JP2002329311A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温高湿下のような厳しい環境下でも優れた
走行性を示す信頼性の高い磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜
から成る磁性層を形成し、他方の面に、間隙を有する金
属薄膜から成る補強層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性基板の一方
の面に磁性層（即ち、記録層）を、他方の面に補強層を
有する磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録分野においては、より多
くの情報を記録し得る、より小型の磁気記録媒体が要求
されている。この要求を満たす１つの方法として、強磁
性金属が蒸着されて成る強磁性金属薄膜で磁性層を構成
し、磁性層そのものを高密度記録に適したものにする方
法がある。そのような磁気記録媒体は一般に金属薄膜型
磁気記録媒体または高密度磁気記録媒体と称されてい
る。また、前記要求を満たす別法として、磁気記録媒体
をより薄くし、所定寸法のパッケージにより多くの磁気
記録媒体が収納されるようにする方法がある。この方法
によれば、省資源および低コストといった効果ももたら
される。

【０００３】磁気記録媒体を薄くする最も効果的な方法
は、磁気記録媒体の厚さの多くを占める非磁性基板の厚
さを薄くすることである。しかし、非磁性基板の厚さを
小さくすると、磁気記録媒体のスティフネス（剛性）が
小さくなり、実用上問題が生じる場合がある。そこで、
例えば特開平２−１３２６２８号公報、特開平７−３７
２４４号公報、特開平７−８５４６６号公報、特開平１
０−２７３２８号公報および特開平１０−１０５９４１
号公報等に記載されているように、非磁性基板の磁性層
が形成されている面とは反対の面に、金属の蒸着層が補
強層（バックコート層とも称される）として形成され、
この補強層により剛性が確保された磁気記録媒体が提案
されている。

【０００４】補強層を形成した磁気記録媒体を図面を参
照して説明する。図４に示す磁気記録媒体は磁気テープ
（110）である。この磁気テープ（110）は、磁性層（1
2）、保護層（13）および潤滑剤層（14）がこの順に非
磁性基板（11）の上に積層され、基板（11）の磁性層
（12）が形成されている面とは反対側の面に補強層（1
5）が形成された構造を有している。

【０００５】非磁性基板（11）は一般にポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリパラテ
トラアミド（以下、順にＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＰＴＡと略
する場合がある）等のポリマーから成る。これらの材料
から成る非磁性基板の磁性層と接する側の面には、Ｓｉ
Ｏ₂またはＺｎＯ等の無機物質から成る微粒子、あるい
はイミド等の有機物質から成る微粒子が分散して固着し
ている場合が多い。非磁性基板（11）の厚さは一般に約
２〜７μｍである。

【０００６】磁性層（12）は強磁性金属薄膜から成る。
磁性層（12）は、例えばＣｏ、ＮｉもしくはＦｅのよう
な強磁性金属、またはこれらを主成分とする合金から成
る層である。磁性層（12）は単層または多層構造を有す
る。磁性層（12）は、例えば連続的に金属蒸気の入射角
を変化させる斜方蒸着法等によって形成される。磁性層
（12）の厚さは一般に３０〜３００nmである。

【０００７】保護層（13）は、磁性層（12）がダメージ
を受けることを防止するために形成される。保護層（1
3）を構成する材料は、例えばダイヤモンドライクカー
ボンのような硬度の大きい物質である。保護層（13）の
厚さは一般に１〜３０nmである。

【０００８】潤滑剤層（14）は、例えばパーフルオロポ
リエーテル等の潤滑剤が塗布されて形成された層であ
る。その厚さは一般に０．０５〜１０nmである。

【０００９】補強層（15）は、適当な金属を例えば蒸着
させて形成した金属薄膜、適当な金属を酸素存在下で例
えば蒸着させて形成した酸化金属薄膜、あるいは炭素粒
子を含むバインダーを塗布して形成した炭素膜等であ
る。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のテ
ープ状の磁気記録媒体においては、磁気記録媒体全体の
スティフネスを高めるために補強層が設けられ、それに
より磁気記録媒体の耐久性の向上が図られている。しか
し、従来の磁気記録媒体は依然として耐久性の点におい
てなお改善を要するものであった。それは、補強層が金
属薄膜である場合、その表面が平坦であって粗度が小さ
いために、テープ走行系において大きな摩擦力を受ける
ことによる。

【００１１】金属薄膜である補強層が大きな摩擦力を受
けると、補強層を構成する金属粒子はその摩擦力を十分
に吸収できない。その結果、補強層の脆性破壊が生じ
る。補強層の脆性破壊は、テープの耐久性、走行性およ
び耐食性の低下を招き、磁気記録媒体の実用性を低減さ
せる。

【００１２】かかる問題を回避するために、例えば、補
強層の表面に潤滑剤層を形成して、摩擦係数を小さくす
ることが行われている。しかし、磁気記録媒体の性能向
上に関する要求は厳しく、より優れた耐久性および走行
性等を有する磁気記録媒体が常に望まれている。

【００１３】本発明はかかる実情に鑑みてなされたもの
であり、非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜から成
る磁性層を、他方の面に補強層を有して成る磁気記録媒
体であって、走行耐久性が向上した実用信頼性の高い高
密度磁気記録媒体を提供することを課題とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜
から成る磁性層を有し、他方の面に補強層を有して成る
磁気記録媒体であって、補強層が間隙を有する金属薄膜
である磁気記録媒体を提供する。

【００１５】本発明の磁気記録媒体は、補強層が間隙を
有する金属薄膜であることを特徴とする。金属薄膜それ
自体は、磁気記録媒体において補強効果を奏し、磁気記
録媒体の剛性を高くする。金属薄膜が有する間隙は、金
属薄膜の表面を不連続にして粗くし、テープの走行性を
向上させる。さらに、間隙は、ビデオデッキやカセット
デッキ等における走行系部材と磁気記録媒体との間に生
じる摩擦力を吸収し、それにより補強層の脆性破壊が低
減すると考えられる。したがって、本発明の磁気記録媒
体は、厳しい環境下で使用した場合でも、優れた走行性
および耐久性を示す実用信頼性の高いものとなる。

【００１６】一般に、間隙は補強層を貫通する。即ち、
間隙は、補強層の表面から非磁性基板の表面まで延びて
いる。但し、補強層を貫通しない「くぼみ」であって
も、補強層の厚さの１／３以上の深さを有する「くぼ
み」は、本発明において「間隙」に含まれる。

