JP2002316964A - ４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法 - Google Patents
４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法Info
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- JP2002316964A JP2002316964A JP2002033831A JP2002033831A JP2002316964A JP 2002316964 A JP2002316964 A JP 2002316964A JP 2002033831 A JP2002033831 A JP 2002033831A JP 2002033831 A JP2002033831 A JP 2002033831A JP 2002316964 A JP2002316964 A JP 2002316964A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、医農薬の中間体として有用な４−
トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物を、毒性
の問題が無く、工業的に合成容易であり大量に入手可能
な原料を用い、収率の良い工業的な製造方法を提供する
ことを課題とする。 【解決手段】 本発明における４−トリフルオロメトキ
シベンジルハライドの製法は、トリフルオロメトキシベ
ンゼンとアルデヒド類、アセタール類、パラホルムアル
デヒド、又は１，３，５−トリオキサンとを、酸触媒の
存在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン化剤
で反応させることによって行うことができる。
トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物を、毒性
の問題が無く、工業的に合成容易であり大量に入手可能
な原料を用い、収率の良い工業的な製造方法を提供する
ことを課題とする。 【解決手段】 本発明における４−トリフルオロメトキ
シベンジルハライドの製法は、トリフルオロメトキシベ
ンゼンとアルデヒド類、アセタール類、パラホルムアル
デヒド、又は１，３，５−トリオキサンとを、酸触媒の
存在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン化剤
で反応させることによって行うことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医農薬の合成中間
体、例えば、殺虫剤，殺ダニ剤，殺菌剤，殺センチュウ
剤として有用なアミノピリミジン誘導体（特開平５−２
３００３６号公報，特開平６−２５１８７号公報，特開
平７−２５８２２３号公報）の合成中間体として重要で
ある４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物
の製法に関するものである。
体、例えば、殺虫剤，殺ダニ剤，殺菌剤，殺センチュウ
剤として有用なアミノピリミジン誘導体（特開平５−２
３００３６号公報，特開平６−２５１８７号公報，特開
平７−２５８２２３号公報）の合成中間体として重要で
ある４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物
の製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】４−トリフルオロメトキシベンジルハラ
イド化合物の製法としては、例えば、欧州特許ＥＰ９７
８７号には、４−トリフルオロメトキシトルエンを塩素
共存下光照射により塩素化する方法が記載されており；
米国特許ＵＳ４１１８５６１号や独国特許ＤＥ２８０９
０２２号には、４−トリフルオロメトキシベンジルアル
コールを塩化チオニルでクロル化する方法が記載されて
いる。しかし、これらの方法で用いる原料は高価であ
り、大量に入手することが困難であるので、工業的な製
法として利用することはできない。また、置換ベンゼン
のクロロメチル化については、数多くの報告があるが、
トリフルオロメトキシベンゼンに関する記載は認められ
ない。
イド化合物の製法としては、例えば、欧州特許ＥＰ９７
８７号には、４−トリフルオロメトキシトルエンを塩素
共存下光照射により塩素化する方法が記載されており；
米国特許ＵＳ４１１８５６１号や独国特許ＤＥ２８０９
０２２号には、４−トリフルオロメトキシベンジルアル
コールを塩化チオニルでクロル化する方法が記載されて
いる。しかし、これらの方法で用いる原料は高価であ
り、大量に入手することが困難であるので、工業的な製
法として利用することはできない。また、置換ベンゼン
のクロロメチル化については、数多くの報告があるが、
トリフルオロメトキシベンゼンに関する記載は認められ
ない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、医農
薬の合成中間体、例えば、殺虫剤，殺ダニ剤，殺菌剤，
殺センチュウ剤として有用なアミノピリミジン誘導体
（特開平５−２３００３６号公報，特開平６−２５１８
７号公報，特開平７−２５８２２３号公報）の合成中間
体として重要である４−トリフルオロメトキシベンジル
ハライドを、安価に、かつ収率良く、工業的に製造する
方法を提供することである。
薬の合成中間体、例えば、殺虫剤，殺ダニ剤，殺菌剤，
殺センチュウ剤として有用なアミノピリミジン誘導体
（特開平５−２３００３６号公報，特開平６−２５１８
７号公報，特開平７−２５８２２３号公報）の合成中間
体として重要である４−トリフルオロメトキシベンジル
ハライドを、安価に、かつ収率良く、工業的に製造する
方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために検討した結果、医農薬の合成中間体
