JP2002303647A

JP2002303647A - 導電パターンの検査方法及びその装置

Info

Publication number: JP2002303647A
Application number: JP2001104738A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Moriya; 一男守矢
Original assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Current assignee: Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority date: 2001-04-03
Filing date: 2001-04-03
Publication date: 2002-10-18
Also published as: US20020140443A1; TW550373B; KR20020079394A

Abstract

(57)【要約】【課題】導電パターンが微細であってもパターン検査
を正確且つ迅速に行なうことの可能な検査方法及びその
装置を提供する。【解決手段】絶縁基板２ａ上に導電パターン２ｂが形
成されているパターン基板２に対して電子ビームＥＢの
スポット照射を行ない、パターン基板２上の電子ビーム
照射位置を移動させながら、電流検知部１０により導電
パターン２ｂとグランドとの間に形成された通電経路を
通って流れる電流の検知を行なうことで、電子ビーム照
射位置における導電パターン２ｂまたはそれと接続され
た導電体の有無の検知を行なう。導電パターンは複数の
パターン部を連結パターン部により互いに連結してなる
ものであり、複数のパターン部の先端部を順次横切るよ
うな経路で電子ビーム照射位置を移動させながら、連結
パターン部を通って流れる電流の検知を行なうことで、
複数のパターン部についての検査を行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パターン検査の技
術分野に属するものであり、特に導電パターンの良否を
検査する方法及び装置に関するものである。本発明の導
電パターン検査は、例えば絶縁基板上に導電パターンを
形成して電子回路基板を製造する際の導電パターンの良
否判定に利用することができる。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
半導体装置製造の分野において、半導体チップなどの電
子部品を搭載するための電子回路基板を製造する際に
は、得られた回路基板の良否判定の１つの項目として、
絶縁基板上に配線その他のための導電パターンが正しく
形成されているかどうかの検査が行なわれている。この
検査は、本来ならば互いに導通することのない導電パタ
ーンの適宜の２つのパターン部どうしの間に電圧を印加
してこれら２つのパターン部間に電流が流れるか否かを
判定することでなされている。

【０００３】この導電パターン検査では、導電パターン
の２つのパターン部間に電圧を印加するために、電源の
正負両電極とそれぞれ接続された１対のプローブを２つ
のパターン部に当接し、これらにより形成される検知回
路中に電流計を介在させている。２つのパターン部の間
に短絡箇所がある場合には検知回路を電流が流れるの
で、これを電流計で検知した時には短絡箇所が存在する
との判定を行ない、当該回路基板は不良品とされる。一
方、検知回路を電流が流れない場合には当該２つのパタ
ーン部間には短絡箇所が存在しないとの判定を行ない、
当該回路基板は良品とされる。

【０００４】しかるに、近年の半導体装置の高集積化及
び小型化の要請により、該半導体装置を搭載する回路基
板の導電パターンも次第に微細化及び高密度化が進んで
おり、上記従来の当接プローブを用いた導電パターン検
査法を実施するに際して、隣接するパターン部に１対の
プローブを正確に当接させることが次第に困難になって
きている。このプローブ当接が不十分であったり位置ず
れが大きかったりすると、正確な導電パターンの良否判
定ができなくなる。

【０００５】一方、導電パターンの検査においては、隣
接パターン部間の短絡の有無のみではなく、各パターン
部が許容範囲内の形状に形成されているかどうかの検査
も必要になることがある。このような目的のためには、
上記１対のプローブを当接させる方法を用いることは実
質上できない。なぜならば、一方のプローブをパターン
部に当接させておくことはできるが、他方のプローブを
当該パターン部についての正しい形状の輪郭に沿って該
輪郭から外側に僅かに離れた位置に当接させながら走査
することは困難であり特に微細化及び高密度化された導
電パターンの場合には実質上できないからである。

【０００６】更に、導電パターンの簡便な検査方法とし
て、パターンに断線部分があるか否かの検査がある。即
ち、導電パターンの本来導通状態にあるべき２つの部分
の間に電圧を印加して通電の有無を検知することで、そ
れら２つの部分の間に断線が生じているか否かを判定す
ることができる。このような断線が生ずるのはパターン
の微細化された先端部であることが殆どであるところ、
上記のようなプローブ当接法では、微細化されたパター
ン先端部への正確なプローブ当接が極めて困難であり、
従って正確な断線の有無の判定を行うことができない。

