JP2002302491A - エステル化合物と酸触媒の分離方法 - Google Patents

エステル化合物と酸触媒の分離方法

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JP2002302491A
JP2002302491A JP2001102288A JP2001102288A JP2002302491A JP 2002302491 A JP2002302491 A JP 2002302491A JP 2001102288 A JP2001102288 A JP 2001102288A JP 2001102288 A JP2001102288 A JP 2001102288A JP 2002302491 A JP2002302491 A JP 2002302491A
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acid
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Yoshinari Monma
良成 門馬
Noboru Mizukura
登 水倉
Shuichi Sugita
修一 杉田
Tomio Horiuchi
富男 堀内
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Konica Minolta Chemical Co Ltd
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Konica Minolta Inc
Konica Minolta Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】還流脱水反応で使用した酸触媒を新規な方法で
分離し、高収率、低コストかつ高生産性でエステル化合
物を得る方法を提供すること。 【構成】カルボン酸とアルコールまたはフェノール類と
のエステル化反応において、酸触媒存在下、脱水反応に
よりエステル化した後、酸触媒を有機塩基にて中和し酸
触媒と塩を形成させ、非水溶媒中に水を加え、非水溶媒
に生成したエステル化合物を水の方に酸触媒の有機塩基
塩を移行させ両者を分離させる方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、酸触媒存在下カルボン
酸とアルコールまたはフェノールによる脱水エステル化
反応において、反応後に生成したエステル化合物と酸触
媒を工業的かつ効率よく分離する新規な方法に関する。
【0002】
【従来の技術】カルボン酸とアルコールまたはフェノー
ル類との脱水反応は、最も一般的なエステル化合物の合
成法の1つである。エステル化反応は平衡反応であり、
通常酸触媒の存在下で平衡が達成される。触媒として使
用される酸は、塩酸、硫酸、パラトルエンスルホン酸に
代表される芳香族スルホン酸、フッ化ホウ素エーテラー
トなどのルイス酸などが挙げられる。目的とするエステ
ル化合物を収率良く得るには、平衡反応を生成系に偏ら
せる必要がある。平衡を偏らせる方法には幾つかある
が、以下がその代表的な例である。アルコールまたは
フェノール類を大過剰に使用する、生成したエステル
化合物を蒸留して系内から除去する、反応溶媒に非水
溶媒を用い生成する水を共沸蒸留により分離し除去す
る、ソックスレー抽出器に硫酸マグネシウム、塩化カ
ルシウム、モレキュラーシーブなどを充填し溶媒を還流
させながら水を除く。これらの方法は、得ようとするエ
ステル化合物の性質やカルボン酸、アルコールまたはフ
ェノール類の性質及び価格などにより最良な方法が選択
されまた、合成の規模にも依存する。
【0003】例えば、は原料であるアルコールまたは
フェノール類が高価な場合は選択することができない。
はエステル化合物が蒸留可能な比較的低沸点物なら可
能であるが、高沸点物で蒸留が困難あるいは蒸留温度以
下で熱分解を生じるエステル化合物の場合は採用できな
い。は実験規模の合成に使用される装置であり、工業
的にエステル化合物を得ようとする場合、それに相当す
る大がかりな装置が必要である。これらのことから、工
業的なエステル化合物の合成に対し最も汎用性の高いの
はの方法であり、非水溶媒とエステル化反応で生成す
る水を分離する分離器さえあれば、容易に行うことが可
能である。
【0004】酸触媒存在下、非水溶媒中で還流脱水によ
りエステル化反応を行った後、目的とするエステル化合
物を取り出す場合、使用した酸触媒と生成したエステル
化合物とを分離する操作が必要となる。一般的に有機エ
ステル化合物は、非水溶媒に溶けやすく、系内に混在す
る酸触媒を除去するには反応混合物中に水をいれ、水に
溶解した酸触媒をその水と共に排出することで分離が可
能である。非水溶媒、水双方に溶解する酸触媒を効率良
く除くには、塩基を同時に投入し水のみに溶解する塩に
変換して、それを水に溶解させ除去することは極めて一
般的な常法である。通常、酸触媒を中和するために使用
される塩基には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭
酸水素ナトリウム、アンモニア水などが挙げられる。
【0005】しかしながら、先に述べた酸触媒除去操作
は、合成したエステル化合物の性質によっては大きな欠
点ともなり得る。それは、生成したエステル化合物がこ
の操作の段階で加水分解し、原料のカルボン酸とアルコ
ールまたはフェノールに一部が分解されるというところ
にある。エステル化反応に用いる酸触媒は、一般に極め
て強酸性であり、エステルの加水分解反応を行うための
酸触媒と共通している。よって、反応混合物に水を入れ
るということは、エステルの加水分解の条件を全て満足
