JP2002353293A - ウェーハマッピング装置 - Google Patents

ウェーハマッピング装置

Info

Publication number
JP2002353293A
JP2002353293A JP2001158458A JP2001158458A JP2002353293A JP 2002353293 A JP2002353293 A JP 2002353293A JP 2001158458 A JP2001158458 A JP 2001158458A JP 2001158458 A JP2001158458 A JP 2001158458A JP 2002353293 A JP2002353293 A JP 2002353293A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mapping
wafer
fulcrum
door
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001158458A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002353293A5 (ja
JP3953751B2 (ja
Inventor
Hiroshi Igarashi
宏 五十嵐
Tsutomu Okabe
勉 岡部
Toshihiko Miyajima
俊彦 宮嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2001158458A priority Critical patent/JP3953751B2/ja
Priority to TW92134917A priority patent/TWI226099B/zh
Priority to TW91134333A priority patent/TWI256100B/zh
Publication of JP2002353293A publication Critical patent/JP2002353293A/ja
Publication of JP2002353293A5 publication Critical patent/JP2002353293A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3953751B2 publication Critical patent/JP3953751B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】透過式センサを展開収納するための装置をウェ
ーハに近接して配置する必要がなく、透過式センサの展
開収納動作時に透過式センサを展開収納するために装置
から発生する塵がウェーハを汚染することを防ぐことが
できるウェーハマツピング装置を提供すること。 【解決手段】 ドア6が開口10を塞いでいる際には透
過センサ9が固定されたマッピングフレーム5が開口1
0から離れるように待避しており、ドア6が蓋4を保持
して蓋4を分離した後にマッピングフレーム駆動用シリ
ンダ35が動作してマッピングフレーム5が支点41中
心に回動することで透過センサ9がポッド2内に挿入さ
れ、可動部56が移動することにより透過式センサ9が
半導体ウェーハ1を横切るウェーハマッピング装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体、電子部
品関連製品、光ディスク等の製造プロセスで半導体ウェ
ーハを保管するクリーンボックスにおいて、その内部に
設けられた各棚上のウェーハの有無を検出するウェーハ
マッピング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】高清浄度を必要とする半導体デバイス等
に用いられるウェーハの製造工程では工場全体をクリー
ンルーム化せずに各処理装置に高清浄度に保ったミニエ
ンバイロンメント(微小環境)空間を確保する手段がと
られている。具体的には工場全体の清浄度を上げずに製
造工程内における各処理装置(クリーン装置)内および
その間の移動中における保管用容器(以下、ポッドと呼
ぶ)内のみを高清浄度に保つことで、工場全体をクリー
ンルーム化した場合と同じ効果を得て設備投資や維持費
を削減して効率的な生産工程を実現するものである。
【0003】上記工程では、ウェーハはポッド内部に設
けられたウェーハを格納する複数の段を有する棚におい
て一のウェーハに一の段が割り当てられる状態で格納さ
れた状態でポッドと共に各処理装置を移動する。しか
し、各処理工程において、ウェーハがその処理後に所定
の規格を満足しない場合があり、そのウェーハはポッド
から除去される。従って、製造開始当初ウェーハが満た
されていたウェーハ格納棚は、各処理工程を経る毎にウ
ェーハの欠落を生じる。
【0004】この技術分野において処理装置はロボット
による自動化がほぼ実現されているので、前記のような
ウェーハの欠落が生じている場合には、その欠落が検出
されずに存在しないウェーハを搬送するべくウエア搬送
ロボットが動作するとすればそのプロセスが無駄とな
る。更にその無駄なプロセスの積重ねで生産量は低下す
る。そこで、ポッド内のどの格納棚にウェーハが格納さ
れているかをそれぞれの処理装置において検出すること
(以下、マッピングと呼ぶ)が必要となる。以下、この
マッピングにつき、図7乃至図9を用いて説明する。
【0005】図1は半導体ウェーハ処理装置50の全体
を示している。半導体ウェーハ処理装置50は、主にロ
ードポート部51とミニエンバイロンメント52とから
構成され、それぞれ仕切り55とカバー58により区画
されている。ロードポート部51上には、半導体ウェー
ハ(以下、ウェーハと呼ぶ)の保管用容器たるポッド2
が台53上に据え付けられる。ミニエンバイロンメント
52の内部はウェーハ1を処理する為に高清浄度に保た
れている。ミニエンバイロンメント52内にはロボット
アーム54が設けられていて、ウェーハ1の搬送を行
う。また、ポッド2は被処理物たる半導体ウェーハ1を
内部に収めるための空間を有し、いずれか一面に開口部
を有する箱状の本体部と、該開口部を密閉するための蓋
4とを備えている。本体部2aの内部にはウェーハ1を
重ねる為の複数の段を有する棚が配置されていてウェー
ハ1同士が一定の間隔をもつように格段に載置されてい
る。
【0006】ロードポート部51側のミニエンバイロン
メント52にはミニエンバイロンメント開口部10が設
けられている。開口部10は、ポッド2がミニエンバイ
ロンメント開口部10に近接するようにロードポート部
51上で配置された際にポッド2の開口部と対向するよ
うにミニエンバイロンメント52に配置されている。ミ
ニエンバイロンメント52には内側のミニエンバイロン
メント開口部10付近にはオープナ3が設けられてい
る。
【0007】図7は従来の装置におけるオープナ3部分
を拡大した図である。オ−プナ3はドア6とドアアーム
42とを備えている。ドア6には穴を有する固定部材4
6が取り付けられていて、この穴にドアアーム42の一
端に設けられた棒が回動可能な状態で貫通することで固
定されている。ドアアーム42の他端にも穴があいてい
て、エアー駆動式のシリンダ31の一部であるロッド3
7の先端にある穴とが共に枢軸40により結合されてい
ることで回転可能に支持されている。ドアアーム42の
該一端と該他端との間には貫通穴が設けられていて、こ
の穴とオープナ3を昇降させる可動部56の支持部材6
0に固定される固定部材39の穴とを一のピンが貫通す
ることで支点41を構成している。従って、シリンダ3
1の駆動によるロッド37の伸縮でドアアーム42は支
点41を中心に回動可能である。ドアアーム42の支点
41は昇降が可能な可動部56に設けられる支持部材6
0に固定されている。ドア6は保持ポート11aおよび
11bを有していて、ポッド2の蓋4を真空吸着で保持
できる。
【0008】従って、ウェーハ1の処理を行う際には、
まずポッド2をミニエンバイロンメント開口部10に近
接するように台53上に配置して、ドア6により蓋4を
保持する。そしてシリンダ31のロッドを縮めるとドア
アーム42が支点41を中心にミニエンバイロンメント
開口部10から離れるように移動する。この動作により
ドア6は蓋4とともに回動して蓋4をポッド2から取り
外す。その後、可動部56を下降させて蓋4を所定の待
避位置まで搬送する。
【0009】マッピングでは検出器がウェーハ1が重ね
られている方向に沿ってスイープしながら各棚を少なく
とも1度スキャンしてウェーハ1のマッピングを行うこ
とが必要となる。ウェーハ1をマッピングするためのこ
のスイープ動作を行うためにはいろいろな方法が考えら
れる。たとえば、ロボットアーム54の一部に検出器を
設けてこのロボットアーム54によりマッピングをする
方法がとる方法がある。しかし、ロボットのアーム54
は本来ウェーハ1の搬送を行う為に用意している装置で
あって、ロボットアーム54がマッピングを行うとすれ
ばそのマッピングの際はロボットアーム54はウェーハ
1の搬送作業を行うことができないので、生産量が低下
する欠点がある。
【0010】また別の方法としては、ポッド2の蓋4の
開閉装置の一部に検出器を設けて蓋4の開封時にその検
出器でウェーハ1をマッピングする方法がある。図7は
この方法を採用した装置を示した図である。この装置で
は、ドア6の周囲を囲むように配置される枠部材から構
成されるマッピングフレーム5が設けられる。マッピン
グフレーム5の上部には一対の棒状体13aおよび13
bが設けられていて、この棒状体13aおよび13bの
それぞれの先端には透過式センサ9aおよび9bからな
る一対の透過式センサ9が取り付けられている。図8は
この装置のマッピングフレーム5を上側からみた図であ
る。この図に示すように、この棒状体13aおよび13
bはそれぞれ一端がマッピングフレーム5上の軸36a
およぶ36bまわりに回動可能に固定されていて、同じ
くマッピングフレーム5に配置されているシリンダ34
aおよび34bによって回転してマッピングフレーム5
からポッド2の内部に向かって突出するように展開可能
である。つまり、棒状体13aおよび13bは通常は1
3cおよび13dで示すようにマッピングフレーム5に
沿った状態で収納されていて、マッピングを行う際には
シリンダ34aおよびシリンダ34bにより9aおよび
9bのように展開した状態となる。棒状体13aおよび
13bはマッピングフレーム5から突出するように展開
した状態の時、透過式センサ9aおよび9bがウェーハ
1を間に挟むように対向するような位置関係で取り付け
られている。またマッピングフレーム5はドア6と共に
昇降するように可動部56に取り付けられている一方、
ドア6と別に昇降可能な様に別のシリンダ43のロッド
にも支えられている。
【0011】図9を参照して上記従来の装置を用いたマ
ッピングについて説明する。この装置でマッピングを実
施するには、ポッド2をミニエンバイロンメント開口部
10に近接するように台53上に配置して、ドア6によ
り蓋4を保持する。そしてシリンダ31のロッドを縮め
るとドアアーム42が支点41を中心にミニエンバイロ
ンメント開口部10から離れるように移動する。すると
ドア6が蓋4とともに回動して蓋4をポッド2から取り
外す。ここで、透過式センサ9aおよび9bが展開した
際にポッド2の内部に挿入可能となる地点までシリンダ
32のロッドを縮めてマッピングフレーム5を下降させ
る。所定の位置までマッピングフレームが下降した後に
シリンダ34aおよびシリンダ34bとを作動させて透
過式センサ9aおよび9bを展開させる。すると透過式
センサ9aおよび9bはポッド2の内部に挿入された状
態となる。この状態では図8に示すように、ウェーハ1
をウェーハ1の面に垂直な外方向から見た場合に透過式
センサ9aと透過式センサ9bとの間にウェーハ1が挟
まれているような位置関係となっている。ここで、可動
部56を下降させるとマッピングフレーム5がドア6と
共に下降し、ウェーハ1が重ねられている方向にそって
透過式センサ9aと9bとがスウィープしながら棚の各
段をスキャンしてウェーハ1の有無を確認することがで
きる。
【0012】なお、ドア6が蓋4を保持した状態で可動
部56により昇降すること無く、ドア6が蓋4を保持し
た状態で開口部10からリニアにすなわち水平方向直線
的にポッド2から蓋4を取り外すタイプの蓋開閉装置
(不図示)もある。このタイプの装置では、可動部56
の代わりに開口部10を備える壁面に対して垂直に延び
るように配置された2つのリニアモータを用いる。一の
リニアモータは支持部材60に取り付けられていて、他
のリニアモータはオープナ3のドア6の周囲にマッピン
グフレーム5に取り付けられている。このマッピングフ
レームには透過センサ9aおよび9bが取り付けられて
いる。まず、オープナ3はドア6が蓋4を保持した状態
でリニアモータに従ってドア6を開口部10から水平方
向に離れるように移動する。続いてドア6の動きと逆に
マッピングフレーム5が開口部10内に向かって水平に
移動するものである。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の方
法では、以下の問題があった。 (1)マッピングフレーム5に配置されている透過式セ
ンサ9aおよび9bはポッド2と干渉することを防ぐ為
に、シリンダ34aおよび34bによって回転してマッ
ピングフレーム5からポッド2の内部に向かって突出す
るように展開可能な構造としている。このようなエアシ
リンダを含め展開機構は一般に塵を発生させやすい。し
かし、この構造ではシリンダ34aとシリンダ34bが
ポッド2に近接する配置とせざるを得ず、シリンダ34
aとシリンダ34bからでる塵がウェーハ1に付着して
汚染の原因となる問題がある。
【0014】また、ドア6の開閉動作、ドア6の昇降動
作、マッピングフレーム5の昇降動作ではエアー駆動式
のシリンダが使用される。これは、ポッド2の蓋4には
ポッド内部の清浄度を保つためのシールが設けてある
が、このシールを適切に潰すのに必要な力を得る為であ
る。仮に蓋開閉駆動装置をモータとすれば、支点41か
らドア6までの距離にこのシールを適切に潰すのに必要
な力を乗じたモーメントに対応した大きな負荷が必要と
なり不利となる問題がある。従って、ドア6を回動させ
るための駆動装置とドア6を所定位置まで待避させるた
めの駆動装置をそれぞれ分けて、両者ともエアー駆動式
のシリンダとしている。しかし、マッピング動作におい
てはエアー駆動式のシリンダでは、透過式センサ9aお
よび9bがウェーハ1を横切った際に発生する信号と対
比するための、透過式センサ9aおよび9bが実際移動
した距離基準信号を発生させることができない問題があ
る。 (3)また、前記にようなリニアモータを備えオープナ
3がドア6と共に水平方向に開閉するタイプの開閉装置
ではリニアモータからの塵の発生を防止することができ
ない問題がある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明では、開口を有
し、縦方向に並んだ複数の段のそれぞれに半導体ウェー
ハが載置可能な棚を有する本体と該本体から分離可能で
あって該開口を塞ぐ蓋とを備えるポッドが半導体ウェー
ハ処理装置に固定された際に、該棚の各段の半導体ウェ
ーハの存否を検出するウェーハマッピング装置であっ
て、該蓋を保持可能なドアと、一端が該ドアにとりつけ
られ、第1の支点を中心にドア開閉用駆動装置により枢
動可能に支持されるドアアームとを備える蓋開閉ユニッ
トと、一対の透過式センサを有するマッピングフレーム
と、一端がマッピングフレームにとりつけられ、第2の
支点を中心にマッピングフレーム駆動装置により回転可
能に支持されるマッピングフレームアームとを備えるマ
ッピングフレームと、該ドア開閉用駆動装置と該マッピ
ングフレーム駆動装置と該第1の支点および該第2の支
点を支持する支点支持部とを備え、該半導体処理装置に
対してドア開閉用駆動装置と該マッピングフレーム駆動
装置と該支点支持部とを前記縦方向に移動可能な可動部
と、該ドアが該蓋を保持し前記ドア開閉用駆動装置の駆
動により該ドアアームが該支点中心に回動して該ポッド
から該蓋を分離した後に、前記マッピングフレーム駆動
装置の駆動により該マッピングフレームが該支点中心に
回動することで前記一対の透過式センサが該開口から該
ポッド内に挿入され、該可動部が移動することにより該
一対の透過式センサのそれぞれを結ぶ線が前記段に載置
された半導体ウェーハを横切ることを特徴とするウェー
ハマッピング装置により、蓋の搬送プロセス時に同時に
ウェーハのマッピングを行う。この装置により、透過式
センサを展開収納するための装置をウェーハに近接して
配置する必要がなく、透過式センサの展開収納動作時に
透過式センサを展開収納するために装置から発生する塵
がウェーハを汚染することを防ぐことができる。
【0016】本発明では、上記に加えてさらに、一定間
隔で配置した指標手段を有するセンサードグと、該指標
手段を挟むように配置される第2の透過式センサとを備
える該ウェーハマッピング装置を提案する。これによ
り、パルス信号等の電気信号を発生するモータ等を利用
する駆動装置を使用せずにエアー駆動式シリンダにより
開閉動作を行っても棚段の信号を得ることができる。
【0017】
【実施例】(実施例1)以下、実施例1について図面を
参照して説明する。図1は半導体ウェーハ処理装置50
の全体部分を示す。半導体ウェーハ処理装置50は、主
にロードポート部51とミニエンバイロンメント52と
から構成される。リードポート部51とミニエンバイロ
ンメント52とは仕切り55とカバー58により区画さ
れている。ミニエンバイロンメント52の内部はウェー
ハ1を処理するために高清浄度に保たれいる。またミニ
エンバイロンメント52の内部にはロボットアーム54
が設けられていて、ポッド2の蓋4が開放された後にポ
ッド2内部に収納されているウェーハ1を取り出して所
定の処理を行う。半導体ウェーハ処理装置50のミニエ
ンバイロンメント52では塵を排出して高清浄度を保つ
為、ミニエンバイロンメント52の上部に設けられたフ
ァン(不図示)によりミニエンバイロンメント52の上
部から下部に向かって空気流を発生させている。これで
塵は常に下側に向かって排出されることになる。
【0018】ロードポート部51上には、ポッド2を載
置するための台53が据え付けられていて、ロードポー
ト部51上をミニエンバイロンメント52に近づいたり
または離れたりすることができる。ポッド2は内部にウ
ェーハ1が収納される空間を有し一部に開口を備える本
体2aと、該開口を塞ぐ蓋4とを備えている。本体2a
の中には一定の方向に並んだ複数の段を有する棚が配置
されている。本実施例ではこの一定の方向は鉛直方向と
している。その棚の各段には一のウェーハが載置可能で
ある。
【0019】ミニエンバイロンメント52にはロードポ
ート部51側にポッド2の蓋4より若干大きいミニエン
バイロンメント開口部10が備えられている。ミニエン
バイロンメント52の内部であってミニエンバイロンメ
ント開口部10の側には、ポッド2の蓋4を開閉する為
のオープナ3が設けられている。ここで図2を参照して
オープナ3について説明する。 図2(a)は図1におけ
るロードポート部51,ポッド2,オープナ3および蓋
4部分を拡大した図であり、図2(b)は図2(a)を
ミニエンバイロンメント52内部側から見た図である。
【0020】オ−プナ3は、ドア6とマッピングフレー
ム5とを備えている。ドア3はミニエンバイロンメント
開口部10を塞げる大きさの板状体であって、その面に
は真空吸気孔である保持部11aおよび11bが備えら
れている。ドア3がミニエンバイロンメント開口部10
を塞いだ際にポッド2側に位置する面は蓋4と密着でき
るような平面となっている。ドア6には穴を有する固定
部材46が取りつけられている。この穴にドアアーム4
2の上端に設けられた枢軸45が回動可能に貫通するこ
とで固定されている。ドアアーム42の下端には穴があ
いていて、その穴とドア開閉用駆動装置たるエアー駆動
式のドア開閉用シリンダ31の一部であるロッド37の
先端にある穴とに枢軸40が貫通することにより結合さ
れ、回転可能に支持されている。
【0021】マッピングフレーム5はミニエンバイロン
メント開口部10に沿い、かつドア6を囲むように配置
された枠部材からなる構造体である。マッピングフレー
ム5は、その下側の枠部材において長く延びるマッピン
グフレームアーム12aおよびマッピングフレームアー
ム12bの上端に取り付けられている。マッピングフレ
ームアーム12aおよびマッピングフレームアーム12
bの下端には穴があいていて、その穴とマッピングフレ
ーム駆動装置たるエアー駆動式のマッピングフレーム駆
動用シリンダ35の一部であるロッド38の先端にある
穴とに枢軸44が貫通することにより結合され、回転可
能に支持されている。マッピングフレームアーム12a
およびマッピングフレームアーム12bは荷重を均等に
支える為に、マッピングフレーム5の中心軸に沿って対
称かつ平行に鉛直方向に向かって延在している。マッピ
ングフレームアーム12aおよびマッピングフレームア
ーム12bのそれぞれの上端と下端の間にはマッピング
フレームアーム12aおよびマッピングフレームアーム
12bのそれぞれに垂直なロッド47が取り付けられて
いる。支持部材60には支持部材60から垂直に延びた
形状の支点支持部たる固定部材39が配置されている。
固定部材39は支持部材60に平行な貫通穴を有してい
る。固定部材39の貫通穴にはベアリング(不図示)が
配置されていて、ベアリングの外輪が貫通穴の内壁に、
ベアリングの内輪がロッド47を枢支している。これに
より、ロッド47は固定部材39の貫通穴に内包された
状態で支点41を構成している。この支点41はマッピ
ングフレーム12aおよび12bの支点と、ドアアーム
の支点とを共通的に兼ねた同軸上の支点として構成され
る。すなわち、ドアアーム42の上端と下端との間には
別の貫通穴が設けられている。この貫通穴にロッド47
が貫通して支点41を構成している。シリンダ31の駆
動によるロッド37の伸縮でドアアーム42は支点41
を中心に回動可能である。ドアアーム42の支点41は
昇降が可能な可動部56に設けられる支持部材60に固
定されている。ドア6は保持ポート11aおよび11b
を有していて、ポッド2の蓋4を真空吸着で保持でき
る。ドアアーム42はミニエンバイロンメント開口部1
0にドア6を押し付けている際(以下、待機状態とよ
ぶ)にはほぼ鉛直方向になるように配置され、ドアアー
ム42を回転させることによりドア6がミニエンバイロ
ンメント52の壁面から離れる方向に移動する。マッピ
ングフレーム駆動用シリンダ35の駆動によるロッド3
8の伸縮でマッピングフレームアーム12は支点41を
中心に回動可能である。すわなち、マッピングフレーム
アーム12も昇降が可能な可動部56に設けられる支持
部材60に固定されている。マッピングフレーム5は、
ドア6が待機状態にある際には、ミニエンバイロンメン
ト52の壁面から斜めに離れるように配置されている。
すなわち、この状態ではマッピングフレームアーム12
aおよびマッピングフレームアーム12bとはドアアー
ム42に対してある角度を持つように斜めになった状態
で支持されていて、マッピングフレーム5の上部はミニ
エンバイロンメント52の壁面から一定の距離だけ離れ
ている。一方、この待機状態からマッピングフレーム5
がミニエンバイロンメント52の壁面に当接する方向に
マッピングフレームアーム12aおよびマッピングフレ
ームアーム12bとを回転させると、マッピングフレー
ム5はミニエンバイロンメント52の壁面にほぼ当接す
る。マッピングフレーム5の上部に配置されている枠部
材には、センサ支持棒13aとセンサ支持棒13bとが
ミニエンバイロンメント52の壁面側に向かって突出す
るように固定されている。センサ支持棒13aとセンサ
支持棒13bのそれぞれの先端には第1の透過式センサ
たる透過式センサ9aおよび9bとが互いに対向するよ
うに取り付けられている。
【0022】半導体ウェーハ処理装置50には、オープ
ナ3を昇降させるための可動部56が設けられている。
図3(a)は、オープナ3の可動部56をロードポート
部51側から見た図であり、図3(b)は図3(a)の
矢視Xを示した図である。可動部56は鉛直方向に昇降
を行う為のエアー駆動式のロッドレスシリンダ33と支
持部材60とを備え、ポッド2より空気流の下流となる
ようにポッド2の下面より下方に配置されている。支持
部材60には固定部材39とエアー駆動式のシリンダ3
1とシリンダ35とが取り付けられている。可動部56
はロードポート部51側に設けられていて、仕切り55
に設けられた長穴57からドアアーム42およびマッピ
ングフレームアーム12aおよびマッピングフレームア
ーム12bによりミニエンバイロンメント52側のオー
プナ3を支えている。長穴57は可動部56の移動方
向、すなわち本実施例の場合には鉛直方向を長手方向と
して設けられている。長穴57によりミニエンバイロン
メント52内の清浄度が低下しないように、ロードポー
ト部51とミニエンバイロンメント52とはカバー58
により仕切られている。さらに、オープナ3が下降した
ときのオーバランを防止するためのリミッタ59が仕切
り55の下方に設けられている。仕切り55にはロッド
レスシリンダ33とガイド61aとガイド61bとが長
穴57に沿って設けられている。可動部56はロッドレ
スシリンダ33によりガイド61aとガイド61bに沿
って昇降を行う。可動部56の横にはロッドレスシリン
ダ33に沿ってセンサードグ7が備えられている。
【0023】センサードグ7はロッドレスシリンダ33
に沿った方向に延びる板状体であって、その長手方向に
は一定間隔で配置した指標手段を有している。本実施例
では指標手段として一定間隔で配置された切り欠きであ
る凹凸部12を有している。その凹凸の数はポッド内の
ウェーハ配置用棚の段数と対応し、さらにその凹凸は可
動部がある任意の棚に差し掛かった際にかならず一の切
り欠きが対応するように配置されている。センサードグ
7側の可動部56には横の仕切り55上に第2の透過式
センサたる透過式センサ8が固定されている。透過式セ
ンサ8のセンサ部はセンサードグ7に設けられた一定の
間隔の切り欠きを備えた凹凸12を挟むように配置され
ていて、可動部56の移動に応じてこのセンサードグ7
の凹凸部12を検出できるようになっている。
【0024】可動部56の支持部材60には透過式セン
サ62が備え付けられていて,一方、長穴57の下側付
近の仕切り55にはリミッタ64が設けられている。突
出部62がリミッタ64を遮光すると可動部56に停止
信号が発出されオープナ3の全体の動作が停止するよう
になっている。
【0025】次に、これらの構成に基づいて、どのよう
にウェーハ1のマッピングを行うかについて図2および
図4乃至図6を用いて説明する。なお、図2は待機状
態、図4は蓋4を開閉してマッピングフレーム5が稼動
した状態、図5はウェーハ1のマッピングが完了した状
態、図6はウェーハ1のマッピング完了後にマッピング
フレーム5が待機状態に戻った状態をそれぞれ示した図
である。
【0026】前の処理工程を終えたポッド2内の棚には
前処理の処理規格を満たしたウェーハ1が収納されてい
る一方、規格を満たさなかったウェーハ1は前処理の段
階で工程から排除されている。ウェーハ1の棚の格段に
はウェーハ1が存在する段と、存在しない段とが混在し
ている。この状態のポッド2が図2に示すようにミニエ
ンバイロンメント52上の台53上に載置され、ミニエ
ンバイロンメント開口部10に近接するように移動す
る。この状態ではオープナ3は待機状態にある。すなわ
ち、ドア開閉用シリンダ31のロッド37が最も伸びた
状態であってドアアーム42は支点41を中心にドア6
をミニエンバイロンメント開口部10に押し付けて塞い
でいる状態にある。本実施例では、この状態ではアーム
42は鉛直方向に立った状態に有る。一方、マッピング
フレーム駆動用シリンダ35のロッド38は最も縮んだ
状態にあってマッピングフレームアーム12aおよび1
2bは支点41を中心にマッピングフレーム5をミニエ
ンバイロンメント52の壁面から引き離すように作用し
た状態に有る。すなわち、本実施例ではドアアーム42
に対してマッピングフレームアーム12aおよび12b
はある角度をもって斜めになった状態である。
【0027】図4はポッド2がミニエンバイロンメント
開口部10に近接してドア6が蓋4を保持した状態を示
している。ミニエンバイロンメント開口部10に近接す
るとポッド2の蓋4はドア6に密着し真空吸引により保
持部11aおよび11bからポッド2の蓋4を保持おこ
なう。ドア6が蓋4を保持すると、ドア開閉用シリンダ
31が働いてロッド37を縮める。するとドアアーム4
2の端部に設けられた枢軸40を支持ベース60側に引
き寄せて、ドアアーム42は支点41によって梃の原理
に従ってミニエンバイロンメント開口部10からドア6
を引き離すように回動してポッド2から蓋4を開放す
る。蓋4が開放された後、マッピングフレームアーム1
2が回動したと仮定したときにマッピングフレーム5の
上端がミニエンバイロンメント開口部10の位置に入る
位置まで可動部56がわずかに下降する。この下降が終
了後、マッピングフレームアーム12が実際に回動を開
始する。すなわち、マッピングフレーム駆動用シリンダ
35のロッド38が伸びてマッピングフレーム5がミニ
エンバイロンメント開口部10の周囲にほぼ当接するま
でマッピングフレームアーム12が回動する。すると、
マッピングフレーム5の上側に取り付けられている透過
式センサ9がミニエンバイロンメント開口部10から外
に出てポッド2内に挿入される。この時点で、透過式セ
ンサ9aおよび透過式センサ9bは図8に示すような従
来例の透過式センサ9と同じように、透過式センサ9a
と透過式センサ9bとを結ぶ直線上にウェーハ1が位置
し検出空間を構成する。
【0028】この状態で可動部56が鉛直方向に移動す
るとマッピングが実行される。しなわち、オープナ3は
ロッドレスシリンダ33により、図5に示した位置まで
下降する。透過式センサ9aと9bは可動部56および
オープナ3と共にウェーハ1の面に対して垂直方向に下
降するので、ウェーハ1が棚の段に存在するときには透
過式センサ9aから発せられた光を遮り、一方ウェーハ
1が棚の段から欠落しているときには、透過式センサ9
aの光は遮られない。透過式センサ9bがウェーハ1に
より遮られたときに非透過信号を発し透過式センサ9b
がウェーハ1により遮られないときに透過信号を発する
ようにしておけば、非透過信号が検知されているときに
はウェーハ1が存在すると判断でき、透過信号が検知さ
れているときはウェーハ1が欠落していると判断でき
る。さらに、以下に説明するようにこれにウェーハ1の
位置の信号をも加味して総合判断をおこなう。
【0029】透過式センサ8のセンサ部はセンサードグ
7に設けられた一定の間隔の切り欠きを備えた凹凸12
を挟むように配置されているので、可動部56が下降す
る際に透過式センサ8も共に下降してセンサードグ7の
凹凸12を検出する。このとき、透過式センサ8が凹部
を通過するときには透過式センサ8は遮光されずに透過
信号を発し、凸部を通過したときには透過式センサ8が
遮光されて非透過信号を発するようになっている。従っ
て、透過式センサ9aと9bがポッド2内の棚の各段を
通過する時点と透過式センサ8が凹部を通過する時点と
が対応するようにセンサードグ7の凹凸12を予め設定
しておけば、透過透過式センサ8が検出する透過・非透
過の信号は、透過式センサ9が実際に通過する棚の段の
信号を示すことになる。これと透過式センサ9aがウェ
ーハ1により遮光する結果検出される透過・非透過の信
号の検出結果と比較して、透過式センサ8が棚の段に対
応する信号を検知したときに透過式センサ9aが遮光さ
れればウェーハ1はその棚段に存在したと判断でき、一
方、その時透過式センサ9aが遮光されなければその棚
段にはウェーハ1が欠落していたと判断できる。すべて
のウェーハ1に対してこれを繰り返し、図5に示すオー
プナ3のマッピング終了位置に至って、マッピング動作
を完了する。
【0030】その後、マッピングフレーム開閉シリンダ
35のロッド38を再度縮めるとマッピングフレームア
ーム12が回動してマッピングフレーム5がミニエンバ
イロンメント開口部10から離れるように移動する。ロ
ッド38が最も縮まったところでマッピングフレーム5
の移動が完了する。そして可動部56が最下点まで移動
をし、蓋4の開放とともにウェーハ1のマッピングを行
う一連の動作を完了する。この状態が図5に示す状態で
ある。
【0031】上記説明したとおり、透過式センサ9aと
9bをマッピングフレームに固定して、マッピングフレ
ーム5を回動させる手段であるマッピングフレームアー
ム12およびマッピングフレーム駆動用シリンダを設
け、さらにこれらの装置をミニエンバイロンメント開口
部10から十分に離れた可動部56に設けたことにより
透過式センサの展開動作を行う装置をウェーハ1付近に
設ける必要がなくなった。
【0032】また、センサードグ7と透過式センサ8と
を利用することにより、ポッド2内の棚の段に対応した
同期信号を容易に発生させることができるため、ドライ
ブモータを駆動装置に使用せずとも、ウェーハ1の正確
なマッピングが可能となる。このようにセンサードグ7
を利用すれば、信号を発生することのできないエアー駆
動式シリンダをウェーハ1のマッピングに利用すること
ができる。
【0033】なお、本実施例では、棚の各段は鉛直方向
に並ぶように配置され、可動部56は鉛直方向に昇降
し、マッピングフレーム5はミニエンバイロンメント開
口部10に沿ってかつドア6を囲むように配置された枠
部材からなる構造体としているが、棚の各段の並ぶ方向
と可動部56の移動する方向がほぼ同一であって透過式
センサ9が可動部56の移動の始点側に一対の透過式セ
ンサ9のそれぞれを結ぶ線が該棚の段に載置された半導
体ウェーハを横切るように一対の透過式センサ9を配置
可能な部材をマッピングフレーム5が有する限り同一の
効果を奏する。つまり、マッピングフレームは本実施例
のように棚の各段は鉛直方向に並ぶように配置され、可
動部56が鉛直方向に昇降する場合には、一対の透過式
センサ9のそれぞれを結ぶ線が該棚の段に載置された半
導体ウェーハを横切るようにドアの上側に一対の透過式
センサ9を配置できれば同様の効果を奏する。また、本
実施例ではドアアーム42の支点とマッピングフレーム
5の支点とを支点41により共通しているが、両者を別
の支点としても同様の効果を奏する。すなわち、ドアア
ーム42上に設ける第1の支点とマッピングフレーム上
に設けられる第2の支点として異なる支点を備えても本
願発明と同様の効果を奏する。なお、本実施例では、可
動部56と、支点41,ドア開閉用シリンダ31および
マッピングフレーム駆動用シリンダ35と一体化してい
るが、本発明の効果を得る上で必ずしも一体化する必要
はない。これらの機構がポッド2に対して空気流の下流
に配置される限り、同様の効果を奏する。
【0034】(実施例2)なお、実施例1において、固
定部材39の貫通穴の両端部にはロッド47が貫通する
ような状態で磁性流体シールを配置することで、回動部
から発生する塵を外に出すことを防いでさらに塵による
汚染を防ぐことができる。実施例2として、以下説明す
る。固定部材39の貫通穴の両端部にはロッド47が貫
通するような状態で磁性流体シール48aおよび48b
が取り付けられている。磁性流体シール48aおよび磁
性流体シール48bはそれぞれが環状の薄い2つの板
と、その板の間に磁性体(たとえば、フェライト磁石)
を挟んだ構造である。さらに、この板の間に磁性流体を
挟むと、このフェライト磁石の磁力によりこの磁性流体
がこの板の間に保持され、また保持された磁性流体はシ
ールすべき対象物との隙間に表面張力で保持される。こ
の結果、磁性流体シールには強制的に磁性流体の膜が形
成させてシール達成するものである。本装置ではロッド
47の周表面と磁性流体シール48aおよび48bとの
間に磁性体を含むオイルの膜が出来るように配置されて
いる。これにより、支点41を構成する回転軸たるロッ
ド47から発生する塵を防止することができる。なお、
実施例2は、実施例1に適用することが可能なことは言
うまでもなく、マッピングフレーム5やドア6の開閉の
為の支点41みならず、回動する部分全般に適用するこ
とができる。従って、該半導体ウェーハ処理装置内には
装置の上部から下部に向かう空気流があること、該第1
の支点および該第2の支点はポッドの下面より下側に位
置することに拘わらず、回動する部分全般に磁性流体シ
ールを適用することができる。
【0035】
【発明の効果】本発明により、以下の効果が実現でき
る。 (1)ウェーハ1を検知するための透過式センサ9を固
定したマッピングフレーム5をドア6の開閉機構とは別
にミニエンバイロンメント開口部10に近づけたり離し
たりすることのできる駆動装置を設けることにより、透
過式センサ9を展開収納するための装置をウェーハ1に
近接して配置する必要がない。特に、可動部56をポッ
ド2に対して空気流の下流に配置したことにより、支点
41,ドア開閉用シリンダ31およびマッピングフレー
ム駆動用シリンダ35をもポッド2に対して空気流の下
流に配置したことができる。それにより塵の発生源とな
る機構をすべてポッド2よりも空気流の下流に配置でき
る。さらにそれにより、透過式センサ9を展開収納動作
時に透過式センサ9を展開収納するための装置から発生
する塵がウェーハ1を汚染することも防ぐことができ
る。 (2)半導体ウェーハ等の処理装置において、密閉され
たポッド2の蓋4の開放動作によりポッド2内のウェー
ハ1の欠落を同時にマッピングすることができるので、
ウェーハ1の他の処理工程と検出工程が輻輳せずに効率
的にマッピングを行うことができる。 (3)ポッド2の蓋4の開閉動作において、パルス信号
等の電気信号を発生するモータ等を利用する駆動装置を
使用せずにエアー駆動式シリンダにより開閉動作を行っ
てもセンサードグ7を用いることにより棚段の信号を得
ることができる。従って、蓋4をポッド2に密閉させる
ことが必要な場合にも、高い密閉性が得られるエアー駆
動式の駆動装置を選択できる。 (4)磁性流体シールをマッピングフレームの回動部支
点またはドア開閉機構の支点に配置することで回動部か
ら発生する塵が排出されるのを防ぐことが可能となり、
高い清浄度を保つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明および従来の発明が適用される一般的な
半導体ウェーハ処理装置の全体図である。
【図2】本実施例におけるオープナ付近を拡大した図で
ある。ここで、図2(a)はその側面図であり、図2
(b)は当該箇所をミニエンバイロンメント内側から見
た図である。
【図3】実施例1におけるオープナの可動部を示した図
である。ここで図3(a)は可動部をロードポート側か
ら見た正面図であって、図3(b)は図3(a)を側面
から見た図である。
【図4】ウェーハのマッピングのシーケンスを示した一
の図であって、マッピング準備が完了した際の状態を示
した図である。
【図5】ウェーハのマッピングのシーケンスを示した一
の図であって、マッピング動作が完了した際の状態を示
した図である。
【図6】ウェーハのマッピングのシーケンスを示した一
の図であって、マッピングおよび蓋の開放動作の全てが
完了した際の状態を示した図である。
【図7】従来例のオープナ付近を拡大した図である。こ
こで、図2(a)はその側面図であり、図2(b)は当
該箇所をミニエンバイロンメント内側から見た図であ
る。
【図8】従来例の透過式センサ部の詳細を示した図であ
る。
【図9】従来例の透過式センサを備えたマッピングフレ
ームの動作の詳細を示した図である。
【符号の説明】
1 ウェーハ 2 ポッド 3 オープナ 4 蓋 5 マッピングフレーム 6 ドア 7 センサードグ 10 ミニエンバイロンメント開口部 8,9 透過式センサ 50 半導体処理装置 51 ロードポート 52 ミニエンバイロンメント
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮嶋 俊彦 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 DA08 EA14 GA25 GA36 GA47 GA49 JA05 JA13 JA14 JA23 JA32 JA36 LA15 MA15 NA02 NA10 NA16 NA18

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 開口を有し、鉛直方向に並んだ複数の段
    のそれぞれに半導体ウェーハが載置可能な棚を有する本
    体と該本体から分離可能であって該開口を塞ぐ蓋とを備
    えるポッドが半導体ウェーハ処理装置に固定された際
    に、該棚の各段の半導体ウェーハの存否を検出するウェ
    ーハマッピング装置であって、 該蓋を保持可能なドアと、一端が該ドアにとりつけら
    れ、第1の支点を中心にドア開閉用駆動装置により枢動
    可能に支持されるドアアームとを備える蓋開閉ユニット
    と、 一対の透過式センサを有するマッピングフレームと、一
    端がマッピングフレームにとりつけられ、第2の支点を
    中心にマッピングフレーム駆動装置により回転可能に支
    持されるマッピングフレームアームとを備えるマッピン
    グフレームと、 該ドア開閉用駆動装置と該マッピングフレーム駆動装置
    と該第1の支点および該第2の支点を支持する支点支持
    部とを備え、該半導体処理装置に対してドア開閉用駆動
    装置と該マッピングフレーム駆動装置と該支点支持部と
    を前記鉛直方向に移動可能な可動部と、 該ドアが該蓋を保持し前記ドア開閉用駆動装置の駆動に
    より該ドアアームが該支点中心に回動して該ポッドから
    該蓋を分離した後に、前記マッピングフレーム駆動装置
    の駆動により該マッピングフレームが該支点中心に回動
    することで前記一対の透過式センサが該開口から該ポッ
    ド内に挿入され、 該可動部が移動することにより該一対の透過式センサの
    それぞれを結ぶ線が前記段に載置された半導体ウェーハ
    を横切ることを特徴とするウェーハマッピング装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のウェーハマッピング装
    置であって、 該半導体ウェーハ処理装置内には装置の上部から下部に
    向かう空気流があって、 該第1の支点および該第2の支点はポッドの下面より下
    側に位置することを特徴とするウェーハマッピング装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項1乃至2に記載のウェーハマッピ
    ング装置であって、 該マッピングフレームアームは水平方向に延びるロッド
    を備え、 該支点支持部は水平方向に延びる貫通孔を備え、 該ロッドが該貫通孔を貫通することにより該第2の支点
    が構成され、 該貫通孔の両端部のロッドには磁性流体シールを備えて
    いることを特徴とするウェーハマッピング装置。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3に記載のウェーハマッピ
    ング装置であって、 該第1の支点と該第2の支点とは同軸であることを特徴
    とするウェーハマッピング装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4に記載のウェーハマッピ
    ング装置であって、さらに、 一定間隔で配置した指標手段を有するセンサードグと、 該指標手段を挟むように配置される第2の透過式センサ
    とを備える該ウェーハマッピング装置。
JP2001158458A 2001-05-28 2001-05-28 ウェーハマッピング装置 Expired - Lifetime JP3953751B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001158458A JP3953751B2 (ja) 2001-05-28 2001-05-28 ウェーハマッピング装置
TW92134917A TWI226099B (en) 2001-05-28 2002-11-26 Wafer processing apparatus capable of mapping wafer
TW91134333A TWI256100B (en) 2001-05-28 2002-11-26 Wafer processing apparatus capable of mapping wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001158458A JP3953751B2 (ja) 2001-05-28 2001-05-28 ウェーハマッピング装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003375600A Division JP3983219B2 (ja) 2003-11-05 2003-11-05 ウェーハマッピング装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002353293A true JP2002353293A (ja) 2002-12-06
JP2002353293A5 JP2002353293A5 (ja) 2004-11-04
JP3953751B2 JP3953751B2 (ja) 2007-08-08

Family

ID=19002184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001158458A Expired - Lifetime JP3953751B2 (ja) 2001-05-28 2001-05-28 ウェーハマッピング装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3953751B2 (ja)
TW (2) TWI256100B (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003026003A1 (fr) * 2001-09-17 2003-03-27 Rorze Corporation Dispositif de mappage de plaquettes et port de chargement avec ledit dispositif
JP2008108966A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tokyo Electron Ltd 検出装置及び検出方法
US7523769B2 (en) 2004-10-26 2009-04-28 Tdk Corporation Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method
US7654291B2 (en) 2003-04-28 2010-02-02 Tdk Corporation Purging apparatus and purging method
JP2011066260A (ja) * 2009-09-18 2011-03-31 Tdk Corp ロードポート装置及び該ロードポート装置の排塵方法
CN117594508A (zh) * 2024-01-18 2024-02-23 沈阳元创半导体有限公司 一种用于晶圆装载机的旋转开门装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7154986B2 (ja) * 2018-12-11 2022-10-18 平田機工株式会社 基板搬送装置及び基板搬送システム

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003026003A1 (fr) * 2001-09-17 2003-03-27 Rorze Corporation Dispositif de mappage de plaquettes et port de chargement avec ledit dispositif
JP2003092339A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Rorze Corp ウエハマッピング装置およびそれを備えたロードポート
US7115891B2 (en) 2001-09-17 2006-10-03 Rorze Corporation Wafer mapping device and load port provided with same
JP4669643B2 (ja) * 2001-09-17 2011-04-13 ローツェ株式会社 ウエハマッピング装置およびそれを備えたロードポート
US7654291B2 (en) 2003-04-28 2010-02-02 Tdk Corporation Purging apparatus and purging method
US7523769B2 (en) 2004-10-26 2009-04-28 Tdk Corporation Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method
JP2008108966A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tokyo Electron Ltd 検出装置及び検出方法
JP4664264B2 (ja) * 2006-10-26 2011-04-06 東京エレクトロン株式会社 検出装置及び検出方法
JP2011066260A (ja) * 2009-09-18 2011-03-31 Tdk Corp ロードポート装置及び該ロードポート装置の排塵方法
CN117594508A (zh) * 2024-01-18 2024-02-23 沈阳元创半导体有限公司 一种用于晶圆装载机的旋转开门装置
CN117594508B (zh) * 2024-01-18 2024-04-09 沈阳元创半导体有限公司 一种用于晶圆装载机的旋转开门装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI226099B (en) 2005-01-01
TW200409266A (en) 2004-06-01
TWI256100B (en) 2006-06-01
TW200409275A (en) 2004-06-01
JP3953751B2 (ja) 2007-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6984839B2 (en) Wafer processing apparatus capable of mapping wafers
US4895486A (en) Wafer monitoring device
KR100663322B1 (ko) 소규모 환경 내에서의 카세트 버퍼링
JP2005520321A (ja) ツールのフロントエンド加工物処理のための統合システム
EP1443549B1 (en) Wafer mapping device and load port with the device
KR19980063977A (ko) 자기 연결 웨이퍼 추출 플랫폼
KR20090086257A (ko) 평판 디스플레이용 환경 격리 시스템
JP5736686B2 (ja) ロードポート
JP2002353293A (ja) ウェーハマッピング装置
JP3939062B2 (ja) 基板検出装置
US6409448B1 (en) Ergonomic load port
JP4177114B2 (ja) プリアライナー及び格納ポッド・アクセス機構を備える集積回路基板ハンドラー
JP3983219B2 (ja) ウェーハマッピング装置
JP2019062104A (ja) ロードポート装置、ロードポート装置の駆動方法
JP3964361B2 (ja) パージ装置およびパージ方法
KR100470369B1 (ko) 웨이퍼를 매핑할 수 있는 웨이퍼 처리 장치
TW200426971A (en) Purging apparatus and purging method
KR100497444B1 (ko) 웨이퍼를 매핑할 수 있는 웨이퍼 처리 장치
WO2020122125A1 (ja) ロードロックチャンバ
US20210327736A1 (en) Mini-environment system for controlling oxygen and humidity levels within a sample transport device
CN217539600U (zh) 一种用于密封腔保护气体的密封机构
JPS62181441A (ja) ウエ−ハ支持体
CN214477367U (zh) 微型化半导体制程系统
KR100412398B1 (ko) 복수의 개폐장치를 구비한 다기능 로드 포트
JP3175231B2 (ja) 機械式インターフェース装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070117

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070129

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070327

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070425

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 3953751

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130511

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140511

Year of fee payment: 7

EXPY Cancellation because of completion of term