JP2002338213A - 三フッ化窒素の製造方法 - Google Patents
三フッ化窒素の製造方法Info
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Abstract
成長などの分野で広範な用途が見出される三フッ化窒素
の新規な製造方法を提供すること。 【解決手段】 窒素含有化合物をフッ素元素でフッ素化
することによる三フッ化窒素の製造方法であって、該フ
ッ素化が、無水フッ化水素中、−20℃〜0℃の温度に
おいて、フッ素/窒素含有出発化合物のモル比が3を超
えない条件で行われる、三フッ化窒素の製造方法。
Description
フッ化窒素の製造方法に関する。
レーザおよび化学気相成長の技術において、広範な応用
が見出されている。フッ素元素と対照して、フッ化窒素
は、75kgf/cm2までの圧力および600g/L
までの充填密度に圧縮された状態で輸送するのが容易で
ある(ジャーナル・オブ・フルオライン・ケミストリ
ー、1991年、54、No.1〜3、第37頁)。
したフッ化水素アンモニウムの電気分解と、フッ素元素
によるアンモニウムの直接フッ素化に基づいている。
的方法は、フッ化水素アンモニウムからのNF3の電気
化学的合成法である(グメリン・ハンドブック、1986
年、第4巻、第172〜173頁;ハンドブッフ・デル・プレ
パラチーフェン・アノルガニッシェン・ヘミー、ジー・
ブラウアー(編)、モスクワ、「ミール」パブリッシャ
ーズ1985年、第1巻、第220〜221頁(ロシア語訳))。
ロセスパラメータは、温度100〜130℃、NH4F
/HF比1.1〜1.8に相当する溶融成分、電流密度
0.05〜0.15A/cm2である。NF3の一般的
な収率は70%である。
素と水素との混合物の形成によって生じる爆発の危険
や、フッ化水素アンモニウムを得る段階でのアンモニア
ガスの使用などの不利益を欠点とする。さらに、この方
法の履行には、溶融フッ化水素アンモニウムの腐食活性
な媒体中で大抵安定な高価なニッケル含有構造材料を使
用することから、大量の資本投資が必要である。
現される爆発の危険を低減するために、窒素を用いてア
ノードガスをNF3濃度9.5%以下に希釈することを
想定した電気化学合成法が提案された(米国特許第3235
474号公報、204-63、1966年2月15日)。しかしながら、
生成するガスを窒素で希釈することは、三フッ化窒素精
製および濃縮装置において非常に多大な費用が加算され
る。
によって製造するための出発物質として、尿素および他
の窒素含有化合物の溶液、例えば、無水フッ化水素中の
ピリジン、ヒドラジン、グアニジン、セミカルバジドな
どを使用できることは文献から公知である(ツァイトシ
ュリフト・フエル・アノルガニッシェ・ウント・アルゲ
ミネ・ヘミー(Z.anorg.allgem.Chem.)1969年、第367
巻、第62〜79頁)。この方法によれば、三フッ化窒素が
収率16〜38%で得られる。
構は、以下の式で表される。
精製後に得られる電気分解性ガスは、CF4を10%ま
で含有していた。ピリジンのフッ素化では、CF4含量
が、得られる三フッ化窒素の容積の34%に達した。こ
の環境は、NF3を四フッ化炭素から分離するのが困難
であることから、NF3の精製を実質上複雑にする。前
記分離操作は、電気化学的なフッ素化方法では、式(1)
および(2)で表される前記方法の化学機構に引き続いて
行われるので、CO2、COF2およびCF4などの混
合物が(NF3収率が100%であれば)NF31モル
につき少なくとも0.5モル形成される。未精製の三フ
ッ化窒素中の大量の混合物と電気分解性ガス中の水素の
存在は、混合物からのガス精製方法のコストを増大し、
しかも前記方法を爆発安全性(explosion-safe)にする手
段を講じることを要する。
知の傾向は、以下の反応による、フッ素元素を用いたア
ンモニアの直接フッ素化である。
0):1の蒸気相中でフッ素元素を用いてアンモニアを
直接フッ素化することによる三フッ化窒素の合成は、フ
ッ素に基づいて計算された10〜25%までの収率で目
標生成物を生成できる(ジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ソサイエティ、1960年、82、第5301頁)。三フッ
