JP2002320850A - 触媒及びその触媒を用いた排気ガス浄化装置 - Google Patents
触媒及びその触媒を用いた排気ガス浄化装置Info
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Landscapes
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 微細な形態と高い比表面積を有するメソポー
ラス金属酸化物を触媒担体として利用し、耐久性と触媒
性能が改良された触媒を提供する。 【解決手段】 メソポーラス金属酸化物に、活性物質が
直接担持された触媒である。第1の態様として、メソポ
ーラスシリカの細孔の内部に、前記細孔の直径と同等な
直径を有する活性物質が担持され、第2の態様として、
メソポーラスジルコニアにロジウムが担持され、第3の
態様として、メソポーラスチタニアに白金が担持されて
触媒が構成される。また、第2と第3の態様の触媒は、
NOx吸蔵還元型触媒と併用され、NOx浄化性能が改良
された排気ガス浄化装置を提供することができる。
ラス金属酸化物を触媒担体として利用し、耐久性と触媒
性能が改良された触媒を提供する。 【解決手段】 メソポーラス金属酸化物に、活性物質が
直接担持された触媒である。第1の態様として、メソポ
ーラスシリカの細孔の内部に、前記細孔の直径と同等な
直径を有する活性物質が担持され、第2の態様として、
メソポーラスジルコニアにロジウムが担持され、第3の
態様として、メソポーラスチタニアに白金が担持されて
触媒が構成される。また、第2と第3の態様の触媒は、
NOx吸蔵還元型触媒と併用され、NOx浄化性能が改良
された排気ガス浄化装置を提供することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、メソポーラス金属
酸化物を触媒担体として利用した触媒、及びその触媒を
備えた排気ガス浄化装置に関する。
酸化物を触媒担体として利用した触媒、及びその触媒を
備えた排気ガス浄化装置に関する。
【0002】
【従来の技術】自動車用エンジン等の内燃機関から排出
される排気ガスには、窒素酸化物(NOx)、炭化水素
(HC)、及び一酸化炭素(CO)の有害物質が含ま
れ、これらの有害物質は、一般に、白金等の金属を触媒
成分として用いた三元触媒、あるいは、三元触媒にアル
カリ金属又はアルカリ土類金属の助触媒成分を付加し、
NOx浄化能力を高めたNOx吸蔵還元型触媒のような触
媒によって浄化される。
される排気ガスには、窒素酸化物(NOx)、炭化水素
(HC)、及び一酸化炭素(CO)の有害物質が含ま
れ、これらの有害物質は、一般に、白金等の金属を触媒
成分として用いた三元触媒、あるいは、三元触媒にアル
カリ金属又はアルカリ土類金属の助触媒成分を付加し、
NOx浄化能力を高めたNOx吸蔵還元型触媒のような触
媒によって浄化される。
【0003】このNOx吸蔵還元型触媒は、排気ガス中
のNOxを、常時は空燃比がリーン(空気過剰)の条件
下でアルカリ金属又はアルカリ土類金属の硝酸塩の形態
で捕獲し、一時的なストイキ(理論空燃比)〜リッチ
(燃料過剰)の条件下で、その捕獲されたNOxを放出
し、排気ガス中のHCやCOの還元性成分を利用して、
触媒成分の作用によりNOxを還元浄化させる。
のNOxを、常時は空燃比がリーン(空気過剰)の条件
下でアルカリ金属又はアルカリ土類金属の硝酸塩の形態
で捕獲し、一時的なストイキ(理論空燃比)〜リッチ
(燃料過剰)の条件下で、その捕獲されたNOxを放出
し、排気ガス中のHCやCOの還元性成分を利用して、
触媒成分の作用によりNOxを還元浄化させる。
【0004】こうした三元触媒又はNOx吸蔵還元型触
媒は、一般に、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニ
ア等の金属酸化物の粉末を触媒担体として使用し、それ
に上記の触媒成分と助触媒成分が担持された構成され
る。触媒担体の特性としては、一般に、触媒成分が排気
ガスと高い効率で接触するための高い比表面積と、排気
ガス雰囲気下の耐久性が必要とされ、通常は、約180
m2/gの比表面積を有するγ−アルミナが、触媒担体
として使用される。
媒は、一般に、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニ
ア等の金属酸化物の粉末を触媒担体として使用し、それ
に上記の触媒成分と助触媒成分が担持された構成され
る。触媒担体の特性としては、一般に、触媒成分が排気
ガスと高い効率で接触するための高い比表面積と、排気
ガス雰囲気下の耐久性が必要とされ、通常は、約180
m2/gの比表面積を有するγ−アルミナが、触媒担体
として使用される。
【0005】ところで、メソポーラスシリカを触媒担体
として使用した触媒が、特開平11−169717号公
報に記載されている。この公報では、メソポーラスシリ
カに酸化物をコートすることで触媒成分の結合性が改良
され、触媒成分は、酸化物のコート層に担持されるとし
ている。
として使用した触媒が、特開平11−169717号公
報に記載されている。この公報では、メソポーラスシリ
カに酸化物をコートすることで触媒成分の結合性が改良
され、触媒成分は、酸化物のコート層に担持されるとし
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
メソポーラス金属酸化物を触媒担体として用いた触媒
は、例えば、自動車の排気ガス浄化用触媒に使用するに
は、触媒性能について改善の余地があった。具体的に
は、上記の三元触媒やNOx吸蔵還元型触媒において
は、γ−アルミナ等の触媒担体に担持された白金等の触
媒成分が経時的にシンタリングし、耐久性に改良の必要
性があった。また、上記のNOx吸蔵還元型触媒におい
ては、一層の環境保護のため、NOx浄化性能をさらに
高めることが望まれる。
メソポーラス金属酸化物を触媒担体として用いた触媒
は、例えば、自動車の排気ガス浄化用触媒に使用するに
は、触媒性能について改善の余地があった。具体的に
は、上記の三元触媒やNOx吸蔵還元型触媒において
は、γ−アルミナ等の触媒担体に担持された白金等の触
媒成分が経時的にシンタリングし、耐久性に改良の必要
性があった。また、上記のNOx吸蔵還元型触媒におい
ては、一層の環境保護のため、NOx浄化性能をさらに
高めることが望まれる。
【0007】したがって、本発明は、メソポーラス金属
酸化物の微細な形態を触媒担体に利用し、それによっ
て、より優れた触媒性能を有する触媒、例えば高い活性
や高い耐久性を有する触媒、及びその触媒を備えた改良
された排気ガス浄化装置を提供することを目的とする。
酸化物の微細な形態を触媒担体に利用し、それによっ
て、より優れた触媒性能を有する触媒、例えば高い活性
や高い耐久性を有する触媒、及びその触媒を備えた改良
された排気ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、メソポー
ラス金属酸化物に活性物質が直接担持された触媒によっ
て達成される。即ち、本発明の触媒は、メソポーラス金
属酸化物を担体として利用した触媒であり、メソポーラ
ス金属酸化物は、金属酸化物に由来する化学的安定性
と、ヘキサゴナル構造に由来する物理的な形状安定性を
有することができる。したがって、極めて高い比表面積
と微細な細孔を有して調製されたメソポーラス金属酸化
物は、この高い比表面積と微細な細孔の形態に関し、粒
子状の金属酸化物に比較して、格段に高い耐久性を有す
ることができる。
ラス金属酸化物に活性物質が直接担持された触媒によっ
て達成される。即ち、本発明の触媒は、メソポーラス金
属酸化物を担体として利用した触媒であり、メソポーラ
