JP2002311370A - 走査光学装置およびこれを備えた写真処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源ユニットから出射される光の強度が変動
することに起因して走査処理によって形成される画像の
品質が劣化するのを抑制する。 【解決手段】 レーザ光源ユニット５１から出射される
レーザ光７０の強度がフォトダイオード６６によって検
出される。コントローラ８１は、フォトダイオード６６
により検出されたレーザ光７０の強度に基づいて、レー
ザ光７０の強度の所定値からの変動が補償されるように
ＡＯＭ５３を制御する。これにより、ＡＯＭ５３から出
射される１次回折光７１の強度はレーザ光７０の強度に
ほとんど依存しなくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を利用し
て画像の走査処理を行う走査光学装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】印画紙や感光ドラムなどの感光媒体に対
して走査処理を行うための走査光学装置には、レーザ光
を出射するレーザ光源を含むレーザ光源ユニットと、回
折格子型の音響光学変調器（以下、「ＡＯＭ（acoustoo
ptic modulator）」と称する）などの光変調器と、光変
調器で画像信号に基づいて変調された次数の回折光を絞
ってビーム成形する少なくとも１つのレンズと、これら
レンズを通過した光を用いて感光媒体に対して走査処理
を行うポリゴンミラー（走査光学素子）とを備えている
ものがある。

【０００３】レーザ光源から出射されたレーザ光がＡＯ
Ｍに入射すると、複数次数の回折光が生成される。この
複数次数の回折光は、画像信号に基づいて変調された１
次回折光と変調されていない０次回折光とを含んでい
る。そして、それぞれの回折光はレーザ光の出射方向に
対して所定の角度を有する方向に出射されるようになっ
ており、走査処理に用いられる１次回折光だけが、レン
ズ、ポリゴンミラーなどを経て印画紙などの感光媒体上
に導かれる。なお、レーザ光源ユニットは半導体レーザ
および／または固体レーザ光源を含んでいるものであ
り、所定の波長領域のレーザ光を出射することができ
る。ここで、高品質の画像を得るためには、レーザ光源
ユニットから常にほぼ一定の強度を有するレーザ光が安
定して出射される必要がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
光源の温度変化および個体ばらつきなどにより、レーザ
光源ユニットから出射されるレーザ光の強度が変動し
て、感光媒体上に形成される画像の品質が劣化してしま
うことがある。そこで、レーザ光源ユニットから出射さ
れるレーザ光の強度をフォトダイオードなどのセンサで
検出して、それが所定値に維持されるようにレーザ光源
を制御する技術が知られている。この技術によると、感
光媒体上に形成される画像の品質が劣化するのをある程
度は抑制することができる。しかしながら、この技術に
よっても、レーザ光源の温度変化や個体差、制御誤差な
どのためにレーザ光ユニットから出射されるレーザ光の
強度を高い精度で所定値に維持するのは困難であるの
で、レーザ光を走査して得られる画像を十分に高品質な
ものとすることができないという問題がある。特に、レ
ーザ光源を含む走査光学装置によってアナログ露光方式
（フィルムを透過した光で印画紙を露光する方式）で形
成された写真画像と同程度に高精度の画像を得ようとす
ると、レーザ強度の精度を既存の走査光学装置よりも１
オーダー高める必要がある。しかしながら、レーザ強度
の精度をさらに高めるのは、レーザ光源の強度応答性能
などのために困難であるのが現状である。

【０００５】そこで、本発明の主な目的は、光源ユニッ
トから出射される光の強度が変動することに起因して走
査処理によって形成される画像の品質が劣化するのを抑
制することができる走査光学装置を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の走査光学装置は、光源を含む光源ユニッ
トと、前記光源ユニットから出射される光を変調するた
めの光変調素子と、前記光源ユニットから出射される光
の強度を検出するための光検出手段と、前記光検出手段
により検出された光の強度に基づいて、前記光源ユニッ
トから出射される光の強度の所定値からの変動が補償さ
れるように前記光変調素子を制御するための第１の制御
手段とを備えている。