【００１７】間隙は、金属粒子が成長して形成された柱
状結晶粒と柱状結晶粒との間、複数の柱状結晶粒から成
る柱状結晶群と柱状結晶粒との間、ならびに／または柱
状結晶群と柱状結晶群との間に存在する。間隙を有する
金属薄膜の表面を模式的に図３に示す。図３において、
１つの柱状結晶粒および１つの柱状結晶群はともに１つ
の円で示す。図３に示すように、間隙の幅は、ある１つ
の柱状結晶粒（または柱状結晶群）（例えばＰ１）に着
目したときに、この柱状結晶粒（または柱状結晶群）と
これに最も近い柱状結晶粒（または柱状結晶群）（Ｐ
２）との間の距離（ｗ１）とする。即ち、隣接する柱状
結晶粒（または柱状結晶群）と柱状結晶粒（または柱状
結晶群）の中心を結んだ線分が間隙を横切る長さ（図に
おいて２つの円の外縁間の長さ）を柱状結晶粒間の距離
とし、この長さが最も短いものを間隙の幅とする。

【００１８】間隙の幅は、一定面積中（一般に１μ
ｍ²）に存在するｎ個の柱状結晶粒または柱状結晶群
（Ｐ１〜Ｐｎ）の各々について、それとそれに最も近い
柱状結晶粒または柱状結晶群との間の距離（ｗ１〜ｗ
ｎ）を測定し、それらを平均することにより求められ
る。図３に示すように、柱状結晶粒Ｐ２に最も近い柱状
結晶粒がＰ３であり、柱状結晶粒Ｐ３に最も近い柱状結
晶粒がＰ２である場合には、ｗ２＝ｗ３となる。

【００１９】間隙の幅は、好ましくは１．５〜６０nmの
範囲内にある。間隙の幅が１．５nm未満では磁気記録媒
体と走行系部材との間で生じる摩擦力を十分に吸収でき
ない。間隙の幅が６０nmを越えると、非磁性基板と補強
層との間の付着強度が小さくなり、走行中、補強層を構
成する金属が走行系に付着することがある。走行系に金
属が付着すると、当該走行系で磁気記録媒体を良好に走
行させることが難しくなる。

【００２０】本発明の磁気記録媒体を構成する補強層
は、支持体に支持された非磁性基板の一方の面に、金属
を蒸着させることにより形成される。

【００２１】金属を蒸着させる非磁性基板の表面が粗い
ほど、間隙はより形成されやすく、また、間隙の幅が大
きくなる。本発明においては、中心線平均粗さＲａが７
〜３０nmの範囲内にある非磁性基板の表面に、補強層を
形成することが好ましい。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な構成を説
明する。以下の説明を含む本明細書において、磁気記録
媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成する各層の
「表面」とは、各層が形成されたときに露出している
面、即ち、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味す
る。磁気記録媒体の構成に関して、磁気記録媒体を構成
する各層の「上」というときもまた、特に断りのない限
り、各層の非磁性基板から遠い側の面を意味し、反対
に、各層の「下」というときは各層の非磁性基板に近い
側の面を意味する。したがって、例えば、「磁性層の上
に」というときは、「磁性層の非磁性基板から遠い側の
面に隣接する位置に」を意味し、「磁性層の下に」とい
うときは、「磁性層の非磁性基板に近い側の面に隣接す
る位置に」を意味する。

【００２３】磁気記録媒体の「磁性層側表面」および
「補強層側表面」とは、それぞれ非磁性基板の２つの面
を基準としたときに磁性層および補強層が形成された側
の磁気記録媒体の露出表面をいう。したがって、例え
ば、非磁性基板の一方の面に形成された磁性層の上に保
護層および潤滑剤層が形成されている場合には、潤滑剤
層の露出表面が「磁性層側表面」に相当する。非磁性基
板の他方の面に形成された補強層の上に別の層（例えば
潤滑剤層）が形成されているときは、その別の層の露出
表面が「補強層側表面」に相当する。

【００２４】さらに、本明細書においては、非磁性基板
の磁性層が形成される面とは反対の面をバック面と呼ぶ
ことがある。

【００２５】本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板のバ
ック面に形成される補強層が間隙を有する金属薄膜であ
ることを特徴とする。

【００２６】この補強層は、磁性層の磁性に悪影響を及
ぼさないよう、非磁性体の金属から成るものであること
が好ましい。金属薄膜は、例えば、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、
Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｐｂおよ
びＣｏならびにこれらの合金等から成るグループから選
択される１つまたは複数の金属材料を用いて形成するこ
とができる。なお、Ｆｅ、ＮｉおよびＣｏは磁性体であ
るから、これらを使用する場合には、酸化して非磁性体
にした状態で補強層中に存在させることが好ましい。金
属薄膜は、単層膜の形態であってもよく、あるいは多層
膜の形態であってもよい。補強層の厚さは、５０〜５０
０nmとすることが好ましい。

【００２７】上記の金属のうち、特にＡｌまたはＡｌ系
合金は、低融点であり、蒸着で補強層を形成する場合に
は、基板等に与えるダメージを小さくし得るため好まし
く用いられる。Ａｌ系合金およびその他の合金には、耐
食性および機械的強度を向上させるために添加する添加
物として、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、ＭｇまたはＺｎ
等、一般的に使用されているものを任意に添加できる。

【００２８】本発明の磁気記録媒体において、補強層は
間隙を有する金属薄膜である。そのような金属薄膜は、
金属粒子が成長して形成された柱状結晶粒と柱状結晶粒
との間、複数の柱状結晶粒から成る柱状結晶群と柱状結
晶粒との間、ならびに／または柱状結晶群と柱状結晶群
との間に微小な空隙が存在する構造を有する。即ち、当
該空隙が補強層が有する間隙に相当する。

【００２９】補強層の表面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）および原子間力顕微
鏡（ＡＦＭ）で観察すると、間隙は黒っぽく見え、柱状
結晶粒または柱状結晶群は白っぽく見える。間隙の幅
は、一定面積（一般には１μｍ ²）中の各柱状結晶粒ま
たは柱状結晶群について、それとそれに最も近い柱状結
晶粒または柱状結晶群との間の距離を測定し、測定値を
平均することにより求める。