ス金属酸化物は、金属酸化物に由来する化学的安定性
と、ヘキサゴナル構造に由来する物理的な形状安定性を
有することができる。したがって、極めて高い比表面積
と微細な細孔を有して調製されたメソポーラス金属酸化
物は、この高い比表面積と微細な細孔の形態に関し、粒
子状の金属酸化物に比較して、格段に高い耐久性を有す
ることができる。
【0009】こうしたメソポーラス金属酸化物を担体と
して利用して触媒は、活性物質の種類、活性物質が担持
された状態、メソポーラス金属酸化物の種類等によって
種々の態様が可能であり、各々の態様は、以下に示すよ
うに特有な効果を奏することができる。
して利用して触媒は、活性物質の種類、活性物質が担持
された状態、メソポーラス金属酸化物の種類等によって
種々の態様が可能であり、各々の態様は、以下に示すよ
うに特有な効果を奏することができる。
【0010】第1の態様において、本発明の触媒は、メ
ソポーラスシリカの細孔の内部に、その細孔の直径と同
等な直径を有する活性物質が担持されたことを特徴とす
る触媒である。この態様は、図1に模式的に示すような
状態で、パラジウム、白金、ロジウム等の貴金属等の活
性物質がメソポーラスシリカの細孔内部に担持された触
媒である。メソポーラスシリカは、極めて高い比表面積
と微細な細孔を有し、この形態は、1000℃を上回る
高温でも維持される。
ソポーラスシリカの細孔の内部に、その細孔の直径と同
等な直径を有する活性物質が担持されたことを特徴とす
る触媒である。この態様は、図1に模式的に示すような
状態で、パラジウム、白金、ロジウム等の貴金属等の活
性物質がメソポーラスシリカの細孔内部に担持された触
媒である。メソポーラスシリカは、極めて高い比表面積
と微細な細孔を有し、この形態は、1000℃を上回る
高温でも維持される。
【0011】したがって、メソポーラスシリカの細孔の
内部に担持された活性物質は、極めて微細な粒子であ
り、それらの粒子は、メソポーラスシリカの壁によって
相互の接触が妨げられ、高温での活性物質のシンタリン
グが抑制され、優れた高温耐久性を有する触媒を提供す
ることができる。
内部に担持された活性物質は、極めて微細な粒子であ
り、それらの粒子は、メソポーラスシリカの壁によって
相互の接触が妨げられ、高温での活性物質のシンタリン
グが抑制され、優れた高温耐久性を有する触媒を提供す
ることができる。
【0012】第2の態様において、本発明の触媒は、メ
ソポーラスジルコニアにロジウムが担持されたことを特
徴とする触媒である。この態様は、図2に模式的に示す
ような状態で、活性物質のロジウムがメソポーラスジル
コニアの細孔内部又は壁の上に担持された触媒である。
メソポーラスジルコニアは、極めて高い比表面積と微細
な細孔を有する。
ソポーラスジルコニアにロジウムが担持されたことを特
徴とする触媒である。この態様は、図2に模式的に示す
ような状態で、活性物質のロジウムがメソポーラスジル
コニアの細孔内部又は壁の上に担持された触媒である。
メソポーラスジルコニアは、極めて高い比表面積と微細
な細孔を有する。
【0013】したがって、ロジウムは、メソポーラスジ
ルコニアと高い接触面積を有してその上に微細な粒子と
して担持されることができるため、この態様の触媒は、
例えば、ロジウムを担持したジルコニアが有効であるこ
とが知られている炭化水素と水蒸気を反応させて水素を
生成させる水蒸気改質反応に、さらに高い活性を示すこ
とができる。
ルコニアと高い接触面積を有してその上に微細な粒子と
して担持されることができるため、この態様の触媒は、
例えば、ロジウムを担持したジルコニアが有効であるこ
とが知られている炭化水素と水蒸気を反応させて水素を
生成させる水蒸気改質反応に、さらに高い活性を示すこ
とができる。
【0014】第3の態様において、本発明の触媒は、メ
ソポーラスチタニアに白金が担持されたことを特徴とす
る触媒である。この態様は、第2の態様と同様に、活性
物質の白金がメソポーラスチタニアの細孔内部又は壁の
上に担持された触媒である。第2の態様と同様に、メソ
ポーラスチタニアは、極めて高い比表面積と微細な細孔
を有することができるため、この態様の触媒は、例え
ば、白金を担持したチタニアが有効であることが知られ
ている一酸化炭素と水蒸気を反応させて水素を生成させ
る水性ガスシフト反応にさらに高い活性を示すことがで
きる。
ソポーラスチタニアに白金が担持されたことを特徴とす
る触媒である。この態様は、第2の態様と同様に、活性
物質の白金がメソポーラスチタニアの細孔内部又は壁の
上に担持された触媒である。第2の態様と同様に、メソ
ポーラスチタニアは、極めて高い比表面積と微細な細孔
を有することができるため、この態様の触媒は、例え
ば、白金を担持したチタニアが有効であることが知られ
ている一酸化炭素と水蒸気を反応させて水素を生成させ
る水性ガスシフト反応にさらに高い活性を示すことがで
きる。
【0015】ここで、第2又は第3の態様の触媒は、N
Ox吸蔵還元型触媒のようなアルカリ金属及びアルカリ
土類金属から選択された少なくとも1種の金属と白金を
含む触媒と併用されることで、NOx浄化性能が効果的
に高められた排気ガス浄化装置を構成することができ
る。即ち、第2の態様の触媒は、下記の水蒸気改質反
応: HC+ H2O → CO + H2 によって、排気ガス等のガスに含まれるHCをCOとH
2に効率よく転化させることができ、COとH2は、HC
に比較してNOx還元能が高いため、より効果的にNOx
を還元浄化させることができる。
Ox吸蔵還元型触媒のようなアルカリ金属及びアルカリ
土類金属から選択された少なくとも1種の金属と白金を
含む触媒と併用されることで、NOx浄化性能が効果的
に高められた排気ガス浄化装置を構成することができ
る。即ち、第2の態様の触媒は、下記の水蒸気改質反
応: HC+ H2O → CO + H2 によって、排気ガス等のガスに含まれるHCをCOとH
2に効率よく転化させることができ、COとH2は、HC
に比較してNOx還元能が高いため、より効果的にNOx
を還元浄化させることができる。
【0016】また、第3の態様の触媒は、下記の水性ガ
スシフト反応: CO + H2O → CO2+ H2 によって、排気ガス等のガスに含まれるCOをH2に効
率よく転化させることができ、H2はCOに比較してN
Ox還元能が高いため、より効果的にNOxを還元浄化さ
せることができる。
スシフト反応: CO + H2O → CO2+ H2 によって、排気ガス等のガスに含まれるCOをH2に効
率よく転化させることができ、H2はCOに比較してN
Ox還元能が高いため、より効果的にNOxを還元浄化さ
せることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の触媒を構成するメソポー
ラス金属酸化物は、例えば、界面活性剤が水溶液で形成
するミセルをテンプレートとして利用することによって
製造することができる。親水基と疎水基を有する界面活
性剤は、一般に、水溶液中では、疎水基がミセルの中央
にまとまって外側に親水基が位置する状態で存在する
が、特定の濃度と温度においては、断面がヘキサゴナル
形状で、このヘキサゴナル形状が細長く伸びた液晶構造
のミセルを形成することができる。
ラス金属酸化物は、例えば、界面活性剤が水溶液で形成
するミセルをテンプレートとして利用することによって
製造することができる。親水基と疎水基を有する界面活
性剤は、一般に、水溶液中では、疎水基がミセルの中央
にまとまって外側に親水基が位置する状態で存在する
が、特定の濃度と温度においては、断面がヘキサゴナル
形状で、このヘキサゴナル形状が細長く伸びた液晶構造
のミセルを形成することができる。
【0018】このミセルを形成する界面活性剤は、溶質
分子が出入り可能な隙間を有することができ、金属酸化