化窒素の低収率は、反応温度の制御が複雑であること
と、窒素とフッ化水素を生成するNF3または中間合成
生成物とアンモニアとの相互作用に起因している。さら
に、形成されるフッ化アンモニア昇華物からのガス分離
に関する問題も伴う。
窒素の収率を上げるために、六フッ化硫黄、ヘキサフル
オロエタンまたはテトラフルオロメタンの存在下でのア
ンモニアのフッ素化についての方法が提案されている
(特開平2-255513号公報、C01B 21/083、19
90年10月16日)。
00):1でかつフッ素/アンモニアのモル比が(3〜
20):1、そして反応器内の温度が80〜250℃の
場合、NF3の収率は30〜59.5%であった。NF
3:SF6のモル比が4:100の場合に三フッ化窒素
の最高収率が得られた。この特開平2-255513号公報に
は、排気中の目標生成物の含量が1〜2容積%を超えて
はならず、しかもそのために、希釈ガスの再生と共に9
9%まで濃縮することが実質的な資本投入を要するとい
う結果が示唆されている。
物を希釈ガスから分離することは、技術的に煩雑な操作
である。そのため、この方法を工業的に履行する可能性
は高くない。
第4091081号公報、C01B 21/52、1978年5月
23日、および同第5637285号公報、C01B 21・
06、1997年6月10日の著者は、フッ化水素アンモニウ
ムの溶融物中に溶解したアンモニアを、フッ素元素を用
い、プロセス温度93〜209℃においてNF3:HF
モル比1:(2.0〜2.5)および1:(2.55〜
2.85)でそれぞれフッ素化することによる三フッ化
窒素の製造方法を提案した。
三フッ化窒素の合成を行うことは、発熱反応の熱の有効
な除去を提供し、そして該して、フッ化水素アンモニウ
ムを目標生成物から分離することに関する問題を解決す
る。
るには、前記技術においてアンモニウムとフッ素元素の
使用に関して厳密な爆発安全性手段を講じる必要があ
る。さらに、三フッ化窒素の収率が十分に高いと(65
%)、フッ素含有出発物質の消費量も弁解できないほど
多い。というのも、この技術において用いられるフッ素
の60%以上はフッ化水素アンモニウムに転化され、し
かもそれからのフッ化水素の再生が非常に煩雑であるた
めである。
で目的としている方法は、フッ素元素を用い、アルカリ
金属アミド、尿素、ビウレット、スルファミド、ホルム
アミド、ヒドラジン、エチレンジアミン、メラミンなど
の窒素−水素結合を有するアンモニア誘導体を、0〜3
00℃において触媒(HFとの酸塩を形成する金属フッ
素化物(米国特許第3961024号公報、C01B 21/5
2、1976年6月1日))の存在下で直接フッ素化すること
によるフッ化窒素の製造方法である。例えば、尿素とフ
ッ化ナトリウムまたはフッ化水素ナトリウムの50%混
合物を、F2を50体積%含有する気体混合物でフッ素
化することにより、HF3を10〜17体積%およびN
2F4を3〜13体積%含有する組成のガスが得られ
る。生成物ガスは、フッ化窒素と共に、COF2、CO
2、CF4およびNO3Fから成る混合物を含有してい
る。希釈されたフッ素元素によるビウレットとフッ化リ
チウムまたはフッ化水素ナトリウムとの(1:1)混合
物のフッ素化は、HF3を6〜47体積%およびN2F
4を2.6〜26体積%含有するガスの形成を導く。
ラフルオロヒドラジンの形成に起因するフッ化窒素の製
造過程の低い選択性、および再生されなければならない
大量の(100〜400%)触媒の使用である。
ける反応器の容積の増大は、冷却に関する問題を伴い、
同様に固体混合物の過熱は、試薬の焼結を導くと共に、
その後のフッ素化方法の速度を予測できないほど減速す
るのみならず、フッ素と混合すると爆発の危険のある混
合物を形成する、過剰量のアンモニアの放出を導く。
性を有する方法を提供すること、および該方法の選択性
を高めることである。
水素との混合物(溶液または懸濁液)を、三フッ化窒素
合成の選択性を保証する条件、すなわちプロセス温度−
20〜0℃において、フッ素/窒素含有化合物のモル比
が3を超えない条件で、フッ素元素を用いて直接フッ素
化することにより達成される。
