JP2002293830A - ビニル−フェニルピリジン単量体およびそれを用いて製造した高分子 - Google Patents
ビニル−フェニルピリジン単量体およびそれを用いて製造した高分子Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D213/06—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
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- C08F12/32—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ビニル−フェニルピリジン単量体とこれを用い
て製造した高分子を提供する。 【解決手段】本発明では、フェニル基の共鳴化効果によ
ってラジカル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およ
びメタロセン触媒重合などの多様な重合方法を通じて重
合が可能であり、改質を通じて性質を多様に変化させ、
且つ、加工が容易なため、凡用高分子の合成に適用され
るだけでなく、高分子が光特性をもつ金属化合物と錯体
を形成して光機能性材料として使用できる新規のビニル
−フェニルピリジン単量体とこれを用いて製造した高分
子が提供される。
て製造した高分子を提供する。 【解決手段】本発明では、フェニル基の共鳴化効果によ
ってラジカル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およ
びメタロセン触媒重合などの多様な重合方法を通じて重
合が可能であり、改質を通じて性質を多様に変化させ、
且つ、加工が容易なため、凡用高分子の合成に適用され
るだけでなく、高分子が光特性をもつ金属化合物と錯体
を形成して光機能性材料として使用できる新規のビニル
−フェニルピリジン単量体とこれを用いて製造した高分
子が提供される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビニル−フェニル
ピリジン単量体とこれを用いて製造した高分子に関し、
さらに詳細には、フェニル基の共鳴化効果によってラジ
カル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およびメタロ
セン触媒重合などの多様な重合方法を通じて重合可能で
あり、改質を通じて性質を多様に変化させ、加工が容易
なため、凡用高分子の合成に適用できるだけでなく、高
分子が光特性をもつ金属化合物と錯体を形成して光機能
性材料として使用できる新規のビニル−フェニルピリジ
ン単量体とこれを用いて製造した高分子に関する。
ピリジン単量体とこれを用いて製造した高分子に関し、
さらに詳細には、フェニル基の共鳴化効果によってラジ
カル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およびメタロ
セン触媒重合などの多様な重合方法を通じて重合可能で
あり、改質を通じて性質を多様に変化させ、加工が容易
なため、凡用高分子の合成に適用できるだけでなく、高
分子が光特性をもつ金属化合物と錯体を形成して光機能
性材料として使用できる新規のビニル−フェニルピリジ
ン単量体とこれを用いて製造した高分子に関する。
【０００２】
【０００３】
【化８】
【０００４】連鎖重合は、開始剤によってイオン重合と
ラジカル重合に大別できる。ラジカル重合は末端ラジカ
ル同士の二分子反応によって静止反応が起こることから
リビング重合が困難であるに対し、イオン重合は末端の
活性種が相互反発するため反応が起こらない。ラジカル
重合はビニル基の共鳴安定化の度合によって反応性が決
定されるに対し、イオン重合は極性によって反応性が決
定される。
ラジカル重合に大別できる。ラジカル重合は末端ラジカ
ル同士の二分子反応によって静止反応が起こることから
リビング重合が困難であるに対し、イオン重合は末端の
活性種が相互反発するため反応が起こらない。ラジカル
重合はビニル基の共鳴安定化の度合によって反応性が決
定されるに対し、イオン重合は極性によって反応性が決
定される。
【０００５】
【化９】
【０００６】連鎖重合反応に用いられる単量体は次に示
すようなＱ−ｅ値からラジカル重合、陰イオン重合、陽
イオン重合の可能性が予測でき、特に、極性の度合を表
すｅ値によって陰イオン重合が可能か、陽イオン重合が
可能か決定される。
すようなＱ−ｅ値からラジカル重合、陰イオン重合、陽
イオン重合の可能性が予測でき、特に、極性の度合を表
すｅ値によって陰イオン重合が可能か、陽イオン重合が
可能か決定される。
【０００７】
【表１】
【０００８】リビングイオン重合で既に説明したが、陰
イオン重合は単量体の極性に対する物性が重要である。
特に、極性によって反応性が決定されるため、ブロック
共重合体の合成に当たって単量体の決定は重要である。
ビニル基に電気吸引性置換基をもつ単量体が陰イオン重
合の対象となる。弱い活性炭素陰イオンがそのもの自体
と等しいか、または大きい陽の極性をもつ単量体を攻撃
することはできるが、強い陽の極性をもつ活性炭素陰イ
オンがそのもの自体より少ない極性を有する単量体を攻
撃して重合することはできない。代表的な陰イオン単量