として有用なアミノピリミジン誘導体の合成中間体とし
て重要である４−トリフルオロメトキシベンジルハライ
ドの製法を確立して、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、次式（１）で示されるトリフルオロメト
キシベンゼンと
題を解決するために検討した結果、医農薬の合成中間体
として有用なアミノピリミジン誘導体の合成中間体とし
て重要である４−トリフルオロメトキシベンジルハライ
ドの製法を確立して、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明は、次式（１）で示されるトリフルオロメト
キシベンゼンと
【化５】 次式（２）で示されるアルデヒド類、
【化６】 （式中、Ｒ１は水素原子又はアルキル基を表す。） 次式（３）で示されるアセタール類、
【化７】 (式中、Ｒ１は前記と同様であり、Ｒ２及びＲ３は同一
でも異なっていてもよく、それぞれアルキル基を表
す。) パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−トリオキサン
から選択される少なくとも一種の化合物を、酸触媒の存
在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン化剤で
反応させることを特徴とする、次式（４）で示される４
−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法
に関するものである。
でも異なっていてもよく、それぞれアルキル基を表
す。) パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−トリオキサン
から選択される少なくとも一種の化合物を、酸触媒の存
在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン化剤で
反応させることを特徴とする、次式（４）で示される４
−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法
に関するものである。
【化８】 （式中、Ｒ１は前記と同様であり、Ｘは前記ハロゲン化
剤に由来するハロゲン原子を表す。）
剤に由来するハロゲン原子を表す。）
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の上記式（４）で示される
４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物
（４）のＸとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子、フッ素原子などのハロゲン原子が挙げられる。好ま
しくは塩素原子又は臭素原子である。Ｒ１としては、水
素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どの炭素原子数１〜４のアルキル基が挙げられる。好ま
しくは水素原子である。
４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物
（４）のＸとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子、フッ素原子などのハロゲン原子が挙げられる。好ま
しくは塩素原子又は臭素原子である。Ｒ１としては、水
素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基な
どの炭素原子数１〜４のアルキル基が挙げられる。好ま
しくは水素原子である。
【０００６】本発明において、４−トリフルオロメトキ
シベンジルハライド化合物（４）は、トリフルオロメト
キシベンゼン（１）と、前記式（２）で示されるアルデ
ヒド類（２）、前記式（３）で示されるアセタール類
（３）、パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−トリ
オキサンから選択される少なくとも一種の化合物を、酸
触媒存在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン
化剤で反応させることによって製造される。トリフルオ
ロメトキシベンゼン（１）は、工業的に製造されてお
り、大量に購入可能な化合物である。
シベンジルハライド化合物（４）は、トリフルオロメト
キシベンゼン（１）と、前記式（２）で示されるアルデ
ヒド類（２）、前記式（３）で示されるアセタール類
（３）、パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−トリ
オキサンから選択される少なくとも一種の化合物を、酸
触媒存在下に含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン
化剤で反応させることによって製造される。トリフルオ
ロメトキシベンゼン（１）は、工業的に製造されてお
り、大量に購入可能な化合物である。
【０００７】本発明ではアルデヒド類（２）、アセター
ル類（３）、パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−
トリオキサンから選択される少なくとも一種の化合物が
使用される。アルデヒド類（２）としては、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ホ
ルムアルデヒドなどのＲ１が上記のアルキル基である炭
素原子数１〜５の脂肪族アルデヒド類が挙げられるが、
ホルムアルデヒドが好ましい。アセタール類（３）とし
ては、アセトアルデヒドジエチルアセタール、ホルムア
ルデヒドジメチルアセタールなど、前記式（３）で示さ
れる、Ｒ１が水素原子又は上記のアルキル基である炭素
原子数１〜５の脂肪族アルデヒド類をアセタールに変換
した構造を有するものが挙げられる。上記式（３）で示