【０００７】また、導電パターンとしては、回路基板に
より支持されていない部分を有するものもある。そのよ
うな場合には、プローブを当接させながら走査する上記
方法は不可能である。

【０００８】以上のような問題を解消すべく、回路基板
の表面を光学的に撮像し、その画像を所定の導電パター
ンと比較することで、非接触で検査を行うことが提案さ
れている。しかしながら、この光学的検査法で得られる
画像は必ずしも導電体と非導電体との区別に対応するも
のではなく、例えば光学的画像には明瞭に現れないよう
な傾斜表面を持つ導電体が存在するような場合や非導電
性塵埃が付着しているような場合には誤った検査結果が
得られるので、更に電気的な補完検査を要するという難
点がある。

【０００９】そこで、本発明は、導電パターンが微細で
あってもパターン検査を正確且つ迅速に行なうことの可
能な検査方法及びその装置を提供することを目的とする
ものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、以上の
如き目的を達成するものとして、絶縁基板上に導電パタ
ーンが形成されているパターン基板の前記導電パターン
を検査する方法において、前記パターン基板に対して電
子ビームのスポット照射を行ない、前記パターン基板上
の前記電子ビームの照射位置を移動させながら、前記導
電パターンを通って流れる電流の検知を行なうことで、
前記電子ビームの照射位置における前記導電パターンま
たは該導電パターンと接続された導電体の有無の検知を
行なうことを特徴とする、導電パターンの検査方法、が
提供される。

【００１１】本発明の一態様においては、前記導電パタ
ーンを通って流れる電流の検知を、前記導電パターンと
グランドとの間に形成された通電経路において行なう。

【００１２】本発明の一態様においては、前記導電パタ
ーンは複数のパターン部を連結パターン部により互いに
連結してなるものであり、前記複数のパターン部の前記
連結パターン部との接続部から離隔した先端部を順次横
切るような経路で前記電子ビームの照射位置を移動させ
ながら、前記連結パターン部を通って流れる電流の検知
を行なうことで、前記複数のパターン部についての検査
を行なう。

【００１３】本発明の一態様においては、前記導電パタ
ーンは複数のパターン部からなるものであり、前記複数
のパターン部のうちのいずれかの周囲にて前記電子ビー
ムの照射位置を移動させながら、当該電流検知に係るパ
ターン部を通って流れる電流の検知を行なうことで、当
該電流検知に係るパターン部についての検査を行なう。

【００１４】本発明の一態様においては、予め基準導電
パターンの形状に基づき設定された許容パターンデータ
を用意しておき、前記電子ビームの照射位置を前記パタ
ーン基板の全体にわたって移動させ前記導電パターンを
通って流れる電流の検知を行ない、電流の検知された前
記照射位置の集合として測定パターンデータを得、該測
定パターンデータのうちで前記許容パターンデータに属
するもの以外のはみ出しデータを求めることで検査を行
なう。

【００１５】また、本発明によれば、以上の如き目的を
達成するものとして、絶縁基板上に導電パターンが形成
されているパターン基板の前記導電パターンを検査する
装置において、減圧室と、該減圧室内に配置された前記
パターン基板の保持手段と、該保持手段により保持され
る前記パターン基板に対して電子ビームのスポット照射
を行なう電子ビーム照射部と、前記保持手段により保持
される前記パターン基板の導電パターンに当接せしめら
れる電流検知部と、前記パターン基板上の前記電子ビー
ムの照射位置の移動を駆動する駆動手段を備えているこ
とを特徴とする、導電パターンの検査装置、が提供され
る。

【００１６】本発明の一態様においては、前記減圧室内
には、前記パターン基板を前記保持手段へと供給し該保
持手段から前記パターン基板を受納するパターン基板移
送手段が配置されている。本発明の一態様においては、
前記駆動手段は前記電子ビーム照射部の前記電子ビーム
の偏向手段からなる。本発明の一態様においては、前記
電流検知部は、前記導電パターンとの当接部及びグラン
ドの間に形成された通電経路と、該通電経路に介在せし
められた電流計とを有するものである。