物の前駆体を溶液に溶かせば、この前駆体は、この隙間
に入ることができる。そして、この隙間に存在した状態
で前駆体を加水分解等によって不溶性にすれば、ミセル
の形状が転写された金属化合物を得ることができ、次
に、必要によりこの金属化合物を焼成することで、メソ
ポーラス金属酸化物とすることができる。
分子が出入り可能な隙間を有することができ、金属酸化
物の前駆体を溶液に溶かせば、この前駆体は、この隙間
に入ることができる。そして、この隙間に存在した状態
で前駆体を加水分解等によって不溶性にすれば、ミセル
の形状が転写された金属化合物を得ることができ、次
に、必要によりこの金属化合物を焼成することで、メソ
ポーラス金属酸化物とすることができる。
【0019】第1の態様の触媒は、メソポーラスシリカ
の細孔の内部に、この細孔の直径と同等な直径を有する
活性物質が担持された触媒である。この態様の触媒は、
例えば、図3に模式的に示した工程によって製造するこ
とができる。図3(a)は、適切な濃度の界面活性剤溶液
を調製する工程である。図3(b)は、界面活性剤で保護
された貴金属等の活性物質のコロイドを調製する工程で
ある。この図3(b)の工程は、例えば、貴金属等が溶液
中でイオンの状態で溶解した溶液を調製し、この溶液に
界面活性剤を溶解させ、そのイオンを、H2ガスのバブ
リングやアルコール存在下の加熱等により還元処理し、
不溶性粒子にすることにより行うことができる。界面活
性剤の疎水基は、生成したその不溶性粒子の表面に結合
し、図3(b)のようなコロイドを形成することができ
る。
の細孔の内部に、この細孔の直径と同等な直径を有する
活性物質が担持された触媒である。この態様の触媒は、
例えば、図3に模式的に示した工程によって製造するこ
とができる。図3(a)は、適切な濃度の界面活性剤溶液
を調製する工程である。図3(b)は、界面活性剤で保護
された貴金属等の活性物質のコロイドを調製する工程で
ある。この図3(b)の工程は、例えば、貴金属等が溶液
中でイオンの状態で溶解した溶液を調製し、この溶液に
界面活性剤を溶解させ、そのイオンを、H2ガスのバブ
リングやアルコール存在下の加熱等により還元処理し、
不溶性粒子にすることにより行うことができる。界面活
性剤の疎水基は、生成したその不溶性粒子の表面に結合
し、図3(b)のようなコロイドを形成することができ
る。
【0020】図3(c)は、これらの界面活性剤の溶液
と、界面活性剤で保護された活性物質のコロイドを混合
し、ヘキサゴナル形状の細長い液晶構造のミセルを形成
する工程である。活性物質の不溶性粒子は、このミセル
の一部を構成する。次に、このミセルが分散した溶液
に、シリカの前駆体を溶解させ、ミセルの内部にこの前
駆体を拡散させ、このミセルの隙間に存在した状態で前
駆体を加水分解等によって不溶性にし、必要により焼成
することで、図3(d)のように、メソポーラスシリカの
細孔の内部に活性物質が担持されたメソポーラスシリカ
を得ることができる。
と、界面活性剤で保護された活性物質のコロイドを混合
し、ヘキサゴナル形状の細長い液晶構造のミセルを形成
する工程である。活性物質の不溶性粒子は、このミセル
の一部を構成する。次に、このミセルが分散した溶液
に、シリカの前駆体を溶解させ、ミセルの内部にこの前
駆体を拡散させ、このミセルの隙間に存在した状態で前
駆体を加水分解等によって不溶性にし、必要により焼成
することで、図3(d)のように、メソポーラスシリカの
細孔の内部に活性物質が担持されたメソポーラスシリカ
を得ることができる。
【0021】第2の態様の触媒では、メソポーラス金属
酸化物は、メソポーラスジルコニアであり、第3の態様
の触媒では、メソポーラス金属酸化物は、メソポーラス
チタニアであり、これらの態様は、活性物質がそれぞれ
ロジウム、白金である。これらの活性物質は、第1の態
様と同様に、ロジウム又は白金のコロイドを調製し、メ
ソポーラスジルコニア又はメソポーラスチタニアの細孔
内部に活性物質を存在させることができる。
酸化物は、メソポーラスジルコニアであり、第3の態様
の触媒では、メソポーラス金属酸化物は、メソポーラス
チタニアであり、これらの態様は、活性物質がそれぞれ
ロジウム、白金である。これらの活性物質は、第1の態
様と同様に、ロジウム又は白金のコロイドを調製し、メ
ソポーラスジルコニア又はメソポーラスチタニアの細孔
内部に活性物質を存在させることができる。
【0022】ここで、これらの第2と第3の態様に触媒
は、上記の効果を得る上で、活性物質が必ずしもメソポ
ーラス構造の細孔内部に存在する必要はなく、メソポー
ラス金属酸化物の表面上に担持されていればよい。した
がって、これら第2と第3の態様の触媒は、ヘキサゴナ
ル形状の細長い液晶構造を、活性物質のコロイドを使用
せずに、界面活性剤のみからミセルを形成してメソポー
ラス金属酸化物を製造し、これに、ロジウム又は白金
を、例えば、蒸発乾固法、沈殿法、イオン交換法、吸着
法、還元析出法等によって担持することで製造すること
もできる。
は、上記の効果を得る上で、活性物質が必ずしもメソポ
ーラス構造の細孔内部に存在する必要はなく、メソポー
ラス金属酸化物の表面上に担持されていればよい。した
がって、これら第2と第3の態様の触媒は、ヘキサゴナ
ル形状の細長い液晶構造を、活性物質のコロイドを使用
せずに、界面活性剤のみからミセルを形成してメソポー
ラス金属酸化物を製造し、これに、ロジウム又は白金
を、例えば、蒸発乾固法、沈殿法、イオン交換法、吸着
法、還元析出法等によって担持することで製造すること
もできる。
【0023】このようなメソポーラス金属酸化物の調製
に使用可能な界面活性剤は、親水基と疎水基を有するも
のから広範囲に選択されることができ、各種の有機基を
有する塩、例えば、スルホン酸塩、カルボン酸塩、硫酸
塩、リン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩、ア
ミン塩、アンモニウム塩等の界面活性剤が使用可能であ
り、これらの界面活性剤は、一般に、適切な濃度と温度
において、断面がヘキサゴナル形状で細長い液晶構造の
ミセルを形成することができる。好ましくは、C8〜C
18のアルキル基を有する上記の塩が使用され、より好ま
しくは、この塩は、アンモニウム塩、硫酸塩、及びリン
酸塩から選択される。
に使用可能な界面活性剤は、親水基と疎水基を有するも
のから広範囲に選択されることができ、各種の有機基を
有する塩、例えば、スルホン酸塩、カルボン酸塩、硫酸
塩、リン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩、ア
ミン塩、アンモニウム塩等の界面活性剤が使用可能であ
り、これらの界面活性剤は、一般に、適切な濃度と温度
において、断面がヘキサゴナル形状で細長い液晶構造の
ミセルを形成することができる。好ましくは、C8〜C
18のアルキル基を有する上記の塩が使用され、より好ま
しくは、この塩は、アンモニウム塩、硫酸塩、及びリン
酸塩から選択される。
【0024】金属酸化物の前駆体は、可溶性の状態から
不溶性の状態に変化させ得る金属化合物が使用可能であ
り、広範囲に選択可能である。例えば、ケイ素、ジルコ
ニウム、チタンのメトキシド、エトキシド、プロポキシ
ド等のアルコキシドが挙げられ、これらのアルコキシド
は、水に溶解させると、徐々に加水分解して金属酸化物
に変化し、また、アセチルアセトナト錯体も同様な性質
を有する。また、ケイ素、ジルコニウム、チタンの塩化
物、硝酸塩、硫酸塩等も使用することができ、これら
は、例えば、溶液のpHを調整することで、可溶性の状
態から不溶性の状態に変化させることができる。
不溶性の状態に変化させ得る金属化合物が使用可能であ
り、広範囲に選択可能である。例えば、ケイ素、ジルコ
