JP2002350204A - 感熱式流量センサ - Google Patents

感熱式流量センサ

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JP2002350204A JP2001155299A JP2001155299A JP2002350204A JP 2002350204 A JP2002350204 A JP 2002350204A JP 2001155299 A JP2001155299 A JP 2001155299A JP 2001155299 A JP2001155299 A JP 2001155299A JP 2002350204 A JP2002350204 A JP 2002350204A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、流量検出信号に悪影響を与える
ことなく、計測流体の温度が変化しても正確な流量を計
測できる感熱式流量センサが得られる。 【解決手段】 感熱抵抗膜よりなる発熱体4および流体
温度検出体5が平板状基板の表面に互いに離間して形成
された検出素子40が、その表面を支持体36の表面と
ほぼ同じ面位置となるように、かつ、発熱体4と流体温
度検出体5との配列方向を計測流体の流れ方向6に対し
て直交するように凹部37内に収納されて支持体36に
支持されている。そして、溝方向を計測流体の流れ方向
6とする溝38が、検出素子40の流体温度検出体5の
形成領域下部を通るように支持体36に設けられてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は発熱体を備え、発熱
体あるいは発熱体によって加熱された部分から流体への
伝熱現象に基づいて流体の流速あるいは流量を計測する
感熱式流量センサに関するものであり、例えば内燃機関
の吸入空気量を計測する場合等に用いられる。
【0002】
【従来の技術】図9は従来の感熱式流量センサに用いら
れる検出素子を示す平面図、図10は図9のX−X矢視
断面図である。図9および図10において、平板状基板
1は厚さ約0.4mmのシリコン基板よりなり、その表
面に厚さ1μmの窒化シリコン等よりなる絶縁性の支持
膜2がスパッタ、CVD等の方法で形成され、さらに白
金等の感熱抵抗膜よりなる発熱体4が支持膜2上に形成
されている。この発熱体4は、厚さ0.2μmの白金等
の感熱抵抗膜を蒸着やスパッタ等の方法で支持膜2上に
着膜し、写真製版、ウエットあるいはドライエッチング
等の方法を用いて該感熱抵抗膜をパターニングすること
により、電流路を形成するように構成されている。ま
た、同様に白金等の感熱抵抗膜よりなる流体温度検出体
5が発熱体4から離れて支持膜2上に形成されている。
この流体温度検出体5は、厚さ0.2μmの白金等の感
熱抵抗膜を蒸着やスパッタ等の方法で支持膜2上に着膜
し、写真製版、ウエットあるいはドライエッチング等の
方法を用いて該感熱抵抗膜をパターニングすることによ
り、電流路を形成するように構成されている。さらに、
発熱体4および流体温度検出体5の上には厚さ1μmの
窒化シリコン等よりなる絶縁性の保護膜3がスパッタ、
CVD等の方法で形成されている。
【0003】発熱体4は、接続パターン9a、9b、リ
ードパターン7a、7dを経て検出素子の外部との電気
的接続を行うための電極8a、8dとつながっている。
また、流体温度検出体5はリードパターン7b、7cを
経て検出素子の外部との電気的接続を行うための電極8
b、8cとつながっている。電極8a〜8dの部分はワ
イヤボンド等の方法で外部と電気的に接続するために保
護膜3が除去されている。さらに、キャビティ13が発
熱体4の形成領域下部に形成されて、流量検出用ダイア
フラム12が構成されている。つまり、裏面保護膜10
が平板状基板1の裏面(支持膜2が形成されている面と
は逆の面)に形成され、ついで発熱体4の形成領域の裏
側の位置において、写真製版等の方法で裏面保護膜10
を部分的に除去してエッチングホール11を形成する。
その後、エッチングホール11から露出する平板状基板
1に例えばアルカリエッチング等を施し、平板状基板1
の一部を除去してキャビティ13を形成することによっ
て流量検出用ダイアフラム12が構成されている。この
ように構成された検出素子14は、流量検出用ダイアフ
ラム12が計測流体の流れにさらされるように配置され
る。なお、図中、矢印6は計測流体の流れの方向を示し
ている。
【0004】ところで、検出素子14は上述のように平
板状の形状をしているが、ダイアフラム12が計測流体