【００１７】本発明の一態様においては、前記電流検知
部での電流検知の信号を前記駆動手段により設定される
前記電子ビームの照射位置の信号と関連付けて測定パタ
ーンデータとして記憶する記憶手段を備えている。本発
明の一態様においては、基準導電パターンの形状に基づ
き設定され前記記憶手段に記憶されている許容パターン
データを前記測定パターンデータと比較する演算処理部
を備えている。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。

【００１９】図１は本発明による導電パターンの検査方
法及びその装置の一実施形態を説明するための模式図で
ある。

【００２０】本実施形態において検査対象とされるパタ
ーン基板２は、絶縁基板２ａの表面上に導電パターン２
ｂが形成されているものである。検査装置は、減圧室４
を備えている。減圧室４は減圧手段たとえば真空ホンプ
５により内部空間を減圧され、電子ビーム照射が可能な
真空度（例えば１０Ｐａ）とされる。減圧室４内には、
パターン基板２を検査のための所定の位置及び姿勢に保
持する保持手段６が配置されている。減圧室４内には、
また、パターン基板移送手段７が配置されている。該移
送手段７は、検査前のパターン基板２を保持手段６へと
供給する供給部７ａと、保持手段６から検査済のパター
ン基板２を受納する受納部７ｂとからなる。供給部７ａ
及び受納部７ｂは、それぞれ多数のパターン基板２を収
容し得るものであり、検査の際には順次１枚ずつ取り出
したり受け取ったりすることができる。減圧室４には扉
４ａが設けられており、検査前のパターン基板２を減圧
室４外から減圧室４内の移送手段供給部７ａへと搬入す
る時、及び検査後のパターン基板２を減圧室４内の移送
手段受納部７ｂから減圧室４外へと搬出する時には、扉
４ａが開かれる。

【００２１】検査装置は、保持手段６により保持される
パターン基板２に対して電子ビームＥＢのスポット照射
を行なう電子ビーム照射部８を備えている。該電子ビー
ム照射部８は、電子銃８ａと該電子銃８ａから下向きに
発せられる電子ビームを偏向させてパターン基板２の全
面の所望の位置に１μｍ程度またはそれ以下の径でスポ
ット照射することが可能な偏向手段８ｂとを有する。即
ち、偏向手段８ｂがパターン基板２上の電子ビーム照射
位置の移動を駆動する駆動手段として機能する。電子ビ
ーム照射部８は減圧室４’内に配置されている。減圧室
４’は減圧手段たとえば真空ホンプ５’により内部空間
を減圧され、電子ビーム照射が可能な真空度（例えば１
０Ｐａ）とされる。減圧室４’内を減圧室４内よりも高
い真空度にするようにしてもよい。この減圧室４’は減
圧室４と電子ビームＥＢの通過する部分においてのみ連
通している。但し、この部分には扉４ｂが設けられてお
り、必要に応じて（例えば、検査前のパターン基板２を
減圧室４外から減圧室４内の移送手段供給部７ａへと搬
入するために扉４ａが開かれる時、及び検査後のパター
ン基板２を減圧室４内の移送手段受納部７ｂから減圧室
４外へと搬出するために扉４ａが開かれる時）扉４ｂが
閉じられる。電子銃８ａには、高圧ＤＣ電源９から電力
が供給される。このような電子ビーム照射部８として
は、例えば走査型電子顕微鏡に用いられているものと同
等のものを利用することができる。

【００２２】検査装置は、保持手段６により保持される
パターン基板２の導電パターン２ｂに当接せしめられる
電流検知部１０を備えている。該電流検知部１０は、導
電パターン２ｂとの当接部１０ａとグランドとの間に形
成された通電経路１０ｂを有しており、更に通電経路１
０ｂに介在せしめられた電流計１０ｃを有する。

