JP2002313871A - 真空処理装置及び真空処理装置における基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の搬送ミスを防止することができる真空
処理装置及び真空処理装置における基板搬送方法を提供
することを目的とする。 【解決手段】 真空チャンバ２ａ内の載置部７ａに基板
を搬入・搬出する真空処理装置における基板搬送方法に
おいて、基板搬入・搬出動作時には、搬出される基板を
保持する搬入ガイド部１０と載置部７ａとの間の隙間、
搬出された基板を保持する搬出ガイド部１１と載置部７
ａとの間の隙間に、それぞれ搬入ブリッジ部１５、搬出
ブリッジ部１６を進出させて隙間の橋渡しを行い、搬入
アーム１３によって搬入ガイド部１０上の基板を載置部
７ａ上に移動させるとともに、搬出アーム１４によって
載置部７ａ上の基板を搬出ガイド部１１上に搬出する。
これにより基板搬送時にガイド部の不連続部分が発生せ
ず、基板の搬入・搬出を確実に行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を対象として
プラズマ処理などの真空処理を行う真空処理装置及び真
空処理装置における基板搬送方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基板の表面処理を行う装置として、プラ
ズマ処理装置が知られている。このプラズマ処理装置
は、減圧雰囲気の処理室内でプラズマを発生させて対象
物である基板のプラズマ処理を行うものである。処理室
内に基板を搬入する方法として、一般に平面状に設けら
れた搬送路上で基板を水平姿勢で搬送する方法が用いら
れている。この方法は基板の幅寸法に対応して側面ガイ
ドが設けられた搬送路上に基板を載置し、基板の後端部
を押送する方法などによって、基板の処理室への搬入お
よび処理室からの搬出を行うものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、処理室の内
部は外部から遮断された密閉構造とする必要があるた
め、上記搬送路上に処理室の内外を遮断する側壁が下降
する部分では、搬送路は処理室の側壁の厚さに相当する
隙間分だけ途切れて不連続となる。したがって、この不
連続部分を基板が通過する際には、基板は上下方向及び
左右方向のいずれもガイドされない状態で移動する。こ
のとき、搬送対象が薄型の基板などそりや撓みを生じや
すい基板である場合には、この隙間部分で基板の先端部
が不連続部に引っかかり、搬送ミスを起こしやすい。そ
してこの搬送ミスにより基板の破損を生じたり、また位
置ずれ状態のまま処理室内でのプラズマ処理が実行され
て、異常放電を誘発するなどの不具合の原因となってい
た。

【０００４】そこで本発明は、基板の搬送ミスを防止す
ることができる真空処理装置及び真空処理装置における
基板搬送方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の真空処理
装置は、処理対象の基板の真空処理を行う処理室を形成
し上下に開閉可能な真空チャンバと、前記処理室内に配
設され前記基板を載置するとともに基板の搬送を案内す
るための基板ガイド部を有する載置部と、前記基板ガイ
ド部と同一直線上の位置に配置され載置部に搬入される
基板を水平姿勢で保持するとともに載置部への基板の搬
入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部と、前記基板
ガイド部と同一直線上の位置に配置され載置部からの基
板の搬出動作時に基板をガイドするとともに搬出された
基板を水平姿勢で保持する搬出ガイド部と、前記真空チ
ャンバが開状態のときに前記搬入ガイド部と基板ガイド
部との間の第１の隙間および基板ガイド部と前記搬出ガ
イド部との間の第２の隙間をそれぞれ橋渡しする搬入ブ
リッジ部および搬出ブリッジ部と、前記搬入ブリッジ部
および搬出ブリッジ部をそれぞれ前記第１の隙間および
第２の隙間と退去位置との間で移動させる搬入ブリッジ
移動手段および搬出ブリッジ移動手段と、前記搬入ガイ
ド部上の基板を搬入ブリッジ部上を経て載置部上に移動
させる基板搬入移動手段と、載置部上の基板を搬出ブリ
ッジ部上を経て前記搬出ガイド部上に移動させる基板搬
出移動手段とを備えた。