成物、例えば、ビウレット、シアヌール酸、アンメライ
ド(ammelide)、メラミンおよびホルムアミドから成る群
より選択される。前記合成には尿素を使用するのが好ま
しい。というのも、尿素はより安価であって、しかも入
手がより容易な、取り扱い便利な出発化合物であるため
である。
する方法における三フッ化窒素の合成は、ほんの僅かな
前述反応(1)および(2)の進行と共に、以下の化学式で表
されるフッ素化反応の支配的な進行条件によって保証さ
れる。
−10℃までの温度、および出発化合物とのモル比が
0.5を超えないことに相当するフッ素元素の消費にお
いて行われる。この場合、条件は、以下の反応を進行さ
せるために規定される。
N2Oなどの混合物のうちのかなりの部分を事実上完全
に排除することを保証する。
合物の結晶化が開始するのに対し、−10℃を超える温
度では、フッ化窒素の減損が排気と共に増大する。開始
段階において、フッ素/出発化合物のモル比の0.5を
超える増加は、排気によるフッ化窒素の減損および最終
製品の収率の低下を導く。
フッ化物の形跡が排気中に現れるまで行われる。次い
で、フッ化窒素の形成後、更なるフッ素化は、好ましく
は、−15〜0℃においてフッ素/窒素含有出発化合物
のモル比が3.0を超えない条件で行われる。
でかつフッ素/窒素含有出発化合物のモル比が3を超え
ないときに達成されることに注意すべきである。
3モル以上に増加すると、最終製品中のCO2、COF
2、CF4などの前記混合物の濃度が急に増加する。0
℃を超えるフッ素化温度の上昇は、反応(1)および(2)の
支配的な進行および方法選択性の低下を導く。
少なくとも50重量%の濃度で使用される。フッ素元素
を90〜98重量%の濃度で使用するのが最も好都合で
ある。
合物の含量は、好ましくは20〜50重量%である。前
記混合物中の出発化合物の含量が20%以下であれば、
フッ素化速度は事実上低下する。同様に、出発化合物濃
度が50%を超える出発化合物と無水フッ化水素との混
合物を使用すると、溶液が結晶化して、合成方法に技術
的な問題が生じる。
cm2の圧力で進行する。
は液体噴霧式カラム内、または半球形反応器(bubble-ty
pe reactor)内で行われてよい。フッ素化方法の最も簡
易な器具備品は、冷却要素を備えた反応容器を包含す
る。反応容器に、尿素溶液または無水フッ化水素中の他
の出発化合物を満たし、フッ素元素をベローズ(bellow
s)を通じて供給する。温度制御および反応熱の除去は、
冷却要素に供給された−40℃のブラインの助けを借り
て行う。
は安定な化合物を形成しないので、後者の再生は、15
0℃までの温度において、HFに対して収率90%の留
出物に戻す。
F2、CO2、COF2、N2OおよびCF4を含有す
る気体混合物が得られ、これは、−40℃ブラインで冷
却した還流冷却器を通過して、余分なフッ素と他の酸化
物からKOHまたはK2CO 3溶液を用いたアルカリ精
製に付される。ガスの更なる精製は、吸着技術によっ
て、NF3含量が98.0〜99.0%の凝縮した三フ
ッ化窒素が得られるまで行われる。
法、電位差法、クロマトグラフィー法およびスペクトル
分析技術によって決定される。
によって三フッ化窒素を調製するための爆発安全性を有
する方法を提供している。この方法によれば、最高含量
の三フッ化窒素と最小濃度の混合物を含む生成物が90
%までの収率で得られる。温和なフッ素化条件は、前記
方法の器具備品を簡素化して、フッ素を含有する出発化
合物の高い利用度を達成する機会をもたらす。
るために記載されたものであるが、本発明はこれに限定
されない。実施例1 合成には容量60リットルの金属製反応容器を用いる。
この反応容器には、冷却用ジャケット、熱電対、フッ素
ガスを供給するためのベローズの形の気泡装置、反応容
器からのフッ化水素の流出物および損失を防ぐための−
35℃のブラインで冷却した還流冷却器、生成物の導入
および排出のためのプロセス連結パイプ、圧力感知器が
装備されている。
無水フッ化水素40kgを連続して導入する。得られた
20重量%濃度の尿素の無水フッ化水素溶液を−19℃
に冷却して、フッ素ガス(98体積%)5.7m3を、
フッ素化排気中のF2への転化に係る酸化剤含量が3.
0%を超えないことを確保する速度で供給する。酸化剤
含量は、ヨード滴定法で求める。フッ素と尿素のモル比
は1.5である。
冷却器内で冷却して、コンプレッサーの助けを借りてポ
ンプ引きして容量1m3のレシーバーに注入する。得ら
れた気体混合物は、以下の組成を有する。NF3、6
1.0(体積%);CF4、2.5(体積%);CO2
+COF2、5.3(体積%);N2F2、0.4(体
積%);N2O、2.1(体積%);酸化剤の合計、
2.7(体積%)。
を99.0体積%含有する凝縮された三フッ化窒素が得
られるまで、吸着技術によって行われる。
られた三フッ化窒素の体積と、この方法で消費されたフ
ッ素ガスの体積の三分の一との比から求められる。
られる結果を表に示す。
する。冷却した反応容器に、尿素20kgおよび無水フ
ッ化水素32kgを連続して導入する。得られる尿素の
無水フッ化水素溶液を、−20℃まで冷却して、フッ素
ガス(98体積%)を、フッ素化排気中のF2への転化
に係る酸化剤含量が0.5%を超えないことを確保する
速度で供給する。排気中にNF3が現れたときに、最初
に通過させたフッ素の体積は3m3である。この体積
は、F2:CO(NH2)2のモル比0.4に相当する。
反応容器から放出される気体混合物は、該して混合物
(CF 4、5.6(体積%);CO2+COF2、2
2.4(体積%);N2F2+NF2H、0.2(体積
%);N2O、11.2(体積%);酸化剤、0.4
(体積%))とNF30.7体積%を含有するが、これ
を還流冷却器で冷却して、石灰吸着剤を含むカラムを通
して分離する。
化は−5℃の温度で行う。フッ素ガスは、フッ素化排気
中のF2への転化に係る酸化剤含量が3.0%を超えな
いことを確保する速度で供給される。
冷却器で冷却し、コンプレッサーの助けを借りてポンプ
引きして容量1m3のレシーバーに注入する。得られる
気体混合物は、以下の組成を有する。NF3、86.2
(体積%);CF4、0.7(体積%);CO2および
COF2、4.3(体積%);N2F2、0.2(体積
%);N2O、2.7(体積%);酸化剤の合計、1.