【００２３】検査装置は、更に、演算処理部１２及びメ
モリ１４を備えている。演算処理部１２へは、電流検知
部１０から電流検知信号が入力され、偏向手段８ｂから
電子ビーム照射位置の信号が入力される。これら２つの
信号は関連付けられて測定パターンデータとしてメモリ
１４に記憶される。該メモリ１４には、設計値などの基
準導電パターンのデータやそれに基づき設定された許容
パターンのデータが記憶される。この許容パターンは例
えば基準パターンの外形に許容誤差分を付加したものと
することができる。演算処理部１２では、測定パターン
データをメモリ１４に記憶されている許容パターンデー
タと比較することで導電パターン２ｂの検査を行なうこ
とができる。

【００２４】本実施形態において、検査は次のようにし
て行なうことができる。即ち、パターン基板２に対して
電子ビーム照射部８から発せられる電子ビームＥＢでの
スポット照射を行ない、偏向手段８ｂによりパターン基
板２上で電子ビーム照射位置を走査しながら、導電パタ
ーン２ｂを通って流れる電流を電流検知部１０の電流計
１０ｃにより検知することで、電子ビーム照射位置にお
ける導電パターン２ｂまたは導電パターン２ｂと電気的
に接続せしめられた導電体（例えば、パターン形成の際
に、所定の導電パターンを構成する隣接パターン部どう
しを接続するように、予定外の箇所に形成されたブリッ
ジなど）の検知を行なう。偏向手段８ｂによるパターン
基板２上での電子ビーム照射位置の走査は、演算処理部
１２からの指令に基づき所望の様式で行うことができる
（この場合には、演算処理部１２から発せられる指令信
号に基づき電子ビーム照射位置の信号が得られるので、
偏向手段８ｂから演算処理部１２への電子ビーム照射位
置の信号入力はなくてもよい）。

【００２５】図２は検査の具体例の説明のための模式図
である。ここで、導電パターン２ｂは、複数のパターン
部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３・・・・からなる。例えば、
図示されているようにパターン部２ｂ２に対して当接部
１０ａを当接し、通電経路１０ｂを通って流れる電流を
電流計１０ｃで検知しながら、電流検知に係るパターン
部２ｂ２の周囲にて電子ビーム照射位置を破線で示すよ
うに移動させる。この走査経路は上記許容パターン外の
領域中にある。当該パターン部２ｂ２を囲むように閉じ
た経路で走査してもよい。これにより、図示されている
ようにパターン部２ｂ２，２ｂ３の間にブリッジＢが存
在するような場合には、該ブリッジ位置の電子ビームで
の走査時に電流検知信号が発生する。これにより、演算
処理部１２では、直ちに電流検知に係る位置に不具合が
あると判定することができる。

【００２６】図３は図２とは別の検査の具体例の説明の
ための模式図である。図３（ａ）に示されているように
予め基準導電パターンＰ１の形状に基づき設定された許
容パターンＰ２のデータを用意しておく。電子ビームＥ
Ｂの照射位置をパターン基板２の全体にわたって十分な
走査密度で移動させながら電流検知部１０で電流検知を
行ない、電流の検知された照射位置の集合として例えば
図３（ｂ）に示されているような測定パターンＰ３のデ
ータを得る。そして、図３（ｃ）に示されているよう
に、測定パターンデータのうちで許容パターンデータに
属するもの以外のはみ出しパターンＰ４のデータを求め
る。これにより、演算処理部１２は、はみ出しパターン
Ｐ４に係る領域に不具合があると判定することができ
る。

【００２７】以上のような本発明の実施形態において
は、導電パターン２ｂに機械的に当接されるのは電流検
知部１０の当接部１０ａのみでよく、他のプローブとし
て機能するのは電子ビームスポットであり、該電子ビー
ムスポットは径が十分に小さいので、導電パターンが微
細なもの（特に先細りパターンの先端部など）であって
も十分な分解能をもって検査を行うことができる。

【００２８】そして、測定パターンデータは、非導電体
から明確に区別された導電体のパターンに対応している
ので、これに基づく以上のような画像処理のみで十分に
正確且つ迅速に検査を行うことができる。