【０００７】請求項１によると、光検出手段により検出
された光の強度に基づいて、光源ユニットから出射され
る光の強度の所定値からの変動が補償されるように光変
調素子が制御される、つまり、第１の制御手段は、光源
ユニットから出射される光の強度が所定値よりも小さい
場合にはその分だけ光変調素子での強度減衰率が基準値
よりも小さくなり、光源ユニットから出射される光の強
度が所定値よりも大きい場合にはその分だけ光変調素子
での強度減衰率が基準値よりも大きくなるようにする。
そのため、光変調素子から出射される光の強度は光源ユ
ニットから出射される光の強度に実質的に依存しなくな
る。従って、所望の値に近い光の強度で感光媒体の走査
処理を安定して行うことが可能となって、例えば同一の
画像について複数枚連続して走査処理を行う場合に途中
で画像の濃度が変わることがなくなるなど、光源ユニッ
トから出射される光の強度が変動することに起因して走
査処理によって形成される画像の品質が劣化するのを抑
制することができる。

【０００８】また、請求項２の走査光学装置は、前記光
検出手段により検出された光の強度に基づいて、前記光
源ユニットから出射される光の強度が所定値となるよう
に前記光源を制御するための第２の制御手段をさらに備
えていることを特徴としている。

【０００９】請求項２によると、光検出手段により検出
された光の強度に基づいて、光源ユニットから出射され
る光の強度が所定値となるように光源が制御されるの
で、光源ユニットから出射される光の強度の所定値から
の変動を補償する光変調素子の負荷が少なくなる。その
ため、光変調素子から出射される光の強度をより所望の
値に近いものとして感光媒体の走査処理を安定して行う
ことが可能となる。

【００１０】また、請求項３は、請求項１または２に記
載の走査光学装置を備えた写真処理装置である。請求項
３によると、光源ユニットから出射される光の強度が変
動することに起因して走査処理によって形成される画像
の品質が劣化するのが抑制されるので、この走査光学装
置を備えた露光ユニットにおいて適切に露光処理を実施
することができる。これにより、高品質のプリントを出
力することができるようになる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な一実施の形
態について、図面を参照しつつ説明する。図１は、本発
明の好適な一実施の形態である走査光学装置を備えた写
真処理装置の概略構成を示す図である。

【００１２】まず、本実施の形態の走査光学装置を備え
た写真処理装置の概略構成について、図１を参照して説
明する。図１に示す写真処理装置１において、ペーパー
マガジン１１から引き出された長尺の印画紙２は、カッ
ター１２において所定の長さとなるように幅方向に沿っ
て切断される。切断された印画紙２の感光乳剤層が形成
されていない面（裏面）には、印字ユニット１３におい
て所望の文字が印字される。

【００１３】印字ユニット１３の下流側には、露光ユニ
ット１４が配置されている。露光ユニット１４は、感光
材料である印画紙２に対してディジタル画像データに基
づく露光処理を行うものであって、レーザ光源から出射
されたレーザ光を適切に処理し印画紙２に対して走査露
光を行う走査光学装置１５を備えている。走査光学装置
１５の詳細については後述する。また、走査光学装置１
５と対向する位置には、印画紙２を搬送するための２組
の搬送ローラ対１６が搬送経路に沿って配置されてい
る。そのため、印画紙２に形成されるべき潜像に関する
ディジタル画像信号に基づいて、搬送ローラ対１６によ
る印画紙２の搬送タイミングと走査光学装置１５の露光
タイミングとを制御することによって、印画紙２の感光
乳剤面をライン露光して所望画像の潜像を形成すること
ができる。

【００１４】露光ユニット１４の下流側には、印画紙２
の搬送方向を９０°曲げるためのガイド搬送機構１８が
配置されている。ガイド搬送機構１８は、共に緩やかに
湾曲するように９０°曲げられており上下対となった平
板状のペーパー上ガイド１９ａおよびペーパー下ガイド
１９ｂと、ペーパー下ガイド１９ｂに設けられた開口
（図示せず）から一部分が突出するように配置された３
つの駆動ローラ２１、２２、２３と、ペーパー上ガイド
１９ａに設けられた開口（図示せず）から一部分が突出
し且つ各駆動ローラ２１、２２、２３とそれぞれ圧着す
るように配置された３つの圧着ローラ２５、２６、２７
とを有している。

