JP2002355704A - 切削工具インサート - Google Patents
切削工具インサートInfo
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Abstract
した超硬合金の切削工具インサートを提供する。 【解決手段】 本発明の基材と少なくとも1層のTiB
2被膜とからなる切削工具インサートは、TiB2層が
繊維状微細組織であり、TiB2層の粒径が、5〜50
nm好ましくは10〜30nmの直径であり、長さと直
径との比率l/dが>2好ましくは>5であって250
nm以上好ましくは400nm以上の長さとであり、且
つ基材の表面に対して実質的に垂直に配向する。
Description
械加工用の切削工具に関し、切削工具は超硬合金、サー
メット、セラミックまたは高速度鋼からなり、且つ硬質
で耐磨耗性の耐熱被膜を備える。好ましい態様に従っ
て、この被膜は、1層または複数層の耐熱性化合物から
なり、この耐熱性化合物の少なくとも1層は、低圧縮応
力硼化物層であり、すなわち、化学蒸着法(PVD)に
よって蒸着したTiB2またはZrB 2好ましくはTi
B2である。TiB2及び、存在するならばこの層の残
部は、Ti、Nb、Hf、V、Ta、Mo、ZR、C
r、W及びAlから選択された金属元素を有する金属の
窒化物及び/または炭化物及び/または酸化物である。
は、このような層によって通常生じる非常に大きな圧縮
応力のために、今までは厳しく限定されていた。最近
に、新しい超硬質薄層を蒸着するために、PVD工程を
改良することに非常に努力がなされてきた。すなわち、
この超硬質薄層は、特に、切削工具の摩耗特性のための
炭化ボロン(B4C)、2硼化チタン(TiB2)、及
び立方晶窒化ボロン(c−BN)である。これらの層材
料は、工具工業界では非常に人目を引くものであるが、
それらはまだ商業化されていない。
に耐化学性すなわち耐薬品性は、結晶組織と原子結合の
ためである。TiB2においては、Ti原子は金属六方
晶構造を形成する。六方晶細密の通常表記ABABAB
からの類推において、TiB 2中のTiの積層順番はA
AAとなる。ボロン(B)原子は、強く共有結合する六
方晶のネットを形成するA層の間に侵入型として位置す
る。この順番は、AHAHAHとして記載され、ここで
Hはボロン層である。金属Ti、及び強く共有結合する
Bの組合せは、熱的及び電気的に高い伝導率、並びに高
降伏強度と耐化学性とを備えた化合物を生じる。
着され、この技術は、反応スパッタのような、蒸着であ
り、最も一般的にはマグネトロンスパッタである。しか
しながら、TiB2層のバルク材は非常に関心のある特
性であるにもかかわらず、これらの層は商業的関心が一
般的に少ない。これらの層の応力レベルは、非常に高
く、実用的な付着力を制限する。それによって、この層
は厚くなる。さらに、大きな固有応力が加わった層はあ
まりにも脆いので、粘着欠陥のため容易に破壊する。
た超硬合金の切削工具インサートを開示する。これらの
被膜は、高耐磨耗性の外側層を含む2層の重なった層か
ら成り立っていて、この外側層は、アルミニウム酸化物
及び/またはジルコニウム酸化物から実質的に構成され
る。この内側層は、チタン、ジルコニウム、ハフニウ
ム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデ
ン及びタングステンの元素の硼化物からなる群から選択
された少なくとも1種の硼化物から成り立っている。
合金基材からなる被覆した超硬合金の切削工具インサー
トを開示し、この基材の表面領域は、ボロン、珪素また
はアルミニウムのような元素が基材内部へと拡散する。
さらに、このインサートは拡散した基材上に蒸着された
層を含み、この層は、硼化チタン、硼化ハフニウム、硼
化ジルコニウムまたは硼化タンタルのような硼化物であ
る。別の実施態様において、さらに被覆超硬合金製品
は、拡散基材と硼化物層の間に内側サンドイッチ層を含
む。
2層を蒸着する。しかしながら、CVD工程の際の高温
度により、望ましくない硼化コバルト相が形成される。
このため、WC−Coベース基材上へのTiB2のPV
D蒸着が望ましい。
urf. Coat. Technol., 124(2000)253〜261においては、
−220V〜−50Vで変化するマイナス基材バイアス
を用いるマグネトロンスパッタでもってTiB2層を成
長させるが、この残留応力は非常に高くなった(すなわ
ち、−10.2GPa〜−7.9GPaである)。ま
た、0Vを用いたそのバリアントが成長し、−6.1G
Paの非常に高い圧縮残留応力を生じた。この研究で
は、プラスバイアスを使用して層を成長させなかった。