5(体積%)。
り、これはF2:CO(NH2)2のモル比0.5に相当
する。
る。
行った。前記方法の条件および得られた結果を表に示
す。
またはその分解生成物を、無水フッ化水素中、−20℃
〜0℃の温度およびフッ素/窒素含有出発化合物のモル
比が3を超えない条件においてフッ素元素でフッ素化す
ることにより製造される。無水フッ化水素中の出発化合
物の濃度は、好ましくは20〜50重量%である。本発
明の方法は、爆発安全性を有し、三フッ化窒素の最高含
量と最小濃度の混合物を含む生成物を90%までの収率
で得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項1】 窒素含有化合物をフッ素元素でフッ素化
することによる三フッ化窒素の製造方法であって、該フ
ッ素化が、無水フッ化水素中、−20℃〜0℃の温度に
おいて、フッ素/窒素含有出発化合物のモル比が3を超
えない条件で行われる、三フッ化窒素の製造方法。 - 【請求項2】 無水フッ化水素中の窒素含有出発化合物
の濃度が20〜50重量%である請求項1記載の三フッ
化窒素の製造方法。 - 【請求項3】 窒素含有出発化合物が、尿素およびその
分解生成物から成る群より選択される請求項1記載の三
フッ化窒素の製造方法。 - 【請求項4】 フッ素化が、フッ素化の結果として形成
される排気中に三フッ化窒素が発現するときまで、好ま
しくは−20℃〜−10℃の温度において、フッ素/窒
素含有出発化合物のモル比が0.5を超えない条件で行
われる請求項1記載の三フッ化窒素の製造方法。 - 【請求項5】 フッ素化が、排気中に三フッ化窒素が発
現した後、好ましくは−15℃〜0℃の温度で行われる
請求項4記載の三フッ化窒素の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006089371A (ja) * | 2004-09-20 | 2006-04-06 | Air Products & Chemicals Inc | 三フッ化窒素の生成法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007526912A (ja) | 2004-01-30 | 2007-09-20 | グレート・レークス・ケミカル・コーポレーション | 製造方法並びにシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、燐酸エステル、グリコール、水性皮膜形成フォーム、及びフォーム安定剤 |
US7395823B2 (en) * | 2004-04-09 | 2008-07-08 | The Boc Group, Inc. | Method and apparatus for local fluorine and nitrogen trifluoride production |
KR100682728B1 (ko) * | 2005-04-06 | 2007-02-15 | 엘지전자 주식회사 | 카드수용장치를 포함하는 이동통신 단말기 |
US8318656B2 (en) | 2007-07-03 | 2012-11-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Production processes and systems, compositions, surfactants, monomer units, metal complexes, phosphate esters, glycols, aqueous film forming foams, and foam stabilizers |
US8163262B1 (en) | 2011-01-04 | 2012-04-24 | Omotowa Bamidele A | Method for production of nitrogen trifluoride from trimethylsilylamines |
CN105693557A (zh) * | 2016-01-04 | 2016-06-22 | 湖北卓熙氟化股份有限公司 | 一种氟化氢尿素及其制备方法 |
CN108689886B (zh) * | 2018-06-22 | 2021-06-15 | 湖北卓熙氟化股份有限公司 | 一种氟化氢尿素的制备方法 |
JP7353012B2 (ja) * | 2019-08-22 | 2023-09-29 | フジアン ヨンジン テクノロジー カンパニー リミテッド | 直接フッ素化によるフルオロベンゼンの製造プロセス |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3433595A (en) * | 1959-09-15 | 1969-03-18 | North American Rockwell | Method of preparing difluoramine and preparing tetrafluorohydrazine therefrom |
US3235474A (en) * | 1961-10-02 | 1966-02-15 | Air Prod & Chem | Electrolytic method of producing nitrogen trifluoride |
US3961024A (en) * | 1963-06-18 | 1976-06-01 | Allied Chemical Corporation | Fluoro compound production |
US4091081A (en) * | 1977-04-19 | 1978-05-23 | Air Products And Chemicals, Inc. | Preparation of nitrogen trifluoride |
JPS6071503A (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-23 | Central Glass Co Ltd | Νf↓3の製造法 |
JPH02255513A (ja) | 1989-03-28 | 1990-10-16 | Asahi Glass Co Ltd | 三フッ化窒素の製造方法 |
US5628894A (en) * | 1995-10-17 | 1997-05-13 | Florida Scientific Laboratories, Inc. | Nitrogen trifluoride process |
US5637285A (en) * | 1996-01-30 | 1997-06-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for nitrogen trifluoride synthesis |
JP3727797B2 (ja) * | 1998-05-22 | 2005-12-14 | セントラル硝子株式会社 | 三フッ化窒素の製造方法 |
-
2001
- 2001-05-08 RU RU2001112703/12A patent/RU2184698C1/ru not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-01-15 CN CNB021020019A patent/CN1260120C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-12 US US10/073,001 patent/US6821496B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2002-02-22 DE DE60201212T patent/DE60201212D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-02-22 EP EP02090070A patent/EP1256546B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-04-10 KR KR1020020019453A patent/KR100867582B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-05-07 JP JP2002131823A patent/JP2002338213A/ja not_active Ceased
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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