【００３０】間隙の幅は１．５〜６０nmの範囲内にある
ことが好ましく、５〜６０nmの範囲内にあることがより
好ましい。

【００３１】金属粒子から成る柱状結晶粒は、スパッタ
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法またはプラズ
マＣＶＤ法等によって形成される。柱状結晶粒間、柱状
結晶群間、および／または柱状結晶粒−柱状結晶群間に
空隙を存在させるように（即ち、間隙を有するように）
金属薄膜を形成させる方法としては、次のような方法が
ある。

【００３２】例えば、非磁性基板の補強層が形成される
表面の粗度を大きくし、粗い面に蒸着等により金属を付
着させると、間隙を有する金属薄膜を形成できる。非磁
性基板の補強層が形成される表面は、その中心線平均粗
さ（Ｒａ）が７〜３０nmの範囲内であることが好まし
い。

【００３３】非磁性基板の補強層が形成される表面は、
当該表面に突起を形成することによって粗くすることが
できる。突起は、例えば、ＳｉＯ₂もしくはＺｎＯ等の
無機物質から成る微粒子、またはイミド等の有機物質か
ら成る微粒子を、非磁性基板の表面に分散させ固着する
ことによって形成される。微粒子は、好ましくは０．１
〜３μｍの直径を有する。そのような微粒子は、非磁性
基板の表面１mm²につき５×１０³〜５×１０⁶個分散し
固着していることが好ましい。一般に、微粒子は、適当
な有機化合物（バインダー）によって非磁性基板の表面
に固着される。あるいは微粒子を含む高分子材料でフィ
ルムを製造することによっても、表面に微細な突起を有
する非磁性基板が得られる。

【００３４】非磁性基板の補強層が形成される表面に形
成される突起は、０．１〜３μｍの幅および１０〜１０
０nmの高さを有し、ほぼ一方向に実質的に連続的に延び
るミミズ状突起（または畝状突起）であってよい。「実
質的に連続的に延びる」ミミズ状突起には、十分に長い
ものではあるが、所定範囲（例えば非磁性基板の長手方
向の一端から他端）内で連続的に延在していない（即
ち、途切れている）ミミズ状突起も含まれる。ミミズ状
突起は、例えば、一方向に延伸した後の高分子フィルム
表面に、分子量３万〜３０万のシリコーン、分子量２万
〜１００万のスチレンおよびブタジエンゴムから選択さ
れる少なくとも１つの高分子材料と、分子量１万〜２０
０万の水溶性高分子を主成分とした水性エマルジョン液
を塗布し、直角方向に延伸し、必要に応じてさらに前記
一方向に延伸し、続いて熱処理して固定することにより
形成される。ミミズ状突起は、磁気記録媒体がテープで
ある場合には、テープの長手方向と平行な方向に延びる
ように形成される。高分子フィルムの表面にミミズ状突
起を形成する方法は、例えば特開昭５８−９２１４号公
報に開示されている。

【００３５】非磁性基板の補強層が形成される表面に
は、上記微粒子に由来する突起、および高分子により形
成される上記ミミズ状突起の両方が形成されてよい。例
えば、上記水性エマルジョン液に上記微粒子を分散させ
れば、ミミズ状突起および微粒子に由来する突起が表面
に形成された高分子フィルムを得ることができる。微粒
子を含む高分子材料を一軸延伸して得たフィルムに、上
記方法によりミミズ状突起を形成したフィルムもまた、
２種類の突起を表面に有するものとなる。

【００３６】非磁性基板の補強層が形成される表面の粗
さを調節することで、補強層に形成される間隙の幅を変
化させることができる。補強層を形成する非磁性基板の
表面が粗いほど（即ち、Ｒａが大きいほど）、間隙の幅
は大きくなる。Ｒａは、例えば、微粒子の数を増やすこ
とによって大きくできる。また、ミミズ状突起を形成す
るときに、水性エマルジョン中の高分子の量を増やすこ
とにより、ミミズ状突起の面積を大きくすることがで
き、それによりＲａを大きくすることができる。

【００３７】補強層を蒸着により形成する場合、非磁性
基板表面に酸素を供給しながら金属を蒸着させると、補
強層と非磁性基板との間の付着強度が大きくなる。一
方、間隙の幅は、供給酸素量が多いほど小さくなる傾向
にある。酸素とともに、窒素またはアルゴン等の不活性
ガスを供給すると、間隙が形成されやすくなる。したが
って、非磁性基板に酸素を供給しながら金属を蒸着させ
て補強層を形成する場合、酸素を供給することにより間
隙の幅が小さくなることを考慮して、非磁性基板のＲａ
を選択し、必要に応じて酸素とともに不活性ガスを供給
するとよい。

【００３８】金属薄膜を蒸着により形成する場合、蒸着
は柱状結晶粒を基板面に対して斜めに成長させる斜方蒸
着法により形成してよい。あるいは、金属薄膜は、柱状
結晶粒を基板面に対して垂直に成長させるように蒸着す
ることにより形成してよい。斜方蒸着は、適当な支持体
上を移動する非磁性基板上に、所定の高入射角成分から
低入射角成分の金属蒸気流を蒸着することによって実施
される。

【００３９】蒸着により金属薄膜を形成する場合、入射
角を変えることによって補強層中の間隙の形態を変化さ
せることができる。最大入射角および最小入射角が大き
いほど（即ち、低入射角成分が少ないほど）、間隙が形
成されやすく、間隙の幅が大きくなる傾向にある。

【００４０】図２の（ａ）および（ｂ）に、間隙を有す
る金属薄膜の一例の断面を模式的に示す。図２の（ａ）
および（ｂ）はそれぞれ、蒸着時の非磁性基板の進行方
向（即ち長手方向）に沿って切断した断面図である。図
２の（ａ）および（ｂ）において、金属薄膜（６）は、
粗度が大きい非磁性基板（１）の表面に形成されてい
る。図２の（ａ）に示す金属薄膜は、柱状結晶粒が斜め
方向に成長した構造を有し、図２の（ｂ）に示す金属薄
膜は、柱状結晶粒が基板表面に対して垂直に成長した構
造を有する。いずれの金属薄膜にも、柱状結晶粒間、柱
状結晶群間、および柱状結晶粒−柱状結晶群間に空隙が
存在する。この空隙が間隙（７）として、金属薄膜を不
連続にしている。