【００１５】ガイド搬送機構１８の下流側には、ペーパ
ー振り分け部３０が配置されている。ペーパー振り分け
部３０は、ここまで１列搬送されてきた印画紙２を２列
或いはそれ以上の列に振り分けて、ここより下流におい
て印画紙２の並列搬送を可能にするために用いられる。

【００１６】ペーパー振り分け部３０の下流側には、こ
こから排出された印画紙２を処理液部３２に送り出すた
めの送り出し搬送部３１が配置されている。処理液部３
２では、露光済みの印画紙２に対して現像、漂白、安定
化などの処理が施される。これにより、露光によって形
成された印画紙２上の潜像が顕在化される。

【００１７】次に、本実施の形態に係る走査光学装置の
詳細な構造について、図２および図３に基づいて説明す
る。図２は、図１に示す写真処理装置に含まれる走査光
学装置内部の概略側面図である。図３は、図２に示す走
査光学装置内部の部分的な概略側面図である。

【００１８】走査光学装置１５は、図２に示すように、
筐体５０内に、レーザ光７０ａを出射する半導体レーザ
などのレーザ光源６０を含むレーザ光源ユニット５１
と、レーザ光源ユニット５１に対応したレンズ５２およ
び音響光学変調器（ＡＯＭ）５３と、ＡＯＭ５３から出
射されたレーザ光に対応したスリット５４と、スリット
５４を通過したレーザ光に対応したエキスパンダレンズ
５５、コリメータレンズ５６およびシリンドリカルレン
ズ５７と、シリンドリカルレンズ５７から出射されたレ
ーザ光を走査するポリゴンミラー５８と、ポリゴンミラ
ー５８で反射されたレーザ光が通過させられるｆθレン
ズ５９とを備えている。

【００１９】また、レーザ光源ユニット５１は、図３に
示すように、レーザ光源６０の他に、レンズ６１と、Ｎ
ｄ：ＹＡＧ結晶から成る固体レーザ結晶６２と、ＫＴＰ
結晶から成るＳＨＧ素子６３と、凹面ミラー６４と、プ
レート６５と、フォトダイオード６６とを備えている。
レーザ光源ユニット５１に含まれるレーザ光源６０は、
所定の波長領域のレーザ光７０ａを出射することができ
る半導体レーザである。レンズ６１は、レーザ光源６０
から出射されたレーザ光７０ａを固体レーザ結晶６２に
集光させるためのものである。また、固体レーザ結晶６
２は、レーザ光７０ａにより励起されることにより、レ
ーザ光７０ａの波長を所定の波長に変更させるためのも
のであり、ＳＨＧ素子６３は、固体レーザ結晶６２の第
２高調波であるレーザ光を生成するためのものである。
凹面ミラー６４は、ＳＨＧ素子６３から出射されたレー
ザ光７０の一部を透過させるためのものである。

【００２０】プレート６５は、凹面ミラー６４を透過し
たレーザ光７０の一部を分離抽出して、フォトダイオー
ド６６に導くためのものである。フォトダイオード６６
は、プレート６５によって導かれたレーザ光７０の強度
を検出するためのものである。ここで、レーザ光源６０
はコントローラ８０に接続され、フォトダイオード６６
はコントローラ８０、８１に接続されている。なお、レ
ーザ光源６０は、単色のレーザ光を出射するものであっ
てもよいし、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）３色のレー
ザ光をそれぞれ出射するものであってもよい。

【００２１】レンズ５２は、レーザ光源６０から出射さ
れたレーザ光７０の径（ビーム径）を縮小するためのも
のである。また、ＡＯＭ５３は、回折格子型の光変調器
であって、レーザ光７０を、画像信号に基づいて変調さ
れていない０次回折光（図示しない）と、画像信号に基
づいて変調された１次回折光７１とに振り分けて出射す
る。ここで、ＡＯＭ５３はコントローラ８１に接続され
ている。なお、図２においては、０次回折光の図示を省
略しており、また、１次回折光７１がレーザ光７０とほ
ぼ同一の方向に出射されたものとして描かれている。

【００２２】スリット５４は、ＡＯＭ５３で生成された
１次回折光７１の幅を規制するためのものである。エキ
スパンダレンズ５５は、スリット５４から出射されたそ
れぞれの１次回折光７１の径を拡大するためのものであ
る。コリメータレンズ５６は、エキスパンダレンズ５５
で拡大された１次回折光７１を平行な光にするためのも
のである。また、シリンドリカルレンズ５７は、それぞ
れの１次回折光７１の主走査方向の径のみを縮小するた
めのものである。

【００２３】ポリゴンミラー５８は、正六角柱のそれぞ
れの側面に反射ミラーが配置されたもので、正六角柱の
軸のまわりを一定の速度で回転可能となるようになって
いる。なお、ポリゴンミラー５８は、図２においては図
示を簡略化している。したがって、シリンドリカルレン
ズ５７を通過した１次回折光７１は、正六角柱の１つの
側面に配置された反射ミラーで反射されることによっ
て、ポリゴンミラー５８の回転に伴って走査される。ま
た、ポリゴンミラー５８と印画紙２との間に配置された
ｆθレンズ５９は、ポリゴンミラー５８で反射された１
次回折光７１の副走査方向の径のみを縮小させた後、印
画紙２上に結像する。

【００２４】次に、本実施の形態に係る走査光学装置の
動作について、図２および図３を参照して説明する。

【００２５】露光ユニット１４に対向する位置に印画紙
２が搬送されると、走査光学装置１５は露光処理を開始
する。まず、レーザ光源６０から出射されたレーザ光７
０ａは、レンズ６１によってＹＡＧなどの固体レーザ結
晶６２に集光され、固体レーザ結晶６２を励起する。こ
れによって、レーザ光７０ａは、所定の波長に変更され
た後で固体レーザ結晶６２から出射され、ＳＨＧ素子６
３に入射する。そして、ＳＨＧ素子６３によって固体レ
ーザ結晶６２の第２高調波であるレーザ光が生成され
る。ＳＨＧ素子６３から出射されたレーザ光７０は、凹
面ミラー６４およびプレート６５を透過して、レーザ光
源ユニット５１から出射される。また、このとき、凹面
ミラー６４を透過したレーザ光７０の一部は、プレート
６５によって分離抽出され、フォトダイオード６６に導
かれる。そして、フォトダイオード６６において、レー
ザ光７０の強度が検出される。

【００２６】レーザ光源ユニット５１から出射された所
定の波長領域のレーザ光７０は、レンズ５２を通過した
後、ＡＯＭ５３に入射し、画像信号に基づいて変調され
ておらず露光処理に用いられない０次回折光と、画像信
号に基づいて変調されており露光処理に用いられる１次
回折光７１とに振り分けて出射される。ＡＯＭ５３から
出射された１次回折光７１は、スリット５４により幅が
規制された後、エキスパンダレンズ５５に入射する。

【００２７】そして、エキスパンダレンズ５５におい
て、その径が拡大された１次回折光７１は、コリメータ
レンズ５６で平行な光に変更され、シリンドリカルレン
ズ５７に入射する。そして、シリンドリカルレンズ５７
において、その主走査方向の径のみが縮小された後、ポ
リゴンミラー５８に入射する。ポリゴンミラー５８に入
射した１次回折光７１は、ポリゴンミラー５８の側面に
貼付された反射ミラーに反射され、ｆθレンズ５９によ
って副走査方向の径のみを縮小させ、印画紙２上を主走
査方向に沿ってライン露光される。

【００２８】このようにして、印画紙２が搬送されつ
つ、走査光学装置１５におけるライン露光が連続的に行
われる。ここで、レーザ光源６０が含まれるレーザ光源
ユニット５１からは、常にほぼ一定の強度を有するレー
ザ光７０が安定して出射されることが好ましいが、例え
ば、レーザ光源６０の温度が変化した場合には、それに
伴って、レーザ光源６０から出射されるレーザ光７０ａ
の強度が変動することにより、レーザ光源ユニット５１
から出射されるレーザ光７０の強度が変動する。このよ
うに、レーザ光源ユニット５１から出射されるレーザ光
７０の強度が変動することは、露光処理によって形成さ
れる画像の品質を劣化させる原因となる。

【００２９】したがって、レーザ光源ユニット５１から
出射されるレーザ光７０の強度をほぼ一定に保持するた
めの制御を行うために、レーザ光源ユニット５１内に配
置されているフォトダイオード６６によって、常にレー
ザ光７０の強度が検出されている。そして、フォトダイ
オード６６において検出されたレーザ光７０の強度に基
づいて、コントローラ８０はレーザ光源６０の強度を制
御する。すなわち、レーザ光源ユニット５１から常にほ
ぼ一定の強度を有するレーザ光７０が安定して出射され
るように、レーザ光源６０から出射されるレーザ光７０
ａの強度が制御されている。しかしながら、レーザ光７
０ａの強度を制御することによってレーザ光７０の強度
を実際にほぼ一定に保つことは難しく、そのために、露
光処理によって形成される画像の品質が低下することが
ある。

【００３０】したがって、本実施の形態に係る走査光学
装置１５においては、フォトダイオード６６において検
出されたレーザ光７０の強度に基づいて、コントローラ
８１においてさらにＡＯＭ５３の制御が行われる。ここ
で、まず、通常のＡＯＭ５３における動作について説明
する。ＡＯＭ５３においては、レーザ光７０が、印画紙
２に形成されるべき画像に対応した画像データに基づい
て所望の強度に変調される。詳しくは、ＡＯＭ５３に接
続されたコントローラ８１は、画像データに対応する電
気信号（電圧など）をＡＯＭ５３に供給する。そのため
に、コントローラ８１には、画像濃度（印画紙２に照射
されるレーザ光の強度と１対１に対応している）とＡＯ
Ｍ５３に供給される電気信号との関係を示すＬＵＴ（Lo
ok Up Table ）を格納した記憶装置８２が含まれてい
る。ＡＯＭ５３は、コントローラ８１から供給された電
気信号に対応する強度にレーザ光７０を変調する。本実
施の形態において、記憶装置８２に格納されたＬＵＴ
は、ＡＯＭ５３に供給される電気信号が増加するにつれ
て画像濃度が濃くなることを示している。このように、
ＡＯＭ５３において、ＬＵＴに基づいてレーザ光７０が
変調されることにより、１次回折光７１が生成される。

【００３１】ところで、上述したようにレーザ光源ユニ
ット５１から常にほぼ一定の強度を有するレーザ光７０
が安定して出射され、ＡＯＭ５３に入射されるのが好ま
しいが、コントローラ８０においてレーザ光源６０の制
御が行われた後においても、レーザ光源ユニット５１か
ら出射されるレーザ光７０の強度が変動していることが
ある。すなわち、ＡＯＭ５３に入射されるレーザ光７０
の強度が常にほぼ一定の強度に保持されていないことが
ある。そこで、コントローラ８１は、フォトダイオード
６６において検出されたレーザ光７０の強度に基づい
て、レーザ光７０の強度の所定値からの変動が補償され
るようにＡＯＭ５３を制御する。

【００３２】つまり、コントローラ８１は、レーザ光７
０の強度が所定値よりも小さい場合には両者の強度の差
分だけＬＵＴに基づいて決定されるＡＯＭ５３に入力さ
れる電気信号の値を大きくする（つまり、ＡＯＭ５３で
の強度減衰率が基準値よりも小さくなるようにする）こ
とによって、１次回折光７１の強度がレーザ光７０の強
度低下の影響を受けないようにし、これとは逆に、レー
ザ光７０の強度が所定値よりも大きい場合には両者の強
度の差分だけＬＵＴに基づいて決定されるＡＯＭ５３に
入力される電気信号の値を小さくする（つまり、ＡＯＭ
５３での強度減衰率が基準値よりも大きくなるようにす
る）ことによって、１次回折光７１の強度がレーザ光７
０の強度増加の影響を受けないようにする。このよう
に、本実施の形態によると、ＡＯＭ５３から出射される
１次回折光７１の強度はレーザ光７０の強度にほとんど
依存しない。従って、１次回折光７１の強度は常に所望
の値に近くなるので、レーザ光７０の強度が変動するこ
とに起因してポリゴンミラー５８での走査処理によって
形成される画像の品質が劣化するのが抑制される。