r, Surf. Coat. Technol., 41(1990)351〜363において
は、マイナス基材バイアスを用いてマグネトロンスパッ
タでTiB2及びTi−B−N−C化合物層を成長させ
た。TiB2層は高圧縮算慮御応力であった(〜−4G
Pa)。
ineering, 144(1998)299〜304においては、マグネトロ
ンスパッタを用いてTiB2層を成長させた。マイナス
基材バイアスが使用され、〜−2GPaの固有圧縮応力
が生じた。硬さは低かった(25〜29GPa)。
能性は、硼化物層を例えば高圧力で成長させることであ
り、または別の条件のイオンボンバートを減少させるこ
とである。しかしながら、これは柱状組織を備えた層で
あり、ほとんど密度が不足する粒界と、カリフラワ状の
表面形態を伴う。この組織は、TiB2層層の典型的な
適用が、例えば軟質で粘着質のアルミニウムの機械加工
であり、これは積層切れ刃(build-up edge)を形成す
る傾向を減少するために非常に滑らかな表面を必要とす
るので、切削工具の被膜を必要とする。当然、緻密でな
い粒界は被膜の耐磨耗性に関して有害である。
被膜した超硬合金の切削工具インサートを提供すること
を目的とする。
力であるTiB2層を蒸着する方法を提供することであ
る。この低い応力のTiB2層は、緻密で繊維状の微細
組織と、滑らかな頂上面とを備える。
と、繊維状微細組織を有する少なくとも1層のTiB2
を含む被膜とからなる切削工具インサートを提供し、繊
維状微細組織の(円柱状の)粒は、平均が約15nmで
あり、5〜50nmの直径と、長さと直径の比率l/d
が>2であって250nm以上の長さとであり、且つ繊
維状粒が基材の表面に対して実質的に垂直に配向する。
と、物理蒸着法(PVD)のマグネトロンスパッタによ
る繊維状微細組織を有する少なくとも1層のTiB2層
を含む被膜とからなる切削工具インサートの製造方法を
提供し、この方法はバイアス電圧Vsを利用し、Vs>
0Vからなる。
次の説明において、残留応力σtotは、実際の基材上
における被膜の総応力を表す。すなわち、残留応力σ
totは、熱応力σthermalの合計であり、そし
て熱応力σthermalは、基材と被膜材との間の熱
膨張係数の相違に基づく。また。固有応力σintは、
実際の成長過程から発生し、すなわち、σ tot=σ
thermal+σintである。
B2層(4μm)の横断面における顕微鏡写真を示す。
図2は、対応する厚い層(60μm)の組織写真であ
る。図3は、使用されたマグネトロンスッパタリング装
置を模式的に示す。図4は、走査型電子顕微鏡(TE
M)の組織写真で示す薄い層(4μm)である。
置、M=マグネトロンスパッタ源、Vs=基材電位(バ
イアス)、Is=基材電流、Vt=ターゲット電位、及
びI t=ターゲット電流である。
うな非鉄金属材料の切屑を除去して切削加工するための
切削工具が提供される。切削工具は、硬くて耐磨耗性の
耐熱被膜が蒸着された超硬合金、サーメット、セラミッ
ク、または高速度鋼の硬質合金のボディを含む。耐磨耗
性被膜は、耐熱化合物の1層または複数層からなり、こ
の化合物の少なくとも1層好ましくは最外層がTiB2
化合物であり、そして存在するならば、基材とTiB2
層の間の最内層が、Ti、Nb、Hf、V、Ta、M
o、Zr、Cr、W及びAlから選択された金属を有す
る金属の窒化物及び/または炭化物及び/または酸化物
である。TiB2層は、以下に記載する緻密で微細な粒
の繊維状形態を有し、割れの存在しない緻密な結晶質T
iB2である。
ーメット、セラミックまたは高速度鋼の切削工具基材に
直接蒸着することができる。TiB2単一層(または複
数層)の厚みは、金属を機械加工するため0.5〜60
μm好ましくは1〜15μmの間で変化する。本発明の
TiB2層の被膜厚みは、0.1〜15μmの間で変化
する非TiB2単一層(または複数層)厚みとともに、
0.5〜60μm好ましくは1〜20μmの間で変化す
る。さらに、Ti、Nb、Hf、V、Ta、Mo、Z
r、Cr、W及びAlから選択された金属を有する金属
の窒化物及び/または炭化物及び/または酸化物の金属
層は、TiB2層の最上部に蒸着することができる。
は、維持すべき機械的性質と基材に対する付着力とを備
えた50μm以上の厚みの層を蒸着するために使用する
ことができ、行程能力により、50μm以上の厚みの層
は固有応力の無い層が成長する。
的な付着力を備えるこの層(0.2〜3μm)を蒸着す
ることができる。
最外層であり、50nm以下の平均表面粗さRaを有す
る。
特に述べる。典型的なPVD層は柱状形態を有し、すな
わち、ある粒は他の粒のため直径を増加する傾向を有す
る。しかしながら、本発明にしたがうTiB2層は、