【００４１】図５に、補強層を形成するのに適した真空
蒸着装置の一例を示す。装置は、図示しない真空排気装
置に接続された真空室の中にあり、図中の矢印方向に回
転する冷却回転支持体（８）、送り出しロール（９）お
よび巻き取りロール（10）を有し、送り出しロール
（９）から巻き取りロール（10）に向かって、補強層を
形成すべき基板（１）が走行するように構成されてい
る。図５に示す装置では、冷却回転支持体（８）として
キャン状回転支持体が使用されているが、冷却回転支持
体はベルト状支持体であってもよい。

【００４２】冷却回転支持体（８）の下方には耐熱容器
（るつぼ）（11）が設けられ、この耐熱容器（11）に補
強層を形成する金属材料が充填される。耐熱容器（11）
の配置場所は図５に示す位置に限られず、例えば、図５
に示す位置よりも右または左に設置してもよい。

【００４３】冷却回転支持体（８）の近傍に設けられて
いる防着板（12，12'）は、蒸発した金属材料が、基板
（１）の所定領域以外に付着することを防止するために
設けられる。図示した態様では、最小入射角αから最大
入射角α’までの成分が蒸着されるように、防着板（1
2，12’）および耐熱容器（11）が配置されて蒸着領域
を画定している。ここで、蒸着領域とは、蒸着装置にお
いて金属が基板に専ら蒸着する領域を意味する。蒸着領
域の面積は、防着板の位置、および金属が入れられた耐
熱容器（るつぼ）と基板との間の距離等によって決定さ
れる。蒸着領域の面積および／または入射角を変えるた
めに、防着板（12，12'）は、耐熱容器（11）との位置
関係を考慮して、図５に示す位置以外の位置に配設して
よい。

【００４４】最小入射角αおよび最大入射角α’は、金
属粒子が蒸着される方向、すなわち入射角を示してい
る。図５に示すように、入射角は、るつぼ（11）の中心
と非磁性基板（１）を結ぶ線と非磁性基板表面の法線と
がなす角度に相当する。るつぼ（11）の中心と非磁性基
板（１）を結ぶ線が、非磁性基板表面の法線から非磁性
基板の走行方向とは反対の方向にある場合、入射角はマ
イナスの値をとる。したがって、図５においては、αが
マイナスの値をとる。金属薄膜は、絶対値が小さい入射
角成分が多いほど、緻密になり間隙の幅は小さくなる。
金属蒸気流において絶対値が大きい入射角成分が多いほ
ど、柱状結晶粒の傾きが大きくなるとともに、金属薄膜
において間隙が形成されやすく、また間隙の幅が大きく
なる傾向にある。

【００４５】図５に示す製造装置には、酸素供給ノズル
（13）が設置されている。酸素は、金属薄膜と非磁性基
板との間の付着強度を大きくするために導入される。一
般に、酸素の供給は、真空室を１×１０^-5〜１×１０^-1
Ｐａの低圧状態とした後、酸素供給ノズル（13）から酸
素を導入することにより行う。酸素の供給は、排気装置
によって真空室内を排気しながら実施する。

【００４６】非磁性基板（１）表面に酸素を供給しなが
ら、ＡｌまたはＡｌ系合金を蒸着させると、酸化アルミ
ニウムを含む金属薄膜が基板（１）上に形成される。図
５に示す装置では、蒸着領域の終端付近である防着板
（12）の右端に酸素供給ノズル（13）を設置している。

【００４７】酸素供給ノズル（13）は、その吹出し口の
幅が非磁性基板（１）の幅と同一であって、非磁性基板
の幅方向に均一に酸素が供給されるようになっているこ
とが望ましい。酸素供給ノズルは複数設けてもよい。

【００４８】前述のとおり、供給酸素量が多いほど、緻
密な補強層が形成され、間隙の幅が小さくなる傾向にあ
る。

【００４９】補強層を形成する条件は、間隙の形成に適
した条件となるように適宜設定する。例えば、アルミニ
ウム金属を蒸着させて補強層を形成する場合、蒸着レー
トを０．１〜１μｍ／秒、蒸着領域の面積を０．０１〜
０．３ｍ²、基板の走行速度を３〜２００ｍ／分、酸素
供給ノズルと基板との間の距離を１０〜１００mm、入射
角を−９０°（α）〜９０°（α’）、より好ましくは
−５０°（α）〜５０°（α’）とすれば、間隙を有す
る金属薄膜を補強層として形成することができる。この
とき、金属薄膜と非磁性基板の付着強度を大きくするた
め、酸素を０．１〜２．０リットル／分の流量で非磁性
基板に向けて供給することが好ましい。

【００５０】入射角の絶対値（｜α｜、｜α’｜）を大
きくするほど、間隙の幅は大きくなる。しかし、絶対値
の大きい入射角成分が金属蒸気流に多く含まれるほど、
形成される金属薄膜が弱くなる傾向にあるため、入射角
の絶対値は最大で５０°とすることが好ましい。

【００５１】補強層は、非磁性基板に磁性層が形成され
た後に、非磁性基板のバック面に形成してもよい。その
場合、磁性層の存在により、冷却回転支持体（８）によ
る非磁性基板（１）の冷却効率が低下する。したがっ
て、輻射熱を小さくし、磁性層を含む非磁性基板（１）
の熱負荷を抑え得るよう、補強層を形成する金属の融点
は低いものであることが望ましい。かかる理由によって
も、補強層は、アルミニウムまたはアルミニウム系合金
で形成することが好ましい。

【００５２】本発明の磁気記録媒体は、補強層が間隙を
有する金属薄膜である限りにおいて、任意の構成とする
ことができる。したがって、上記において説明した補強
層以外の要素、例えば、非磁性基板、磁性層、保護層お
よび潤滑剤層は常套の材料および方法で構成することが
できる。以下、それらの要素を図面を参照して説明す
る。

【００５３】図１に、本発明の磁気記録媒体が磁気テー
プである場合において、当該磁気テープを長手方向に沿
って切断した断面を示す。図１に示す磁気記録媒体（10
0）は、非磁性基板（１）の上に、磁性層（２）、保護
層（３）および潤滑剤層（４）がこの順に積層され、基
板（１）の磁性層（２）が形成されている面とは反対の
面に補強層（６）が形成されている。補強層（６）は金
属薄膜であり、図２の（ａ）または図２の（ｂ）に示す
ような構造を有する。