させることになる。この酸触媒除去操作の段階で加水分
解を防ぐために、反応混合物を冷却しながら水を投入す
るなどの方法が採られる。しかし、酸触媒が水に溶解す
る際、溶解熱を伴うので反応混合物全体を冷却していて
も、局所的に加水分解が生じてしまいエステル化合物の
取り出し収率を低下させてしまう。また、水を添加する
以前に中和剤である塩基を投入し、酸強度を低下させる
場合でも、中和で生成する水により塩基を投入している
過程で加水分解が起こってしまう。また、このとき中和
による発熱で加水分解が助長されることが多い。更に
は、炭酸塩の塩基を使用するときは、中和によって炭酸
ガスが発生しその発泡による突沸の危険性を有するた
め、使用する反応装置容量に対し余裕をもたせたスケー
ルで製造しなければならず生産効率が低くなる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来技術において カ
ルボン酸とアルコールまたはフェノール類を非水溶媒
中、酸触媒存在下に、脱水エステル化反応によりエステ
ル化合物を得ようとする場合、該エステル化合物と酸触
媒の分離操作でエステル化合物が加水分解し原料のカル
ボン酸とアルコールまたはフェノールに戻り、結果的に
エステル化合物をロスしてしまう。また、エステル化合
物の取り出し収率を低下させるばかりでなく、加水分解
により生成したカルボン酸及びアルコールまたははフェ
ノール類が該エステル化合物に混入し、高純度のエステ
ル化合物を得ようとする場合、精製工程が煩雑になるな
どの問題がある。
【0007】本発明の目的は前記、従来技術の欠点を解
決することにあり、目的とするエステル化合物を工業的
に高収率かつ高生産性で容易に製造する方法を提供する
ことである。
【0008】
【問題を解決するための手段】本発明の上記課題は前記
請求項1から請求項5に記載の方法により達成された。
以下、本発明を具体的に説明する。
【0009】前記一般式(1)及び(3)において、R
1は有機基であり、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基または複素環基を表す。
【0010】R1で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜32のものが好ましく、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、2−エチルヘキシル基等がその代表例として挙げ
られる。
【0011】R1で表されるシクロアルキル基として
は、炭素数3〜12のものが好ましく、例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−
メチルシクロプロピル基、アダマンチル基がその代表例
として挙げられる。
【0012】R1で表されるアリール基としては、炭素
数6〜14のものが好ましく、例えばフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
【0013】R1で表される複素環基としては、例えば
ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾ
リル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミ
ジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スルホラ
ニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル
基等がその代表例として挙げられる。
【0014】R1が表すアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、複素環基は置換基により置換されてい
てもよく、その置換基としては、例えば、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ドデシル基等)シクロアルキル基(例えば、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例え
ば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、
プロパギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、
ナフチル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基、チア
ゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル
基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリ
ダジニル基、セレナゾリル基、スルホラニル基、ピペリ
ジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基、ピラゾロト
リアゾリル等)、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキ
シルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクチルオキ
シ基、ドデシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカ
ルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシ
カルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシル
オキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基
(例えばフェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシ
カルボニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メチル
スルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチ
ルスルホニルアミノ基、ヘキシルスルホニルアミノ基、
シクロヘキシルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニ
ルアミノ基、ドデシルスルホニルアミノ基、フェニルス
ルホニルアミノ基等)、スルファモイル基(例えば、ア
ミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチ
ルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘ
キシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスル
ホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミ
ノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチ
ルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル
基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチ
ルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウ
レイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、
フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジ
ルアミノウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル
基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペン
チルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オク
チルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、
ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチ
ルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、カルバモ
イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカ
ルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルア
ミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シク
ロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボ
ニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデ
シルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル
基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノ
カルボニル基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニ
ルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカル
ボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチ
ルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミ
ノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチ
ルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、
フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミ
ノ基等)、スロホニル基(例えば、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロ
ヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル
基、ドデシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ナ
フチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、
アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ
基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、
アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基
等)、アシルアミノ基、イミド基、シアノ基、ニトロ
基、スルホ基等が挙げられる。
【0015】これらの置換基のうちで、例えば、アルキ
ル、シクロアルキル、アリール、アシルアミノ、スルホ
アミド、ハロゲン原子、スルホニル、アシル、カルバモ
イル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、
アシルオキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシ
カルボニル、イミド、カルボキシル等の各基が好まし
く、更に好ましいものは、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、スルホニル基、アシルオキシ基、イミド基
である。
【0016】前記一般式(2)及び(3)において、R
2は有機基であり、アルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基または複素環基を表す。
【0017】R2で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜32のものが好ましく、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、te
rt−ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、2−エチルヘキシル基等がその代
表例として挙げられる。
【0018】R2で表されるシクロアルキル基として
は、炭素数3〜12のものが好ましく、例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−
メチルシクロプロピル基、アダマンチル基がその代表例
として挙げられる。
【0019】R2で表されるアリール基としては、炭素
数6〜14のものが好ましく、例えばフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
【0020】R2で表される複素環基としては、例えば
ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾ
リル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミ
ジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スルホラ
ニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル
基等が挙げられ、また、前記一般式(4)及び一般式
(5)がその代表的例として挙げられる。
【0021】R2が表すアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、複素環基は置換基により置換されてい
てもよく、その置換基としては、前記一般式(1)にお
けるR1が有してもよい置換基と同様の基を挙げること
ができる。
【0022】本発明において、前記一般式(2)で表さ
れるアルコールもしくはフェノール類は前記一般式
(4)または一般式(5)で表されるものであることが
特に好ましい。
【0023】前記一般式(4)において、R3は水素原
子、塩素原子、臭素原子、カルバモイル基を表す。R3
で表されるカルバモイル基としては、アミノカルボニル
基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボ
ニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノ
カルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オ
クチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノ
カルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニル
アミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2
−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【0024】本発明において、一般式(4)及び(5)
におけるR3は水素原子、塩素原子、臭素原子が好まし
い。
【0025】前記一般式(4)及び(5)において、R
4は一般式(4)及び(5)中のR3と同様の基を表
す。R4は同様に水素原子、塩素原子、臭素原子である
ことが好ましい。
【0026】前記一般式(4)及び(5)において、R
5はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または
アルコキシカルボニル基、を表す。
【0027】R5で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜32のものが好ましく、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、2−エチルヘキシル基等がその代表例として挙げ
られる。
【0028】R5で表されるシクロアルキル基として
は、炭素数3〜12のものが好ましく、例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、2−
メチルシクロプロピル基、アダマンチル基がその代表例
として挙げられる。
【0029】R5で表されるアリール基としては、炭素
数6〜14のものが好ましく、例えばフェニル基、1−
ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
【0030】R5で表されるアルコキシカルボニル基と
しては、例えばメチルオキシカルボニル基、エチルオキ
シカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等がその代
表例として挙げられる。
【0031】R5が表すアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシカルボニル基は置換基によ
り置換されていてもよく、その置換基としては、前記一
般式(1)におけるR1等が有してもよい置換基と同様
の基を挙げることができる。
【0032】前記一般式(4)及び(5)において、R
5は第3級アルキル基または第3級シクロアルキル基が
好ましい。
【0033】第3級アルキル基としては、例えばter
t−ブチル基、tert−ペンチル基、tert−ヘキ
シル基、1,1−ジメチルデシル基、1,1,3,3−
テトラメチルブチル基、2−メチル−2−ブチル基等
が、また、第3級シクロアルキル基としては、例えば1
−エチルシクロプロピル基、1−メチルシクロペンチル
基、1−メチルシクロヘキシル基、1−アダマンチル基
等がその代表例として挙げられる。
【0034】前記一般式(4)及び(5)において、R
5はtert−ブチル基が特に好ましい。
【0035】前記一般式(4)及び(5)において、R
6はアルキレン基、アリーレン基を表す。
【0036】R6で表されるアルキレン基としては、炭
素数1〜32のものが好ましく、例えばメチレン基、エ
チレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、tert
−ブチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、ドデシレ
ン基、ヘキサデシレン基、2−エチルヘキシレン基等が
その代表例として挙げられる。
【0037】R6で表されるアリーレン基としては、
1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4
−フェニレン基等がその代用例として挙げられる。
【0038】R6が表すアルキレン基、アリーレン基は
置換基により置換されていてもよく、その置換基として
は、前記一般式(1)におけるR1等が有してもよい置
換基と同様の基を挙げることができる。
【0039】前記一般式(4)及び(5)において、R
6はtert−ブチレン基が特に好ましい。
【0040】以下に、前記一般式(1)、(2)、
(3)、(4)及び(5)で表される化合物の代表的具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【0041】一般式(1)の代表的具体例。
【0042】
【化6】
【化7】
【化8】
【化9】
【化10】
【化11】
【化12】
【0043】一般式(2)の代表的具体例。
【0044】
【化13】
【化14】
【化15】
【0045】一般式(3)の代表的具体例。
【0046】
【化16】
【化17】
【化18】
【0047】一般式(4)の代表的具体例
【0048】
【化19】
【化20】
【化21】
【化22】
【0049】一般式(5)の代表的具体例
【0050】
【化23】
【化24】
【0051】本発明中における脱水エステル化反応は、
それ自体常法にて行うことができる。還流反応によって
生成する水を除去しながらエステル化反応を行うため、
使用する溶媒としては水を溶解しない、または難溶解性
であるトルエン、キシレン、ベンゼン、ジクロロエタ
ン、ジクロロメタン、クロロホルムなどが挙げられる。
触媒として用いる酸は塩酸、硫酸、芳香族スルホン
酸、、脂肪族スルホン酸、ルイス酸などが挙げられる。
本発明は、エステル化反応における反応溶媒及び酸触媒
の種類によって、何ら限定されるものではない。
【0052】脱水エステル化反応終了後の酸触媒除去操
作が、本発明における最大の論点である。エステル化合
物の非水溶媒溶液系内は、酸触媒の影響で強酸性条件下
にある。この反応液中へN、N−ジメチルアニリン、ト
リエチルアミン、ジエチルアミン、ピリジンから選ばれ
る1種もしくは2種以上の有機塩基を入れることで酸触
媒が中和される。このとき使用する有機塩基の量は、酸
触媒に対して0.5〜1.5当量、好ましくは0.9〜
1.1当量である。有機塩基を用い酸触媒を中和すると
当然ながら発熱を生じる。その発熱の程度は用いた酸触
媒ならびに有機塩基の種類によって異なる。有機塩基を
投入するときの温度は0〜60℃の範囲が適当である
が、本発明はこれに限定されるものではない。ここで発
熱を生じたとしても系内は理論上無水の状態であるた
め、エステルが加水分解されることはない。その後、系
内に水を入れることで非水溶媒の方へ生成エステルを、
水層の方へ酸触媒の有機塩基塩を分離させることができ
る。水層の比重が非水溶媒層より重い場合、装置下方か
ら排出でき、逆に軽い場合はデカンテーションにて除去
することが可能である。これにより、エステル化合物を
加水分解させることなく、酸触媒を容易に系外へ除去す
ることができる。有機塩基で酸触媒を中和して以降は、
系内に水を投入してもエステル化合物の加水分解はほと
んど起こらない。有機塩基で中和する以前の系内のpH
はいずれの酸触媒でも1以下であり、エステルの加水分
解を起こすに十分な酸強度を有している。これに対し、
中和操作を行った後の系内pHは3〜4であり、加水分
解を起こすほどの酸性強度がないのが加水分解を起こさ
ない理由である。
【0053】一般に、パラトルエンスルホン酸は、酸触
媒としての作用に優れていること、比較的安価であるこ
と、取り扱いが容易であることなどからしばしば脱水エ
ステル化反応の酸触媒として使用される。本発明中のい
ずれの塩基でもパラトルエンスルホン酸を中和し加水分
解を抑制することは可能であるが、その中でもN、N−
ジメチルアニリンが特に好ましい。パラトルエンスルホ
ン酸のN、N−ジメチルアニリン塩は、水に溶解した際
のpHが3でありエステルを加水分解することはなく、
トルエンなどの非水溶媒に可溶であるにも関わらず、水
を投入すると非水溶媒から水の方へ完全に移行するので
中和の操作が非常に簡便である。更には、系外から除去
した水層よりN、N−ジメチルアニリンを抽出し、再利
用することが可能であるという利点がある。パラトルエ
ンスルホン酸のN、N−ジメチルアニリン塩の水溶液に
酸と当量以上のカセイソーダを投入すると、塩交換が起
こり元来水に不溶なN、N−ジメチルアニリンがフリー
の状態となり上層に分離する。その後、水洗浄にて水溶
性の不純物を除去した後、水蒸気蒸留にて精製しN、N
−ジメチルアニリンのリサイクル利用が可能である。よ
って、極めて低コストでエステル化合物と酸触媒との分
離が可能である。
【0054】有機塩基で酸触媒を中和し酸触媒を除去し
た後は、エステル化合物を含む混合溶液を蒸留すること
により目的とするエステル化合物を取り出すことができ
る。また、非水溶媒中でそのまま冷却し目的物を晶析さ
せて固液分離法にて取り出すこともできる。また、非水
溶媒を留去し、メタノール、エタノール、アセトニトリ
ルなどの有機溶媒で再結晶し目的のエステル化合物を取
り出すことも可能である。エステル化反応後の酸触媒分
離の際に本発明の方法を採用することで、加水分解によ
り生成したカルボン酸、アルコールまたはフェノール類
が従来技術よりも極めて少ないため、エステルの精製操
作も容易になる。精製方法の選択は、目的とするエステ
ルの融点、沸点、溶媒に対する溶解度などの性状に依存
するが、本発明はこれら蒸留、再結晶の有無、固液分離
溶媒の種類、蒸留あるいは固液分離に用いる装置などに
何ら限定されるものではない。
【0055】
【作用】本発明によれば、エステル化反応後の酸触媒分
離操作において、その操作中の温度に関係なく加水分解
によるエステル化合物の損失を抑え、簡便かつ低コスト
で目的とするエステル化合物を製造することができる。
【0056】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明がこれらに限定されるものではな
い。
【0057】実施例1 <例示化合物(3)−1の合成
> 300ml四頭コルベンにジムロートコンデンサーを付
したエステル管をセットし、トルエン140ml、例示
化合物(4)−1を20.9g、例示化合物(1)−1
を40.8g、パラトルエンスルホン酸・1水和物4
2.0gを投入し撹拌、加熱を行い断続で16時間還流
脱水反応を行った。その後、反応混合物を室温まで冷却
し、N、N−ジメチルアニリン25.8gを投入し10
分間撹拌混合した。このとき内温は20℃から38℃ま
で上昇した。中和後の反応混合物のHPLC測定を行っ
たところ、中和前と比較しエステル体である例示化合物
(3)−2の加水分解は全く認められなかった。続いて
水50ml、酢酸5.0gを投入し有機層と水層を分離
させ水層を除去した。このときの水層のpHは3であっ
た。10%食塩水50mlで有機層2回を洗浄した後、
ジクロロジメチルヒダントイン10.4gを内温25℃
以下で添加し1時間反応させた。次に、亜硫酸ソーダ1
1.2g、水50mlを投入し3時間反応させた。その
後酢酸5.0gを投入し有機層と水層分離させ水層を除
去し、有機層を水50mlで3回洗浄後、ロータリーエ
バポレーターにて減圧濃縮した。濃縮物をアセトニトリ
ル102ml、メタノール11mlにて溶解後、冷却し
5〜10℃内で5時間撹拌し晶析させた。直径9cmの
磁性ヌッチェで析出した結晶を濾過しアセトニトリル5
0mlで洗浄後、ウエットケーキを取り出し40℃で乾
燥、例示化合物(3)−1の淡黄色結晶52.4gを得
た。例示化合物(4)−1からの収率85.7%。化合
物の同定はMASSおよびNMRスペクトルで行い、例
示化合物(3)−1であることを確認した。
【0058】実施例2 <実施例1で発生したパラトル
エンスルホン酸のN、N−ジメチルアニリン塩水溶液か
らのN、N−ジメチルアニリン抽出、回収> 実施例1で発生したパラトルエンスルホン酸のN、N−
ジメチルアニリン塩水溶液124gへ、25%カセイソ
ーダ水溶液40.9g、水100mlを投入し10分間
撹拌放置し、下層の水を分離した。その後、水200m
lを投入し撹拌加温し内温約100℃にて水と共にN、
N−ジメチルアニリンを蒸留した。蒸留液の下層の水を
除去後、N、N−ジメチルアニリンを硫酸マグネシウム
で脱水乾燥し、21.2gを得た。N、N−ジメチルア
ニリンの回収率82.2%、ガスクロマトグラフィー純
度99.5%、含水率0.1%。
【0059】実施例3 <例示化合物(3)−1の合成
> 実施例1で使用したN、N−ジメチルアニリン25.8
gのかわりにトリエチルアミン21.6gを用いた以外
は実施例1と同様の操作で例示化合物(3)−1の合成
を行った。中和後の反応混合物のHPLC測定を行った
ところ、中和前と比較しエステル体である例示化合物
(3)−2の加水分解は全く認められなかった。その結
果、例示化合物(3)−1の淡黄色結晶51.9gを得
た。例示化合物(4)−1からの収率84.8%。化合
物の同定はMASSおよびNMRスペクトルで行い、例
示化合物(3)−1であることを確認した。
【0060】実施例4<例示化合物(3)−7の合成> 300ml四頭コルベンにジムロートコンデンサーを付
したエステル管をセットし、トルエン140ml、例示
化合物(5)−1を20.9g、例示化合物(1)−1
を40.8g、パラトルエンスルホン酸・1水和物4
2.0gを投入し撹拌、加熱を行い断続で16時間還流
脱水反応を行った。その後、反応混合物を室温まで冷却