0.2〜60μmの層厚みはほとんど影響を受けずにこ
の繊維状形態を維持するように成長する。大きな粒界の
付着強度を達成する場合は、ほぼこの形態が好ましい。
このことは、おそらく、付着摩耗の方向の小さな粒径
と、機械加工操作によって生じる付加圧縮応力の方向の
大きな粒径とによって、強靭な被膜材料が与えられる。
図1は、比較的薄い層(4μm)の破壊横断面を示し、
図2は厚い層(60μm)を示す。この形態は膜の厚み
によってほとんど影響されないことの明確な立証であ
る。図4は、薄層(4μm)のTEM顕微鏡写真を示
し、第1の微細粒の核生成領域のあとに、約100nm
の繊維状の形態が発達する。円柱状のこの粒は、一般的
に5〜50nm好ましくは10〜30nmの直径と、平
均で〜15nmの直径、及び250nm以上好ましくは
400nm以上の長さを有し。繊維状の粒は、長さと直
径との比率l/dが>2好ましくは>5を有し、dはこ
の粒の主長さを超えてわずかに変化する。この繊維は基
材の表面に実質的に垂直に配向する。
iB2は、(001)方向に強く集合組織化し、集合組
織係数TCは次のように定義される。すなわち、 TC(hkl)=(I(hkl)/Io(hkl))((1/n)Σ1 n(I(hkl)/Io(hk
l)))−1 I(hkl):(hkl)反射方向の測定強度 Io(hkl):ASTM標準粉末パターン回折資料の標準強度(J
CPDS35-0741) N:計算に用いた反射の数(この場合は8) 用いた反射(hkl):(001)、(100)、(101)、(110)、((10
2)+(111))、(201)、(112)及び((103)+(210))、 用いた反射において、例えば、((103)+(210))は、これ
らの非常に近い二つの反射が、二つの反射の合計強度を
有する一つの反射として処理することを意味する。本発
明にしたがい、(001)結晶面の組に対するTCは、
5より大きく好ましくは6.5より大きい。
た場合、本発明にしたがうTiB2層は、0GPより小
さく−1GPより大きく、好ましくは−0.5GPaで
ある残留応力状態σtotを示す。これは固有応力状態
σintがゼロ近いこと相当する。熱応力σ
thermalは、次の式を用いて計算することができ
る。
である。αf及びαs ubは、それぞれ層と基材との熱
伝導係数である。Tdep及びTanaは、Kで示すそ
れぞれ蒸着と解析との温度である。(001)集合組織
のため、ほとんどの粒が、方向が基材面に平行になるよ
うに配向するので、TiB2の格子のa方向における熱
膨張によって熱応力を見積もることが重要である。上式
において、αsub=4.8×10−6、σ
TiB2,a=3.56×10−6、Ef=600GP
a、Vf=0.22、Tdep=773K,及びT
ana=273Kを用いることによって、σ
thermal=−0.5GPaが求まる。
を使用して測定する。
きる。
ラスバイアスで蒸着した被膜の固有応力σintは、し
たがって次のとおりである。
Pa、すなわち、これらの被膜は応力の無い状態で成長
する。
有するTiB2層が、次の条件でTiB2ターゲットの
マグネトロンスパッタによって蒸着される。
ar以下 バイアス電圧Vs:0以上、このましくは+5V以上で
+60V以下 基材電流Isは、陽極のVsのため極性を変化する。こ
れは、成長する層表面の活性の低いイオンボーバンド及
びエレクトロンに相当する。
た層は、柱状組織を備える。「柱状組織」は、初期核生
成後、粒が直径が大きくなった円錐形状のものと(基材
表面に平行に)、直径の小さくなった別の粒とを有する
層形態を示す。この成長様式は、ある粒が別の粒から成
長するところの異なる粒の競合によって制御される。
蒸着した層は、繊維状の形態からなる。Ti、B及び少
量の不純物Ar以外の元素はこの層に含まれなくて、プ
ラズマ電位はプラス電位を付加されたとき高くなるとは
いえ、チャンバーの壁からのスパッタが生じなかったこ
とを示す。
いが、本発明にしたがう低応力レベルの層は、次の3つ
の理論の組合せのためと考察する。すなわち、第1は、
バルク温度と吸着原子の可動性、第2は、成長する際の
活性なイオンボンバードの最小化、及び第3は面可動性
を強め核生成速度を増加させた表面のエレクトロン本バ
ードである。また、電子粒(electron current)は、吸着
された水素及び/または水分子の表面からの蒸発速度を
増加させるであろう。これらのことすべてが、マイナス
基材バイアスで成長させた層と比較して残留応力を徹底
的に減少させることになる。
力状態は、ほとんど固有応力ない状態にし、すなわち、
測定された僅かな圧縮応力状態は、基材と層との熱伝導
係数の相違のみによって生じる。
た、本方法は、ZrB2層または他の硼化物のように、
