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【特許請求の範囲】
【請求項1】 (a)化学線に暴露したときにカチオンを開放する化合物であって、(1)下記式
【化1】
Figure 2002500255
(式中、AはI、S、Se、PおよびNからなる群より選ばれる元素であり、
1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環もしくは複素環アリール基であり、
2 はR 1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
nは1〜v+1の範囲の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の範囲の整数であり、n+m=v+1である)のカチオン部分を有する少なくとも1種のオニウム塩、または、
下記式
【化2】
Figure 2002500255
(式中、R 3 は1〜20個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルキル基、3〜20個の炭素原子を含むシクロアルキル基、または、アリール基である)の1種以上のオキソイソチオクロマニウム塩を含み、
(2)下記式
【化3】
Figure 2002500255
(式中、aは0〜3の整数であり、
bは1〜4の整数であり、但し、a+b=4であり、
Xは、ハロゲン原子であってaは0〜3であるか、または、−OH基であってaは0〜2であり、
4 は同一であってもまたは異なっていてもよく、そして
少なくとも1個の電子求引性基により置換されたフェニル基であるか、または、少なくとも2個の芳香環を含むアリール基である)のアニオン部分を有する、
化合物、および、
(b)アミン安定剤であって、(1)下記式(VIII)
【化4】
Figure 2002500255
(式中、R 9 、R 10 およびR 11 は同一でありおよび/または異なり、そして
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)の第二級または第三級アミン、
(2)下記式(IX)
【化5】
Figure 2002500255
(式中、R 12 は、
未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
3〜9個の炭素原子を含む、未置換または置換された1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれ、
R’およびR”は、同一であるか又は異なり、そして未置換または置換された直鎖または枝分かれの1価のアルキルもしくはアルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル基(2〜12個の炭素原子を含む)、
Uは遊離価であるかまたはメチレン基でありそしてuは1〜9であり、環を形成し、
少なくとも1個の酸素、硫黄または窒素ヘテロ原子を含むか、または、
少なくとも1個のヘテロ原子または1〜4個の原子を含む直鎖または枝分かれアルキル基によって置換されていてよい)の立体配置された環式アミン、
(3)化学結合によりまたは少なくとも1個の飽和または不飽和有機基により相互に結合された、一般式(VIII)および(IX)を有する基からなるアミンであって、前記少なくとも1個の飽和または不飽和有機基は、少なくとも1個の2価または3価のR 13 基を有し、このR 13 基は、
2〜18個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれのアルキレン基、
アルキレン部分が2〜20個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよい、アルキレンカルボニル基、
アルキレン部分が2〜12個の炭素原子を含み、直鎖であってもまたは枝分かれであってもよく、かつ、シクロヘキシレン部分がOH基を含む、アルキレンシクロヘキシレン基、
−R 14 −O−R 14 −、−O−CO−R 14 −または−R 14 −COO−R 14 −を有する基であり、R 14 基は、同一であってもまたは異なっていてもよく、1〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
−R 15 −O−R 16 −O−CO−R 15 −を有する基であり、R 15 およびR 16 は同一であってもまたは異なっていてもよく、2〜12個の炭素原子を有するアルキレン基である基、
下記式
【化6】
Figure 2002500255
の3価の基であり、mは2〜20の数である基、および、
下記式
【化7】
Figure 2002500255
の3価の基であり、pは2〜20の数である基、
からなる群より選ばれる、アミン、
からなる群より選ばれたアミン安定剤、
を含む組成物。
【請求項2】 R1 が窒素または硫黄ヘテロ原子をさらに含む、請求項記載の組成物。
【請求項3】 R1 またはR2 は1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基またはメルカプト基により置換されたものである、請求項記載の組成物。
【請求項4】 成分(a)は、
【化8】
Figure 2002500255
(式中、φはフェニル基である)からなる群より選ばれたものである、請求項1記載の組成物。
【請求項5】 前記アミンは窒素に対してα−位に1〜4個の炭素原子を含むアルキル基を含む、立体配置されたアミンである、請求項記載の組成物。
【請求項6】 前記立体配置されたアミンは少なくとも1個のピペリジノ基を含むアミンである、請求項記載の組成物。
【請求項7】 前記アミンは、
【化9】
Figure 2002500255
からなる群より選ばれたものである、請求項記載の組成物。
【請求項8】 希釈剤をさらに含む、請求項1記載の組成物。
【請求項9】 前記希釈剤は、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、塩素化された化合物およびニトリルからなる群より選ばれたものである、請求項記載の組成物。
【請求項10】 前記希釈剤は、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコール、メチルイソブチルカルビノール、ジアセトンアルコール、2−エチルヘキサノール、パラ−トリルエタノール、イソプロピルベンジルアルコール、ベンジルアルコール、メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール200、ジブチルマレエート、ジメチルエチルマロネート、メチルサリチレート、ジオクチルアジペート、ブチルタートレート、エチルラクテート、n−ブチルラクテート、イソプロピルラクテート、アセトニトリル、ベンゾニトリル、アセトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジクロロメタンおよびクロロベンゼンからなる群より選ばれたものである、請求項記載の組成物。
【請求項11】 前記希釈剤はジアセトンアルコールを含む、請求項10記載の組成物。
【請求項12】 前記希釈剤は、下記式
【化10】
Figure 2002500255
(式中、R5 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基、または、
1〜15個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアルコキシ基であり、
6 は、
1〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換の直鎖または枝分かれアルキル基、
4〜10個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のシクロアルキル基、
5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基、または、
アリール部分が5〜12個の炭素原子を有する、置換されているかまたは未置換のアリール基であり、かつ、アルキル部分が1〜4個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ基である、アラルキルまたはアロキシアルキル基である)のヒドロキシル化カルボン酸エステルである、請求項記載の組成物。
【請求項13】 下記式
【化11】
Figure 2002500255
の混合物から本質的になる組成物。
【請求項14】 (1)重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物または組成物を提供すること、
(2)請求項1記載の組成物を含む開始剤組成物の架橋または重合に有効な量を、前記化合物または組成物に添加すること、
(3)得られた組成物を化学線に暴露して、それにより、開始剤組成物に1以上のカチオンを生じさせること、および、
(4)前記重合可能であるかまたは架橋可能である基をカチオン重合または架橋させること、
の工程を含む、化合物または組成物を重合させまたは架橋させるための方法。
【請求項15】 前記重合可能であるかまたは架橋可能である基を有する化合物は、カチオン手段により架橋できる官能基を有するポリオルガノシロキサン、および、ポリオルガノシロキサンでなくかつ1個以上のエポキシ基を含むエチレン系不飽和化合物または組成物からなる群より選ばれる、請求項14記載の方法。
【請求項16】 前記化学線は紫外線を含む、請求項15記載の方法。
(式中、Aはグループ15〜17中の元素、例えば、I、S、Se、PおよびNであり、
1 は6〜20個の炭素原子を有する炭素同素環または複素環式アリール基であり、それは好ましくはフェニル、トリルまたはトルイルであり、この複素環式基は少なくとも1個のヘテロ原子を含んでよく、それは好ましくは窒素および/または硫黄であり、
2 はR1 、1〜30個の炭素原子を含むアルキル基または2〜30個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルケニル基であり、
1 およびR2 基は以下の1個以上の基:1〜25個の炭素原子を含むアルコキシ基、1〜25個の炭素原子を含むアルキル基、ニトロ基、クロロ基、ブロモ基、シアノ基、カルボキシル基および/またはメルカプト基により置換されていてよく、
nは1〜v+1の整数であり、vは元素Aの価数であり、そして、
mは0〜v−1の整数であり、n+mはv+1である)を有するオニウム塩、
(式中、R3 は1〜20個の炭素原子を含む直鎖もしくは枝分かれアルキル基、〜20個の炭素原子を含むシクロアルキル基、または、アリール基である)を有するオキソイソチオクロマニウム塩。
(式中、aは0〜の整数であり、
bは〜4の整数であり、但しa+bは4であり、
Xは、
ハロゲン原子、好ましくは塩素またはフッ素原子であるか、または、
−OH基でaは0〜2であり、
4 は同一であるかまたは異なり、そして、
少なくとも1個の電子求引性基、好ましくはCF3 、OCF3 、NO2 またはCNによって置換されているか、または、少なくとも2個のハロゲン原子、好ましくはフッ素原子によって置換されているフェニル基であるか、または、
少なくとも2個の芳香環を含むアリール基、例えば、ジフェニルまたはナフチルであって、少なくとも1個の元素または電子求引性基、好ましくはCF3 、NO2 またはCN、または、ハロゲン原子、特にフッ素原子によって置換されていてよいアリール基である)を有する部分からなる群より選ばれることができる。
(式中、R9 、R10およびR11は同一および/または異なり、そして、
少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、直鎖もしくは枝分かれの1価のアルキル、アルコキシ(1〜12個の炭素原子を含む)またはアルケニル(2〜12個の炭素原子を含む)
3〜9個の炭素原子を含み、そして少なくとも1個のヘテロ原子、好ましくは酸素、硫黄または窒素原子を含んでよくおよび/またはそれによって置換されていてよい(例えば、エポキシ、ケトンまたはヒドロキシル基のような反応性官能基を形成する)、1価のシクロアルキル基、および、
水素基、
からなる群より選ばれる)を有する第二級または第三級アミン、
(2)下記一般式(IX)
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2752582B1 (fr) * 1996-08-21 2003-06-13 Rhone Poulenc Chimie Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adherents
FR2800380B1 (fr) * 1999-10-29 2002-01-18 Rhodia Chimie Sa Amorceur de polymerisation et/ou reticulation de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables, compositions correspondantes et leurs utlisations