【０００６】請求項２記載の真空処理装置における基板
搬送方法は、上下に開閉可能な真空チャンバ内に形成さ
れ真空処理を行う処理室に処理対象の基板を搬送する真
空処理装置における基板搬送方法であって、前記処理室
内に配設され前記基板が載置される載置部に基板を搬入
する搬入動作は、前記載置部上での基板の搬送時に基板
をガイドする基板ガイド部と同一直線上の位置に配置さ
れ処理室に搬入される基板を水平姿勢で保持するととも
に搬入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部に基板を
保持させる基板保持工程と、前記真空チャンバが開状態
のときに前記搬入ガイド部と前記基板ガイド部との間の
第１の隙間に搬入ブリッジ部を進出させて第１の隙間を
橋渡しする搬入ブリッジ進出工程と、搬入ブリッジ進出
状態において搬入ガイド部上の基板を基板搬入移動手段
によって搬入ブリッジ部上を経て載置部上に移動させる
搬入移動工程とを含み、処理室内の載置部から基板を搬
出する搬出動作は、真空チャンバが開状態のときに前記
基板ガイド部と同一直線上の位置に配置され処理室から
の基板の搬出動作時に基板をガイドするとともに搬出さ
れた基板を水平姿勢で保持する搬出ガイド部と前記基板
ガイド部との間の第２の隙間に搬出ブリッジ部を進出さ
せて第２の隙間を橋渡しする搬出ブリッジ進出工程と、
搬出ブリッジ進出状態において載置部上の基板を基板搬
出移動手段によって搬出ブリッジ部上を経て搬出ガイド
部上に移動させる搬出移動工程とを含む。

【０００７】請求項３記載の真空処理装置における基板
搬送方法は、請求項２記載の真空処理装置における基板
搬送方法であって、前記搬入ガイド部と搬出ガイド部と
を基板ガイド部に連結しているときに、搬入移動工程と
搬出移動工程とを同時に行う。

【０００８】本発明によれば、処理室内への基板の搬入
動作時に基板をガイドする搬入ガイド部と処理室からの
基板の搬出動作時に基板をガイドする搬出ガイド部と、
処理室内の載置部上での基板の搬送時に基板をガイドす
る基板ガイド部との間の隙間を橋渡しする搬入ブリッジ
部および搬出ブリッジ部を備え、真空チャンバが開状態
のときに搬入ブリッジ部および搬出ブリッジ部をそれぞ
れ前記隙間に進出させて基板ガイド部との間を橋渡しす
ることにより、基板搬送時にガイド部の不連続部分が発
生せず、処理室への基板の搬入・搬出を確実に行うこと
ができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図１は本発明の一実施の形態の真空
処理装置の斜視図、図２は本発明の一実施の形態の真空
処理装置の載置部の斜視図、図３は本発明の一実施の形
態の真空処理装置の部分斜視図、図４は本発明の一実施
の形態の真空処理装置のブリッジ移動手段の機構説明
図、図５は本発明の一実施の形態の真空処理装置におけ
る基板搬送方法の動作説明図である。

【００１０】まず、図１を参照して真空処理装置の全体
構造を説明する。図１において、真空処理装置は、基板
供給部１，真空処理部２および基板回収部３より構成さ
れる。真空処理部２は、ベース部６と蓋部材９より構成
され蓋部材９が昇降することにより上下に開閉可能な真
空チャンバ２ａを備えており、蓋部材９がベース部６の
上面に当接した状態で、真空チャンバ２ａは処理対象の
基板の真空処理を行うための密閉された処理室９ａを形
成する（図５（ａ）参照）。

【００１１】図２に示すように、ベース部６上の上記処
理室９ａ内には、電極部７がベース部６の上面から上方
に突出して設けられており、電極部７の上面は処理対象
の基板５を載置する載置部７ａとなっている。載置部７
ａは基板５を載置するとともに基板５の搬送を案内する
ための基板ガイド部８を有している。基板ガイド部８の
上面には、基板搬送時に基板５の側面をガイドする３条
のガイドレール８ａ、８ｂ、８ｃが設けられており、２
枚の基板５を同時に載置・搬送できるようになってい
る。

【００１２】蓋部材９が下降してその側壁部が当接する
ベース部６の上面にはシール部材６ｃが装着されてお
り、当接時に蓋部材９とベース部６上面とを密閉する。
またベース部６の上面には、ガス供給孔６ａ、真空排気
・大気導入孔６ｂが設けられている。

【００１３】図１において基板供給部１は、真空処理対
象の基板５を段積み状態で多数収納するマガジン４を備
えており、マガジン４と真空処理部２の間には搬入ガイ
ド部１０が配設されている。搬入ガイド部１０は基板ガ
イド部８と同一直線上の位置に配置され、マガジン４か
ら押し出され載置部７ａに搬入される基板５を水平姿勢
で保持するとともに、載置部７ａへの基板５の搬入動作
時に基板５をガイドする。