【００３３】なお、ＡＯＭ５３に対しては１２ビットで
の制御を行うことができ、レーザ光源ユニット５１から
出射されるレーザ光７０の強度の制御をレーザ光源６０
に対する制御を行う場合よりも精度よく行うことができ
る。このため、１次回折光７１の強度を微調整すること
が可能であり、画像の品質を向上させることができる。

【００３４】以上のように、本実施の形態の走査光学装
置１５においては、フォトダイオード６６により検出さ
れたレーザ光７０の強度に基づいて、レーザ光７０の強
度の所定値からの変動が補償されるようにＡＯＭ５３が
制御されるため、ＡＯＭ５３から出射される１次回折光
７１の強度はレーザ光７０の強度にほとんど依存しなく
なる。また、ＡＯＭ５３によると、１次回折光７１の強
度を応答性よく制御することが可能である。従って、所
望の値に近い光の強度で印画紙２の走査処理を安定して
行うことが可能となって、例えば同一の画像について複
数枚連続して走査処理を行う場合に途中で画像の濃度が
変わることがなくなるなど、レーザ光７０の強度が変動
することに起因して走査処理によって印画紙２上に形成
されるプリント画像の品質が劣化するのを抑制すること
ができる。従って、写真処理装置１は、高品質のプリン
トを出力することが可能である。

【００３５】また、本実施の形態によると、フォトダイ
オード６６により検出されたレーザ光７０の強度に基づ
いて、レーザ光７０の強度が所定値となるようにレーザ
光源６０が制御されるので、レーザ光７０の強度の所定
値からの変動を補償するＡＯＭ５３の負荷が少なくな
る。よって、１次回折光７１の強度をより所望の値に近
いものとして印画紙２の走査処理を安定して行うことが
可能となる。

【００３６】以上、本発明の好適な一実施の形態につい
て説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるも
のではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて、
様々な設計変更を行うことが可能なものである。例え
ば、上述の実施の形態では、レーザ光源およびＡＯＭの
両方を制御しているものについて説明しているが、これ
に限らず、ＡＯＭだけを制御しているものであってもよ
い。

【００３７】また、上述の実施の形態では、レーザ光の
強度を検出する光検出手段として、フォトダイオードを
用いたものについて説明しているが、これに限らず、レ
ーザ光の強度を検出することができるものであれば、ど
のような光検出手段を用いてもよい。

【００３８】また、上述の実施の形態では、レーザ光源
から出射されたレーザ光がＡＯＭにおいて０次回折光と
１次回折光との２つの次数に振り分けられているが、こ
れに限らず、レーザ光を３つの次数以上の回折光に振り
分けるＡＯＭを使用したものであってもよい。この場合
にも、露光処理に用いられる回折光のみがそれぞれのポ
リゴンミラーなどにより印画紙上に導かれる。

【００３９】また、上述の実施の形態では、光変調素子
として、音響光学変調器（ＡＯＭ）を使用しているが、
レーザ光源から出射された光から複数の回折光を生成す
るとともに、少なくとも１つの次数の回折光を画像信号
に基づいて変調することができる光変調素子であれば他
の光変調素子を使用してもよい。

【００４０】また、上述の実施の形態では、１つの波長
のレーザ光を使用して白黒の画像を露光する走査光学装
置について説明しているが、これに限らず、波長の異な
る３つのレーザ光を使用してカラーの画像を露光する走
査光学装置であってもよい。