されるアセタール類（３）のＲ２及びＲ３としては、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい炭素原子数１〜４の
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基が挙げられる。好ましくはメチル基である。こ
れら化合物において、パラホルムアルデヒド、又は１，
３，５−トリオキサンが好ましい。これらの化合物は工
業的に製造されており、購入可能な化合物である。これ
らの化合物の使用量は、トリフルオロメトキシベンゼン
（１）１モルに対して０．１〜１０モルであるが、好ま
しくは１〜５モルである。
ル類（３）、パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−
トリオキサンから選択される少なくとも一種の化合物が
使用される。アルデヒド類（２）としては、アセトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、ホ
ルムアルデヒドなどのＲ１が上記のアルキル基である炭
素原子数１〜５の脂肪族アルデヒド類が挙げられるが、
ホルムアルデヒドが好ましい。アセタール類（３）とし
ては、アセトアルデヒドジエチルアセタール、ホルムア
ルデヒドジメチルアセタールなど、前記式（３）で示さ
れる、Ｒ１が水素原子又は上記のアルキル基である炭素
原子数１〜５の脂肪族アルデヒド類をアセタールに変換
した構造を有するものが挙げられる。上記式（３）で示
されるアセタール類（３）のＲ２及びＲ３としては、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい炭素原子数１〜４の
アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基が挙げられる。好ましくはメチル基である。こ
れら化合物において、パラホルムアルデヒド、又は１，
３，５−トリオキサンが好ましい。これらの化合物は工
業的に製造されており、購入可能な化合物である。これ
らの化合物の使用量は、トリフルオロメトキシベンゼン
（１）１モルに対して０．１〜１０モルであるが、好ま
しくは１〜５モルである。
【０００８】含イオウハロゲン化剤としては、塩化チオ
ニル、臭化チオニルなどが挙げられ、含リンハロゲン化
剤としては、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リ
ン、三臭化リンなどが挙げられるが、好ましくは含イオ
ウハロゲン化剤であり、更に好ましくは塩化チオニル、
又は臭化チオニルである。これらのハロゲン化剤は工業
的に製造されており、大量に購入可能な化合物である。
これらのハロゲン化剤の使用量は、トリフルオロメトキ
シベンゼン（１）１モルに対して０．１〜１０モルであ
るが、好ましくは１〜３モルである。前記式（４）で示
される４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合
物（４）のＸ（ハロゲン原子）は、前記のハロゲン化剤
に由来する。
ニル、臭化チオニルなどが挙げられ、含リンハロゲン化
剤としては、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リ
ン、三臭化リンなどが挙げられるが、好ましくは含イオ
ウハロゲン化剤であり、更に好ましくは塩化チオニル、
又は臭化チオニルである。これらのハロゲン化剤は工業
的に製造されており、大量に購入可能な化合物である。
これらのハロゲン化剤の使用量は、トリフルオロメトキ
シベンゼン（１）１モルに対して０．１〜１０モルであ
るが、好ましくは１〜３モルである。前記式（４）で示
される４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合
物（４）のＸ（ハロゲン原子）は、前記のハロゲン化剤
に由来する。
【０００９】酸触媒としては、塩化アルミニウム、塩化
鉄（III）、塩化亜鉛、塩化チタン（ＩＶ）等のルイス
酸、リン酸（オルトリン酸、ピロリン酸、メタリン酸、
三リン酸、四リン酸、ポリリン酸、リン酸水溶液な
ど）、硫酸等が挙げられ、これらを単独または混合して
用いる事ができるが、好ましくは硫酸である。これらの
酸触媒は、工業的に製造されており、大量に購入可能な
化合物である。硫酸の濃度としては、９０重量％以上が
好ましく、９６重量％以上が更に好ましい。酸触媒の使
用量は、トリフルオロメトキシベンゼン（１）１モルに
対して０．１〜１０モルであるが、好ましくは０．１〜
３モルである。
鉄（III）、塩化亜鉛、塩化チタン（ＩＶ）等のルイス
酸、リン酸（オルトリン酸、ピロリン酸、メタリン酸、
三リン酸、四リン酸、ポリリン酸、リン酸水溶液な
ど）、硫酸等が挙げられ、これらを単独または混合して
用いる事ができるが、好ましくは硫酸である。これらの
酸触媒は、工業的に製造されており、大量に購入可能な
化合物である。硫酸の濃度としては、９０重量％以上が
好ましく、９６重量％以上が更に好ましい。酸触媒の使
用量は、トリフルオロメトキシベンゼン（１）１モルに
対して０．１〜１０モルであるが、好ましくは０．１〜
３モルである。
【００１０】４−トリフルオロメトキシベンジルハライ
ド化合物（４）の合成は、無溶媒または溶媒存在下で行
うことができる。溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定されず、例えば、ジクロロメタン、
クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１−クロロブ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ニトロベンゼン、ニト
ロメタン、ニトロエタン等のニトロ化炭化水素類、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン等の飽和脂肪族炭化水素類、
又は二硫化炭素を挙げることができる。そして、これら
は単独、又は混合して使用することができる。溶媒の使
用量は、トリフルオロメトキシベンゼン（１）１ｇに対
して０〜５０ｍｌであり、好ましくは０〜１０ｍｌであ
る。
ド化合物（４）の合成は、無溶媒または溶媒存在下で行
うことができる。溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定されず、例えば、ジクロロメタン、
クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１−クロロブ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ニトロベンゼン、ニト
ロメタン、ニトロエタン等のニトロ化炭化水素類、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン等の飽和脂肪族炭化水素類、
又は二硫化炭素を挙げることができる。そして、これら
は単独、又は混合して使用することができる。溶媒の使
用量は、トリフルオロメトキシベンゼン（１）１ｇに対
して０〜５０ｍｌであり、好ましくは０〜１０ｍｌであ
る。
【００１１】反応温度は０〜１００℃であるが、好まし
くは１０〜８０℃である。反応時間は、濃度，温度，使
用量によって変化するが、通常、１〜２０時間である。
くは１０〜８０℃である。反応時間は、濃度，温度，使
用量によって変化するが、通常、１〜２０時間である。
【００１２】以上のようにして製造された４−トリフル
オロメトキシベンジルハライド化合物（４）は、反応終
了後、洗浄、抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、必要
に応じて蒸留や各種クロマトグラフィー等の公知の手段
で精製することができる。
オロメトキシベンジルハライド化合物（４）は、反応終
了後、洗浄、抽出、濃縮等の通常の後処理を行い、必要
に応じて蒸留や各種クロマトグラフィー等の公知の手段
で精製することができる。
【００１３】得られた４−トリフルオロメトキシベンジ
ルハライド化合物（４）において、Ｒ１が水素原子のも
の（化合物（４’））は、下式に示すように、シアノ化
し、還元を行い２−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）エチルアミン（化合物（６））とした後、例えば、
特開平７−２５８２２３号公報に記載の方法で優れた殺
虫、殺ダニ、殺菌、殺センチュウ活性を有するアミノピ
リミジン誘導体へ誘導される重要な中間体である。
ルハライド化合物（４）において、Ｒ１が水素原子のも
の（化合物（４’））は、下式に示すように、シアノ化
し、還元を行い２−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）エチルアミン（化合物（６））とした後、例えば、
特開平７−２５８２２３号公報に記載の方法で優れた殺
虫、殺ダニ、殺菌、殺センチュウ活性を有するアミノピ
リミジン誘導体へ誘導される重要な中間体である。
【００１４】
【化９】 （式中、Ｘは前記と同様であり、＊は不斉炭素原子を表
し、Ｒ４はハロゲン原子、水酸基等を表す。）
し、Ｒ４はハロゲン原子、水酸基等を表す。）
【００１５】
【実施例】以下に本発明を実施例及び比較例によって具
体的に説明する。なお、これらの実施例は、本発明の範
囲を限定するものではない。
体的に説明する。なお、これらの実施例は、本発明の範
囲を限定するものではない。
【００１６】実施例１ トリフルオロメトキシベンゼン３．２４ｇ（２０ｍｍｏ
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、塩化チオニル
２．６２ｇ（２２ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．４５ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルクロリドが
２．９０ｇ（転化率９１．６％、選択率７５．１％）生
成していた。更に、この有機層を減圧下、溶媒留去し、
得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）にて精製することによって、無色透明液体の目的物
２．４６ｇを得た。
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、塩化チオニル
２．６２ｇ（２２ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．４５ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルクロリドが
２．９０ｇ（転化率９１．６％、選択率７５．１％）生
成していた。更に、この有機層を減圧下、溶媒留去し、
得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）にて精製することによって、無色透明液体の目的物
２．４６ｇを得た。
【００１７】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨ
ｚ）δ（ｐｐｍ）：４．５８（２Ｈ，ｓ）、７．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．８Ｈｚ）、７．４２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ=９．０Ｈｚ）
ｚ）δ（ｐｐｍ）：４．５８（２Ｈ，ｓ）、７．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．８Ｈｚ）、７．４２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ=９．０Ｈｚ）
【００１８】実施例２ トリフルオロメトキシベンゼン３２．４２ｇ（０．２０
ｍｏｌ）にパラホルムアルデヒド３０．０３ｇ、塩化チ
オニル３０．９３ｇ（０．２６ｍｏｌ）と濃硫酸（９６
重量％硫酸）２１．５６ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加え、
４０℃で６時間撹拌した。反応液に水９０ｍｌをゆっく
り加えさらに６０℃で１時間加熱攪拌した後、トルエン
９０ｍｌで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄した。この有機層をガスクロマトグラフィー
で分析した結果、４−トリフルオロメトキシベンジルク
ロリドが３０．８９ｇ（転化率９７．８％、選択率７
５．１％）生成していた。
ｍｏｌ）にパラホルムアルデヒド３０．０３ｇ、塩化チ
オニル３０．９３ｇ（０．２６ｍｏｌ）と濃硫酸（９６
重量％硫酸）２１．５６ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加え、
４０℃で６時間撹拌した。反応液に水９０ｍｌをゆっく
り加えさらに６０℃で１時間加熱攪拌した後、トルエン
９０ｍｌで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液で洗浄した。この有機層をガスクロマトグラフィー
で分析した結果、４−トリフルオロメトキシベンジルク
ロリドが３０．８９ｇ（転化率９７．８％、選択率７
５．１％）生成していた。
【００１９】実施例３ トリフルオロメトキシベンゼン３．２４ｇ（２０ｍｍｏ
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、臭化チオニル
４．９９ｇ（２４ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．１５ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で６時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルブロミドが
４．０５ｇ（転化率９６．７％、選択率８２．１％）生
成していた。更に、この有機層を減圧下、溶媒留去し、
得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）にて精製することによって、無色透明液体の目的物
３．５７ｇを得た。
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、臭化チオニル
４．９９ｇ（２４ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．１５ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、４０℃で６時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルブロミドが
４．０５ｇ（転化率９６．７％、選択率８２．１％）生
成していた。更に、この有機層を減圧下、溶媒留去し、
得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル
Ｃ−２００、展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１９：
１）にて精製することによって、無色透明液体の目的物
３．５７ｇを得た。
【００２０】１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨ
ｚ）δ（ｐｐｍ）：４．４８（２Ｈ，ｓ）、７．１９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．８Ｈｚ）、７．４２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ=８．８Ｈｚ）
ｚ）δ（ｐｐｍ）：４．４８（２Ｈ，ｓ）、７．１９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ=７．８Ｈｚ）、７．４２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ=８．８Ｈｚ）
【００２１】実施例４ トリフルオロメトキシベンゼン３．２４ｇ（２０ｍｍｏ
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、臭化チオニル
４．９９ｇ（２４ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．１５ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルブロミドが
４．２３ｇ（転化率９７．３％、選択率８５．２％）生
成していた。
ｌ）にパラホルムアルデヒド２．７０ｇ、臭化チオニル
４．９９ｇ（２４ｍｍｏｌ）と濃硫酸（９６重量％硫
酸）２．１５ｇ（２２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１９時
間撹拌した。反応液に水１０ｍｌをゆっくり加えさらに
６０℃で１時間加熱攪拌した後、酢酸エチル２０ｍｌで
抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄
した。この有機層をガスクロマトグラフィーで分析した
結果、４−トリフルオロメトキシベンジルブロミドが
４．２３ｇ（転化率９７．３％、選択率８５．２％）生
成していた。
【００２２】参考例１〔４−トリフルオロメトキシベン
ジルシアニドの合成〕 ４−トリフルオロメトキシベンジルクロリド２１．０５
ｇ（１００ｍｍｏｌ）をアセトニトリル７５ｍｌと水７
５ｍｌの混合溶媒に溶解し、シアン化カリウム９．７６
ｇ（１５０ｍｍｏｌ）とテトラｎ−ブチルアンモニウム
ブロミド１．６１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、５時間還
流，撹拌した。室温まで冷却後、分液し、有機層を減圧
濃縮した。残渣を減圧蒸留して、無色透明の液体１８．
１２ｇ（９０ｍｍｏｌ）を得た。 ｂ．ｐ．７５〜７６℃／０．８ｍｍＨｇ
ジルシアニドの合成〕 ４−トリフルオロメトキシベンジルクロリド２１．０５
ｇ（１００ｍｍｏｌ）をアセトニトリル７５ｍｌと水７
５ｍｌの混合溶媒に溶解し、シアン化カリウム９．７６
ｇ（１５０ｍｍｏｌ）とテトラｎ−ブチルアンモニウム
ブロミド１．６１ｇ（５ｍｍｏｌ）を加え、５時間還
流，撹拌した。室温まで冷却後、分液し、有機層を減圧
濃縮した。残渣を減圧蒸留して、無色透明の液体１８．
１２ｇ（９０ｍｍｏｌ）を得た。 ｂ．ｐ．７５〜７６℃／０．８ｍｍＨｇ
【００２３】参考例２〔２−（４−トリフルオロメトキ
シフェニル）エチルアミンの合成〕 メタノール１００ｍｌにアンモニア１０ｇを溶かし、そ
こへ４−トリフルオロメトキシベンジルシアニド２０．
１２ｇ（１００ｍｍｏｌ）と５ｗｔ％の展開ラネーニッ
ケル１．００ｇを加えた。懸濁液をオートクレーブに移
し、水素圧１０ｋｇｆ／ｃｍ２，６０℃で４時間撹拌し
た。室温まで冷却後、放圧した。懸濁液を濾過し、ろ液
を減圧濃縮した。残渣を減圧蒸留して、無色透明の液体
２０．２１ｇ（９８ｍｍｏｌ）を得た。 ｂ．ｐ．８６〜８８℃／１２ｍｍＨｇ
シフェニル）エチルアミンの合成〕 メタノール１００ｍｌにアンモニア１０ｇを溶かし、そ
こへ４−トリフルオロメトキシベンジルシアニド２０．
１２ｇ（１００ｍｍｏｌ）と５ｗｔ％の展開ラネーニッ
ケル１．００ｇを加えた。懸濁液をオートクレーブに移
し、水素圧１０ｋｇｆ／ｃｍ２，６０℃で４時間撹拌し
た。室温まで冷却後、放圧した。懸濁液を濾過し、ろ液
を減圧濃縮した。残渣を減圧蒸留して、無色透明の液体
２０．２１ｇ（９８ｍｍｏｌ）を得た。 ｂ．ｐ．８６〜８８℃／１２ｍｍＨｇ
【００２４】
【発明の効果】本発明の新規な製法によれば、医農薬の
中間体として有用なアミノピリミジン誘導体の重要な中
間体となる４−トリフルオロメトキシベンジルハライド
化合物を、安価に、かつ収率良く、工業的に製造するこ
とができる。
中間体として有用なアミノピリミジン誘導体の重要な中
間体となる４−トリフルオロメトキシベンジルハライド
化合物を、安価に、かつ収率良く、工業的に製造するこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC23 AC25 BE51 BE54 GP03 GP20
Claims (1)
- 【請求項１】次式（１）で示されるトリフルオロメトキ
シベンゼンと 【化１】 次式（２）で示されるアルデヒド類、 【化２】 （式中、Ｒ１は水素原子又はアルキル基を表す。） 次式（３）で示されるアセタール類、 【化３】 (式中、Ｒ１は前記と同様であり、Ｒ２及びＲ３は同一
でも異なっていてもよく、それぞれアルキル基を表
す。) パラホルムアルデヒド、及び１，３，５−トリオキサン
から選択される少なくとも一種の化合物を、酸触媒の存
在下、含イオウハロゲン化剤又は含リンハロゲン化剤を
用いて反応させることを特徴とする、次式（４）で示さ
れる４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物
の製法。 【化４】 （式中、Ｒ１は前記と同様であり、Ｘは前記ハロゲン化
剤に由来するハロゲン原子を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002033831A JP2002316964A (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-12 | ４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001039538 | 2001-02-16 | ||
| JP2001-39538 | 2001-02-16 | ||
| JP2002033831A JP2002316964A (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-12 | ４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002316964A true JP2002316964A (ja) | 2002-10-31 |
Family
ID=26609505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002033831A Pending JP2002316964A (ja) | 2001-02-16 | 2002-02-12 | ４−トリフルオロメトキシベンジルハライド化合物の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002316964A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104478654A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-04-01 | 上海赫腾精细化工有限公司 | 间三氟甲基氯苄的制备方法 |
-
2002
- 2002-02-12 JP JP2002033831A patent/JP2002316964A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104478654A (zh) * | 2014-12-26 | 2015-04-01 | 上海赫腾精细化工有限公司 | 间三氟甲基氯苄的制备方法 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061226 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070109 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070508 |