ニウム、チタンのメトキシド、エトキシド、プロポキシ
ド等のアルコキシドが挙げられ、これらのアルコキシド
は、水に溶解させると、徐々に加水分解して金属酸化物
に変化し、また、アセチルアセトナト錯体も同様な性質
を有する。また、ケイ素、ジルコニウム、チタンの塩化
物、硝酸塩、硫酸塩等も使用することができ、これら
は、例えば、溶液のpHを調整することで、可溶性の状
態から不溶性の状態に変化させることができる。
【0025】メソポーラス金属酸化物の形状に関し、好
ましくは、メソポーラスシリカ、メソポーラスジルコニ
ア、及びメソポーラスチタニアはいずれも、好ましく
は、六角形の相対する辺間の距離が2〜10nmであ
り、壁の厚さは0.3〜1.0nmであり、好ましくは、
2〜10nm、より好ましくは、2〜6nmの平均細孔
径を有する。こうしたメソポーラス金属酸化物は、六角
形のヘキサゴナル単位を数100〜数10万の個数で有
した集合体であると考えられる。
ましくは、メソポーラスシリカ、メソポーラスジルコニ
ア、及びメソポーラスチタニアはいずれも、好ましく
は、六角形の相対する辺間の距離が2〜10nmであ
り、壁の厚さは0.3〜1.0nmであり、好ましくは、
2〜10nm、より好ましくは、2〜6nmの平均細孔
径を有する。こうしたメソポーラス金属酸化物は、六角
形のヘキサゴナル単位を数100〜数10万の個数で有
した集合体であると考えられる。
【0026】また、これらのメソポーラス金属酸化物
の、ヘキサゴナルな断面に垂直な方向の長さは、好まし
くは、数10nm〜数1000nmであり、より好まし
くは、約50〜500nnである。また、好ましくは、
メソポーラス金属酸化物の細孔は、一方向に延在する
が、この細孔は部分的に曲がる又は枝分かれしてもよ
い。また、好ましくは、メソポーラスシリカは、300
〜2000m2/g、より好ましくは、500〜150
0m2/gの比表面積を有し、メソポーラスジルコニア
は、100〜1000m2/g、より好ましくは、15
0〜800m2/gの比表面積を有し、メソポーラスチ
タニアは、100〜1000m2/g、より好ましく
は、150〜800m2/gの比表面積を有する。
の、ヘキサゴナルな断面に垂直な方向の長さは、好まし
くは、数10nm〜数1000nmであり、より好まし
くは、約50〜500nnである。また、好ましくは、
メソポーラス金属酸化物の細孔は、一方向に延在する
が、この細孔は部分的に曲がる又は枝分かれしてもよ
い。また、好ましくは、メソポーラスシリカは、300
〜2000m2/g、より好ましくは、500〜150
0m2/gの比表面積を有し、メソポーラスジルコニア
は、100〜1000m2/g、より好ましくは、15
0〜800m2/gの比表面積を有し、メソポーラスチ
タニアは、100〜1000m2/g、より好ましく
は、150〜800m2/gの比表面積を有する。
【0027】これらのメソポーラス金属酸化物の形状、
1つの粒子に含まれるヘキサゴナル構造の個数、平均細
孔径、比表面積は、界面活性剤の種類、濃度、温度、金
属酸化物前駆体の種類等によって調節することができ
る。
1つの粒子に含まれるヘキサゴナル構造の個数、平均細
孔径、比表面積は、界面活性剤の種類、濃度、温度、金
属酸化物前駆体の種類等によって調節することができ
る。
【0028】また、好ましくは、メソポーラス金属酸化
物に担持される白金、ロジウム等の活性物質の量は、好
ましくは、メソポーラス金属酸化物の100質量部を基
準に0.1〜10質量部、より好ましくは、0.2〜5質
量部である。第1の態様の触媒において、メソポーラス
シリカの細孔の内部に担持された活性物質は、この細孔
の直径と「同等」な直径を有する。ここで、「同等」な
直径とは、活性物質の平均直径dとメソポーラスシリカ
の平均細孔径Dが、1/2D<d<D、より好ましく
は、2/3D<d<Dの関係にあることを言う。
物に担持される白金、ロジウム等の活性物質の量は、好
ましくは、メソポーラス金属酸化物の100質量部を基
準に0.1〜10質量部、より好ましくは、0.2〜5質
量部である。第1の態様の触媒において、メソポーラス
シリカの細孔の内部に担持された活性物質は、この細孔
の直径と「同等」な直径を有する。ここで、「同等」な
直径とは、活性物質の平均直径dとメソポーラスシリカ
の平均細孔径Dが、1/2D<d<D、より好ましく
は、2/3D<d<Dの関係にあることを言う。
【0029】本発明の排気ガス浄化装置は、第2又は第
3の態様の触媒と、NOx吸蔵還元型触媒のようなアル
カリ金属及びアルカリ土類金属から選択された少なくと
も1種の金属と白金を含む触媒を備えて構成される。こ
のアルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択された少
なくとも1種の金属と白金を含む触媒は、例えば、γ−
アルミナのような触媒担体に、カリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属、カルシウム、バリウム等のアルカリ土
類金属から選択された金属と、白金が、蒸発乾固法、沈
殿法、イオン交換法等によって担持された触媒であるこ
とができる。
3の態様の触媒と、NOx吸蔵還元型触媒のようなアル
カリ金属及びアルカリ土類金属から選択された少なくと
も1種の金属と白金を含む触媒を備えて構成される。こ
のアルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択された少
なくとも1種の金属と白金を含む触媒は、例えば、γ−
アルミナのような触媒担体に、カリウム、ナトリウム等
のアルカリ金属、カルシウム、バリウム等のアルカリ土
類金属から選択された金属と、白金が、蒸発乾固法、沈
殿法、イオン交換法等によって担持された触媒であるこ
とができる。
【0030】この本発明の排気ガス浄化装置は、例え
ば、コージェライト製等のモノリス担体に、第2又は第
3の態様の触媒と、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
から選択された少なくとも1種の金属と白金を含む触媒
を、一緒に担持する、あるいは、別々に担持して排気ガ
スの上流と下流に配置して構成することができる。以
下、実施例によって本発明をより具体的に説明する。
ば、コージェライト製等のモノリス担体に、第2又は第
3の態様の触媒と、アルカリ金属及びアルカリ土類金属
から選択された少なくとも1種の金属と白金を含む触媒
を、一緒に担持する、あるいは、別々に担持して排気ガ
スの上流と下流に配置して構成することができる。以
下、実施例によって本発明をより具体的に説明する。
【0031】
【実施例】実施例1 2600gのイオン交換水に、界面活性剤のn-ヘキサデ
シルトリメチルアンモニウムブロミドCH16N33(C
H3)3Brを73g加え、さらに35質量%塩酸水溶液
を100g加えてヘキサデシルトリメチルアンモニウム
ブロミドを完全に溶解させた。別に、1.5質量%のn-
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドと0.0
5質量%の硝酸パラジウムを溶解させた溶液を作成し、
この溶液に水素ガスをバブリングすることでパラジウム
イオンを還元し、平均粒子径約2.5nmのパラジウム
粒子が界面活性剤で保護されたパラジウムコロイドを調
製した。
シルトリメチルアンモニウムブロミドCH16N33(C
H3)3Brを73g加え、さらに35質量%塩酸水溶液
を100g加えてヘキサデシルトリメチルアンモニウム
ブロミドを完全に溶解させた。別に、1.5質量%のn-
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドと0.0