し、N、N−ジメチルアニリン25.8gを投入し10
分間撹拌混合した。このとき内温は20℃から35℃ま
で上昇した。中和後の反応混合物のHPLC測定を行っ
たところ、中和前と比較しエステル体である例示化合物
(3)−10の加水分解は全く認められなかった。続い
て水50ml、酢酸5.0gを投入し有機層と水層を分
離させ水層を除去した。このときの水層のpHは3であ
った。10%食塩水50mlで有機層2回を洗浄した
後、ジクロロジメチルヒダントイン10.4gを内温2
5℃以下で添加し1時間反応させた。次に、亜硫酸ソー
ダ11.2g、水50mlを投入し3時間反応させた。
その後酢酸5.0gを投入し有機層と水層分離させ水層
を除去し、有機層を水50mlで3回洗浄後、ロータリ
ーエバポレーターにて減圧濃縮した。濃縮物をアセトニ
トリル102ml、にて溶解後、冷却し5〜10℃内で
5時間撹拌し晶析させた。直径9cmの磁性ヌッチェで
析出した結晶を濾過しアセトニトリル50mlで洗浄
後、ウエットケーキを取り出し40℃で乾燥、例示化合
物(3)−7の淡黄色結晶50.2gを得た。例示化合
物(5)−1からの収率82.1%。化合物の同定はM
ASSおよびNMRスペクトルで行い、例示化合物
(3)−7であることを確認した。
【0061】比較例 <例示化合物(3)−1の合成> 実施例1で使用したN、N−ジメチルアニリン25.8
gのかわりに炭酸カリウム15.3g、水37.0ml
の水溶液を使用しパラトルエンスルホン酸を中和した。
炭酸カリウム水溶液を添加する前に反応混合物を10℃
に冷却し、添加中は15〜20℃に内温を保った。内温
の保持と炭酸ガスによる発泡、それに伴う液面上昇のた
め、炭酸カリウム全量を添加するのに15分間を要し
た。中和終了後の反応混合物のHPLC測定を行ったと
ころ、エステル体である例示化合物(3)−2が中和前
にに対して3.4%加水分解したことが認められた。そ
の後、実施例1と同様の操作で結晶を取り出した。その
結果、例示化合物(3)−1の淡黄色結晶48.0gを
得た。例示化合物(4)−1からの収率78.5%。
【0062】
【発明の効果】本発明により、エステル化合物とエステ
ル化反応で用いた酸触媒を有利な方法で分離し、エステ
ル化合物の加水分解による損失を抑え、目的とするエス
テル化合物を高収率かつ高生産性で容易に製造する方法
を提供することができた。
【0063】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水倉 登 福島県相馬郡小高町蛯沢字笠谷26番地 株 式会社コニカケミカル福島事業所内 (72)発明者 杉田 修一 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 堀内 富男 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 Fターム(参考) 4C050 AA01 BB06 CC05 EE04 FF02 GG02 GG03 GG04 HH01 4H039 CA66 CD10 CD30

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1)で表されるカルボン酸と一
    般式(2)で表されるアルコールまたはフェノール類を
    非水溶媒中、酸触媒存在下に、脱水エステル化反応させ
    た後、該非水溶媒からなる反応液に有機塩基を添加する
    ことにより酸触媒を中和し、さらに水を加えて生成した
    酸触媒の有機塩基塩を水相に移行させることにより除去
    することを特徴とする、一般式(3)で表されるエステ
    ル化合物と酸触媒の分離方法。 【化1】 [式(1)中R2は有機基を表す。] 【化2】 [式(2)中R2は有機基を表す。] 【化3】 [式(3)中R1、R2は一般式(1)ならびに一般式
    (2)と同義である。]
  2. 【請求項2】請求項1記載の分離方法において、酸触媒
    が塩酸、硫酸、芳香族スルホン酸、脂肪族スルホン酸の
    いずれかであり、使用する有機塩基がN、N−ジメチル
    アニリン、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ピリジ
    ンのいずれか1つあるいはそれら2種以上の組み合わせ
    であること特徴とするエステル化合物と酸触媒の分離方
    法。
  3. 【請求項3】請求項1記載の分離方法において、非水溶
    媒がベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロエタン、
    ジクロロメタン、クロロホルムののいずれかであること
    特徴とするエステル化合物と酸触媒の分離方法。
  4. 【請求項4】酸触媒が水和物もしくは無水物のパラトル
    エンスルホン酸、有機塩基がN、N−ジメチルアニリン
    の組み合わせであることを特徴とする請求項1記載のエ
    ステル化合物と酸触媒の分離方法。
  5. 【請求項5】請求項1記載の一般式(2)で表されるア
    ルコールまたはフェノール類が、下記一般式(4)もし
    くは一般式(5)であることを特徴とするエステル化合
    物と酸触媒の分離方法。 【化4】 [式(4)中、R3,R4は水素原子、塩素原子、臭素
    原子、カルバモイル基を表し、R5はアルキル基、アリ
    ール基、アルコキシカルボニル基を表し、R6はアルキ
    レン基、アリーレン基をを表す。] 【化5】 [式(5)中、R3、R4、R5およびR6は一般式
    (4)と同義である]
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