【００２９】また、本発明は複数の導電パターンが一体
的に連続して形成されている場合にも適用することがで
きる。その実施形態を図４に示す。本実施形態では、絶
縁基板２ａとしてポリイミドフィルムなどの長尺の可撓
性絶縁フィルムを用い、これに繰り返して導電パターン
２ｂを形成し、多数のパターン基板２が一連に形成され
た長尺基板を形成している。各パターン基板２の導電パ
ターン２ｂは、図４に示されているように、多数のパタ
ーン部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３，・・・・が外周連結パ
ターン部２ｂ０にて連結された形態をなしている。この
実施形態の場合には、図１に示される移送手段７の供給
部７ａ及び受納部７ｂとして繰り出しリール及び巻き取
りリールを用いることができる。

【００３０】本実施形態においては、導電パターン２ｂ
に電流検知部１０の当接部１０ａを当接し、隣接パター
ン部どうしの間で電子ビームスポットを破線で示すよう
に走査することで、これら隣接パターン部どうしの間に
短絡箇所が存在する場合には、それが検知される。近
年、半導体装置を搭載する回路基板では、特にパターン
部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３，・・・・の内方の先端部が
次第に微細化及び高密度化しているが、本実施形態によ
れば、電子ビームＥＢの照射スポット径は導電パターン
の幅または隣接導電パターンの間隔より十分に小さくす
ることが可能であるので、良好な精度で検査を行うこと
ができる。

【００３１】本実施形態は、各パターン部２ｂ１，２ｂ
２，２ｂ３，・・・・の先端部が絶縁基板２ａにより支
持されていないものであっても構わない。即ち、図４に
示されているように、絶縁基板２ａに中央開口ＯＰが形
成されていて、各パターン部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３，
・・・・の先端部が該中央開口ＯＰ内へと延出している
ものでもよい（この中央開口ＯＰ内に半導体装置製造の
後工程で半導体チップが配置される）。このような場
合、従来のプローブ法ではパターン先端部にプローブを
安定して当接させることができないので検査ができない
が、本実施形態では検査可能である。

【００３２】また、図５に示されているように、外周連
結パターン部２ｂ０に電流検知部当接部１０ａを当接
し、各パターン部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３，・・・・の
先端部を横切るように電子ビームＥＢの照射位置を破線
で示すように移動させながら電流検知部１０で電流検知
を行なうことにより、各パターン部の断線の有無を素早
く検知することができる。即ち、各パターン部の先端部
（設計値などの基準導電パターンの先端部）への電子ビ
ーム照射時に電流が検知された場合には断線がないもの
と判定し、電流が検知されない場合には断線があるもの
と判定することができる。

【００３３】この実施形態においても、図４の実施形態
と同様に、従来のプローブ法では検査ができないような
微細化及び高密度化した先端部を有するパターンに対し
ても良好な精度で検査を行うことができる。

【００３４】以上のように、本発明によれば、所望の経
路で電子ビームＥＢの照射位置を走査して、導電パター
ンの欠落部分の有無や不要導電部分付加の有無を短時間
で的確に検査することができる。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
パターン基板に対し電子ビームスポット走査を行ないな
がら導電パターンを通って流れる電流の有無を検知する
ことで導電パターン検査を行うので、導電パターンが微
細であってもパターン検査を正確且つ迅速に行なうこと
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による導電パターンの検査方法及びその
装置を説明するための模式図である。