の流れの方向に直交するように配置された場合には、ダ
イアフラム12に風圧が加わり、計測流体の高速流時に
ダイアフラム12の破損が発生したり、あるいは、計測
流体内のダストがダイアフラム部に堆積して、発熱体4
から計測流体への伝熱量が変化して検出流量のドリフト
が発生する。そのような場合には、平板状の検出素子1
4は計測流体の流れ方向と略平行に、あるいは、計測流
体の流れ方向に対して所定の角度をなすように配置され
る。また、平板状の検出素子14を計測流体の流れ方向
と略平行に、あるいは、計測流体の流れ方向に対して所
定の角度をなすように配置する場合には、キャビティ1
3近傍における計測流体の流れに乱れが発生したり、ま
たチッピングなどに起因する検出素子14の前縁部の形
状バラツキによって発熱体4近傍における計測流体の流
れにバラツキが発生してしまう。この発熱体4近傍にお
ける計測流体の流れのバラツキは流量検出特性の精度を
低下させることにつながる。
【0005】そこで、平板状の検出素子14を計測流体
の流れ方向と略平行に、あるいは、計測流体の流れ方向
に対して所定の角度をなすように配置する場合における
上述の不具合を解決するために、検出素子を平板状の支
持体に設けられた凹部内に配置することが、例えば特開
平11−326000号公報などに提案されている。図
11は特開平11−326000号公報に記載された従
来の検出素子の支持構造を示す要部斜視図である。図1
1において、支持体16は、平板状に形成され、ベース
部材20に取り付けられている。そして、検出素子14
よりも少し大きい外形形状を有する凹部18が支持体1
6の表面に設けられている。検出素子14は、その表面
が支持体16の表面とほぼ同じ面位置となるように凹部
18内に配設されている。そして、検出素子14の電極
8a〜8dがベース部材20に配設されたリード線17
にワイヤ19により電気的に接続されている。さらに、
カバー21がベース部材20に取り付けられ、電極8a
〜8dやワイヤ19がカバー21によって保護されてい
る。これにより、キャビティ13近傍に発生する計測流
体の流れの乱れが抑えられ、また支持体16の上流側端
部の円弧形状により計測流体の流れが整流され、検出素
子14の前縁部の形状バラツキによって発生する発熱体
4近傍における計測流体の流れのバラツキが低減され
る。
【0006】ついで、検出素子14を用いた計測流体の
流量検出方法について説明する。流体温度検出体5は、
ダイアフラム部12から離間してしているので、発熱体
4で発生した熱は流体温度検出体5まで伝導しない。ま
た、流体温度検出体5は発熱体4の下流側に位置してい
ないので、流体温度検出体5は発熱体4からの伝熱によ
り暖められた計測流体に曝されない。そこで、流体温度
検出体5で検出される温度は計測流体の温度とほぼ等し
くなっている。そして、発熱体4は、図12に示される
検出回路によって、流体温度検出体5で検出された計測
流体の温度に対して所定温度(例えば、100deg)
だけ高い平均温度となるような抵抗値に制御されてい
る。検出回路は流体温度検出体5と発熱体4を含むブリ
ッジ回路で構成されている。図中、抵抗R1、R2、R
3、R4、R5は固定抵抗、OP1、OP2は演算増幅
器、TR1、TR2はトランジスタ、BATTは電源で
ある。そして、流体温度検出体5と発熱体4とを除く検
出回路は、検出回路基板(図示せず)に構成されてい
る。この検出回路は、図中のa点とb点の電位を略等し
くするように働き、発熱体4への通電電流Ihを制御す
る。計測流体の流速が速くなると、発熱体4から計測流
体への熱伝達量が多くなるため、発熱体4の温度が低下
する。そこで、発熱体4の平均温度を計測流体の温度よ
り所定温度だけ高い値に保つ時の通電電流Ihは増加す
る。この通電電流を抵抗R3の両端で電圧Voutとし
て検出すると、流速あるいは所定の通路断面積を有する
通路内を流れる流量信号が得られる。
【0007】ここで、発熱部4の温度をTh、計測流体
の温度をTa、発熱体4の抵抗値をRh、発熱体4への
通電電流をIh、検出素子14が配置された通路を流れ
る計測流体の流量をQmとすると、式(1)が成り立
つ。 Ih2・Rh=(a+b・Qmn)・(Th−Ta) ・・・(1) 但し、a、bおよびnは検出素子の形態や配置によって
決まる定数である。そこで、(Th−Ta)/RhをT
aに拘わらず一定とすることにより、IhはQmの関数
となる。そして、Ihに相当する出力が感熱式流量セン
サの検出流量出力となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図11に示される従来