5質量%の硝酸パラジウムを溶解させた溶液を作成し、
この溶液に水素ガスをバブリングすることでパラジウム
イオンを還元し、平均粒子径約2.5nmのパラジウム
粒子が界面活性剤で保護されたパラジウムコロイドを調
製した。
【0032】次に、上記のヘキサデシルトリメチルアン
モニウムブロミド溶液に、パラジウムコロイドをPd
1.5g相当量で加え、室温で1時間攪拌し、さらにメ
ソポーラスシリカの原料として210gのオルトケイ酸
テトラエチルSi(C2H5O)4を加え、室温で24時間
攪拌して灰色の沈殿物を生成させた。この沈殿物を遠心
分離して回収し、500gのイオン交換水で5回洗浄を
繰り返した後、120℃×12時間の乾燥と700℃×
5時間の焼成に供し、本発明の触媒Aを得た。得られた
触媒Aに含まれるパラジウム濃度を誘導結合プラズマ原
子分光分析(ICP)によって測定したところ2.6質
量%であった。
モニウムブロミド溶液に、パラジウムコロイドをPd
1.5g相当量で加え、室温で1時間攪拌し、さらにメ
ソポーラスシリカの原料として210gのオルトケイ酸
テトラエチルSi(C2H5O)4を加え、室温で24時間
攪拌して灰色の沈殿物を生成させた。この沈殿物を遠心
分離して回収し、500gのイオン交換水で5回洗浄を
繰り返した後、120℃×12時間の乾燥と700℃×
5時間の焼成に供し、本発明の触媒Aを得た。得られた
触媒Aに含まれるパラジウム濃度を誘導結合プラズマ原
子分光分析(ICP)によって測定したところ2.6質
量%であった。
【0033】比較例1 先に、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド溶
液とオルトケイ酸テトラエチルより白色沈殿物のメソポ
ーラスシリカを合成し、次にこのメソポーラスシリカの
スラリーに、実施例1と同様にして調製したパラジウム
コロイドを添加し、以下、実施例1と同様にして遠心分
離、洗浄、乾燥、及び焼成に供し、比較例の触媒aを得
た。
液とオルトケイ酸テトラエチルより白色沈殿物のメソポ
ーラスシリカを合成し、次にこのメソポーラスシリカの
スラリーに、実施例1と同様にして調製したパラジウム
コロイドを添加し、以下、実施例1と同様にして遠心分
離、洗浄、乾燥、及び焼成に供し、比較例の触媒aを得
た。
【0034】比較例2 比較例1と同様にして合成したメソポーラスシリカに、
硝酸パラジウム水溶液を使用して蒸発乾固によりパラジ
ウムを2.6質量%担持し、比較例の触媒bを得た。
硝酸パラジウム水溶液を使用して蒸発乾固によりパラジ
ウムを2.6質量%担持し、比較例の触媒bを得た。
【0035】−特性評価(1)− 触媒Aと触媒aを、細孔径分布、粉末X線回折(XR
D)、比表面積について評価した。図4は、細孔分布の
測定結果を示すものであり、触媒Aと触媒aともにシャ
ープな細孔径分布を有することが分かる。図5は、XR
Dのパターンを示すものであり、触媒Aと触媒aともに
ヘキサゴナル構造を有することが分かる。表1は、これ
らの特性を数値で比較したものであり、同等な特性値を
示すことが分かる。なお、表1の平均細孔径と100面
の間隔値から、ヘキサゴナル構造の壁厚は、0.4〜0.
5nmと計算された。
D)、比表面積について評価した。図4は、細孔分布の
測定結果を示すものであり、触媒Aと触媒aともにシャ
ープな細孔径分布を有することが分かる。図5は、XR
Dのパターンを示すものであり、触媒Aと触媒aともに
ヘキサゴナル構造を有することが分かる。表1は、これ
らの特性を数値で比較したものであり、同等な特性値を
示すことが分かる。なお、表1の平均細孔径と100面
の間隔値から、ヘキサゴナル構造の壁厚は、0.4〜0.
5nmと計算された。
【0036】
【表1】
【0037】−CH4浄化反応の触媒性能評価− 触媒A、触媒a、触媒bの各触媒を、それぞれ圧縮・解
砕して、直径2〜3mmのペレット形状にした。これら
のペレット触媒の各2gを、実験室用反応管の内部に配
置し、下記の2つの組成の雰囲気ガスが2分間ごとに切
り替わる1000℃の温度下に5時間置き、耐久処理を
施した。 O2:10% + H2O:10% (残余:窒素) H2:1% + H2O:10% (残余:窒素)
砕して、直径2〜3mmのペレット形状にした。これら
のペレット触媒の各2gを、実験室用反応管の内部に配
置し、下記の2つの組成の雰囲気ガスが2分間ごとに切
り替わる1000℃の温度下に5時間置き、耐久処理を
施した。 O2:10% + H2O:10% (残余:窒素) H2:1% + H2O:10% (残余:窒素)
【0038】この耐久処理を施したペレット触媒の各
1.0gを実験室用モデルガス評価装置の反応管内部に
配置し、下記の組成のモデル排気ガスを流通させ、触媒
床温度を20℃/分の速度で上昇させながらCH4の浄
化率を測定した。 CH4:1100ppm+CO2:10.0%+O2:5.
0% +H2O:10.0% (残余:窒素) このCH4の浄化率を図6に示す。結果より、触媒A
は、触媒aと触媒bよりも、顕著に低い温度から高い浄
化率でCH4を浄化することが分かる。
1.0gを実験室用モデルガス評価装置の反応管内部に
配置し、下記の組成のモデル排気ガスを流通させ、触媒
床温度を20℃/分の速度で上昇させながらCH4の浄
化率を測定した。 CH4:1100ppm+CO2:10.0%+O2:5.
0% +H2O:10.0% (残余:窒素) このCH4の浄化率を図6に示す。結果より、触媒A
は、触媒aと触媒bよりも、顕著に低い温度から高い浄
化率でCH4を浄化することが分かる。
【0039】実施例2 3450gのイオン交換水に732gの35質量%塩酸
水溶液を加え、この溶液に75gのn-ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムブロミドを溶解させ、さらに12
5.7gのテトラプロポキシドジルコニウムZr(C3H7
O)4を加えて溶解させた。別に、690gのイオン交換
水に61.2gの硫酸アンモニウムを溶解させた溶液を
作成した。これらの2種類の溶液を混合し、室温で1時
間攪拌した後、95℃に昇温して2日間攪拌を続けた。
この溶液を室温まで冷却した後、沈殿物を遠心分離によ
って回収し、これを500gのイオン交換水で洗浄し、
再度遠心分離して生成物を回収し、メソポーラスジルコ
ニアを得た。得られたメソポーラスジルコニアは、平均
細孔径2.3nmで、比表面積230m2/gであった。
水溶液を加え、この溶液に75gのn-ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムブロミドを溶解させ、さらに12
5.7gのテトラプロポキシドジルコニウムZr(C3H7
O)4を加えて溶解させた。別に、690gのイオン交換
水に61.2gの硫酸アンモニウムを溶解させた溶液を
作成した。これらの2種類の溶液を混合し、室温で1時
間攪拌した後、95℃に昇温して2日間攪拌を続けた。
この溶液を室温まで冷却した後、沈殿物を遠心分離によ
って回収し、これを500gのイオン交換水で洗浄し、
再度遠心分離して生成物を回収し、メソポーラスジルコ
ニアを得た。得られたメソポーラスジルコニアは、平均
細孔径2.3nmで、比表面積230m2/gであった。
【0040】得られたメソポーラスジルコニアを100
0gのイオン交換水に分散させ、このスラリーに、2.
968質量%でRhを含む硝酸ロジウム水溶液を18.
4g加え、12時間攪拌した後、遠心分離して沈殿物を
回収し、120℃×12時間の乾燥と550℃×5時間
の焼成を行って、ロジウムがメソポーラスジルコニアに
担持された本発明の触媒Bを得た。触媒Bに含まれるロ
ジウム濃度をICPによって測定したところ2.21質
量%であった。
0gのイオン交換水に分散させ、このスラリーに、2.