【図２】本発明による導電パターンの検査の具体例の説
明のための模式図である。

【図３】本発明による導電パターンの検査の具体例の説
明のための模式図である。

【図４】本発明による導電パターンの検査方法及びその
装置で検査されるパターン基板を示す模式図である。

【図５】本発明による導電パターンの検査方法及びその
装置で検査されるパターン基板を示す模式図である。

【符号の説明】

２パターン基板２ａ絶縁基板２ｂ導電パターン２ｂ０外周連結パターン部２ｂ１，２ｂ２，２ｂ３パターン部４，４’ 減圧室４ａ，４ｂ扉５，５’ 真空ホンプ６保持手段７移送手段７ａ供給部７ｂ受納部８電子ビーム照射部８ａ電子銃８ｂ偏向手段９高圧ＤＣ電源１０電流検知部１０ａ当接部１０ｂ通電経路１０ｃ電流計１２演算処理部１４メモリＥＢ電子ビームＢブリッジＰ１基準導電パターンＰ２許容パターンＰ３測定パターンＰ４はみ出しパターンＯＰ絶縁基板中央開口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2G011 AA01 AE01 2G014 AA02 AA03 AA13 AB59 AC11 2G132 AA20 AD01 AD15 AF12 AK03 AL09 AL11 AL12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】絶縁基板上に導電パターンが形成されて
いるパターン基板の前記導電パターンを検査する方法に
おいて、前記パターン基板に対して電子ビームのスポット照射を
行ない、前記パターン基板上の前記電子ビームの照射位
置を移動させながら、前記導電パターンを通って流れる
電流の検知を行なうことで、前記電子ビームの照射位置
における前記導電パターンまたは該導電パターンと接続
された導電体の有無の検知を行なうことを特徴とする、
導電パターンの検査方法。
【請求項２】前記導電パターンを通って流れる電流の
検知を、前記導電パターンとグランドとの間に形成され
た通電経路において行なうことを特徴とする、請求項１
に記載の導電パターンの検査方法。
【請求項３】前記導電パターンは複数のパターン部を
連結パターン部により互いに連結してなるものであり、
前記複数のパターン部の前記連結パターン部との接続部
から離隔した先端部を順次横切るような経路で前記電子
ビームの照射位置を移動させながら、前記連結パターン
部を通って流れる電流の検知を行なうことで、前記複数
のパターン部についての検査を行なうことを特徴とす
る、請求項１〜２のいずれかに記載の導電パターンの検
査方法。
【請求項４】前記導電パターンは複数のパターン部か
らなるものであり、前記複数のパターン部のうちのいず
れかの周囲にて前記電子ビームの照射位置を移動させな
がら、当該電流検知に係るパターン部を通って流れる電
流の検知を行なうことで、当該電流検知に係るパターン
部についての検査を行なうことを特徴とする、請求項１
〜２のいずれかに記載の導電パターンの検査方法。
【請求項５】予め基準導電パターンの形状に基づき設
定された許容パターンデータを用意しておき、前記電子
ビームの照射位置を前記パターン基板の全体にわたって
移動させ前記導電パターンを通って流れる電流の検知を
行ない、電流の検知された前記照射位置の集合として測
定パターンデータを得、該測定パターンデータのうちで
前記許容パターンデータに属するもの以外のはみ出しデ
ータを求めることで検査を行なうことを特徴とする、請
求項１〜２のいずれかに記載の導電パターンの検査方
法。
【請求項６】絶縁基板上に導電パターンが形成されて
いるパターン基板の前記導電パターンを検査する装置に
おいて、減圧室と、該減圧室内に配置された前記パターン基板の
保持手段と、該保持手段により保持される前記パターン
基板に対して電子ビームのスポット照射を行なう電子ビ
ーム照射部と、前記保持手段により保持される前記パタ
ーン基板の導電パターンに当接せしめられる電流検知部
と、前記パターン基板上の前記電子ビームの照射位置の
移動を駆動する駆動手段を備えていることを特徴とす
る、導電パターンの検査装置。
【請求項７】前記減圧室内には、前記パターン基板を
前記保持手段へと供給し該保持手段から前記パターン基
板を受納するパターン基板移送手段が配置されているこ
とを特徴とする、請求項６に記載の導電パターンの検査
装置。
【請求項８】前記駆動手段は前記電子ビーム照射部の
前記電子ビームの偏向手段からなることを特徴とする、
請求項６〜７のいずれかに記載の導電パターンの検査装
置。
【請求項９】前記電流検知部は、前記導電パターンと
の当接部及びグランドの間に形成された通電経路と、該
通電経路に介在せしめられた電流計とを有するものであ
ることを特徴とする、請求項６〜８のいずれかに記載の
導電パターンの検査装置。
【請求項１０】前記電流検知部での電流検知の信号を
前記駆動手段により設定される前記電子ビームの照射位
置の信号と関連付けて測定パターンデータとして記憶す
る記憶手段を備えていることを特徴とする、請求項６〜
９のいずれかに記載の導電パターンの検査装置。
【請求項１１】基準導電パターンの形状に基づき設定
され前記記憶手段に記憶されている許容パターンデータ
を前記測定パターンデータと比較する演算処理部を備え
ていることを特徴とする、請求項１０に記載の導電パタ
ーンの検査装置。