【００４１】また、上述の実施の形態では、写真処理装
置に設けられた走査光学装置について示しているが、本
発明の走査光学装置は、写真処理装置に限らず、レーザ
光を使用して画像の走査処理が行われる機器であればレ
ーザプリンタやその他のどのような機器であっても適用
することが可能である。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１による
と、光検出手段により検出された光の強度に基づいて、
光源ユニットから出射される光の強度の所定値からの変
動が補償されるように光変調素子が制御されるため、光
変調素子から出射される光の強度は光源ユニットから出
射される光の強度にほとんど依存しなくなる。従って、
所望の値に近い光の強度で感光媒体の走査処理を安定し
て行うことが可能となって、例えば同一の画像について
複数枚連続して走査処理を行う場合に途中で画像の濃度
が変わることがなくなるなど、光源ユニットから出射さ
れる光の強度が変動することに起因して走査処理によっ
て形成される画像の品質が劣化するのを抑制することが
できる。

【００４３】請求項２によると、光検出手段により検出
された光の強度に基づいて、光源ユニットから出射され
る光の強度が所定値となるように光源が制御されるの
で、光源ユニットから出射される光の強度の所定値から
の変動を補償する光変調素子の負荷が少なくなる。その
ため、光変調素子から出射される光の強度をより所望の
値に近いものとして感光媒体の走査処理を安定して行う
ことが可能となる。

【００４４】請求項３によると、光源ユニットから出射
される光の強度が変動することに起因して走査処理によ
って形成される画像の品質が劣化するのが抑制されるの
で、この走査光学装置を備えた露光ユニットにおいて適
切に露光処理を実施することができる。これにより、高
品質のプリントを出力することができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態に係る走査光学装置を備
えた写真処理装置の概略構成を示す図である。

【図２】図１に示す写真処理装置に含まれる走査光学装
置内部の概略側面図である。

【図３】図２に示す走査光学装置内部の部分的な概略側
面図である。

【符号の説明】

１ 写真処理装置 ２ 印画紙 １４ 露光ユニット １５ 走査光学装置 ５１ レーザ光源ユニット（光源ユニット） ５２ レンズ ５３ 音響光学変調器（ＡＯＭ） ５４ スリット ５５ エキスパンダレンズ ５６ コリメータレンズ ５７ シリンドリカルレンズ ５８ ポリゴンミラー（走査光学素子） ５９ ｆθレンズ ６０ レーザ光源（光源） ６２ 固体レーザ結晶 ６３ ＳＨＧ素子 ６６ フォトダイオード（光検出手段） ７０、７０ａ レーザ光 ７１ １次回折光 ８０ コントローラ（第２の制御手段） ８１ コントローラ（第１の制御手段） ８２ 記憶装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ ５Ｃ０７２ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ ５Ｆ０７３ Ｆターム(参考） 2C362 AA03 AA53 AA54 AA61 BA04 2H045 CB22 CB31 CB42 DA41 2H079 AA04 AA12 BA01 CA21 KA18 2H106 AA76 AB04 AB42 BA11 BH00 5C051 AA02 CA07 DA01 DB02 DB07 DB22 DB24 DB30 DC04 DE30 FA06 5C072 AA03 BA13 HA02 HA09 HA13 HA16 HB04 HB06 HB15 XA05 5F073 AB23 AB27 AB29 BA07 EA03 FA01 GA02 GA12

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源を含む光源ユニットと、 前記光源ユニットから出射される光を変調するための光
   変調素子と、 前記光源ユニットから出射される光の強度を検出するた
   めの光検出手段と、 前記光検出手段により検出された光の強度に基づいて、
   前記光源ユニットから出射される光の強度の所定値から
   の変動が補償されるように前記光変調素子を制御するた
   めの第１の制御手段とを備えていることを特徴とする走
   査光学装置。
2. 【請求項２】 前記光検出手段により検出された光の強
   度に基づいて、前記光源ユニットから出射される光の強
   度が所定値となるように前記光源を制御するための第２
   の制御手段をさらに備えていることを特徴とする請求項
   １に記載の走査光学装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の走査光学装置
   を備えた写真処理装置。