968質量%でRhを含む硝酸ロジウム水溶液を18.
4g加え、12時間攪拌した後、遠心分離して沈殿物を
回収し、120℃×12時間の乾燥と550℃×5時間
の焼成を行って、ロジウムがメソポーラスジルコニアに
担持された本発明の触媒Bを得た。触媒Bに含まれるロ
ジウム濃度をICPによって測定したところ2.21質
量%であった。
【0041】実施例3 実施例2で得られた本発明の触媒Bを、以下のようにし
てNOx吸蔵還元型触媒と組み合わせ、本発明の排気ガ
ス浄化装置に備えられるモデル的な触媒を調製した。触
媒Bとγ−アルミナの各粉末を1:1の質量比で混合
し、次いでボールミルで24時間混合した。この混合粉
末40gを200gのイオン交換水に分散させ、このス
ラリーに17.0gの酢酸バリウムを溶解させ、濃縮乾
固した後、550℃×2時間の焼成に供し、バリウムが
担持された混合粉末を得た。次に、この混合粉末を、
4.3gの炭酸水素アンモニウムNH4HCO3を300
gのイオン交換水に溶解させた溶液に分散させて15分
間攪拌し、次いで吸引濾過と乾燥を行って、γ−アルミ
ナに担持されたバリウムを炭酸バリウムに変化させた。
てNOx吸蔵還元型触媒と組み合わせ、本発明の排気ガ
ス浄化装置に備えられるモデル的な触媒を調製した。触
媒Bとγ−アルミナの各粉末を1:1の質量比で混合
し、次いでボールミルで24時間混合した。この混合粉
末40gを200gのイオン交換水に分散させ、このス
ラリーに17.0gの酢酸バリウムを溶解させ、濃縮乾
固した後、550℃×2時間の焼成に供し、バリウムが
担持された混合粉末を得た。次に、この混合粉末を、
4.3gの炭酸水素アンモニウムNH4HCO3を300
gのイオン交換水に溶解させた溶液に分散させて15分
間攪拌し、次いで吸引濾過と乾燥を行って、γ−アルミ
ナに担持されたバリウムを炭酸バリウムに変化させた。
【0042】次に、この炭酸バリウム担持混合粉末を3
00gのイオン交換水に分散させ、このスラリーにPt
3.42×10-3モル相当量のジニトロジアンミン白金
硝酸水溶液を加え、30分間攪拌した。このスラリー
を、濾過・乾燥して回収し、110℃×2時間の乾燥と
450℃×2時間の焼成を行って触媒Cを得た。この触
媒に担持された貴金属は、混合粉末1gあたり8.54
×10-5モルであり、バリウムは、混合粉末1gあたり
1.67×10-3モルであった。
00gのイオン交換水に分散させ、このスラリーにPt
3.42×10-3モル相当量のジニトロジアンミン白金
硝酸水溶液を加え、30分間攪拌した。このスラリー
を、濾過・乾燥して回収し、110℃×2時間の乾燥と
450℃×2時間の焼成を行って触媒Cを得た。この触
媒に担持された貴金属は、混合粉末1gあたり8.54
×10-5モルであり、バリウムは、混合粉末1gあたり
1.67×10-3モルであった。
【0043】実施例4 732gの35質量%塩酸水溶液に3450gのイオン
交換水を加え、この溶液に75gのn-ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムブロミドを溶解させ、さらに12
5.7gのテトラプロポキシドジルコニウムZr(C3H7
O)4を加えて溶解させた。別に、690gのイオン交換
水に61.2gの硫酸アンモニウムを溶解させた溶液を
準備した。これらの2種類の溶液を混合し、室温で1時
間攪拌した後、95℃に昇温して2日間攪拌を続けた。
この溶液を室温まで冷却した後、沈殿物を遠心分離によ
って回収し、これを500gのイオン交換水で洗浄し、
再度遠心分離して生成物を回収し、メソポーラスジルコ
ニアを得た。
交換水を加え、この溶液に75gのn-ヘキサデシルトリ
メチルアンモニウムブロミドを溶解させ、さらに12
5.7gのテトラプロポキシドジルコニウムZr(C3H7
O)4を加えて溶解させた。別に、690gのイオン交換
水に61.2gの硫酸アンモニウムを溶解させた溶液を
準備した。これらの2種類の溶液を混合し、室温で1時
間攪拌した後、95℃に昇温して2日間攪拌を続けた。
この溶液を室温まで冷却した後、沈殿物を遠心分離によ
って回収し、これを500gのイオン交換水で洗浄し、
再度遠心分離して生成物を回収し、メソポーラスジルコ
ニアを得た。
【0044】得られたメソポーラスジルコニアを100
0gのイオン交換水に分散させ、このスラリーに、Rh
2.21質量%に相当する量の硝酸ロジウム水溶液を加
え、120℃の乾燥と550℃×5時間の焼成を行っ
て、ロジウムがメソポーラスジルコニアに担持された本
発明の触媒Dを得た。
0gのイオン交換水に分散させ、このスラリーに、Rh
2.21質量%に相当する量の硝酸ロジウム水溶液を加
え、120℃の乾燥と550℃×5時間の焼成を行っ
て、ロジウムがメソポーラスジルコニアに担持された本
発明の触媒Dを得た。
【0045】実施例5 触媒Bに代えて触媒Dを使用した以外は実施例4と同様
にして、触媒Dにγ−アルミナを担持し、次にバリウム
を担持して、本発明の排気ガス浄化装置に備えられるモ
デル的な触媒Eを調製した。
にして、触媒Dにγ−アルミナを担持し、次にバリウム
を担持して、本発明の排気ガス浄化装置に備えられるモ
デル的な触媒Eを調製した。
【0046】比較例3 実施例2で調製してメソポーラスジルコニアに代えて、
市販のジルコニア粉末(比表面積105m2/g、第一
稀元素化学工業(株)製RC−100)を使用した以外
は、実施例4と同様にして調製したものを比較例の触媒
cとした。
市販のジルコニア粉末(比表面積105m2/g、第一
稀元素化学工業(株)製RC−100)を使用した以外
は、実施例4と同様にして調製したものを比較例の触媒
cとした。
【0047】−水蒸気改質反応の触媒性能評価− 触媒B、触媒D、及び触媒cの各触媒を、それぞれ圧縮
・解砕して、直径2〜3mmのペレット形状にした。こ
れらのペレット触媒の各2gを、実験室用反応管の内部
に配置し、下記の組成のガスを流通させ、200〜50
0℃の範囲で温度を変化させ、反応管出口のガスをガス
クロマトグラフィーに導いて、生成したH2の濃度を測
定した。 C3H6:1000ppm + H2O:3% (残余:
窒素) このH2の濃度を図7に示す。結果より、実施例の触媒
B、触媒Dは、比較例の触媒cよりも、顕著に低い温度
からH2を生成することが分かる。
・解砕して、直径2〜3mmのペレット形状にした。こ
れらのペレット触媒の各2gを、実験室用反応管の内部
に配置し、下記の組成のガスを流通させ、200〜50
0℃の範囲で温度を変化させ、反応管出口のガスをガス
クロマトグラフィーに導いて、生成したH2の濃度を測
定した。 C3H6:1000ppm + H2O:3% (残余:
窒素) このH2の濃度を図7に示す。結果より、実施例の触媒
B、触媒Dは、比較例の触媒cよりも、顕著に低い温度
からH2を生成することが分かる。
【0048】−NOx吸蔵還元型触媒としての触媒性能
評価− 上記の触媒C、触媒E、及び触媒cの各触媒を、それぞ
れ実験室用反応器に配置し、下記に示す組成のモデル排
気ガスを100,000-1の空間速度で導入し、触媒の
NOx吸蔵量によって触媒性能を評価した。
評価− 上記の触媒C、触媒E、及び触媒cの各触媒を、それぞ
れ実験室用反応器に配置し、下記に示す組成のモデル排
気ガスを100,000-1の空間速度で導入し、触媒の
NOx吸蔵量によって触媒性能を評価した。
【0049】リーンガス組成: NO:800ppm + C3H6:2400ppm + CO
2:11.0% + CO:700ppm + O2:7.0% + H2O:3.0
% (残余:N2) リッチガス組成: NO:100ppm + C3H6:6700ppm + CO
2:11.0% + CO:5900ppm + O2:0% + H2O:3.0
% (残余:N2)
2:11.0% + CO:700ppm + O2:7.0% + H2O:3.0