【００５４】本発明の磁気記録媒体においては、非磁性
基板（１）のバック面に補強層（６）を形成することに
より磁気記録媒体に必要な剛性を確保できるので、非磁
性基板（１）の厚さは薄くてもよい。非磁性基板の厚さ
は、２〜７μｍであることが好ましい。２μｍ未満であ
ると表面に磁性層（２）を形成することが困難となる。
７μｍを超えると磁気記録媒体全体に占める非磁性基板
の割合が大きくなり高密度磁気記録媒体としては不利で
ある。非磁性基板（１）の材料や構造は特に限定されな
い。例えば、非磁性基板の材料は、ＰＥＴ、ＰＥＮおよ
びＰＰＴＡ等から成るグループから選択できる。

【００５５】補強層（６）を蒸着により形成する場合に
は、蒸着時の加熱により非磁性基板等の熱負荷が大きく
なる。そのため、耐熱性に劣る非磁性基板を用いると、
基板が溶融あるいは変色するおそれがある。熱負荷を軽
減するためには、蒸着時の巻き取り張力を高くして冷却
を強化すればよい。しかし、非磁性基板（１）に磁性層
（２）が形成されている場合に、巻き取り張力を大きく
すると磁性層（２）にクラックが生じる場合がある。ク
ラックは、非磁性基板（１）の厚さが小さいほど形成さ
れやすい。そのため、補強層を高温雰囲気下で形成する
場合には、非磁性基板はＰＥＮおよびＰＰＴＡのような
耐熱性材料から成るものであることが望ましい。

【００５６】非磁性基板（１）の磁性層（２）が形成さ
れる面には、磁気記録媒体の走行性を向上させるため
に、ＳｉＯ₂もしくはＺｎＯ等の無機物質またはイミド
等の有機物質から成る直径５〜１００nmの微粒子が１μ
ｍ²につき３〜１５０個、分散し固着していることが望
ましい。微粒子は、非磁性基板（１）のバック面にも分
散し固着していることが望ましい。前述のとおり、非磁
性基板のバック面に存在する微粒子は、補強層における
間隙の形成を促進する。微粒子が分散し固着した非磁性
基板は、例えば、特開平９−１６４６４４号公報および
特開平１０−２６１２１５号公報等に開示されている。

【００５７】本発明の磁気記録媒体を構成する磁性層は
強磁性金属薄膜から成る。磁性層に適した強磁性金属と
しては、Ｆｅ系金属、Ｃｏ系金属、およびＮｉ系金属が
ある。本発明においてはＣｏ系金属またはＮｉ系金属で
磁性層を形成することが好ましい。ここで、「Ｃｏ系金
属」とは、コバルト、およびコバルトを主成分として好
ましくは５０原子％以上含む合金をいう。「Ｆｅ系金
属」および「Ｎｉ系金属」も同様である。

【００５８】磁性層は、具体的には、Ｆｅ、Ｃｏおよび
Ｎｉ、ならびにＦｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｐ
ｔ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐｔ−Ｃｒ、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｍｎ−ＢｉおよびＭｎ−Ａｌ等の合
金から選択される１つまたは複数の材料で形成される。
磁性層は単層膜の形態であってもよく、あるいは多層膜
の形態であってもよい。磁性層は記録に関与しない下地
層を有していてよい。金属薄膜型磁気記録媒体におい
て、磁性層の厚さは通常３０〜３００nmである。

【００５９】磁性層の一般的な形成方法としては、酸素
雰囲気下で、ＣｏもしくはＣｏ−Ｎｉ合金等の強磁性金
属に所定範囲の入射角で電子ビームを照射して金属を蒸
発させ、これを、キャン状回転体等の冷却回転支持体に
沿って移動する非磁性基板上に蒸着させる方法がある。
それ以外の方法としては、例えば、抵抗加熱法もしくは
外熱るつぼ法等により蒸着源を加熱して実施する蒸着、
イオンプレーティングまたはスパッタリングがある。磁
性層は、例えば斜方蒸着法により形成される。

【００６０】本発明では、磁性層の形成（または成膜）
速度の観点から、非磁性基板に、強磁性金属もしくは合
金を斜方から蒸着させる斜方蒸着法によって磁性層を形
成することが好ましい。この場合、非磁性基板の冷却回
転支持体は、キャン状回転体またはベルト状支持体であ
ってよい。生産効率の点からは、蒸着領域の広いベルト
状支持体を用いることが望ましい。

【００６１】保護層（３）は、例えば、スパッタリング
もしくはプラズマＣＶＤ等の方法で得られる、アモルフ
ァス状、グラファイト状もしくはダイヤモンド状の炭素
から成る炭素膜、あるいはそれらの炭素を混合および／
または積層して形成した炭素膜である。

【００６２】本発明では特にダイヤモンド状の炭素、す
なわちダイヤモンドライクカーボンで保護層（３）を形
成することが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは
適度な硬度を有するため、磁気ヘッドを損傷することな
く、磁気記録媒体の損傷を抑制し得ることから、最も好
ましい材料である。

【００６３】いずれの材料を用いて薄膜を形成する場合
も、保護層（３）の厚さは１〜３０nmであることが好ま
しい。

【００６４】潤滑剤層（４）を形成する潤滑剤は、磁気
記録媒体用の潤滑剤として汎用されているものから任意
に選択できる。潤滑剤は、例えば、パーフルオロポリエ
ーテル等のフッ素系潤滑剤であることが好ましい。潤滑
剤層は、潤滑剤以外の成分として、例えば極圧剤および
／または防錆剤等を含んでよい。潤滑剤層は、例えば、
潤滑剤を適当な溶媒に溶解または分散させた塗布液を保
護層（保護層が形成されていない場合には磁性層）の上
に塗布した後、溶媒を蒸発させることによって形成でき
る。潤滑剤層の厚さは通常０．０５〜１０nmである。

【００６５】図１は保護層および潤滑剤層が磁性層側に
のみ設けられた磁気記録媒体を示している。潤滑剤層
は、補強層の表面にも形成してよい。その場合には、よ
り優れた保存性および走行性を有する磁気記録媒体を得
ることができる。