【００１４】搬入ガイド部１０上の基板５は、さらに搬
入ブリッジ部１５を経て、電極部７上の基板ガイド部８
へ乗り移り、載置部７ａへ搬入される。搬入ブリッジ部
１５は、真空チャンバ２ａが開状態のときに搬入ガイド
部１０と基板ガイド部８との間の第１の隙間Ｓ１（図５
（ａ）参照）を橋渡しするために設けられている。この
基板搬入動作時の基板５の移動は、搬入アーム１３によ
って基板５を押送することによって行われる。

【００１５】基板回収部３は、基板供給部１と同様のマ
ガジン４を備えており、真空処理部２と基板回収部３と
の間には、搬出ガイド部１１が配設されている。搬出ガ
イド部１１は基板ガイド部８と同一直線上の位置に配置
され、載置部７ａからの基板５の搬出動作時に基板５を
ガイドするとともに搬出された基板５を水平姿勢で保持
する。

【００１６】真空処理部２において真空処理された基板
５は、基板ガイド部８から搬出ブリッジ部１６を経て搬
出ガイド部１１上に乗り移り、さらに搬出ガイド部１１
上からマガジン４内に押し込まれて回収される。搬出ブ
リッジ部１６は、基板ガイド部８と搬出ガイド部１１と
の間の第２の隙間Ｓ２（図５（ａ）参照）を橋渡しする
ために設けられるものである。この基板搬出動作時の基
板５の移動は、搬出アーム１４によって基板５を押送す
ることによって行われる。

【００１７】次に図３，図４を参照して、基板５を電極
部７上の載置部７ａへ搬入し、搬出する基板搬送機構の
詳細について説明する。図３において、搬入ガイド部１
０，搬出ガイド部１１は、それぞれ基板ガイド部８から
蓋部材９の昇降動作の妨げとならない第１の隙間Ｓ１、
第２の隙間Ｓ２を隔てて固定位置に配置されている。

【００１８】搬入ガイド部１０、搬出ガイド部１１は、
それぞれ基板ガイド部８のガイドレール８ａ，８ｂ，８
ｃと同様の配列の、ガイドレール１０ａ，１０ｂ，１０
ｃおよびガイドレール１１ａ，１１ｂ，１１ｃを備えて
いる。ここで搬入ガイド部１０、搬出ガイド部１１の基
板ガイド部８に対する相対位置は、Ｙ方向（ガイドレー
ルの幅方向）についてはガイドレール１０ａ，１０ｂ，
１０ｃおよびガイドレール１１ａ，１１ｂ，１１ｃが、
それぞれ対応するガイドレール８ａ，８ｂ，８ｃと同一
直線上に位置するように、またＺ方向（上下方向）につ
いては、搬入ガイド部１０，搬出ガイド部１１の搬送面
が基板ガイド部８の搬送面と同一高さとなるように配置
されている。

【００１９】前述のように、蓋部材９が上昇して真空チ
ャンバ２ａが開いた状態においては、搬入ガイド部１０
と基板ガイド部８との間の第１の隙間Ｓ１、基板ガイド
部８と搬出ガイド部１１との間の第２の隙間Ｓ２には、
それぞれ搬入ブリッジ部１５および搬出ブリッジ部１６
が進出してこれらの隙間を橋渡ししている。

【００２０】搬入ブリッジ部１５、搬出ブリッジ部１６
には、ガイドレール８ａ，８ｂ，８ｃに対応した配列で
それぞれガイドレール１５ａ，１５ｂ，１５ｃ、ガイド
レール１６ａ，１６ｂ，１６ｃが設けられている。橋渡
し状態では、搬入ガイド部１０、搬入ブリッジ部１５、
基板ガイド部８、搬出ブリッジ部１６、搬出ガイド部１
１の、それぞれの対応したガイドレールが同一直線上に
配列されるようになっている。

【００２１】搬入ブリッジ部１５、搬出ブリッジ部１６
は、それぞれ図３に示す橋渡し状態と、退去位置に移動
した退去状態との間で移動する。すなわち真空チャンバ
２ａが閉じる際には、蓋部材９の下降動作に先立って搬
入ブリッジ部１５、搬出ブリッジ部１６はそれぞれ第１
の隙間Ｓ１、第２の隙間Ｓ２から退去する。この移動
は、以下に説明する搬入ブリッジ移動手段１７および搬
出ブリッジ移動手段１８によって行われる。