高圧縮応力が課題となる別の耐磨耗性材料の蒸着に適用
できることは明らかである。
cm2)を有するdcマグネトロンスパッタ源を装備す
る薄膜蒸着用の商業的に入手可能な蒸着装置で蒸着され
た。
有し、且つ鏡面上に磨かれた超硬合金基材を使用した。
WC粒径は約1μmであり、その硬さは1650HV
10であった。
浴中及びアルコール中で洗浄された。基材はマグネトロ
ン上方5cmに静止配置され、エレクトロンビームによ
って50分間約450℃まで抵抗加熱された。加熱後、
直ちに、この基材は、−200Vの基材バイアスで30
分間アルゴンイオンエッチング(イオン電流密度5.4
mA/cm2)された。その後、次の7種の異なるバイ
アスボルトVsすなわち−200V、−110V、+1
0V、+25V、+35V及び+50Vの電圧でTiB
2蒸着がなされた。約500Vのターゲット電位となる
6kWのマグネトロン出力と、3×10−3mbarの
Arとが、全ての層の蒸着の際に維持された。プラスに
バイアスされて得られた層の厚みは、〜4μmであっ
た。マイナスにバイアスされた層は、この層の大きな残
留応力による層の破壊を回避するために、幾分薄く作ら
れた(〜3μm)。基材温度は基材の穴に装着した熱伝
対で測定した。
かかわらず、+1.2Aであった。マイナスからプラス
のVsに変化するとき、基材電流はプラスからマイナス
に符号が変化した。また、この電流は、+25Vまで増
加するプラスVsとともに増加することが分かり、さら
にVsの増加に対して約13Aのレベル達する。
プラスのVsを用いることは、用いるマイナスVsより
高く約200℃まで増加する。しかしながら、種々のプ
ラスまたはマイナスのVsは、Tdepに著しく影響し
ない。
−TiB2相を表すことを示し、このhcp−TiB2
相は6.5以上と定義される集合組織係数を有する強い
(001)集合組織を有し、すなわち、他の検出された
回折ピークはなかった。(001)ピークのFWHM値
は、プラスにバイアスされた層がマイナスVsで形成さ
れたそれらより鋭いピークを有することが示された。V
sのプラス範囲内でFWHMに関して何の影響も見られ
なく、一方マイナスVsに対してFWHMは電圧ととも
に増加した。
蒸着した層に関しては柱状組織を示した。−110Vに
対してよりも−200Vに対してはさらに著しかった。
プラスのVsに対しては、柱状の成長は観察されなかっ
た。しかしながら、高倍率においては、繊維状形態が図
1に示すプラスにバイアスした層において観察された。
EDS分析は、全ての層がBにおいて僅かに化学的量論
をオーバしていた。Ti/Bの比は、Vsには依存せず
全ての層に対して典型的には0.46であった。マイナ
スVsで成長した層は、Vs=−200Vで8at%の
Arを含有していた。一方プラスVsを使用した場合、
Arは検出されなかった。Ti、BおよびAr以外の元
素はいずれの層にも観察されなかった。
影響することなく、低圧縮残留応力状態を有する層は、
σtot≒−0.5GPaが得られた。この応力状態は
ほぼ熱応力状態に相当する。一方マイナスVsを使用す
ることによって、−7〜−10GPaの範囲の残留応力
を備える層が得られる。
〜600GPaを示した(ナノ刻み技法で測定)。
Vs=−200Vで成長させたものを除いて、付着摩耗
速度は、全ての層に対して約25〜30μm3/mmN
であった。
対して良好であり、全ての場合、諸気相の破壊は、粘着
タイプであった。プラスバイアスで蒸着した層において
は、臨界荷重FN、Cに著しい相違はなかった。これら
は全てが42〜46Nの範囲にあった。マイナスVsで
蒸着した層は、約25〜30Nの低いFN、Cを示し、
また、プラスVsで蒸着した層より、スクラッチのリム
でより多くの粘性破壊が示された。しかし、スクラッチ
試験は、本発明にしたがう被膜が、マイナスのバイアス
を用いて成長させた被膜と比較して非常に強化された靭
性特性を備えた。
た干渉計方法で測定した。当然、被膜のRaは、薄い被
膜のために基材の表面粗さに影響され、この例において
は、基材のRaは〜5nmであり、すなわち、蒸着後の
Raの増加(〜5nmから〜20nm)は極めて僅かで
あった。基材バイアスVsが表1に見られるようにマイ
ナスからプラスに変化した場合、表面粗さは減少するこ
とが明白である。しかしながら、異なるプラスバイアス
で成長させた種々の被膜の間では著しい相違は見つけら
れなかった。
ドミルタイプのMM16−20020−B120PF−
M04(WC−6wt%Co)であり、実施例1に従っ
て、+50VのバイアスVsを用いて30μmの層厚み
のTiB2を被覆した。被覆フライスカッタは、被覆を
していないバリアントの同一工具に対して、4000〜
6000rpm、送り700mm/分で、グラファイト