% (残余:N2) リッチガス組成: NO:100ppm + C3H6:6700ppm + CO
2:11.0% + CO:5900ppm + O2:0% + H2O:3.0
% (残余:N2)
【0050】これらのガスの温度は、250〜450℃
の範囲で変化させ、リッチガスを供給しながら実験室用
反応器出口のガス組成が定常状態になった後、リーンガ
スに切り換えてNOxを吸蔵させ、再び実験室用反応器
出口のガス組成が定常状態になった後に、5秒間にわた
ってリッチガスを導入し、再びリーンガスに切り換えた
後のNOx吸蔵量、即ち、リッチスパイクの後のNOx吸
蔵量を測定した。この結果を図8に示す。図8から分か
るように、触媒Cと触媒Eは、触媒cよりも低温におけ
るリッチスパイク後のNOx吸蔵量が多く、したがっ
て、より低温からNOx還元性能を発揮できることが分
かる。
の範囲で変化させ、リッチガスを供給しながら実験室用
反応器出口のガス組成が定常状態になった後、リーンガ
スに切り換えてNOxを吸蔵させ、再び実験室用反応器
出口のガス組成が定常状態になった後に、5秒間にわた
ってリッチガスを導入し、再びリーンガスに切り換えた
後のNOx吸蔵量、即ち、リッチスパイクの後のNOx吸
蔵量を測定した。この結果を図8に示す。図8から分か
るように、触媒Cと触媒Eは、触媒cよりも低温におけ
るリッチスパイク後のNOx吸蔵量が多く、したがっ
て、より低温からNOx還元性能を発揮できることが分
かる。
【0051】実施例6 1050gのイオン交換水に150gのテトラテシルフ
ォスフェイトC14H29OPO3Hを混合し、さらに28.
5gの水酸化カリウムを加えて30分間攪拌した後、3
5質量%塩酸水溶液を加えてpHを5.0に調整した。
この溶液に142gのテトライソプロポキシチタンTi
(C3H7O)4と50gのアセチルアセトンCH3COCH
2COCH3の混合物を加え、室温で2時間攪拌した後、
80℃で5日間攪拌を続けた。この溶液を室温まで冷却
した後、生成した沈殿物を遠心分離によって回収し、5
00gのイオン交換水で5回洗浄を繰り返した後、10
0℃×12時間の乾燥と350℃×5時間の焼成に供
し、メソポーラスチタニアの粉末を得た。得られたメソ
ポーラスチタニアは、平均細孔径3.2nmで、比表面
積196m2/gであった。この合成したメソポーラス
チタニアに、ジニトロジアンミン白金硝酸水溶液を用い
て2.0質量%のPtを蒸発乾固によって担持し、11
0℃×2時間の乾燥と450℃×2時間の焼成を行って
本発明の触媒Fを得た。
ォスフェイトC14H29OPO3Hを混合し、さらに28.
5gの水酸化カリウムを加えて30分間攪拌した後、3
5質量%塩酸水溶液を加えてpHを5.0に調整した。
この溶液に142gのテトライソプロポキシチタンTi
(C3H7O)4と50gのアセチルアセトンCH3COCH
2COCH3の混合物を加え、室温で2時間攪拌した後、
80℃で5日間攪拌を続けた。この溶液を室温まで冷却
した後、生成した沈殿物を遠心分離によって回収し、5
00gのイオン交換水で5回洗浄を繰り返した後、10
0℃×12時間の乾燥と350℃×5時間の焼成に供
し、メソポーラスチタニアの粉末を得た。得られたメソ
ポーラスチタニアは、平均細孔径3.2nmで、比表面
積196m2/gであった。この合成したメソポーラス
チタニアに、ジニトロジアンミン白金硝酸水溶液を用い
て2.0質量%のPtを蒸発乾固によって担持し、11
0℃×2時間の乾燥と450℃×2時間の焼成を行って
本発明の触媒Fを得た。
【0052】実施例7 実施例6で得られた本発明の触媒Fを、以下のようにし
てNOx吸蔵還元型触媒と組み合わせ、本発明の排気ガ
ス浄化装置に備えられるモデル的な触媒を調製した。2
0gのγ−アルミナを200gのイオン交換水に分散さ
せ、このスラリーに17.0gの酢酸バリウムを溶解さ
せ、濃縮乾固した後、500℃×2時間の焼成を行っ
て、バリウムが担持されたγ−アルミナを調製した。次
に、このバリウム担持γ−アルミナを、4.3gの炭酸
水素アンモニウムNH4HCO3を300gのイオン交換
水に溶解させた溶液に分散させて15分間攪拌し、次い
で吸引濾過と乾燥を行って、γ−アルミナに担持された
バリウムを炭酸バリウムに変化させた。
てNOx吸蔵還元型触媒と組み合わせ、本発明の排気ガ
ス浄化装置に備えられるモデル的な触媒を調製した。2
0gのγ−アルミナを200gのイオン交換水に分散さ
せ、このスラリーに17.0gの酢酸バリウムを溶解さ
せ、濃縮乾固した後、500℃×2時間の焼成を行っ
て、バリウムが担持されたγ−アルミナを調製した。次
に、このバリウム担持γ−アルミナを、4.3gの炭酸
水素アンモニウムNH4HCO3を300gのイオン交換
水に溶解させた溶液に分散させて15分間攪拌し、次い
で吸引濾過と乾燥を行って、γ−アルミナに担持された
バリウムを炭酸バリウムに変化させた。
【0053】次に、この炭酸バリウム担持混合粉末を3
00gのイオン交換水に分散させ、このスラリーにPt
1.71×10-3モル相当量のジニトロジアンミン白金
硝酸水溶液を加え、30分間攪拌した。次に、このスラ
リーを、濾過・乾燥して回収し、110℃×2時間の乾
燥と450℃×2時間の焼成を行って、白金とバリウム
が担持されたγ−アルミナを得た。この白金バリウム担
持γ−アルミナに、実施例6の触媒Fを20g加え、こ
の混合粉末をボールミルによって24時間混合し、触媒
Gを得た。
00gのイオン交換水に分散させ、このスラリーにPt
1.71×10-3モル相当量のジニトロジアンミン白金
硝酸水溶液を加え、30分間攪拌した。次に、このスラ
リーを、濾過・乾燥して回収し、110℃×2時間の乾
燥と450℃×2時間の焼成を行って、白金とバリウム
が担持されたγ−アルミナを得た。この白金バリウム担
持γ−アルミナに、実施例6の触媒Fを20g加え、こ
の混合粉末をボールミルによって24時間混合し、触媒
Gを得た。
【0054】比較例4 メソポーラスチタニアに代えて市販のチタニア粉末(比
表面積40m2/g、石原産業(株)製TTO−55)
を用いた以外は実施例6と同様にして白金が担持された
チタニアを調製し、この触媒を触媒dとする。
表面積40m2/g、石原産業(株)製TTO−55)
を用いた以外は実施例6と同様にして白金が担持された
チタニアを調製し、この触媒を触媒dとする。
【0055】比較例5 比較例4で調製した触媒dを使用し、実施例7と同様に
して比較例の触媒eを得た。
して比較例の触媒eを得た。
【0056】−水性ガスシフト反応の触媒性能評価− 触媒Fと触媒dの触媒を、それぞれ圧縮・解砕して、直
径2〜3mmのペレット形状にした。これらのペレット
触媒の各2gを、実験室用反応管の内部に配置し、下記
の組成のガスを流通させ、200〜400℃の範囲で温
度を変化させ、反応管出口のガスをガスクロマトグラフ
ィーに導いて生成したH2の濃度を測定した。 CO:1.0% + CO2:10.0% + H2O:3.0%
(残余:窒素) このH2の濃度を図9に示す。結果より、実施例の触媒
Fは、比較例の触媒dよりも、顕著に低い温度からH2
を生成することが分かる。
径2〜3mmのペレット形状にした。これらのペレット
触媒の各2gを、実験室用反応管の内部に配置し、下記
の組成のガスを流通させ、200〜400℃の範囲で温
度を変化させ、反応管出口のガスをガスクロマトグラフ
ィーに導いて生成したH2の濃度を測定した。 CO:1.0% + CO2:10.0% + H2O:3.0%
(残余:窒素) このH2の濃度を図9に示す。結果より、実施例の触媒
Fは、比較例の触媒dよりも、顕著に低い温度からH2
を生成することが分かる。
【0057】−NOx吸蔵還元型触媒としての触媒性能
評価− 上記の触媒Gと触媒eの触媒を、それぞれ実験室用反応
器に配置し、下記に示す組成のモデル排気ガスを10