の検出素子の支持構造においては、以下の課題がある。
計測流体の温度が変化する場合、流体温度検出体5の検
出温度が計測流体の真の温度に速やかに追従して、発熱
体4の温度を計測流体の温度変化に応じて変化させない
と、感熱式流量センサの流量検出値に誤差が発生するこ
とになる。例えば、計測流体の温度が上昇した場合、流
体温度検出体5の検出温度に遅れが発生すると、流体温
度検出体5の検出温度が計測流体の真の温度より低くな
り、発熱体の温度は本来制御されるべき所定温度より低
くなってしまう。つまり、発熱体4への通電電流が本来
制御されるべき電流値より小さくなってしまう。そこ
で、発熱体4への通電電流に基づく流量検出値は、実際
の計測流体の流量よりも低い値を示すことになる。しか
し、流体温度検出体5の検出温度は、支持体16がもつ
熱容量により、計測流体の真の温度に即座に追従できな
いので、この支持構造では、感熱式流量センサの流量検
出値の誤差を抑えることはできない。
【0009】そこで、流体温度検出体5の温度検出の追
従性に対する支持体16がもつ熱容量の影響を抑えるた
めに、流体温度検出体が形成された検出素子の一端側を
支持体から延出させて検出素子を支持体に支持させる検
出素子の支持構造が、例えば特開平10−2773号公
報に提案されている。しかし、この検出素子の支持構造
においては、支持体が発熱体近傍でなくなっているの
で、計測流体の流れが支持体先端部や検出素子先端部で
乱れることになる。そして、発熱体がこの計測流体の流
れの乱れの影響を受け、流量検出値が乱れるという課題
が生じてしまう。
【0010】特に自動車用内燃機関の吸気流量を計測す
る感熱式流量センサにおいては、トンネルの出入り口な
どで吸気温度が急変する場合があり、この吸気温度の変
化に速やかに追従できることが必要となる。また、自動
車用内燃機関の吸気流量を計測する感熱式流量センサ
は、エアクリーナケースとスロットル弁とを連結する配
管に配設される。一般には、このような配管は、感熱式
流量センサの上下流において、理想的な直管ではないた
め、流速分布や流れの方向が不均一なものとなる。この
ような自動車用内燃機関の吸気流量を計測する用途にお
いては、発熱体(流量検出部)近傍で計測流体の流れの
剥離や渦が発生しやすい検出素子の支持構造では、安定
な流量計測が困難となる。
【0011】この発明は上述のような課題を解決するた
めになされたもので、計測流体を流体温度検出体の形成
領域下部に導いて強制対流熱伝達により流体温度検出体
の形成領域を計測流体温度に速やかになじませるよう
し、流量検出信号に悪影響を与えることなく、計測流体
の温度が変化しても正確な流量を計測できる感熱式流量
センサを得ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明に係る感熱式流
量センサは、感熱抵抗膜よりなる発熱体および流体温度
検出体が平板状基板の表面に互いに離間して形成され、
流量検出用ダイアフラムが該発熱体の形成領域下部にあ
る該平板状基板を裏面側から部分的に除去して形成され
ている検出素子と、上記検出素子を収納する凹部が表面
に形成され、該表面が計測流体の流れ方向に対して所定
の角度をなして配置される支持体とを備え、上記検出素
子がその表面を上記支持体の表面とほぼ同じ面位置とな
るように、かつ、上記発熱体と上記流体温度検出体との
配列方向を上記計測流体の流れ方向に対して直交するよ
うに上記凹部内に収納されて上記支持体に支持されてい
る感熱式流量センサであって、溝方向を上記計測流体の
流れ方向とする溝が、上記検出素子の上記流体温度検出
体の形成領域下部を通るように上記支持体に設けられて
いるものである。
【0013】また、上記流体温度検出体が上記平板状基
板の一端側に形成され、上記検出素子が上記流体温度検
出体の形成領域を含む上記検出素子の一端部を上記溝内
に延出するように上記支持体に片持ちの形態に支持され
ているものである。
【0014】また、上記溝が上記支持体の上記計測流体
の流れ方向の上流側端部まで延在しているものである。
【0015】また、上記溝が上記支持体の上記計測流体
の流れ方向の下流側端部まで延在しているものである。
【0016】また、流体温度検出用ダイアフラムが上記
流体温度検出体の形成領域下部にある該平板状基板を裏
面側から部分的に除去して形成されているものである。
【0017】また、上記計測流体を流通させる筒状の検
出通路を備え、上記支持体が上記計測流体の流れ方向と
直交する上記検出通路の通路断面を2分するように上記
検出通路内に配設されているものである。
【0018】
【発明の実施の形態】実施の形態1.図1および図2は
この発明の実施の形態1に係る感熱式流量センサを示す
正面図および縦断面図である。図3は図2のIII−I
II矢視断面図、図4は図2のIV−IV矢視断面図、
図5はこの発明の実施の形態1に係る感熱式流量センサ
に適用される検出素子を示す正面図である。なお、各図
において図9〜図11に示した従来装置と同一または相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。
【0019】図1乃至図4において、感熱式流量センサ
100は、図12に示される検出回路が構成された回路
基板30と、この回路基板30が収納される回路ケース
31と、感熱式流量センサ100に電力を供給したり、
感熱式流量センサ100の流量検出信号を外部に取り出
すためのコネクタ32と、計測流体が流通する検出通路
33が形成され、この回路ケース31から一側に延設さ
れた挿入部材34と、挿入部材34の内部に配設され、
リード線17が形成されたベース部材35と、検出通路
33内に延出するようにベース部材35に取り付けられ
た支持部材36と、支持部材36に取り付けられた検出
素子40とから構成されている。
【0020】回路ケース31、コネクタ32および挿入
部材34は、例えばポリブチレンテレフタレートなどの
樹脂を用いて一体に成形されている。そして、挿入部材
34には、ベース部材35を収納するための溝34aが
検出通路33と回路ケース31とを連通するように形成
されている。
【0021】支持体36は、ポリブチレンテレフタレー
トなどの樹脂で平板状に形成されており、検出通路33
内に延出するようにベース部材35に取り付けられてい
る。この支持体36は、検出通路33の軸心(図1中紙
面と垂直な方向で、計測流体の流れ方向6に一致する)
を通り、該軸心と直交する検出通路33の通路断面を2
分するように配置されている。そして、支持体36の主
面は、図3および図4に示されるように検出通路33の
軸心に対して角度θを有している。この実施の形態1で
は、角度θが7度となっている。また、検出素子40よ
りも少し大きい外形形状を有する凹部37が支持体36
の主面に根元側(ベース部材35への取付側)から先端
側に延びるように設けられている。さらに、検出素子4
0の流体温度検出体5の裏面側を通り、溝方向を検出通
路33の軸心と平行とする溝38が支持体36の根元側
の主面に支持体36の上流側端部から下流側端部に至る
ように延設されている。
【0022】検出素子40は、図5に示されるように、
キャビティ41が流体温度検出体5の形成領域下部に形
成されて、流体温度検出用ダイアフラム42が構成され
ている。なお、この検出素子40は、流体温度検出用ダ
イアフラム42が形成されている点を除いて、検出素子
14と同様に構成されている。
【0023】この検出素子40は、その表面を支持体3
6の主面とほぼ同じ面位置となるように凹部37内に配
設されている。この時、溝38が流体温度検出用ダイア
フラム42の下部に位置している。そして、検出素子4
0の電極8a〜8dがベース部材35に配設されたリー
ド線17にワイヤ19により電気的に接続され、さらに
カバー(図示せず)が挿入部材34に取り付けられ、電
極8a〜8dやワイヤ19がカバーによって保護されて
いる。また、リード線17が回路基板30に接続され
て、図12に示される検出回路が構成されている。
【0024】このように構成された感熱式流量センサ1
00は、検出通路33の軸心が計測流体の通路となる円
筒状の主通路39の軸心と一致するように、挿入部材3
4を主通路39内に延出させ、ねじ29により主通路3
9に締着固定されて取り付けられる。そして、支持体3
6に支持された検出素子40の表面が計測流体の流れ方
向6と所定の角度θをなしている。また、Oリング28
が感熱式流量センサ100と主通路39との間に介装さ
れ、計測流体の漏れが防止されている。
【0025】この感熱式流量センサ100においては、
主通路39内を流れる計測流体は検出通路33内に導か
れる。そして、検出通路33内の軸心近傍を流れる計測
流体は、支持体36の主面に沿って流れて発熱体4上に
導かれ、そこで発熱体4で発生する熱が伝熱されて暖め
られ、下流側に流れる。また、図1中、検出通路33内
の上部側を流れる計測流体は、流体温度検出体5の上部
側を流れるとともに、溝38内に導かれて流体温度検出
体5の下部側を流れる。そして、先に説明したように、
発熱体4が、流体温度検出体5で検出された計測流体の
温度に対して所定温度(例えば、100deg)だけ高
い平均温度となるように、発熱体4への通電電流が検出
回路によって制御される。この通電電流を流量検出信号
として取り出され、流速あるいは所定の通路断面積を有
する通路内を流れる流量が検出される。
【0026】この実施の形態1によれば、溝38が流体
温度検出体5の下部側を通るように支持体36に形成さ
れているので、計測流体が検出素子40の流体温度検出
体5の形成領域の表面側および裏面側を流れる。そし
て、流体温度検出体5の形成領域は、溝38を通って流
体温度検出体5の形成領域の裏面側に導かれた計測流体
との強制対流熱伝達によって計測流体の温度に速やかに
なじむことになる。また、検出素子40の流体温度検出
体5の形成領域が支持体36から離れているので、支持
体36の熱容量の影響が低減される。そこで、流体温度
検出体5の検出温度が計測流体の温度変化に速やかに追
従されるようになり、計測流体の温度が変化しても、発
熱体4の温度を計測流体の温度に対して所定温度だけ高
い平均温度に制御することができる。これにより、計測
流体の正確な流速および流量を検出できる感熱式流量セ
ンサが得られる。
【0027】また、流体温度検出体5の形成領域が流体
温度検出用ダイアフラム42を構成しているので、流体
温度検出体5の形成領域の熱容量が小さくなるととも
に、流体温度検出体5が周囲の平板状基板1から熱絶縁
される。これにより、流体温度検出体5による計測流体
の温度検出が速やかに、かつ、正確に行われるようにな
る。また、溝38が上流側端から下流側端に至るように
支持体36に形成されているので、計測流体が支持体3
6の上流側端から溝38内にスムーズに導かれ、支持体
36の下流側端の溝38からスムーズに流出される。そ
こで、計測流体が流体温度検出体5の裏面側に淀みな
く、かつ、多量に供給できるので、計測流体の温度が変
化しても、計測流体の真の温度を流体温度検出体5によ
り速やかに検出できるようになる。
【0028】ここで、計測流体が検出素子40の流体温
度検出体5の形成領域の表面側と裏面側とに分かれて流
れることにより計測流体の流れに乱れを生じる。しか
し、流体温度検出体5は計測流体の温度を検出する機能
のみを有していることから、この計測流体の流れの乱れ
が流体温度検出体5による温度検出に影響することはな
い。一方、検出素子40の発熱体4の形成領域は流体温
度検出体5の形成領域から計測流体の流れ方向6と直交
する方向に離反しているので、発熱体4の近傍を流れる
計測流体の流れは、溝38を形成することに起因する計
測流体の流れの乱れの影響を受けず、安定したものとな
る。従って、溝38を形成しても、流量検出信号の乱れ
を発生することはなく、安定した流量検出信号が得られ
る。
【0029】また、支持体36が検出通路33の流路断
面を2分するように配設されているので、検出通路33
は検出通路33の軸心を中心として図1の上下方向に関
して対称な形状をなしている。そこで、計測流体に流れ
に偏流があっても、流速分布が均一化され、流量検出精
度が向上される。また、支持体36の先端面(図1中下
方向の端面)が検出通路33内に露出していないので、
計測流体が流れの乱れを生じることなく発熱体5に導か
れるようになり、乱れの少ない安定した流量検出信号が
得られる。なお、支持体36の先端面が検出通路33内
に露出していると、計測流体が支持体36の先端面で剥
離し、計測流体の流れの乱れを発生することになる。
【0030】実施の形態2.図6および図7はこの発明
の実施の形態2に係る感熱式流量センサを示す正面図お
よび縦断面図、図8はこの発明の実施の形態2に係る感
熱式流量センサに適用される検出素子を示す正面図であ
る。
【0031】この実施の形態2による感熱式流量センサ
101に適用される検出素子40Aは、図8に示される
ように、発熱体4が平板状基板1の中央部に形成された
流量検出用ダイアフラム12に配設され、流体温度検出
体5が平板状基板1の先端部に形成された流体温度検出
用ダイアフラム42に配設されている。また、溝方向を
検出通路33の軸心と平行とする溝38が支持体36A
の先端側に下流側端から上流側端に至るように延設さ
れ、凹部37が支持体36Aの根元側から溝38に至る
ように形成されている。なお、検出素子40Aは、発熱
体4と流体温度検出体5との形成位置が異なる点を除い
て、実施の形態1による検出素子40と同様に構成され
ている。また、支持体36Aは、凹部37および溝38
の形成位置が異なる点を除いて、実施の形態1による支
持体36と同様に構成されている。
【0032】この支持体36Aは、検出通路33内に延
出するようにベース部材35に取り付けられ、検出通路
33の軸心(図6中紙面と垂直な方向で、計測流体の流
れ方向6に一致する)を通り、該軸心と直交する検出通
路33の通路断面を2分するように配置されている。そ
して、検出素子40Aが、その表面を支持体36Aの主
面とほぼ同じ面位置となるように凹部37内に配設され
ている。この時、検出素子40Aの先端部は溝38上に
位置している。即ち、検出素子40Aの先端部は支持体
36aに支持されず、片持ちの形態をなしている。そし
て、流体温度検出用ダイアフラム42が溝38上に位置
している。なお、他の構成は上記実施の形態1と同様に
構成されている。
【0033】この実施の形態2においても、溝38が流
体温度検出体5の下部側を通るように支持体36Aに形
成されているので、上記実施の形態1と同様に、流体温
度検出体5の検出温度が計測流体の温度変化に速やかに
追従されるようになり、計測流体の温度が変化しても、
発熱体4の温度を計測流体の温度に対して所定温度だけ
高い平均温度に制御することができる。また、流体温度
検出体5の形成領域が流体温度検出用ダイアフラム42
を構成しているので、流体温度検出体5の形成領域の熱
容量が小さくなるとともに、流体温度検出体5が周囲の
平板状基板1と熱絶縁される。また、溝38が上流側端
から下流側端に至るように支持体36に形成されている
ので、計測流体を流体温度検出体5の裏面側に淀みな
く、多量に供給でき、計測流体の温度が変化しても、計
測流体の真の温度を流体温度検出体5により検出できる
ようになる。
【0034】また、支持体36Aが検出通路33の流路
断面を2分するように配設されているので、計測流体に
流れに偏流があっても、流速分布が均一化され、流量検
出精度が向上される。また、支持体36Aの先端面(図
6中下方向の端面)が検出通路33内に露出していない
ので、計測流体が流れの乱れを生じることなく発熱体5
に導かれるようになり、乱れの少ない安定した流量検出
信号が得られる。
【0035】さらに、検出素子40Aが流体温度検出体
5の形成領域を含む先端側を溝38上に位置して、片持
ちの形態をなして支持体36Aに支持されているので、
流体温度検出体5近傍と支持体36Aとの間に空間が形
成され、流体温度検出体5による温度検出に対する支持
体36Aの熱容量の影響を著しく低減される。そこで、
計測流体の温度が変化しても、速やかに、かつ、正確な
流量検出信号を得ることができる。
【0036】なお、上記各実施の形態では、溝38が支
持体36(36A)の上流側端から下流側端に至るよう
に形成されているものとしているが、溝38は必ずしも
支持体36(36A)の計測流体の流れ方向の全域にわ
たって形成される必要はなく、例えば流体温度検出用ダ
イアフラム42の下部を通り、流体温度検出用ダイアフ
ラム42の計測流体の流れ方向の上流側および下流側に
開口するように溝を設けてもよい。この場合、計測流体
は、流体温度検出用ダイアフラム42の上流側の溝開口
から流入し、流体温度検出用ダイアフラム42の下部に
導かれて強制対流熱伝達によって流体温度検出用ダイア
フラム42を計測流体の温度になじませ、その後流体温
度検出用ダイアフラム42の下流側の溝開口から流出す
ることになる。
【0037】また、溝38の計測流体の流れ方向の下流
側が支持体36(36A)の下流側端に至るように形成
されていなくても、溝38の計測流体の流れ方向の上流
側が支持体36(36A)の上流側端に至るように形成
されていれば、計測流体がスムーズに溝内に導かれるの
で、流体温度検出用ダイアフラム42の下流側の溝開口
から計測流体の流出が促進され、溝内の計測流体のよど
みが防止される。これにより、主通路29内を流通する
計測流体の温度が変化しても、溝内を流通する計測流体
の温度が時間差なく変化するようになる。
【0038】また、溝38の計測流体の流れ方向の上流
側が支持体36(36A)の上流側端に至るように形成
されていなくても、溝38の計測流体の流れ方向の下流
側が支持体36(36A)の下流側端に至るように形成
されていれば、計測流体がスムーズに溝から流出される
ので、流体温度検出用ダイアフラム42の上流側の溝開
口から計測流体の溝内への流れ込みが促進され、溝内の
計測流体のよどみが防止される。これにより、主通路2
9内を流通する計測流体の温度が変化しても、溝内を流
通する計測流体の温度が時間差なく変化するようにな
る。
【0039】本発明は、溝38を用いて計測流体を流体
温度検出体5の形成領域下部に導き、強制対流熱伝達に
よって流体温度検出体5の形成領域を計測流体の温度に
速やかになじませるものである。従って、上記各実施の
形態では、支持体36(36A)の主面と検出通路33
の軸心との間の角度θが7度となるように支持体36
(36A)を配設するものとしているが、計測流体が溝
38内を流通すればよく、角度θは7度に限定されるも
のではない。例えば、角度θを45度とすれば、角度θ
が90度の場合(支持体の主面を計測流体の流れに直交
させた場合)に比べ、計測流体の風圧に起因するダイア
フラムの損傷、および、発熱体形成領域でのダスト堆積
に起因する検出流量のドリフトを著しく抑えることがで
きる。なお、ダイアフラムの長寿命化と検出精度の高精
度化とが望まれる流量センサにおいては、0度≦θ≦3
0度とすることが望ましい。
【0040】また、上記各実施の形態では、流体温度検
出体5が流体温度検出用ダイアフラム42に形成されて
いるものとしているが、感熱式流量センサの用途によっ
ては、溝38により流体温度検出体5の形成領域の裏面
側にも計測流体が流通できるように構成されていれば、
流体温度検出用ダイアフラム42を形成しなくともよ
い。即ち、流体温度検出用ダイアフラム42がない場合
には、平板状基板1の熱容量が影響して、計測流体の温
度変化に対する流体温度検出体5による温度検出の追従
性を低下させることになるが、計測流体が溝38を通っ
て流体温度検出体5の形成領域の裏面側に流されること
で、温度検出の追従性の低下が抑えられることになる。
【0041】さらに、上記各実施の形態では、流量検出
用ダイアフラム12に1つの発熱体4を形成し、発熱体
4への通電電流によって計測流体の流量を検出する感熱
式流量センサについて説明したが、計測流体への伝熱現
象によって流量や流速を計測するダイアフラム形式の感
熱式流量センサであれば、他の形式のものでも良い。例
えば、発熱体の上流や下流に測温抵抗体を配置し、測温
抵抗体の温度差を検出する形式でも良いし、上下流に複
数の発熱体を配置し、各発熱体への通電電流の差を検出
する形式のものであっても良い。
【0042】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に示すような効果を奏する。
【0043】この発明によれば、感熱抵抗膜よりなる発
熱体および流体温度検出体が平板状基板の表面に互いに
離間して形成され、流量検出用ダイアフラムが該発熱体
形成領域下部にある該平板状基板を裏面側から部分的に
除去して形成されている検出素子と、上記検出素子を収
納する凹部が表面に形成され、該表面が計測流体の流れ
方向に対して所定の角度をなして配置される支持体とを
備え、上記検出素子がその表面を上記支持体の表面とほ
ぼ同じ面位置となるように、かつ、上記発熱体と上記流
体温度検出体との配列方向を上記計測流体の流れ方向に
対して直交するように上記凹部内に収納されて上記支持
体に支持されている感熱式流量センサであって、溝方向
を上記計測流体の流れ方向とする溝が、上記検出素子の
上記流体温度検出体の形成領域下部を通るように上記支
持体に設けられている。これにより、計測流体が流体温
度検出体の形成領域下部に導かれ、強制対流熱伝達によ
り流体温度検出体の形成領域が計測流体温度に速やかに
なじむので、流量検出信号に悪影響を与えることなく、
計測流体の温度が変化しても正確な流量を計測できる感
熱式流量センサが得られる。
【0044】また、上記流体温度検出体が上記平板状基
板の一端側に形成され、上記検出素子が上記流体温度検
出体の形成領域を含む上記検出素子の一端部を上記溝内
に延出するように上記支持体に片持ちの形態に支持され
ているので、流体温度検出体による計測流体温度検出が
支持体の熱容量の影響を受けにくくなり、計測流体の温
度変化に対する計測流体温度検出の追従性が向上され
る。
【0045】また、上記溝が上記支持体の上記計測流体
の流れ方向の上流側端部まで延在しているので、計測流
体がスムーズに、かつ、多量に流体温度検出体の形成領
域下部に導かれ、計測流体の温度変化に対する計測流体
温度検出の追従性が向上される。
【0046】また、上記溝が上記支持体の上記計測流体
の流れ方向の下流側端部まで延在しているので、計測流
体がスムーズに、かつ、多量に流体温度検出体の形成領
域下部に導かれ、計測流体の温度変化に対する計測流体
温度検出の追従性が向上される。
【0047】また、流体温度検出用ダイアフラムが上記
流体温度検出体の形成領域下部にある該平板状基板を裏
面側から部分的に除去して形成されているので、流体温
度検出体の形成領域の熱容量が小さくなり、かつ、流体
温度検出体が周囲の平板状基板から熱絶縁され、計測流
体の温度変化に対する計測流体温度検出の追従性が向上
される。
【0048】また、上記計測流体を流通させる筒状の検
出通路を備え、上記支持体が上記計測流体の流れ方向と
直交する上記検出通路の通路断面を2分するように上記
検出通路内に配設されているので、検出通路内を流通す
る計測流体の流速分布が均一化され、流量検出精度が向
上される。さらに、計測流体の流れ方向と直交する方向
の支持体の端面が露出していないので、計測流体を乱す
ことなく発熱体に導くことができ、安定した流量検出信
号が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1に係る感熱式流量セ
ンサを示す正面図である。
【図2】 この発明の実施の形態1に係る感熱式流量セ
ンサを示す縦断面図である。
【図3】 図2のIII−III矢視断面図である。
【図4】 図2のIV−IV矢視断面図である。
【図5】 この発明の実施の形態1に係る感熱式流量セ
ンサに適用される検出素子を示す正面図である。
【図6】 この発明の実施の形態2に係る感熱式流量セ
ンサを示す正面図である。
【図7】 この発明の実施の形態2に係る感熱式流量セ
ンサを示す縦断面図である。
【図8】 この発明の実施の形態2に係る感熱式流量セ
ンサに適用される検出素子を示す正面図である。
【図9】 従来の感熱式流量センサに用いられる検出素
子を示す平面図である。
【図10】 図9のX−X矢視断面図である。
【図11】 従来の検出素子の支持構造を示す要部斜視
図である。
【図12】 感熱式流量センサに用いられる検出素子の
制御回路を示す図である。
【符号の説明】
1 平板状基板、4 発熱体、5 流体温度検出体、6
計測流体の流れ方向、12 流量検出用ダイアフラ
ム、33 検出通路、36、36A 支持体、37 凹
部、38 溝、40、40A 検出素子、42 流体温
度検出用ダイアフラム、100、101 感熱式流量セ
ンサ。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 感熱抵抗膜よりなる発熱体および流体温
    度検出体が平板状基板の表面に互いに離間して形成さ
    れ、流量検出用ダイアフラムが該発熱体の形成領域下部
    にある該平板状基板を裏面側から部分的に除去して形成
    されている検出素子と、 上記検出素子を収納する凹部が表面に形成され、該表面
    が計測流体の流れ方向に対して所定の角度をなして配置
    される支持体とを備え、 上記検出素子がその表面を上記支持体の表面とほぼ同じ
    面位置となるように、かつ、上記発熱体と上記流体温度
    検出体との配列方向を上記計測流体の流れ方向に対して
    直交するように上記凹部内に収納されて上記支持体に支
    持されている感熱式流量センサであって、 溝方向を上記計測流体の流れ方向とする溝が、上記検出
    素子の上記流体温度検出体の形成領域下部を通るように
    上記支持体に設けられていることを特徴とする感熱式流
    量センサ。
  2. 【請求項2】 上記流体温度検出体が上記平板状基板の
    一端側に形成され、上記検出素子が上記流体温度検出体
    の形成領域を含む上記検出素子の一端部を上記溝内に延
    出するように上記支持体に片持ちの形態に支持されてい
    ることを特徴とする請求項1記載の感熱式流量センサ。
  3. 【請求項3】 上記溝が上記支持体の上記計測流体の流
    れ方向の上流側端部まで延在していることを特徴とする
    請求項1又は請求項2記載の感熱式流量センサ。
  4. 【請求項4】 上記溝が上記支持体の上記計測流体の流
    れ方向の下流側端部まで延在していることを特徴とする
    請求項3記載の感熱式流量センサ。
  5. 【請求項5】 流体温度検出用ダイアフラムが上記流体
    温度検出体の形成領域下部にある該平板状基板を裏面側
    から部分的に除去して形成されていることを特徴とする
    請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の感熱式流量セ
    ンサ。
  6. 【請求項6】 上記計測流体を流通させる筒状の検出通
    路を備え、上記支持体が上記計測流体の流れ方向と直交
    する上記検出通路の通路断面を2分するように上記検出
    通路内に配設されていることを特徴とする請求項1乃至
    請求項5の何れかに記載の感熱式流量センサ。
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