【００２２】図４に示すように、搬入ガイド部１０の下
面にはブラケット２０が下方に延出しており、ブラケッ
ト２０にはシリンダ２１がロッド２１ａを上向きにした
姿勢で保持されている。搬入ブリッジ部１５はその側面
を略Ｌ字状のリンク部材２４の一方側の端部によって保
持されており、リンク部材２４はピン２５によってブラ
ケット２０に軸支されている。リンク部材２４の他方側
の端部にはローラ２３が装着されており、ローラ２３は
シリンダ２１のロッド２１ａに固着された当接プレート
２２上に位置する。

【００２３】シリンダ２１のロッド２１ａが没入した状
態では、図４（ａ）に示すようにリンク部材２４に保持
された搬入ブリッジ部１５は、搬入ガイド部１０と基板
ガイド部８との隙間に進出して搬入ガイド部１０と基板
ガイド部８とを橋渡しした状態にある。そして図４
（ｂ）に示すように、シリンダ２１のロッド２１ａが突
出することにより、ローラ２３は当接プレート２２によ
って押し上げられる。これにより、リンク部材２４がピ
ン２５の廻りに回転し、搬入ブリッジ部１５は搬入ガイ
ド部１０と基板ガイド部８との隙間から退去する。図４
は搬入ブリッジ移動手段１７について図示しているが、
搬出ブリッジ移動手段１８も同様の構成である。

【００２４】そしてこのブリッジ進出状態において、搬
入ガイド部１０から載置部７ａへの基板５の搬入、およ
び載置部７ａから搬出ガイド部１１への基板５の搬出が
行われる。Ｘ方向（基板の搬送方向）に配設された移動
テーブル１２には、搬入アーム１３、搬出アーム１４が
設けられており、搬入アーム１３は搬入ガイド部１０と
基板ガイド部８を移動範囲として、また搬出アーム１４
は基板ガイド部８と搬出ガイド部１１を移動範囲とし
て、それぞれＸ方向に移動する。また搬入アーム１３、
搬出アーム１４は図示しない上下動機構により上下動可
能となっている。

【００２５】搬入アーム１３、搬出アーム１４は、それ
ぞれ搬送爪１３ａ，１４ａを備えており、搬送爪１３
ａ，１４ａを基板５の後端部に当接させた状態で移動テ
ーブル１２を駆動することにより、搬入アーム１３、搬
出アーム１４はそれぞれ搬入ガイド部１０から基板ガイ
ド部８へ、また基板ガイド部８から搬出ガイド部１１へ
基板５を移動させる。したがって移動テーブル１２と搬
入アーム１３は、搬入ガイド部１０上の基板５を搬入ブ
リッジ部１５を経て載置部７ａ上に移動させる基板搬入
移動手段となっており、また移動テーブル１２と搬出ア
ーム１４は、載置部７ａ上の基板５を搬出ブリッジ部１
６を経て搬出ガイド部１１上に移動させる基板搬出移動
手段となっている。

【００２６】この真空処理装置の基板搬送機構は上記の
ような構成となっており、以下真空処理装置における基
板搬送動作について、図５を参照して説明する。図５
は、１つの基板５を対象として処理室９ａ内での真空処
理が完了した後、この基板５を搬出して新たな基板５を
処理室９ａ内の載置部７ａに搬入するまでの一連の動作
を示している。

【００２７】図５（ａ）において、真空チャンバ２ａの
蓋部材９はベース部６上に下降した状態にあり、この状
態で形成される処理室９ａ内では、電極部７上の基板ガ
イド部８に載置された基板５を対象とした真空処理が行
われている。このとき、搬入ガイド部１０では既に次の
基板５が水平姿勢で保持されて待機状態にあり、搬出ガ
イド部１１は空状態となっている。そして、搬入ブリッ
ジ部１５、搬出ブリッジ部１６はともに退去位置にあ
り、搬入アーム１３の搬送爪１３ａ、搬出アーム１４の
搬送爪１４ａは、それぞれ待機位置にある。

【００２８】処理室９ａ内での真空処理が完了すると、
図５（ｂ）に示すように、蓋部材９が上昇して真空チャ
ンバ２ａが開状態となる。そしてこの後搬入ブリッジ部
１５，搬出ブリッジ部１６が、それぞれ図５（ａ）に示
す第１の隙間Ｓ１、第２の隙間Ｓ２に進出し、搬入ガイ
ド部１０と基板ガイド部８との間、基板ガイド部８と搬
出ガイド部１１との間を橋渡しする。次いで搬送爪１３
ａ，１４ａがそれぞれ搬入ガイド部１０、基板ガイド部
８の上流側の搬送開始位置まで移動する。

【００２９】そして図５（ｃ）に示すように、この状態
で搬送爪１３ａ，１４ａを下降させて、搬入ガイド部１
０上の基板５，基板ガイド部８上の基板５のそれぞれの
後端部に位置させる。次いで搬送爪１３ａ，１４ａを下
流側へ移動させることにより、真空処理後の基板５は載
置部７ａから搬出ガイド部１１上へ搬出されるととも
に、新たな基板５が搬入ガイド部１０上から載置部７ａ
へ搬入される。この基板搬送動作時において、ベース部
６上のシール部材６ｃは上方を搬入ブリッジ部１５およ
び搬出ブリッジ部１６によって覆われた状態となること
から、シール部材６ｃを異物の接触などによる損耗から
保護することができる。

【００３０】この後、搬送爪１３ａ，１４ａを上昇させ
てそれぞれの待機位置まで移動させた後、図５（ｄ）に
示すように、搬入ブリッジ部１５、搬出ブリッジ部１６
を第１の隙間Ｓ１、第２の隙間Ｓ２から退去させる。こ
れにより、新たな真空処理の１サイクルが開始可能な状
態となる。この後、蓋部材９をベース部６上に下降させ
て形成される処理室９ａ内では、新たな基板５を対象と
して真空処理が行われる。

【００３１】上記説明したように、上記基板搬送方法に
おいて、処理室９ａの載置部７ａに基板５を搬入する搬
入動作は、載置部７ａ上での基板５の搬送時に基板５を
ガイドする基板ガイド部８と同一直線上の位置に配置さ
れ載置部７ａに搬入される基板５を水平姿勢で保持する
とともに搬入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部１
０に基板５を保持させる基板保持工程と、真空チャンバ
２ａが開状態のときに搬入ガイド部１０と基板ガイド部
８との間の第１の隙間Ｓ１に搬入ブリッジ部１５を進出
させて第１の隙間Ｓ１を橋渡しする搬入ブリッジ進出工
程と、搬入ブリッジ進出状態において搬入ガイド部１０
上の基板５を搬入アーム１３によって搬入ブリッジ部１
５上を経て載置部７ａ上に移動させる搬入移動工程とを
含んだものとなっている。

【００３２】また載置部７ａから処理済みの基板５を搬
出する搬出動作は、真空チャンバ２ａが開状態のときに
基板ガイド部８と同一直線上の位置に配置され載置部７
ａからの基板５の搬出動作時に基板５をガイドするとと
もに搬出された基板５を水平姿勢で保持する搬出ガイド
部１１と基板ガイド部８との間の第２の隙間Ｓ２に搬出
ブリッジ部１６を進出させて第２の隙間Ｓ２を橋渡しす
る搬出ブリッジ進出工程と、搬出ブリッジ進出状態にお
いて載置部７ａ上の基板５を搬出アーム１４によって搬
出ブリッジ部１６上を経て搬出ガイド部１１上に移動さ
せる搬出移動工程とを含むものとなっている。そして上
記基板搬送動作においては、搬入ガイド部１０と搬出ガ
イド部１１とを基板ガイド部８に連結しているときに、
搬入移動工程と搬出移動工程とを同時に行う形態となっ
ている。

【００３３】このような基板搬送方法を採用することに
より、基板搬送時に基板を案内するガイド部の不連続部
分が発生せず、薄型基板のような反りや撓みを生じやす
く搬送ミスが発生しやすい基板を対象とする場合にあっ
ても、処理室への基板の搬入・搬出を確実に行うことが
できる。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、処理室内への基板の搬
入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部と処理室から
の基板の搬出動作時に基板をガイドする搬出ガイド部
と、処理室内の載置部上での基板の搬送時に基板をガイ
ドする基板ガイド部との間の隙間を橋渡しする搬入ブリ
ッジ部および搬出ブリッジ部を備え、真空チャンバが開
状態のときに搬入ブリッジ部および搬出ブリッジ部をそ
れぞれ前記隙間に進出させて基板ガイド部との間を橋渡
しするようにしたので、基板搬送時にガイド部の不連続
部分が発生せず、薄型基板を対象とする場合にあっても
処理室への基板の搬入・搬出を確実に行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の真空処理装置の斜視図

【図２】本発明の一実施の形態の真空処理装置の載置部
の斜視図

【図３】本発明の一実施の形態の真空処理装置の部分斜
視図

【図４】本発明の一実施の形態の真空処理装置のブリッ
ジ移動手段の機構説明図

【図５】本発明の一実施の形態の真空処理装置における
基板搬送方法の動作説明図

【符号の説明】

１ 基板供給部 ２ 真空処理部 ２ａ 真空チャンバ ３ 基板回収部 ５ 基板 ７ 電極部 ７ａ 載置部 ８ 基板ガイド部 １０ 搬入ガイド部 １１ 搬出ガイド部 １３ 搬入アーム １４ 搬出アーム １５ 搬入ブリッジ部 １６ 搬出ブリッジ部 １７ 搬入ブリッジ移動手段 １８ 搬出ブリッジ移動手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3F025 BA03 BA06 BA09 BB01 BB04 BC02 BC04 5F031 CA04 DA01 FA02 FA09 FA11 FA12 GA55 HA42 HA60 LA15 NA05 PA13

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】処理対象の基板の真空処理を行う処理室を
   形成し上下に開閉可能な真空チャンバと、前記処理室内
   に配設され前記基板を載置するとともに基板の搬送を案
   内するための基板ガイド部を有する載置部と、前記基板
   ガイド部と同一直線上の位置に配置され載置部に搬入さ
   れる基板を水平姿勢で保持するとともに載置部への基板
   の搬入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部と、前記
   基板ガイド部と同一直線上の位置に配置され載置部から
   の基板の搬出動作時に基板をガイドするとともに搬出さ
   れた基板を水平姿勢で保持する搬出ガイド部と、前記真
   空チャンバが開状態のときに前記搬入ガイド部と基板ガ
   イド部との間の第１の隙間および基板ガイド部と前記搬
   出ガイド部との間の第２の隙間をそれぞれ橋渡しする搬
   入ブリッジ部および搬出ブリッジ部と、前記搬入ブリッ
   ジ部および搬出ブリッジ部をそれぞれ前記第１の隙間お
   よび第２の隙間と退去位置との間で移動させる搬入ブリ
   ッジ移動手段および搬出ブリッジ移動手段と、前記搬入
   ガイド部上の基板を搬入ブリッジ部上を経て載置部上に
   移動させる基板搬入移動手段と、載置部上の基板を搬出
   ブリッジ部上を経て前記搬出ガイド部上に移動させる基
   板搬出移動手段とを備えたことを特徴とする真空処理装
   置。
2. 【請求項２】上下に開閉可能な真空チャンバ内に形成さ
   れ真空処理を行う処理室に処理対象の基板を搬送する真
   空処理装置における基板搬送方法であって、前記処理室
   内に配設され前記基板が載置される載置部に基板を搬入
   する搬入動作は、前記載置部上での基板の搬送時に基板
   をガイドする基板ガイド部と同一直線上の位置に配置さ
   れ処理室に搬入される基板を水平姿勢で保持するととも
   に搬入動作時に基板をガイドする搬入ガイド部に基板を
   保持させる基板保持工程と、前記真空チャンバが開状態
   のときに前記搬入ガイド部と前記基板ガイド部との間の
   第１の隙間に搬入ブリッジ部を進出させて第１の隙間を
   橋渡しする搬入ブリッジ進出工程と、搬入ブリッジ進出
   状態において搬入ガイド部上の基板を基板搬入移動手段
   によって搬入ブリッジ部上を経て載置部上に移動させる
   搬入移動工程とを含み、処理室内の載置部から基板を搬
   出する搬出動作は、真空チャンバが開状態のときに前記
   基板ガイド部と同一直線上の位置に配置され処理室から
   の基板の搬出動作時に基板をガイドするとともに搬出さ
   れた基板を水平姿勢で保持する搬出ガイド部と前記基板
   ガイド部との間の第２の隙間に搬出ブリッジ部を進出さ
   せて第２の隙間を橋渡しする搬出ブリッジ進出工程と、
   搬出ブリッジ進出状態において載置部上の基板を基板搬
   出移動手段によって搬出ブリッジ部上を経て搬出ガイド
   部上に移動させる搬出移動工程とを含むことを特徴とす
   る真空処理装置における基板搬送方法。
3. 【請求項３】前記搬入ガイド部と搬出ガイド部とを基板
   ガイド部に連結しているときに、搬入移動工程と搬出移
   動工程とを同時に行うことを特徴とする請求項２記載の
   真空処理装置における基板搬送方法。