0,000-1の空間速度で導入し、触媒のNOx吸蔵量に
よって触媒性能を評価した。 リーンガス組成: H2:0%+NO:800ppm+C3H6:600ppm+
CO2:11.0%+ CO:0ppm + O2:7.0% +
H2O:3.0% (残余:N2) リッチガス組成: H2:0.15%+NO:100ppm+C3H6:330p
pm+CO2:11.0%+CO:6000ppm + O2:
0% + H2O:3.0% (残余:N2)
評価− 上記の触媒Gと触媒eの触媒を、それぞれ実験室用反応
器に配置し、下記に示す組成のモデル排気ガスを10
0,000-1の空間速度で導入し、触媒のNOx吸蔵量に
よって触媒性能を評価した。 リーンガス組成: H2:0%+NO:800ppm+C3H6:600ppm+
CO2:11.0%+ CO:0ppm + O2:7.0% +
H2O:3.0% (残余:N2) リッチガス組成: H2:0.15%+NO:100ppm+C3H6:330p
pm+CO2:11.0%+CO:6000ppm + O2:
0% + H2O:3.0% (残余:N2)
【0058】これらのガスの温度は、250〜450℃
の範囲で変化させ、リッチガスを供給しながらの実験室
用反応器出口のガス組成が定常状態になった後、リーン
ガスに切り換えてNOxを吸蔵させ、再び実験室用反応
器出口のガス組成が定常状態になった後に、10秒間に
わたってリッチガスを導入し、再びリーンガスに切り換
えた後のNOx吸蔵量、即ち、リッチスパイクの後のN
Ox吸蔵量を測定した。この結果を図10に示す。図1
0から分かるように、触媒Gは、触媒eよりも低温にお
けるリッチスパイク後のNOx吸蔵量が多く、したがっ
て、より低温からNOx還元性能を発揮できることが分
かる。
の範囲で変化させ、リッチガスを供給しながらの実験室
用反応器出口のガス組成が定常状態になった後、リーン
ガスに切り換えてNOxを吸蔵させ、再び実験室用反応
器出口のガス組成が定常状態になった後に、10秒間に
わたってリッチガスを導入し、再びリーンガスに切り換
えた後のNOx吸蔵量、即ち、リッチスパイクの後のN
Ox吸蔵量を測定した。この結果を図10に示す。図1
0から分かるように、触媒Gは、触媒eよりも低温にお
けるリッチスパイク後のNOx吸蔵量が多く、したがっ
て、より低温からNOx還元性能を発揮できることが分
かる。
【0059】
【発明の効果】メソポーラス金属酸化物の微細な形態を
触媒担体に利用することで、より優れた触媒性能を有す
る触媒が提供され、例えば、高温での活性物質のシンタ
リングが抑制された高い耐久性を有する触媒を提供さ
れ、水蒸気改質反応に高い活性を示す触媒が提供され、
また、水性ガスシフト反応に高い活性を示す触媒が提供
される。
触媒担体に利用することで、より優れた触媒性能を有す
る触媒が提供され、例えば、高温での活性物質のシンタ
リングが抑制された高い耐久性を有する触媒を提供さ
れ、水蒸気改質反応に高い活性を示す触媒が提供され、
また、水性ガスシフト反応に高い活性を示す触媒が提供
される。
【図1】本発明の触媒の構造を模式的に示す図である。
【図2】本発明の別な態様の触媒の構造を模式的に示す
図である。
図である。
【図3】本発明の触媒の製造工程を模式的に示す図であ
る。
る。
【図4】細孔径分布の測定結果を示すグラフである。
【図5】XRDの測定結果を示すグラフである。
【図6】CH4の浄化プロファイルを示すグラフであ
る。
る。
【図7】H2の生成量を示すグラフである。
【図8】NOx吸蔵量を示すグラフである。
【図9】H2の生成量を示すグラフである。
【図10】NOx吸蔵量を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F01N 3/10 B01D 53/36 104A Fターム(参考) 3G091 AA02 AA12 AA17 AB03 AB05 BA01 BA07 BA11 BA14 BA15 BA19 GB01W GB05W GB06W GB07W GB10W 4D048 AA06 AA13 AA18 AB05 AB07 BA01Y BA02Y BA06X BA07X BA08X BA14Y BA15X BA30X BA31X BA33X BA41X BB01 BB17 EA04 4G069 AA03 AA12 BA01A BA01B BA02A BA02B BA04A BA04B BA05A BA05B BB16A BB16B BC01A BC02A BC03A BC08A BC09 BC09A BC13A BC13B BC71A BC71B BC72A BC72B BC75A BC75B CA03 CA09 EA02Y EB18Y EC03Y EC04Y EC15Y EC16Y EC22X EC22Y
Claims (8)
- 【請求項1】 メソポーラスシリカの細孔の内部に、前
記細孔の直径と同等な直径を有する活性物質が担持され
たことを特徴とする触媒。 - 【請求項2】 前記メソポーラスシリカがヘキサゴナル
構造を有する請求項1に記載の触媒。 - 【請求項3】 メソポーラスジルコニアにロジウムが担
持されたことを特徴とする触媒。 - 【請求項4】 前記メソポーラスジルコニアがヘキサゴ
ナル構造を有する請求項3に記載の触媒。 - 【請求項5】 請求項3又は4に記載の触媒と、アルカ
リ金属及びアルカリ土類金属から選択された少なくとも
1種の金属と白金を含む触媒を備えたことを特徴とする
排気ガス浄化装置。 - 【請求項6】 メソポーラスチタニアに白金が担持され
たことを特徴とする触媒。 - 【請求項7】 前記メソポーラスチタニアがヘキサゴナ
ル構造を有する請求項6に記載の触媒。 - 【請求項8】 請求項6又は7に記載の触媒と、アルカ
リ金属及びアルカリ土類金属から選択された少なくとも
1種の金属と白金を含む触媒を備えたことを特徴とする
排気ガス浄化装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001127949A JP2002320850A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | 触媒及びその触媒を用いた排気ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001127949A JP2002320850A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | 触媒及びその触媒を用いた排気ガス浄化装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002320850A true JP2002320850A (ja) | 2002-11-05 |
Family
ID=18976732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001127949A Pending JP2002320850A (ja) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | 触媒及びその触媒を用いた排気ガス浄化装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002320850A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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-
2001
- 2001-04-25 JP JP2001127949A patent/JP2002320850A/ja active Pending
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