US6242058B1 (en) 2000-05-12 2001-06-05 Dow Corning Corporation Method for forming coatings from radiation curable compositions containing alkenyl ether functional polyisobutylenes
US6703433B1 (en) 2000-05-12 2004-03-09 Dow Corning Corporation Radiation curable compositions containing alkenyl ether functional polyisobutylenes
FR2816951B1 (fr) * 2000-11-21 2003-01-10 Rhodia Chimie Sa Compositions a base de silicones fonctionnalisees durcissables sous irradiation et revetements anti-adherents obtenus a partir de ces compositions
WO2002046263A1 (de) * 2000-12-08 2002-06-13 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Harzformulierung, verfahren zu ihrer härtung und ihre verwendung
US6761974B1 (en) 2001-05-04 2004-07-13 Seagate Technology Llc Polymeric lubricants with improved stability and thin film recording media comprising same
JP2003287970A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Minolta Co Ltd ベルト式定着装置
JP3896119B2 (ja) * 2003-01-09 2007-03-22 積水化学工業株式会社 表示素子用光硬化性樹脂組成物及び表示素子
DE10341137A1 (de) * 2003-09-06 2005-03-31 Goldschmidt Ag Verwendung von hydroxyfunktionellen Polyalkylorganosiloxanen als Lösungsmittel für kationische Photoinitiatoren für die Verwendung in strahlenhärtbaren Siliconen
DE10359764A1 (de) * 2003-12-19 2005-07-14 Goldschmidt Ag Polysiloxane mit über SiOC-Gruppen gebundenen (Meth)acrylsäureestergruppen, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung als strahlenhärtbare abhäsive Beschichtung
JP2006213810A (ja) * 2005-02-03 2006-08-17 Shin Etsu Chem Co Ltd 粘着剤用シリコーン組成物及び該組成物から得られる粘着テープ
JP4723263B2 (ja) * 2005-03-14 2011-07-13 株式会社トクヤマ 歯科用硬化性組成物
DE102006008387A1 (de) * 2006-02-21 2007-08-30 Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Herstellung von siloxanhaltigen Trennbeschichtungen
US7696260B2 (en) * 2006-03-30 2010-04-13 Dsm Ip Assets B.V. Cationic compositions and methods of making and using the same
CN101466804B (zh) 2006-04-13 2012-02-22 西巴控股有限公司 硫鎓盐引发剂
DE102006027339A1 (de) * 2006-06-13 2007-12-20 Goldschmidt Gmbh Kationisch strahlenhärtende Controlled Release Beschichtungsmassen
US8084522B2 (en) * 2006-10-24 2011-12-27 Basf Se Thermally stable cationic photocurable compositions
JP2008189776A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
DE102007005508A1 (de) 2007-02-03 2008-08-07 Evonik Goldschmidt Gmbh Verfahren zur Reduktion des Trennwert-Anstiegs bei der Herstellung von No-Label-Look-Etiketten
JP5147348B2 (ja) * 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
WO2009047151A1 (en) 2007-10-10 2009-04-16 Basf Se Sulphonium salt initiators
JP4991648B2 (ja) * 2008-06-30 2012-08-01 積水化学工業株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子封止剤
US9034236B2 (en) * 2009-12-17 2015-05-19 Dsm Ip Assets B.V. Substrate-based additive fabrication process
EP2444450A1 (de) 2010-10-19 2012-04-25 Hinterwaldner Consulting & Partner (Gbr) Zusammensetzungen zur Herstellung abhäsiver Beschichtungen
CN114008163A (zh) * 2019-07-05 2022-02-01 三井化学株式会社 有机el显示元件用密封剂及有机el显示装置
AT527021A1 (de) * 2023-02-28 2024-09-15 Univ Wien Tech Photobasen

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4069056A (en) * 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
US4069054A (en) * 1975-09-02 1978-01-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable composition containing a sensitized aromatic sulfonium compound and a cationacally polymerizable monomer
US4450360A (en) * 1982-03-12 1984-05-22 General Electric Company Alkylaryliodonium salts and method for making
US4640967A (en) * 1982-05-06 1987-02-03 General Electric Company Ultraviolet radiation-curable silicone release compositions with epoxy and/or acrylic functionality
US4576999A (en) * 1982-05-06 1986-03-18 General Electric Company Ultraviolet radiation-curable silicone release compositions with epoxy and/or acrylic functionality
IT1209543B (it) * 1984-05-21 1989-08-30 Anic Spa Stabilizzazione di polimeri organici.
US4751138A (en) * 1986-08-11 1988-06-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Coated abrasive having radiation curable binder
IT1197491B (it) * 1986-10-08 1988-11-30 Enichem Sintesi Stabilizzanti u.v. silitati contenenti ammine impedite terziarie
US5068153A (en) * 1988-06-27 1991-11-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Multi-component coating composition comprising an anhydride containing polymer, a glycidyl component and a phosphonium catalyst
US4988607A (en) * 1989-05-30 1991-01-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company High speed photopolymerizable element with initiator in a topcoat
DE4139369A1 (de) * 1991-11-29 1993-06-03 Berthold Lab Prof Dr Proportionalzaehlrohr, insbesondere vielfachzaehlrohr zur messung radioaktiver strahlung
US5494943A (en) * 1993-06-16 1996-02-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Stabilized cationically-curable compositions
FR2724660B1 (fr) * 1994-09-16 1997-01-31 Rhone Poulenc Chimie Amorceurs de reticulation, par voie cationique, de polymeres a groupements organofonctionnels, compositions a base de polyorganosiloxanes reticulables et contenant ces amorceurs et application desdites compositions en antiadherence
US5554664A (en) * 1995-03-06 1996-09-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-activatable salts with fluorocarbon anions
US5703137A (en) * 1996-03-14 1997-12-30 Rhone-Poulenc Chimie Initiators for the cationic crosslinking of polymers containing organofunctional groups
FR2757529B1 (fr) * 1996-12-24 1999-03-05 Rhodia Chimie Sa Compositions stables a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adherents
FR2762001B1 (fr) * 1997-04-11 1999-07-02 Rhodia Chimie Sa Amorceurs non toxiques, resines a groupements organofonctionnels reticulables comprenant les amorceurs, et leur utilisation pour la preparation de polymeres stables et non toxiques
JPH10316708A (ja) * 1997-05-22 1998-12-02 Showa Denko Kk 光硬化性組成物及び色戻り防止方法

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