の倣いフライス加工において試験をした。
験をした。TiNの被膜を、それぞれ-110V及び+
50VのVsを用いて蒸着した二つの異なるTiB2を
被覆したバリアントと比較した。また、被覆しなかった
バリアントも試験をした。この切れ刃と石(edge hone)
は鋭かった。炭化物は、6.0wt%Co、0.5wt
%TaC/NbC、残部WCの組成であった。インサー
トの被膜は、3.0〜4.0μmの厚みを有するTiN
及びTiB2からなる。
8 切削速度: 800m/分 送り: 0.2mm/回転 切り込み深さ: 6.0〜10.0mm 備考: 乾式フライス加工 表3. バリアント 積層切れ刃の第1の 積層切れ刃 フランク摩耗 形成までの時間(h) の程度 最大Vb(mm) 被膜なし 2.3 大きい 0.18 TiN 1.1 大きい 0.11 TiB2 3.8 小さい 0.05 (Vs=-110V) TiB2 6.2 なし 測定できず (Vs=+50V) 実施例4 実施例3と同一の工程を用いたが、積層切れ刃の形成を
促進するためにさらに遅い切削速度を採用した。
8 切削速度: 650m/分 送り: 0.2mm/回転 切り込み深さ: 6.0〜10.0mm 備考: 乾式フライス加工 表4. バリアント 積層切れ刃の第1の 積層切れ刃 フランク摩耗 形成までの時間(h) の程度 最大Vb(mm) 被膜なし 0.5 非常に大きい 0.21 TiN 直ちに 非常に大きい 0.18 TiB2 4.0 大きい 0.08 (Vs=-110V) TiB2 6.5 小さい 測定できず (Vs=+50V)
耐熱層の横断面における顕微鏡写真である。
耐熱層の横断面における顕微鏡写真である。
ロンスパッタの模式図である。
耐熱層の走査型電子顕微鏡の組織写真である。
Claims (7)
- 【請求項1】 基材と、繊維状微細組織を有する少なく
とも1層のTiB2層を含む被膜と、を含む切削工具イ
ンサートであって、 円柱状の粒は、5〜50nmの直径と、長さと直径との
比率l/dが>2であって250nm以上の長さとを有
し、且つ繊維状の粒が、基材の表面に対して垂直に配向
する、ことを特徴とする切削工具インサート。 - 【請求項2】 前記少なくとも1層のTiB2層は、
(001)方向に優先成長方位を有し、 集合組織係数TC(hkl)が>5であり、前記集合組
織係数TC(hkl)が次式で、 TC(hkl)=(I(hkl)/Io(hkl))((1/n)Σ1 n(I(hkl)/Io(hk
l)))−1 I(hkl):(hkl)反射方向の測定強度 Io(hkl):ASTM標準粉末パターン回折資料の標準強度(J
CPDS35-0741) N:計算に用いた反射の数 用いた反射(hkl):(001)、(100)、(101)、(110)、((10
2)+(111))、(201)、(112)及び((103)+(210)) で示されることを特徴とする請求項1記載の切削工具イ
ンサート。 - 【請求項3】 TiB2層は固有応力状態σintを示
し、σintがゼロに近く+0.5Gpa〜−1.0Gp
aの間にあることを特徴とする請求項1記載の切削工具
インサート。 - 【請求項4】 TiB2層は、最外層であり且つ50n
m以下の平均表面粗さRaを有する請求項1記載の切削
工具インサート。 - 【請求項5】 前記環状の粒が、10〜30nmの直径
と、長さと直径との比率l/dが>5であって400n
m以上の長さと、を有することを特徴とする請求項1記
載の切削工具インサート。 - 【請求項6】 基材と、物理蒸着法のマグネトロンスパ
ッタによる繊維状微細組織を有する少なくとも1層のT
iB2層を含む被膜と、を含む切削工具インサートの製
造方法であって、 前記方法はバイアス電圧Vsを用い、Vsが>0Vであ
ること特徴とする切削工具インサートの製造方法。 - 【請求項7】 前記バイアス電圧が、+50V〜+60
Vであることを特徴とする請求項6記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE0101111A SE522722C2 (sv) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | Skärverktyg belagt med titandiborid |
SE0101111-3 | 2001-03-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002355704A true JP2002355704A (ja) | 2002-12-10 |