【００６６】補強層（６）については先に述べたとおり
であるから、ここではその説明を省略する。

【００６７】このように形成される本発明の磁気記録媒
体は、その補強層（６）が間隙を有する金属薄膜である
ために、良好な走行性を示す。また、繰り返し走行させ
たときでも、補強層（６）が脆性破壊しにくく、優れた
耐久性を示す。したがって、本発明は、磁気テープ、特
に金属薄膜型磁気テープに最も好ましく適用される。

【００６８】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。

【００６９】（実施例１：試料１Ａ〜１Ｇ、１ａ〜１
ｄ）図１に示す形態の磁気記録媒体を以下の手順で作製
した。まず、非磁性基板（１）として、厚さ４．８μ
ｍ、幅１５０mm、長さ２０００ｍのＰＥＴフィルムを用
意した。このフィルムの磁性層を形成する面には、Ｓｉ
Ｏ₂から成る直径１０〜７０nmの微粒子が１μｍ²あたり
５〜１００個均一に分散し固着していた。また、このフ
ィルムの補強層を形成する面には、ＳｉＯ₂からなる直
径０．３〜１．５μｍの微粒子が１mm²あたり１×１０⁵
〜１×１０⁶個均一に分散し固着して突起が形成され、
さらに高分子から成り、非磁性基板の長手方向で実質的
に連続的に延びる幅０．５〜１．５μｍ、高さ２０〜６
０nmのミミズ状突起が形成されており、当該面のＲａは
１５nmであった。

【００７０】このＰＥＴフィルムの表面に、Ｃｏを用い
て斜方蒸着法により、厚さ２００nmの強磁性金属薄膜を
磁性層として形成した。蒸着は、ＰＥＴフィルムを冷却
回転支持体であるベルト状支持体上で冷却し走行させな
がら実施した。

【００７１】次に、図５に示す装置を用いて、非磁性基
板のバック面（磁性層が形成された面とは反対の面）に
図２の（ｂ）に示す構造の補強層を形成した。その手順
は次のとおりである。まず、排気装置を用いて真空室内
のガスを排出させ、真空室内の圧力を７×１０^-3Ｐａと
した。そして、基板（１）の走行速度を５ｍ／分、最大
入射角（α’）を２０度、最小入射角（α）を−２０
度、蒸着領域の面積を０．０５ｍ²に設定した。アルミ
ニウム金属の入ったるつぼ（11）を加熱して、蒸着レー
トを０．１３μｍ／秒として蒸着を開始するとともに、
蒸着領域の終端付近に基板から約１０mm離して設置した
酸素供給ノズル（13）から、酸素を非磁性基板（１）に
向けて供給した。

【００７２】酸素流量は０リットル／分〜２．５リット
ル／分の範囲で試料ごとに変えて、試料ごとに間隙の幅
がそれぞれ異なる補強層を形成した。いずれの試料も、
その補強層の厚さは５００nmとした。

【００７３】各試料の補強層を、走査型電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）および原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）により観察し、補強層の間隙の幅を求め
た。間隙の幅は、補強層表面１μｍ²に含まれる各柱状
結晶粒または各柱状結晶群について、それとそれに最も
近い柱状結晶粒または柱状結晶群との間の距離を測定
し、測定した距離を平均することにより求めた。

【００７４】次に、磁性層の上に、メタンをイオン化す
るプラズマＣＶＤ法によって、ダイヤモンドライクカー
ボンから成る厚さ１０nmの保護層を形成した。さらに、
保護層上に、含フッ素カルボン酸系潤滑剤を有機溶媒に
溶かした溶液を塗布し、乾燥させて、厚さ４nmの潤滑剤
層を形成した。それから、各試料を１／４インチ幅にス
リットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。

【００７５】（実施例２：試料２Ａ〜２Ｃ、２ａ〜２
ｄ）磁気記録媒体の非磁性基板として、厚さ４．８μ
ｍ、幅１５０mm、長さ２０００ｍのＰＥＴフィルムであ
って、バック面のＲａが異なる７種類のＰＥＴフィルム
を用意した。バック面のＲａは、ＳｉＯ₂から成る直径
０．１〜３．０μｍの微粒子の数、および高分子から成
るミミズ状突起の幅およびミミズ状突起間の間隔を変え
ることによって、それぞれ異なるようにした。いずれの
ＰＥＴフィルムも、磁性層を形成する面にはＳｉＯ₂か
ら成る直径５〜１００nmの微粒子が１μｍ²あたり５〜
５０個均一に分散し固着していた。

【００７６】次に、実施例１と同様にして磁性層および
補強層等を形成して磁気記録媒体を得た。補強層は、い
ずれも酸素流量を１．５リットル／分にして形成した。
本実施例においても、各試料について、実施例１と同様
にして、補強層を形成した後に間隙の幅を測定した。

【００７７】（実施例３：試料３Ａ〜３Ｇ、３ａ〜３
ｄ）非磁性基板を、厚さ４．８μｍ、幅１５０mm、長さ
２０００ｍのＰＥＮフィルムであって、磁性層を形成す
る面に有機物から成る直径１０〜７０nmの微粒子が１μ
ｍ²あたり５〜５０個均一に分散し固着しているフィル
ムを用意した。このフィルムのバック面には、有機物か
らなる直径０．１〜０．５μｍの微粒子が１mm²あたり
１×１０⁶〜１×１０⁷個均一に分散し固着して突起が形
成され、さらに高分子から成り、非磁性基板の長手方向
で実質的に連続的に延びる幅０．２〜２．０μｍ、高さ
１０〜６０nmのミミズ状突起が形成されており、当該面
のＲａは１２nmであった。

【００７８】磁性層および補強層等は実施例１と同様に
して形成した。さらに、各試料に実施例１と同様にして
保護層および潤滑剤層を形成した後、各試料を１／４イ
ンチ幅にスリットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。
本実施例においても、各試料について、実施例１と同様
にして、補強層を形成した後に間隙の幅を測定した。

【００７９】（実施例４：試料４Ａ〜４Ｇ、４ａ〜４
ｄ）非磁性基板を、厚さ４．８μｍ、幅１５０mm、長さ
２０００ｍのＰＰＴＡフィルムであって、磁性層を形成
する面に直径５０〜２００nmの微粒子が１μｍ²あたり
１〜２０個均一に分散し固着しているフィルムを用意し
た。このフィルムのバック面には、高さ５０nm以上のス
パイク状の突起が１mm²あたり１×１０⁵〜１×１０⁶個
均一に形成されており、当該面のＲａは１３nmであっ
た。

【００８０】磁性層および補強層等は実施例１と同様に
して形成した。さらに、各試料に実施例１と同様にして
保護層および潤滑剤層を形成した後、各試料を１／４イ
ンチ幅にスリットしてテープ状の磁気記録媒体を得た。
本実施例においても、各試料について、実施例１と同様
にして、補強層を形成した後に間隙の幅を測定した。

【００８１】得られた試料について、それぞれ以下に示
す評価試験を実施した。 （１）走行耐久性試験（ヘッド目詰まり） ＲＦ（高周波）出力測定用に改造した市販デジタルＶＴ
Ｒ(松下電器(株)製、ＮＶ−ＤＪ１）を用い、各テープ
試料を４０℃、８０％ＲＨの環境下で１００パス繰り返
し再生し、再生中のＲＦ出力から瞬時ヘッド目詰まりの
発生回数を測定した。瞬時ヘッド目詰まりは、繰り返し
再生中、ＲＦ出力が２ｄＢ以上低下したときに発生した
ものとして計数した。

【００８２】（２）動摩擦係数μｋ 摩擦部材（ステンレス製（ＳＵＳ３０３、表面粗さ０．
２Ｓ）、外径２mm）に、巻き付け角９０°で補強層を内
側にして試料を巻き付け、入側張力を０．１Ｎとし、１
８．８mm／秒で往復走行させる。初期（１パス目）およ
び１００パス目の出側張力を測定し、次式（オイラーの
式）から摩擦係数を算出した。測定環境は４０℃、８０
％ＲＨである。

【００８３】

【数１】μ＝［ｌｎ（出側張力／入側張力）］・２／π

【００８４】各試料の試験結果を、補強層形成時の酸素
流量、間隙の幅の平均値、ならびに非磁性基板のバック
面のＲａ（実施例２のみ）とともに、表１〜４に示す。

【００８５】

【表１】

【００８６】

【表２】

【００８７】

【表３】

【００８８】

【表４】

【００８９】表１に示すとおり、本発明の磁気記録媒体
に相当する試料１Ａ〜１Ｇを高温高湿度環境下で繰り返
し走行させても、走行中、瞬時目詰まりの発生回数は少
なかった。特に、間隙の幅の平均が５nm以上である試料
１Ｃ〜１Ｇについては、瞬時目詰まりが殆ど発生せず、
１００パス目の動摩擦係数も初期のそれと殆ど変わらな
い。したがって、１Ａ〜１Ｇの試料はいずれも優れた走
行性および走行耐久性を有する磁気テープであることが
わかる。

【００９０】一方、間隙の幅１．５nm未満である試料１
ａおよび１ｂ、ならびに間隙の幅のが６０nmを越える試
料１ｃおよび１を繰り返し走行させたところ、瞬時目詰
まりの発生回数が極めて多く、また、試料１ｃおよび１
ｄの初期および１００パス目の動摩擦係数はいずれも高
かった。

【００９１】表２に示すように、Ｒａが７〜３０nmの範
囲内にある非磁性基板の表面に補強層を形成した試料２
Ａ〜２Ｃにおいて、間隙の幅は１．５〜６０nmであっ
た。これらの試料を高温高湿度環境下で繰り返し走行さ
せても、走行中の瞬時目詰まりの発生は少なかった。ま
た、それらの試料の初期の動摩擦係数は低く、１００パ
ス目の動摩擦係数は初期のそれから殆ど上昇していな
い。したがって、試料２Ａ〜２Ｃはいずれも優れた走行
性および走行耐久性を有する磁気テープであることがわ
かる。

【００９２】Ｒａが７nm未満である非磁性基板の表面に
補強層を形成した試料２ａおよび２ｂにおいて、間隙の
幅は１．５nm未満であった。また、Ｒａが３０nmを超え
る非磁性基板の表面に補強層を形成した試料２ｃおよび
２ｄにおいて、間隙の幅は６０nmを越えた。これらの試
料を高温高湿度環境下で繰り返し走行させると、瞬時目
詰まりが頻発した。また、これらの試料の初期の動摩擦
係数は高く、１００パス目の動摩擦係数は初期のそれか
ら著しく増加している。

【００９３】実施例３および４で作製した試料は、非磁
性基板をＰＥＮフィルムおよびＰＰＴＡフィルムとした
磁気記録媒体である。表３および表４より、本発明の磁
気記録媒体に相当する試料３Ａ〜３Ｇおよび試料４Ａ〜
４Ｇは、試料１Ａ〜１Ｇと同様、優れた走行性および走
行耐久性を有する磁気テープであることがわかる。

【００９４】（実施例５：試料５Ａ〜５Ｇ、５ａ〜５
ｄ）磁気記録媒体の非磁性基板として、厚さ３．８μ
ｍ、幅１５０mm、長さ２０００ｍのＰＥＮフィルムを用
意した。このフィルムの磁性層を形成する面には、有機
材料からなる直径３０〜７０nmの微粒子が１μｍ²当た
り５〜２０個均一に分散し固着していた。このフィルム
のバック面には、有機物からなる直径０．１〜０．５μ
ｍの微粒子が１mm²あたり１×１０⁶〜１×１０⁷個均一
に分散し固着して突起が形成され、さらに高分子から成
り、非磁性基板の長手方向で実質的に連続的に延びる幅
０．２〜２μｍ、高さ１５〜６０nmのミミズ状突起が形
成されており、当該面のＲａは１１nmであった。

【００９５】このＰＥＮフィルムの表面に、Ｃｏを用い
て斜方蒸着法により、厚さ１５０nmの強磁性金属薄膜を
磁性層として形成した。蒸着は、ＰＥＮフィルムを冷却
回転支持体であるベルト状支持体上で冷却し走行させな
がら実施した。

【００９６】次に、図５に示す装置を用いて、実施例１
と同様の方法で、酸素流量を試料ごとに変えて、非磁性
基板のバック面に補強層を形成した。

【００９７】補強層を形成した後、各試料の補強層を、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で観察し、実施
例１と同様にして補強層の間隙の幅を求めた。

【００９８】次に、磁性層の上に、メタンをイオン化す
るプラズマＣＶＤ法によって厚さ１０nmのダイヤモンド
ライクカーボンから成る保護層を形成した。さらに、保
護層上に、パーフルオロポリエーテル系潤滑剤を有機溶
媒に溶かした溶液を塗布し、乾燥させて、厚さ４nmの潤
滑剤層を形成した。続いて、同じ潤滑剤を用いて、同様
の方法で、補強層表面に潤滑剤層を形成した。それか
ら、各試料を１／４インチ幅にスリットしてテープ状の
磁気記録媒体を得た。

【００９９】得られた試料の性能を評価した。性能は、
上記（１）走行耐久性試験および（２）動摩擦係数に加
えて、耐食性に関する下記の保存試験を実施することに
より評価した。

【０１００】（３）保存試験 錆および変色の発生 試料を、ＤＶフォーマットのカセットに入れ、温度６０
℃、湿度９０％の環境下で１ヶ月放置した後、磁性層お
よび補強層の表面における錆および変色の発生状況を目
視および光学顕微鏡で観察した。評価基準は次のとおり
である。 ○...目視および光学顕微鏡による観察で、錆および変
色の発生はいずれの部分においても認められなかった。 ○△...目視による観察では錆および変色は観察されな
かったが、光学顕微鏡による観察でリッド部で若干の点
錆が認められた。 △...目視による観察でリッド部で若干の変色が認めら
れた。 △×...目視による観察でリッド部で明らかな変色が認
められた。 ×...目視による観察でリッド部および巻中で明らかな
変色が認められた。

【０１０１】保存後走行耐久性試験 放置した試料を、上記（１）走行耐久性試験と同じ方法
で繰り返し再生して、瞬時目詰まりの発生回数を測定し
た。

【０１０２】実施例５で得た試料の試験結果を、補強層
形成時の酸素流量と間隙の幅の平均値とともに表５に示
す。

【０１０３】

【表５】

【０１０４】表５に示すように、補強層表面に潤滑剤層
を設けることにより、繰り返し走行させたときの瞬時目
詰まりの発生がさらに抑制される。また、１００パス目
の動摩擦係数の上昇も殆どなく、試料５Ａ〜５Ｇは優れ
た走行耐久性を示すことがわかる。

【０１０５】試料５Ａ〜５Ｇは、テープリールに巻かれ
た状態で保存されると、補強層側表面と磁性層側表面が
接触した状態で保存される。試料５Ａ〜５Ｇの補強層に
形成された間隙は潤滑剤を保持するので、これらの試料
においては、保存中、間隙内に保持された潤滑剤が補強
層側表面から磁性層側表面へ長期間にわたって供給され
る。そのため、試料５Ａ〜５Ｇについては、高温高湿度
環境に曝した後も磁性層における錆等の発生ならびに補
強層における変色等がなく、表面腐食は認められなかっ
た。このことは、補強層表面に形成した潤滑剤層が金属
薄膜中の間隙と相俟って磁気記録媒体の耐食性の向上に
寄与していることを示している。

【０１０６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気記録
媒体は、非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜から成
る磁性層を有し、他方の面に補強層を有して成る磁気記
録媒体であって、補強層が間隙を有する金属薄膜である
ことを特徴とする。この特徴により、厳しい環境下でも
補強層の脆性破壊が抑制されるため、良好な走行性およ
び走行耐久性が磁気記録媒体に付与される。したがっ
て、本発明によれば、繰り返し再生する場合でも良好な
走行性が維持される、信頼性の高い高密度磁気記録媒体
を得ることができる。さらに、潤滑剤層を補強層の上に
形成することにより、耐食性がより向上した磁気記録媒
体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の磁気記録媒体の一例を模式的に示す
断面図である。

【図２】 （ａ）および（ｂ）はそれぞれ、本発明の磁
気記録媒体の補強層の一例を模式的に示す断面図であ
る。

【図３】 本発明の磁気記録媒体の補強層の一例を模式
的に示す平面図である。

【図４】 従来の磁気記録媒体の一例を模式的に示す断
面図である。

【図５】 本発明の磁気記録媒体の補強層を形成する装
置の一例を模式的に示す図である。

【符号の説明】

１、１１...非磁性基板 ２、１２...磁性層（強磁性金属薄膜） ３、１３...保護層 ４、１４...潤滑剤層 ６...補強層 １５...補強層 １００，１１０...磁気記録媒体（磁気テープ） ７...間隙 ８...冷却回転支持体 ９...送り出しロール １０...巻き取りロール １１...耐熱容器 １２，１２'...防着板 １３...酸素供給ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5D006 AA01 CB01 CB03 CB07 CC01 CC03 EA03 FA02 FA05 5D112 AA02 AA07 AA08 AA22 BA01 BD03 FA02 FB20

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板の一方の面に強磁性金属薄膜
   から成る磁性層を有し、他方の面に補強層を有して成る
   磁気記録媒体であって、補強層が間隙を有する金属薄膜
   である磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 間隙の幅が１．５〜６０nmの範囲内にあ
   る請求項１に記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 補強層がアルミニウムまたはアルミニウ
   ム系合金から成る金属薄膜である請求項１または請求項
   ２に記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 補強層が蒸着法によって形成された金属
   薄膜である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記
   録媒体。
5. 【請求項５】 補強層が、酸素雰囲気中で蒸着法により
   形成された金属薄膜である請求項１〜３のいずれか１項
   に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 非磁性基板が、ポリエチレンナフタレー
   ト又はポリパラテトラアミドから成るフィルムである請
   求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
7. 【請求項７】 磁性層の上に形成された保護層および保
   護層の上に形成された潤滑剤層をさらに含む請求項１〜
   ６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
8. 【請求項８】 補強層の上に形成された潤滑剤層をさら
   に含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気記録媒
   体。
9. 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁
   気記録媒体を製造する方法であって、補強層を、金属を
   非磁性基板の表面に蒸着させることにより形成すること
   を含む製造方法。
10. 【請求項１０】 補強層を、中心線平均粗さが７〜３０
    nmの範囲内にある非磁性基板の表面に形成する請求項９
    に記載の磁気記録媒体の製造方法。
11. 【請求項１１】 補強層を酸素雰囲気中で蒸着する請求
    項９または請求項１０に記載の磁気記録媒体の製造方
    法。