有する部分からなる群より選ばれることができる。
bは1〜4の整数であり、但しa+bは4であり、
Xは、
ハロゲン原子、好ましくは塩素またはフッ素原子であるか、または、
−OH基でaは0〜2であり、
R4 は同一であるかまたは異なり、そして、
少なくとも1個の電子求引性基、好ましくはCF3 、OCF3 、NO2 またはCNによって置換されているか、または、少なくとも2個のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子によって置換されているフェニル基であるか、または、
少なくとも2個の芳香環を含むアリール基、例えば、ジフェニルまたはナフチルであって、少なくとも1個の元素または電子求引性基、好ましくはCF3 、NO2 またはCN、または、ハロゲン原子、特にフッ素原子によって置換されていてよいアリール基である)を有する部分からなる群より選ばれることができる。
(式中、R9 、R10およびR11は同一および/または異なり、そして、
少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、直鎖もしくは枝分かれの1価のアルキル、アルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含み、そして少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)を有する第二級または第三級アミン、
(2)下記一般式(IX)
少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、直鎖もしくは枝分かれの1価のアルキル、アルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含み、そして少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)を有する第二級または第三級アミン、
(2)下記一般式(IX)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/003,397 | 1998-01-06 | ||
US09/003,397 US5973020A (en) | 1998-01-06 | 1998-01-06 | Photoinitiator composition including hindered amine stabilizer |
PCT/US1998/027359 WO1999035188A1 (en) | 1998-01-06 | 1998-12-23 | Photoinitiator composition including hindered amine stabilizer |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002500255A JP2002500255A (ja) | 2002-01-08 |
JP2002500255A5 true JP2002500255A5 (ja) | 2006-02-02 |
JP4426096B2 JP4426096B2 (ja) | 2010-03-03 |
Family
ID=21705673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000527583A Expired - Lifetime JP4426096B2 (ja) | 1998-01-06 | 1998-12-23 | ヒンダードアミン安定剤を含む光開始剤組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5973020A (ja) |
EP (2) | EP1045879A1 (ja) |
JP (1) | JP4426096B2 (ja) |
AU (1) | AU2010099A (ja) |
DK (1) | DK1754747T3 (ja) |
ES (1) | ES2537108T3 (ja) |
WO (1) | WO1999035188A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2752582B1 (fr) * | 1996-08-21 | 2003-06-13 | Rhone Poulenc Chimie | Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adherents |
FR2800380B1 (fr) * | 1999-10-29 | 2002-01-18 | Rhodia Chimie Sa | Amorceur de polymerisation et/ou reticulation de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables, compositions correspondantes et leurs utlisations |
US6242058B1 (en) | 2000-05-12 | 2001-06-05 | Dow Corning Corporation | Method for forming coatings from radiation curable compositions containing alkenyl ether functional polyisobutylenes |
US6703433B1 (en) | 2000-05-12 | 2004-03-09 | Dow Corning Corporation | Radiation curable compositions containing alkenyl ether functional polyisobutylenes |
FR2816951B1 (fr) * | 2000-11-21 | 2003-01-10 | Rhodia Chimie Sa | Compositions a base de silicones fonctionnalisees durcissables sous irradiation et revetements anti-adherents obtenus a partir de ces compositions |
WO2002046263A1 (de) * | 2000-12-08 | 2002-06-13 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Harzformulierung, verfahren zu ihrer härtung und ihre verwendung |
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JP4723263B2 (ja) * | 2005-03-14 | 2011-07-13 | 株式会社トクヤマ | 歯科用硬化性組成物 |
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CN101466804B (zh) | 2006-04-13 | 2012-02-22 | 西巴控股有限公司 | 硫鎓盐引发剂 |
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US8084522B2 (en) * | 2006-10-24 | 2011-12-27 | Basf Se | Thermally stable cationic photocurable compositions |
JP2008189776A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Fujifilm Corp | 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版 |
DE102007005508A1 (de) | 2007-02-03 | 2008-08-07 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten |
JP5147348B2 (ja) * | 2007-09-28 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物 |
WO2009047151A1 (en) | 2007-10-10 | 2009-04-16 | Basf Se | Sulphonium salt initiators |
JP4991648B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2012-08-01 | 積水化学工業株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子封止剤 |
US9034236B2 (en) * | 2009-12-17 | 2015-05-19 | Dsm Ip Assets B.V. | Substrate-based additive fabrication process |
EP2444450A1 (de) | 2010-10-19 | 2012-04-25 | Hinterwaldner Consulting & Partner (Gbr) | Zusammensetzungen zur Herstellung abhäsiver Beschichtungen |
CN114008163A (zh) * | 2019-07-05 | 2022-02-01 | 三井化学株式会社 | 有机el显示元件用密封剂及有机el显示装置 |
AT527021A1 (de) * | 2023-02-28 | 2024-09-15 | Univ Wien Tech | Photobasen |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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IT1209543B (it) * | 1984-05-21 | 1989-08-30 | Anic Spa | Stabilizzazione di polimeri organici. |
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-
1998
- 1998-01-06 US US09/003,397 patent/US5973020A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-23 WO PCT/US1998/027359 patent/WO1999035188A1/en not_active Application Discontinuation
- 1998-12-23 EP EP98964874A patent/EP1045879A1/en not_active Ceased
- 1998-12-23 EP EP06001360.4A patent/EP1754747B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-23 DK DK06001360.4T patent/DK1754747T3/en active
- 1998-12-23 ES ES06001360.4T patent/ES2537108T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-12-23 AU AU20100/99A patent/AU2010099A/en not_active Abandoned
- 1998-12-23 JP JP2000527583A patent/JP4426096B2/ja not_active Expired - Lifetime
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