JP4184691B2 JP4184691B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=20283582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002092667A Expired - Fee Related JP4184691B2 (ja) | 2001-03-28 | 2002-03-28 | 切削工具インサート |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6770358B2 (ja) |
EP (1) | EP1245693B1 (ja) |
JP (1) | JP4184691B2 (ja) |
AT (1) | ATE486153T1 (ja) |
DE (1) | DE60238092D1 (ja) |
SE (1) | SE522722C2 (ja) |
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- 2002-03-26 DE DE60238092T patent/DE60238092D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-26 EP EP02445042A patent/EP1245693B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-03-26 AT AT02445042T patent/ATE486153T1/de active
- 2002-03-27 US US10/106,116 patent/US6770358B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-03-28 JP JP2002092667A patent/JP4184691B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPWO2012105003A1 (ja) * | 2011-02-01 | 2014-07-03 | オーエスジー株式会社 | 硬質積層被膜 |
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JP6991226B2 (ja) | 2017-01-31 | 2022-01-12 | セラティチット オーストリア ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 被覆工具 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6770358B2 (en) | 2004-08-03 |
JP4184691B2 (ja) | 2008-11-19 |
US6939445B2 (en) | 2005-09-06 |
SE0101111L (sv) | 2002-09-29 |
US20030039867A1 (en) | 2003-02-27 |
SE0101111D0 (sv) | 2001-03-28 |
DE60238092D1 (de) | 2010-12-09 |
EP1245693B1 (en) | 2010-10-27 |
US20040214033A1 (en) | 2004-10-28 |
SE522722C2 (sv) | 2004-03-02 |
EP1245693A1 (en) | 2002-10-02 |
ATE486153T1 (de) | 2010-11-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071120 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080220 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080519 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080805 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080904 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110912 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120912 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130912 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |