JP2002340933A - 半導体装置の検査治具およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置の検査治具およびその製造方法

Info

Publication number
JP2002340933A
JP2002340933A JP2001148300A JP2001148300A JP2002340933A JP 2002340933 A JP2002340933 A JP 2002340933A JP 2001148300 A JP2001148300 A JP 2001148300A JP 2001148300 A JP2001148300 A JP 2001148300A JP 2002340933 A JP2002340933 A JP 2002340933A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
inspection jig
conductive resin
measurement
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001148300A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Komiyama
忠 込山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001148300A priority Critical patent/JP2002340933A/ja
Publication of JP2002340933A publication Critical patent/JP2002340933A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各測定端子を各電極に確実に接触させること
ができるとともに、低コストにより製造可能な半導体装
置の検査治具およびその製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】 半導体装置の電気的検査を行うため半導
体装置の複数の電極4に接触させる複数の測定端子20
を基板16上に設けた検査治具10であって、測定端子
20を熱硬化性の導電性樹脂で形成し弾性変形可能とし
た構成とした。その導電性樹脂は、エポキシ樹脂および
銀粉を主成分とする構成とした。なお測定端子20は、
印刷方式またはディスペンサ方式で形成する構成とし
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の検査治
具およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体チップ等の半導体装置は、一連の
製造工程を経て半導体ウエハ上に形成される。一般に半
導体装置の周辺部には、電源および信号の入出力のた
め、約100μm角のアルミニウム電極(パッド)が多
数形成されている。そして半導体装置の電気的検査を行
うため、この複数の電極と同時に接触する複数の測定端
子を有する検査治具が開発されている。なお電極の高さ
がばらつくので、各測定端子は高さ方向にある程度自由
に移動可能とする必要がある。そこで、ピンコンタクト
方式、ワイヤボンディング方式、多層ユニット方式など
の検査治具が開発されている。
【0003】上記のうち、多層ユニット方式の検査治具
および半導体装置の電極の側面断面図を図7に示す。同
図(1)は検査前の状態である。この方式では、基板1
12上に配線パターン118を形成し、その表面に異方
導電性を有する導電性ゴム117を貼り付ける。さらに
その導電性ゴムの表面には、金属製の測定端子120
を、半導体装置の電極104の位置に対応して形成す
る。この測定端子120の形成は、メッキやエッチング
などによって行う。このように形成した検査治具110
を、半導体装置を形成した半導体ウエハ102上に押し
付けると、各測定端子120が対応する電極104に接
触する。なお電極104の高さが少々ばらついていて
も、導電性ゴム117の弾性によりそのばらつきを吸収
して、全ての電極に測定端子を接触させることができ
る。その後、配線層118および測定端子120を介し
て電気信号を供給し、またこれらを介して電気信号を抽
出して、半導体装置の電気的検査を行う。なお異方導電
性を有する導電性ゴム117は、圧力の高い部分に沿っ
て導電性を示すため、測定端子120によって圧縮され
る垂直方向にのみ電気を導通することになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の多層ユニット方
式の検査治具では、電極104の高さのばらつきを吸収
するため、導電性ゴム117の弾性を利用している。し
かし、基板112上に貼り付けた導電性ゴム117の厚
さ方向の弾性率は高く、低硬度ゴム材料の使用やゴム厚
さの増加によりこれを低下させようとしても限界があ
る。従って、図7(2)に示すように、電極104の高
さのばらつきが大きい場合には、そのばらつきを吸収す
ることができずに、測定端子120を電極104に接触
させることができないという問題があった。
【0005】本発明は上記問題点に着目し、各測定端子
を各電極に確実に接触させることができる半導体装置の
検査治具およびその製造方法の提供を目的とする。
【0006】一方、上記の多層ユニット方式の検査治具
では、異方導電性を有する導電性ゴム117を使用する
ため、材料コストが高いという問題があった。また、配
線層118、導電性ゴム117および測定端子120を
それぞれ貼り合わせる必要があり、検査治具110の製
作が困難であるという問題があった。
【0007】また、従来のメッキによる測定端子120
の形成方法では、使用する自動メッキ装置が高価である
ばかりでなく、高さの高い測定端子120が形成できな
いという問題があった。またエッチングによる測定端子
120の形成方法では、測定端子120の形成に時間が
かかるという問題があり、この問題は高さの高い測定端
子120を形成する場合ほど顕著であった。
【0008】本発明は上記問題点に着目し、低コストに
より製造可能な半導体装置の検査治具およびその製造方
法の提供を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体装置の検査治具は、半導体装置
の電気的検査を行うため前記半導体装置の複数の電極に
接触させる複数の測定端子を基板上に設けた検査治具で
あって、前記測定端子を熱硬化性の導電性樹脂で形成し
弾性変形可能とした構成とした。導電性樹脂は、導電性
物質を成分とすることにより導電性を示すとともに、樹
脂成分を熱硬化させることにより弾性を示すことを特徴
とする。これにより、電極高さのばらつきが大きい場合
でもそのばらつきを吸収して、各測定端子を各電極に確
実に接触させることができる。また、材料費の高い導電
性ゴムではなく導電性樹脂を使用し、印刷方式またはデ
ィスペンサ方式により測定端子を形成することができる
ので、製造コストを低減することができる。
【0010】また、半導体装置の電気的検査を行うため
前記半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端
子を基板上に設けた検査治具であって、前記測定端子を
前記基板側に接続した基礎部と前記電極に接触する先端
部とで構成し、前記先端部を弾性変形可能とした構成と
した。なお前記測定端子は、前記基板側に接続した前記
基礎部の表面に前記先端部を被覆して構成してもよい。
また前記測定端子は、前記基板側に接続した前記基礎部
の上に前記先端部を積層して構成してもよい。
【0011】基礎部につき比較的弾性率の高い材料で形
成したので、配線層との接着を確保することができる。
また、測定端子全体の強度を向上させることができる。
一方、先端部の弾性率を基礎部の弾性率より低くしたの
で、電極との接触後に容易に弾性変形することができ
る。従って、電極高さのばらつきが大きい場合でもその
ばらつきを吸収して、各測定端子を各電極に確実に接触
させることができる。
【0012】また前記基礎部および前記先端部は、熱硬
化性の導電性樹脂で形成されている構成とするのが好ま
しい。これにより、電極高さのばらつきが大きい場合で
もそのばらつきを吸収して、各測定端子を各電極に確実
に接触させることができる。また、印刷方式またはディ
スペンサ方式により測定端子を形成することができるの
で、製造コストを低減することができる。
【0013】なお前記導電性樹脂は、エポキシ樹脂と銀
粉とを主成分とする構成とするのが好ましい。酸化され
にくく、導電性および熱伝導性が高い銀粉を主成分とす
ることにより、正確な検査を実施可能な測定端子を形成
することができる。また、紫外線硬化型接着剤であるエ
ポキシ樹脂を主成分とすることにより、配線層との良好
な接着を行うことができる。
【0014】なお、前記基板上に弾性層を形成し、その
弾性層の上に検査用信号の伝達をなす配線層を形成し、
その配線層の上に前記測定端子を設けた構成とするのが
好ましい。弾性層の弾性と測定端子の弾性との相乗効果
により、電極高さのばらつきが大きい場合でもそのばら
つきを吸収して、各測定端子を各電極により確実に接触
させることができる。また弾性層には導電性が必要ない
ので、製造コストを低減することができる。なお前記弾
性層は、ラバーシートで形成されている構成とするのが
好ましい。これにより、製造コストをより低減すること
ができる。
【0015】一方、本発明に係る半導体装置の検査治具
の製造方法は、半導体装置の電気的検査を行うため前記
半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子を
基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記測定
端子を形成すべき部分に貫通孔を有するマスクを前記基
板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を前記貫通孔に
押し込み、加熱して前記導電性樹脂を硬化させることに
より、前記測定端子を形成する構成とした。これによ
り、一括して複数の測定端子を形成することができるの
で、製造コストを低減することができる。また貫通孔内
で導電性樹脂を成型するので、高さの高い測定端子を形
成することができ、各測定端子を各電極に確実に接触さ
せることができる。
【0016】また、半導体装置の電気的検査を行うため
前記半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端
子を基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記
測定端子を形成すべき部分にペースト状の導電性樹脂を
ディスペンサ先端のノズルから滴下し、加熱して前記導
電性樹脂を硬化させることにより、前記測定端子を形成
する構成とした。この場合、汎用の設備を使用して測定
端子を形成することができるので、製造コストを低減す
ることができる。
【0017】また、半導体装置の電気的検査を行うため
前記半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端
子を基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記
測定端子を形成すべき部分に貫通孔を有するマスクを前
記基板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を前記貫通
孔に押し込み、前記測定端子が欠落した部分につきペー
スト状の導電性樹脂をディスペンサ先端のノズルから滴
下し、加熱して前記導電性樹脂を硬化させることによ
り、前記測定端子を形成する構成とした。これにより、
短時間で完全な検査治具を形成することができ、製造コ
ストを低減することができる。
【0018】なお、同一部分につき前記導電性樹脂の滴
下を複数回繰り返すことにより、前記測定端子の高さ寸
法を確保するのが好ましい。これにより、電極高さのば
らつきが大きい場合でもそのばらつきを吸収して、各測
定端子を各電極に確実に接触させることができる。
【0019】なお、請求項9ないし12のいずれかに記
載の半導体装置の検査治具の製造方法を実施した後、前
記測定端子を埋め込む樹脂層を前記基板上に形成し、前
記樹脂層とともに前記測定端子の先端を研磨した後、前
記樹脂層を溶解して、前記測定端子の高さ寸法を一定化
する構成とするのが好ましい。これにより、電極高さの
ばらつきが大きい場合でもそのばらつきを吸収して、各
測定端子を各電極に確実に接触させることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明に係る半導体装置の検査治
具およびその製造方法の好ましい実施の形態を、添付図
面に従って詳細に説明する。なお以下に記載するのは本
発明の実施形態の一態様にすぎず、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【0021】最初に、第1実施形態について説明する。
図1に第1実施形態に係る半導体装置の検査治具および
半導体装置の電極の側面断面図を示す。同図(1)は検
査前の状態であり、同図(2)は検査時の状態である。
第1実施形態に係る半導体装置の検査治具は、半導体装
置の電気的検査を行うため半導体装置の複数の電極4と
同時に接触する複数の測定端子20を基板16上に設け
た検査治具10であって、測定端子20を熱硬化性の導
電性樹脂で形成したものである。
【0022】検査治具10の製作では、まず測定端子形
成基板16を形成する。測定端子形成基板16は、半導
体装置の基材である半導体ウエハ2の材料と同等の熱膨
張係数を示す材料で形成するのが好ましい。これによ
り、高温雰囲気(130℃程度)における半導体装置の
電気的検査(バーイン)において、半導体ウエハ2上の
電極4および検査治具10の測定端子20が同等に熱膨
張するので、両者が確実に接触して検査を実施すること
ができる。具体的には、半導体ウエハ2の材料である単
結晶シリコンにより測定端子形成基板16を形成する。
また測定端子形成基板16は、半導体ウエハ2に形成さ
れた複数の半導体装置における全ての電極4をカバーし
うる大きさに形成する。これにより、複数の半導体装置
の電気的検査を同時に行うことができる。
【0023】なお、以下に述べる配線層18および測定
端子20の形成後に、測定端子形成基板16を外部接続
用のベース基板12に接着する。具体的には、ベース基
板12の表面に接着剤を塗布して接着層14を形成し、
測定端子形成基板16を接着する。なお、接着層14に
粘着シートを使用すれば、測定端子形成基板16以下を
交換可能とすることができる。これにより、後述する測
定端子20が摩耗した場合でも、新たに測定端子形成基
板16以下のみを製作して交換すればよく、製造コスト
を低減できると同時に、交換を容易に行うことができ
る。
【0024】測定端子形成基板16の表面には、配線層
18を形成する。配線層18は単層構造としてもよい
が、電源側の配線とGND側の配線とを絶縁層で分離し
て2層構造としてもよい。これにより、配線間の短絡に
よる検査不能を回避することができる。さらに複雑な配
線パターンが必要な場合には、配線間を多数の絶縁層で
分離した多層構造とすることもできる。なお配線層18
の表面には、測定端子20の形成部分を除きレジスト1
9を塗布して、配線の損傷を防止する。
【0025】その配線層18の表面に測定端子20を形
成する。測定端子20は熱硬化性の導電性樹脂で形成す
る。導電性樹脂は半導体チップのダイボンディング等に
利用されるペースト状の接着剤であり、加熱硬化させる
ことにより弾性を示すものである。導電性樹脂は、金属
粉や導電性カーボンなどの導電性物質を合成樹脂中に分
散させたものを主成分として、さらに添加剤や溶剤等を
加えて使用する。導電性物質としては、酸化されにく
く、導電性および熱伝導性が高く、樹脂加工条件で安定
している銀粉等を使用する。また合成樹脂としては、紫
外線硬化型接着剤であるエポキシ樹脂の他、シリコン樹
脂等を使用する。銀含有率は、導電性を発現させるため
少なくとも60重量%以上とし、好ましくは85〜90
重量%程度として金属と同等の導電性が得られるように
する。なお金属粉や導電性カーボンなどの導電性物質の
含有率を高くすることにより、測定端子20の耐摩耗性
を向上させることができる。これにより、測定端子形成
基板16以下の交換頻度が少なくなり、製造コストを低
減することができる。
【0026】測定端子20は先細形状に形成し、電極4
との接触時に容易に変形して電極4に過大な荷重が入力
されないようにするのが好ましい。すなわち、底面の直
径が100μm程度で、高さも100μm程度の、弾頭
形状に形成する。そしてこの測定端子20は、配線層1
8における配線上に形成する。なお導電性樹脂は接着性
を有するため、測定端子20の成型と同時に配線との接
着を行うことができる。加えて測定端子20は、検査す
べき半導体装置の電極4に対応する位置に形成する。こ
れにより、各測定端子20は各電極4に接触可能とな
る。
【0027】上記の測定端子は、以下の2つの方法によ
り形成する。第1の製造方法は、スクリーン印刷方式に
よるものである。図2に第1実施形態に係る半導体装置
の検査治具の、印刷方式による製造方法の説明図を示
す。同図(1)は製造装置の側面断面図である。印刷方
式による製造方法は、測定端子を形成すべき部分に貫通
孔32aを有するマスク31を基板16上に配置し、ペ
ースト状の導電性樹脂23を貫通孔32aに押し込み、
加熱して導電性樹脂23を硬化させるものである。
【0028】まず、測定端子形成基板16の表面に形成
した配線層18の上に、マスク31を配置する。マスク
31はステンレス等の金属材料で形成し、その厚さは形
成すべき測定端子の高さに合わせて例えば100μm程
度とする。また、マスク31の測定端子を形成すべき部
分に、エッチング等により貫通孔32aを穿設する。そ
の直径は形成すべき測定端子の直径に合わせて、例えば
100μm程度とする。
【0029】次に、マスク31上にペースト状の導電性
樹脂23を供給する。その傍らに、ゴム材料等で平板状
に形成されたスキージ33を配置する。そしてスキージ
33とマスク31との接線を中心軸として、導電性樹脂
23を供給した方向にスキージ33を傾倒させる。さら
にその傾倒方向にスキージ33を水平移動させて、導電
性樹脂23を貫通孔32aに押し込む。同様にして、マ
スク31に形成した全ての貫通孔に、導電性樹脂23を
押し込んでいく。
【0030】次に、マスク31を取り外す。ところで、
マスク31における貫通孔をエッチングにより形成する
場合には、マスク31の両表面から徐々にエッチングし
て貫通孔を形成するため、図2(2)に示すように、マ
スク31表面部の直径が厚さ方向中央部の直径より大き
い貫通孔32bが形成される。この貫通孔32b全体に
粘度の高い導電性樹脂23を押し込んでマスク31を持
ち上げると、マスク31のアンダーカット部分34が導
電性樹脂23を引き上げるので、導電性樹脂23が配線
層18からはがされてしまう場合がある。そこで、導電
性樹脂23の粘度をある程度低くする必要がある。もっ
とも粘度が低すぎると、マスク31を取り外した後に導
電性樹脂23が水平方向に広がって形状を維持すること
ができなくなる。従って、あらかじめ適当な粘度に設定
した導電性樹脂23を供給するか、または導電性樹脂が
適当な粘度となるまで加熱硬化させた後にマスクを取り
外すようにする。
【0031】次に、加熱して導電性樹脂23を完全に硬
化させる。加熱条件は、例えば180℃程度で数分間保
持する。こうして、貫通孔32aの形状に成型された測
定端子を得る。なお、この測定端子は弾性を具備する。
【0032】なお、測定端子の形成後にその先端を研磨
して、測定端子の高さ寸法および先端の平坦度を確保し
てもよい。図3に測定端子の研磨方法の説明図を示す。
まず図3(1)に示すように、測定端子20を埋め込む
形で、測定端子形成基板16の表面に樹脂層35を形成
する。次に図3(2)に示すように、測定端子20の先
端部分が削れるまで、樹脂層35の表面を研磨する。な
お、研磨はラッピング等の方法によって行うことができ
るが、その際研磨材には粒度の小さいものを使用し、工
具の押し付け圧力を低くして、時間をかけて研磨するこ
とにより、測定端子20の破損を防止することができ
る。次に樹脂層35の表面に溶剤を塗布して溶解させ、
図3(3)に示すように測定端子20を露出させる。な
お溶剤には、測定端子20を溶解しないものを使用す
る。以上により、測定端子20の高さ寸法を一定化する
とともに、端子先端の平面度を確保することができる。
これにより、電極高さのばらつきが大きい場合でもその
ばらつきを吸収して、各測定端子を各電極に確実に接触
させることができる。なお樹脂層35を全部溶解するこ
となく、図3(3)のように配線層18を被覆した状態
で残すことにより、上述したレジスト19(図1参照)
の代わりに、配線の損傷防止に利用することができる。
【0033】測定端子の第2の製造方法は、ディスペン
サ方式によるものである。図4に第1実施形態に係る半
導体装置の検査治具の、ディスペンサ方式による製造方
法の説明図を示す。同図(1)は製造装置の側面断面図
である。ディスペンサ方式による製造方法は、測定端子
を形成すべき部分にペースト状の導電性樹脂23をディ
スペンサ43先端のノズル43aから滴下し、加熱して
導電性樹脂23を硬化させるものである。
【0034】まず、配線層18を形成した検査治具10
をテーブル上にセットする。次に、ディスペンサ43に
導電性樹脂23を充填する。ディスペンサ43は、半導
体チップをリードフレームに接着する場合等に使用され
るものであり、注射器と同じ原理で先端のノズル43a
から導電性樹脂23を滴下することができる。近時で
は、ノズル43aの直径が100μm程度にまで小径化
されたディスペンサ43が開発されており、直径100
μm、高さ30μm程度の測定端子が、1回の滴下で形
成可能である。なお、導電性樹脂23の粘度が高すぎる
とノズル43aから滴下できなくなる一方で、粘度が低
すぎると滴下した後に導電性樹脂23が水平方向に広が
って形状を維持することができなくなる。従って、あら
かじめ適当な粘度に設定した導電性樹脂23を充填す
る。
【0035】次に、測定端子を形成すべき部分にロボッ
ト等によりディスペンサ43を移動させて、導電性樹脂
23を滴下する。なお、ディスペンサ43を移動させる
代わりに、XYテーブル上にセットした検査治具10を
移動させてもよい。いずれにしても汎用の設備を利用す
ることができる。同様にして、測定端子を形成すべき他
の部分にも導電性樹脂23を滴下する。次に、加熱して
導電性樹脂23を硬化させ、測定端子を得る。なお測定
端子の形成後に、上述した方法で測定端子の先端を研磨
して、測定端子の高さ寸法および先端の平坦度を確保し
てもよい。
【0036】なお上述したように、測定端子の第1の製
造方法である印刷方式において、マスクを取り外す際に
導電性樹脂が配線層から取り除かれてしまう場合があ
る。この場合に、測定端子の第2の製造方法であるディ
スペンサ方式によって補修を行うことができる。すなわ
ち、測定端子を形成すべき部分に貫通孔を有するマスク
を基板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を貫通孔に
押し込み、マスクを取り外す。次に、マスクとともに取
り除かれた測定端子の有無とその位置を検査する。そし
て測定端子が欠落した部分につき、ペースト状の導電性
樹脂をディスペンサ先端のノズルから滴下し、加熱して
前記導電性樹脂を硬化させることにより、新たな測定端
子を形成すればよい。これにより、短時間で完全な検査
治具を形成することができ、製造コストを低減すること
ができる。なお、印刷方式によるマスクを取り外した後
に加熱して導電性樹脂を硬化させてもよいが、ディスペ
ンサ方式による導電性樹脂の滴下後に加熱して全ての導
電性樹脂を硬化させるのが好ましい。これにより工程数
が少なくなり、製造コストを低減することができる。
【0037】ところで、上記ディスペンサ方式では、高
さの高い測定端子を形成するのが困難である。そこで図
4(2)に示すように、同一部分につき導電性樹脂の滴
下を繰り返すことにより、測定端子26の高さを確保す
ることができる。なお、滴下する度に加熱して導電性樹
脂を硬化させてもよいし、複数回の滴下後に加熱して導
電性樹脂をまとめて硬化させてもよい。図4(2)で
は、3回に分けて導電性樹脂23の滴下と熱硬化を繰り
返している。この場合、1回の滴下によって形成される
測定端子26aの高さは30μm程度であるが、3回の
滴下により測定端子26の高さを90μm程度とするこ
とができる。これにより、電極高さのばらつきが大きい
場合でもそのばらつきを吸収して、各測定端子を各電極
に確実に接触させることができる。
【0038】上記のように形成した第1実施形態に係る
半導体装置の検査治具の使用方法を、図1を用いて説明
する。まず、検査対象である半導体装置を形成した半導
体ウエハ2上に、検査治具10をセットする。その際、
半導体ウエハ2上の電極4の位置と、検査治具10の測
定端子20の位置とが一致するように、位置合わせした
上でセットする。そして図1(2)に示すように、両者
をウエハカセット6内に配置する。ウエハカセット6は
上板6a、下板6bおよびこれらの接触部分に配置され
たシール部材6cとで構成され、さらに真空ポンプ7が
接続されている。この真空ポンプ7によりウエハカセッ
ト6内の気圧を下げると、シール部材6cを圧縮しつつ
上板6aと下板6bとの距離が小さくなり、これらの間
に配置された検査治具10が半導体ウエハ2に押し付け
られる。これにより、検査治具10の測定端子20を半
導体ウエハ2上の電極4に接触させることができる。そ
の後、検査治具10を介して半導体装置に電気信号を供
給し、また半導体装置からの電気信号を抽出して、半導
体装置の電気的検査を行う。
【0039】上記のように構成した第1実施形態に係る
半導体装置の検査治具を上記のように使用することによ
り、検査治具の測定端子を半導体ウエハ上の電極に確実
に接触させることができる。この点、従来の多層ユニッ
ト方式による検査治具では、電極高さのばらつきを吸収
して測定端子を各電極に接触させるため、導電性ゴムの
弾性を利用していた。ところが、基板上に貼り付けた導
電性ゴムの厚さ方向の弾性率は高く、電極高さのばらつ
きが大きい場合にはそのばらつきを吸収することができ
ずに、測定端子を各電極に接触させることができないと
いう問題があった。
【0040】しかし第1実施形態に係る半導体装置の検
査治具では、測定端子を熱硬化性の導電性樹脂で形成し
弾性変形可能とした構成とした。導電性樹脂は、導電性
物質を成分とすることにより導電性を示すとともに、樹
脂成分を熱硬化させることにより弾性を示すことを特徴
とする。これにより、図1に示すように電極4bの高さ
が電極4aより極端に高い場合であっても、測定端子2
0bと電極4bとの接触後に測定端子20bが容易に弾
性変形するので、検査治具10が半導体ウエハ2にさら
に接近して、測定端子20aを電極4aに接触させるこ
とができる。従って、各測定端子を各電極に確実に接触
させることができる。また、測定端子自体の高さにばら
つきがある場合にも同様に、各測定端子を各電極に確実
に接触させることができる。
【0041】また第1実施形態に係る半導体装置の検査
治具は、従来の多層ユニット方式による検査治具とは異
なり、導電性ゴムを使用しない。材料費の高い導電性ゴ
ムではなく導電性樹脂を使用するので、製造コストを低
減することができる。また、従来の検査治具では測定端
子を形成すべき部分以外の部分にも導電性ゴムを配置し
ていたが、第1実施形態に係る検査治具では測定端子の
みを導電性樹脂で形成するので、この点でも製造コスト
を低減することができる。さらに、従来の検査治具では
導電性ゴムと配線層との接着および導電性ゴムと測定端
子との接着がいずれも困難であったが、第1実施形態に
係る検査治具では接着性を有する導電性樹脂を使用する
ので配線層との接着が容易であり、この点でも製造コス
トを低減することができる。加えて、印刷方式またはデ
ィスペンサ方式により測定端子を形成することができる
ので、この点でも製造コストを低減することができる。
【0042】また従来の検査治具では、コスト削減のた
め測定端子をハンダで形成する場合があった。ところが
ハンダによる測定端子は、高温雰囲気における検査で溶
融して半球状になり水平方向に広がってしまうので、測
定端子間のピッチが狭い場合(例えば150μm程度の
場合)には端子どうしが短絡する可能性があった。また
ハンダの表面に酸化被膜が形成されて、測定端子の抵抗
値が変化する場合があった。しかし第1実施形態に係る
検査治具では、測定端子を導電性樹脂で形成した構成と
した。これにより、高温雰囲気における検査でも溶融す
ることがないので、測定端子どうしが短絡する可能性も
ない。従って、測定端子間のピッチを狭くすることがで
きる。また、測定端子が酸化されにくく、その抵抗値が
変化することもない。
【0043】一方、印刷方式で測定端子を形成する第1
実施形態に係る検査治具の製造方法により、製造コスト
を低減することができる。この点、従来のメッキによる
測定端子の形成方法では、使用する自動メッキ装置が高
価であるばかりでなく、高さの高い測定端子が形成でき
ないという問題があった。またエッチングによる測定端
子の形成方法では、測定端子の形成に時間がかかるとい
う問題があり、この問題は高さの高い測定端子を形成す
る場合ほど顕著であった。
【0044】しかし、第1実施形態に係る検査治具の製
造方法では、測定端子を形成すべき部分に貫通孔を有す
るマスクを基板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を
貫通孔に押し込み、加熱して導電性樹脂を硬化させるこ
とにより、印刷方式で測定端子を形成する構成とした。
安価でスペースをとらない印刷機により、一括して複数
の測定端子を形成することができるので、製造コストを
低減することができる。また貫通孔内で導電性樹脂をあ
る程度硬化させて成型するので、高さの高い測定端子を
形成することができる。従って、各測定端子を各電極に
確実に接触させることができる。なお高さの高い測定端
子を形成すれば、研磨やエッチング等の加工を施すこと
により、測定端子の高さ寸法を一定化することができる
とともに、端子先端の平面度を確保することができる。
従って、各測定端子を各電極により確実に接触させるこ
とができる。
【0045】また、ディスペンサ方式により測定端子を
形成する第1実施形態に係る検査治具の製造方法では、
測定端子を形成すべき部分にペースト状の導電性樹脂を
ディスペンサ先端のノズルから滴下し、加熱して導電性
樹脂を硬化させることにより、測定端子を形成する構成
とした。この場合、汎用の設備を使用して測定端子を形
成することができるので、製造コストを低減することが
できる。また、印刷方式のようにマスクを形成する必要
がない。さらに、印刷方式のようにマスクの取り外しと
ともに測定端子が欠落することがなく、全ての測定端子
を確実に形成することができる。
【0046】次に、第2実施形態について説明する。図
5に第2実施形態に係る半導体装置の検査治具の側面断
面図を示す。第2実施形態に係る半導体装置の検査治具
は、半導体装置の電気的検査を行うため半導体装置の複
数の電極に接触させる複数の測定端子50、60を基板
16上に設けた検査治具10であって、測定端子50、
60を基板16側に接続した基礎部53、63と電極4
に接触する先端部52、62とで構成し、先端部52、
62を弾性変形可能としたものである。なお、第1実施
形態と同じ構成となる部分については、その説明を省略
する。
【0047】図5(1)に被覆構造の測定端子の側面断
面図を示す。被覆構造の測定端子50では、配線層18
の表面における測定端子形成位置の中央部に、基礎部5
3を形成する。基礎部53は比較的弾性率の高い導電性
樹脂で形成し、具体的にはエポキシ樹脂等の合成樹脂に
銀粉等の導電性物質を比較的多く混合したものを使用す
る。また、基礎部53の直径は測定端子50の直径の半
分程度に形成し、基礎部53の高さは測定端子50の高
さより若干低く形成する。一方、基礎部53の表面を被
覆するように先端部52を形成して、測定端子50を得
る。先端部52は基礎部53より弾性率の低い導電性樹
脂で形成し、具体的には基礎部53と同様にエポキシ樹
脂等の合成樹脂に銀粉等の導電性物質を比較的少なく混
合したものや、ゴム系の合成樹脂にカーボン等を混合し
たもの等を使用する。
【0048】上記の被覆構造の測定端子50は、以下の
方法で製造する。まず、第1実施形態で述べた印刷方式
により基礎部53を形成する。なお、マスクの厚さは形
成すべき基礎部53の高さと一致させ、マスクに形成す
る貫通孔の直径は基礎部53の直径と一致させる。次
に、第1実施形態で述べたディスペンサ方式により先端
部52を形成する。具体的には、上記マスクを取り外し
た後に、基礎部53の上から導電性樹脂を滴下して基礎
部53を被覆し、さらに加熱硬化させて形成する。な
お、先端部52は印刷方式により形成してもよい。この
場合、基礎部53を形成したマスクとは別に、先端部5
2の高さおよび直径に合わせたマスクを使用する。
【0049】一方、図5(2)に積層構造の測定端子の
側面断面図を示す。積層構造の測定端子60では、配線
層18の表面における測定端子形成位置の全体に、基礎
部63を形成する。基礎部63の直径は測定端子60の
直径と同等に形成し、基礎部63の高さは測定端子60
の半分程度に形成する。一方、基礎部63の上に積み重
ねるように先端部62を形成して、測定端子60を得
る。なお、基礎部63および先端部62の材料は、それ
ぞれ被覆構造の測定端子50における基礎部53および
先端部52の材料と同様である。
【0050】上記の積層構造の測定端子60は、以下の
方法で製造する。まず、第1実施形態で述べた印刷方式
により基礎部63を形成する。この場合、マスクの厚さ
は形成すべき基礎部63の高さと一致させ、マスクに形
成する貫通孔の直径は基礎部63の直径と一致させる。
なお、基礎部63はディスペンサ方式により形成しても
よい。次に、第1実施形態で述べたディスペンサ方式に
より先端部62を形成して、測定端子60を得る。具体
的には、上記マスクを取り外した後に、基礎部63の上
から導電性樹脂を滴下し、基礎部63に積み重ねて形成
する。
【0051】上記のように、第2実施形態に係る半導体
装置の検査治具は、測定端子を基板側に接続した基礎部
と電極に接触する先端部とで構成し、先端部を弾性変形
可能とした構成とした。基礎部につき比較的弾性率の高
い材料で形成したので、配線層との接着を確保すること
ができる。また、測定端子全体の強度を向上させること
ができる。なお基礎部は、例えば金属等で形成してもよ
い。この場合でも、上記と同様の効果を得ることができ
る。一方、先端部の弾性率を基礎部の弾性率より低くし
たので、電極との接触後に容易に弾性変形することがで
きる。従って、電極高さのばらつきが大きい場合でもそ
のばらつきを吸収して、各測定端子を各電極に確実に接
触させることができる。また電極との接触後に容易に弾
性変形することができるので、測定端子自体、検査治
具、半導体ウエハおよび電極等の破損を防止することが
できる。
【0052】また第2実施形態に係る半導体装置の検査
治具は、基礎部および先端部をいずれも導電性樹脂で形
成する構成とした。これにより、基礎部と先端部との間
を良好に接着することができる。また、第1実施形態で
説明した印刷方式またはディスペンサ方式により測定端
子を形成することができるので、製造コストを低減する
ことができる。
【0053】次に、第3実施形態について説明する。図
6に第3実施形態に係る半導体装置の検査治具の側面断
面図を示す。第3実施形態に係る半導体装置の検査治具
は、基板16上に弾性層17を形成し、その弾性層17
の上に検査用信号の伝達をなす配線層18を形成し、そ
の配線層18の上に測定端子21を設けたものである。
なお、第1または第2実施形態と同じ構成となる部分に
ついては、その説明を省略する。
【0054】測定端子形成基板16を形成した後、その
表面に弾性層17を形成する。弾性層17は、ラバーシ
ートを測定端子形成基板16に接着して形成する。半導
体装置の電気的検査を実施可能とするため、ラバーシー
トには十分な弾性および耐熱性が必要である。特に、高
温雰囲気における電気的検査に使用する検査治具である
ため、耐熱性として熱膨張率が小さく、なおかつ接着性
が悪化しないことが必要である。具体的には、ポリアセ
タール樹脂、ポリアミド樹脂またはシリコン樹脂等のラ
バーシートを使用する。一方、弾性層17の表面に検査
用信号の伝達をなす配線層18を形成し、さらにその上
に測定端子21を形成する。従って、弾性層17には導
電性が不要であり、従来技術のように導電性を有するラ
バーシートを使用する必要がない。
【0055】上記のように構成した第3実施形態に係る
半導体装置の検査治具では、弾性層の弾性と測定端子の
弾性との相乗効果により、電極高さのばらつきが大きい
場合でもそのばらつきを吸収して、各測定端子を各電極
に確実に接触させることができる。また弾性層には導電
性が必要ないので、製造コストを低減することができ
る。なお、第3実施形態の構成は、第1および第2実施
形態に係るいずれの半導体装置の検査治具にも適用する
ことができ、いずれの場合も上記の効果を得ることがで
きる。
【0056】
【発明の効果】半導体装置の電気的検査を行うため前記
半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子を
基板上に設けた検査治具であって、前記測定端子を熱硬
化性の導電性樹脂で形成し弾性変形可能とした構成とし
たので、各測定端子を各電極に確実に接触させることが
できるとともに、製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る半導体装置の検査治具およ
び半導体装置の電極の側面断面図であり、(1)は検査
前の状態であり、(2)は検査時の状態である。
【図2】第1実施形態に係る半導体装置の検査治具の、
印刷方式による製造方法の説明図であり、(1)は製造
装置の側面断面図であり、(2)はマスクの側面断面図
である。
【図3】測定端子の研磨方法の説明図である。
【図4】第1実施形態に係る半導体装置の検査治具の、
ディスペンサ方式による製造方法の説明図であり、
(1)は製造装置の側面断面図であり、(2)は高さの
高い測定端子の製造方法の説明図である。
【図5】第2実施形態に係る半導体装置の検査治具の側
面断面図であり、(1)は被覆構造の測定端子の側面断
面図であり、(2)は積層構造の測定端子の側面断面図
である。
【図6】第3実施形態に係る半導体装置の検査治具の側
面断面図である。
【図7】従来技術に係る半導体装置の検査治具および半
導体装置の電極の側面断面図であり、(1)は検査前の
状態であり、(2)は検査時の状態である。
【符号の説明】
2………半導体ウエハ 4,4a,4b………電極 6………ウエハカセット 6a………上板 6b………下板 6c………シール部材 7………真空ポンプ 10………検査治具 12………ベース基板 14………接着層 16………測定端子形成基板 17………弾性層 18………配線層 19………レジスト 20,20a,20b………測定端子 21………測定端子 23………導電性樹脂 26,26a………測定端子 31………マスク 32a,32b………貫通孔 33………スキージ 34………アンダーカット部 35………樹脂層 43………ディスペンサ 43a………ノズル 50………測定端子 52………先端部 53………基礎部 60………測定端子 62………先端部 63………基礎部 102………半導体ウエハ 104………電極 110………検査治具 112………ベース基板 117………弾性層 118………配線層 120………測定端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G003 AA10 AG03 AG04 AG07 AG12 AH00 2G011 AA03 AA12 AB08 AC14 AE03 AF07 2G132 AF07 AL03 4M106 AA01 BA01 CA61 DD03

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体装置の電気的検査を行うため前記
    半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子を
    基板上に設けた検査治具であって、前記測定端子を熱硬
    化性の導電性樹脂で形成し弾性変形可能としたことを特
    徴とする半導体装置の検査治具。
  2. 【請求項2】 半導体装置の電気的検査を行うため前記
    半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子を
    基板上に設けた検査治具であって、前記測定端子を前記
    基板側に接続した基礎部と前記電極に接触する先端部と
    で構成し、前記先端部を弾性変形可能としたことを特徴
    とする半導体装置の検査治具。
  3. 【請求項3】 前記測定端子は、前記基板側に接続した
    前記基礎部の表面に前記先端部を被覆して構成したこと
    を特徴とする請求項2に記載の半導体装置の検査治具。
  4. 【請求項4】 前記測定端子は、前記基板側に接続した
    前記基礎部の上に前記先端部を積層して構成したことを
    特徴とする請求項2に記載の半導体装置の検査治具。
  5. 【請求項5】 前記先端部は、熱硬化性の導電性樹脂で
    形成されていることを特徴とする請求項2ないし4のい
    ずれかに記載の半導体装置の検査治具。
  6. 【請求項6】 前記導電性樹脂は、エポキシ樹脂と銀粉
    とを主成分とすることを特徴とする請求項1または5に
    記載の半導体装置の検査治具。
  7. 【請求項7】 前記基板上に弾性層を形成し、その弾性
    層の上に検査用信号の伝達をなす配線層を形成し、その
    配線層の上に前記測定端子を設けたことを特徴とする請
    求項1ないし6のいずれかに記載の半導体装置の検査治
    具。
  8. 【請求項8】 前記弾性層は、ラバーシートで形成され
    ていることを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の
    検査治具。
  9. 【請求項9】 半導体装置の電気的検査を行うため前記
    半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子を
    基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記測定
    端子を形成すべき部分に貫通孔を有するマスクを前記基
    板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を前記貫通孔に
    押し込み、加熱して前記導電性樹脂を硬化させることに
    より、前記測定端子を形成することを特徴とする半導体
    装置の検査治具の製造方法。
  10. 【請求項10】 半導体装置の電気的検査を行うため前
    記半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子
    を基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記測
    定端子を形成すべき部分にペースト状の導電性樹脂をデ
    ィスペンサ先端のノズルから滴下し、加熱して前記導電
    性樹脂を硬化させることにより、前記測定端子を形成す
    ることを特徴とする半導体装置の検査治具の製造方法。
  11. 【請求項11】 半導体装置の電気的検査を行うため前
    記半導体装置の複数の電極に接触させる複数の測定端子
    を基板上に設けた検査治具の製造方法であって、前記測
    定端子を形成すべき部分に貫通孔を有するマスクを前記
    基板上に配置し、ペースト状の導電性樹脂を前記貫通孔
    に押し込み、前記マスクを取り外した後、前記測定端子
    が欠落した部分につきペースト状の導電性樹脂をディス
    ペンサ先端のノズルから滴下し、加熱して前記導電性樹
    脂を硬化させることにより、前記測定端子を形成するこ
    とを特徴とする半導体装置の検査治具の製造方法。
  12. 【請求項12】 同一部分につき前記導電性樹脂の滴下
    を複数回繰り返すことにより、前記測定端子の高さ寸法
    を確保することを特徴とする請求項10または11に記
    載の半導体装置の検査治具の製造方法。
  13. 【請求項13】 請求項9ないし12のいずれかに記載
    の半導体装置の検査治具の製造方法を実施した後、前記
    測定端子を埋め込む樹脂層を前記基板上に形成し、前記
    樹脂層とともに前記測定端子の先端を研磨し、前記樹脂
    層を溶解して、前記測定端子の高さ寸法を一定化するこ
    とを特徴とする半導体装置の検査治具の製造方法。
JP2001148300A 2001-05-17 2001-05-17 半導体装置の検査治具およびその製造方法 Withdrawn JP2002340933A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001148300A JP2002340933A (ja) 2001-05-17 2001-05-17 半導体装置の検査治具およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001148300A JP2002340933A (ja) 2001-05-17 2001-05-17 半導体装置の検査治具およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002340933A true JP2002340933A (ja) 2002-11-27

Family

ID=18993646

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001148300A Withdrawn JP2002340933A (ja) 2001-05-17 2001-05-17 半導体装置の検査治具およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002340933A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006080146A1 (ja) * 2005-01-31 2006-08-03 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology プローブカード、およびその製造方法。
JP2008506112A (ja) * 2004-07-07 2008-02-28 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド 膜懸垂プローブを具えるプローブヘッド
JP2008190885A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Micronics Japan Co Ltd 通電試験用プローブおよびその製造方法
WO2010082715A1 (ko) * 2009-01-16 2010-07-22 (주)아이에스시테크놀러지 전기적 접속체 및 그 전기적 접속체를 포함한 테스트 소켓
JP2015158464A (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 セイコーインスツル株式会社 弾性プロープおよびそれを用いる検査方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008506112A (ja) * 2004-07-07 2008-02-28 カスケード マイクロテック インコーポレイテッド 膜懸垂プローブを具えるプローブヘッド
JP2012068256A (ja) * 2004-07-07 2012-04-05 Cascade Microtech Inc 膜懸垂プローブを具えるプローブヘッド
WO2006080146A1 (ja) * 2005-01-31 2006-08-03 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology プローブカード、およびその製造方法。
JP2006208324A (ja) * 2005-01-31 2006-08-10 National Institute Of Advanced Industrial & Technology プローブカード、およびその製造方法。
EP1845382A1 (en) * 2005-01-31 2007-10-17 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Probe card and method for manufacturing same
US7683646B2 (en) 2005-01-31 2010-03-23 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology Probe card and method of producing the same by a fine inkjet process
CN101142487B (zh) * 2005-01-31 2010-05-26 独立行政法人产业技术综合研究所 探针卡及其制造方法
EP1845382A4 (en) * 2005-01-31 2010-06-23 Nat Inst Of Advanced Ind Scien PROBE CARD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
JP2008190885A (ja) * 2007-02-01 2008-08-21 Micronics Japan Co Ltd 通電試験用プローブおよびその製造方法
WO2010082715A1 (ko) * 2009-01-16 2010-07-22 (주)아이에스시테크놀러지 전기적 접속체 및 그 전기적 접속체를 포함한 테스트 소켓
JP2015158464A (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 セイコーインスツル株式会社 弾性プロープおよびそれを用いる検査方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6580035B1 (en) Flexible adhesive membrane and electronic device employing same
US6338195B1 (en) Connection sheet and electrode connection structure for electrically interconnecting electrodes facing each other, and method using the connection sheet
US20050014301A1 (en) Method and apparatus for processing semiconductor devices in a singulated form
JPH11191569A (ja) フリップチップ実装方法および半導体装置
JPH09312176A (ja) 接続部材および該接続部材を用いた電極の接続構造並びに接続方法
KR20080044326A (ko) 반도체 장치 및 그 제조 방법
KR20070076889A (ko) 이방성 도전 필름을 이용한 회로기판의 접속 구조체, 이를위한 제조 방법 및 이를 이용한 접속 상태 평가방법
US20140117544A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
JPH08279371A (ja) 接続部材および該接続部材を用いた電極の接続構造並びに接続方法
KR0180579B1 (ko) 프로브카드의 제조방법
US7056129B2 (en) Anisotropically electroconductive adhesive film, method for the production thereof, and semiconductor devices
JPH1032224A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH09127157A (ja) プローブ構造の製造方法
JP2715793B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPS63150930A (ja) 半導体装置
JP2002340933A (ja) 半導体装置の検査治具およびその製造方法
JPH05218137A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3509642B2 (ja) 半導体装置の実装方法および実装構造
US11125781B1 (en) Integrated substrate and manufacturing method thereof
JP2007110095A (ja) 電子部品内蔵基板及びその製造方法
JP2011023407A (ja) 半導体装置及び半導体装置の製造方法
JP2000091380A (ja) フリップチップの実装構造
JP2000068321A (ja) 半導体装置およびその製造方法
KR20120019038A (ko) 프로브 카드용 세라믹 기판 제조 방법 및 프로브 카드용 세라믹 기판
JP2002151558A (ja) 半導体検査装置の製造方法および半導体検査装置、ならびに半導体装置の検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080805