体には、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、
イソプレンがあり、各々極性ｅが陰の値を有するため、
強い活性炭素陰イオンを使用しないと重合が不可能であ
る。すなわち、まずα−メチルスチレンを開始し、引き
続きイソプレン、スチレンの順に開始しないと重合が不
可能である。
イオン重合は単量体の極性に対する物性が重要である。
特に、極性によって反応性が決定されるため、ブロック
共重合体の合成に当たって単量体の決定は重要である。
ビニル基に電気吸引性置換基をもつ単量体が陰イオン重
合の対象となる。弱い活性炭素陰イオンがそのもの自体
と等しいか、または大きい陽の極性をもつ単量体を攻撃
することはできるが、強い陽の極性をもつ活性炭素陰イ
オンがそのもの自体より少ない極性を有する単量体を攻
撃して重合することはできない。代表的な陰イオン単量
体には、スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、
イソプレンがあり、各々極性ｅが陰の値を有するため、
強い活性炭素陰イオンを使用しないと重合が不可能であ
る。すなわち、まずα−メチルスチレンを開始し、引き
続きイソプレン、スチレンの順に開始しないと重合が不
可能である。
【０００９】官能基を含有した高分子は機能を有する素
材として有用に使用される。従って、スチレン、ブタジ
エン、メタクリレートに官能基を導入して陰イオン重合
しようとする際、活性炭素陰イオンが官能基を攻撃して
重合反応が停止することになる。この場合には適当な保
護基を使用して官能基を保護すべきである。その一例
は、S.Nakahama等によって官能基 をもつ多くの単量体
が合成されてリビング陰イオン重合が可能であった単量
体がある。アミン、水酸基、ケトン、カルボキシ基、サ
ルファ基などをもつスチレン系の単量体において、適当
な保護基のトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、オキサゾリン、エステル化合物などで保護して陰イ
オン重合で重合した後、再び機能性グループを保護基か
ら脱離して製造した[S. Nakahama, Prog. Polym. Sci.,
15, 299 (1990); Makromol, Chem., 186, 1157 (198
5); Polymer, 28, 303(1987); Macromolecules, 19, 23
07 (1986); ibid. 26, 4995 (1993); ibid. 26, 35 (19
93); Macromolecules, 20, 2968 (1987); ibid. 24, 14
49 (1991); ibid. 26, 6976 (1993); Macromolecules,1
9, 2307 (1986); ibid. 21, 561 (1988); ibid. 22, 26
02 (1989)]。フェニルピリジンを用いて光伝導性および
有機電界発光素子(Orgnic Light Emitting Devices)に
対する研究は盛んに行われており、これを用いたエネル
ギー伝達現象を研究した例が報告されている[Alistair
J. Lee, Chem. Rev. 1987, 87, 711-743; M.A. Baldo,
S. Lamansky, P.E. Burrows, M.E. Thompson, S.R. For
rest, Appl. Phys. Lett., 75, 4, (1999); Raymond C.
Kwong, Sergey Lamansky, and Mark E. Thompson, Ad
v. Mater., 2000, 12, No.15, 1134; Catherine E. Hou
secroft, Coordination Chemistry Reviews, 152, (199
6), 141-156; K. Dedeian,P.I. Djurovich, F.O. Garce
s, G. Carlson, R.J. Watts, Inorg. Chem., 1991,30,
1687-1688; King, K.A, Spellane, P.J., Watts, R.J.,
J. Am. Chem. Soc., 1985, 107, 1431]。
材として有用に使用される。従って、スチレン、ブタジ
エン、メタクリレートに官能基を導入して陰イオン重合
しようとする際、活性炭素陰イオンが官能基を攻撃して
重合反応が停止することになる。この場合には適当な保
護基を使用して官能基を保護すべきである。その一例
は、S.Nakahama等によって官能基 をもつ多くの単量体
が合成されてリビング陰イオン重合が可能であった単量
体がある。アミン、水酸基、ケトン、カルボキシ基、サ
ルファ基などをもつスチレン系の単量体において、適当
な保護基のトリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、オキサゾリン、エステル化合物などで保護して陰イ
オン重合で重合した後、再び機能性グループを保護基か
ら脱離して製造した[S. Nakahama, Prog. Polym. Sci.,
15, 299 (1990); Makromol, Chem., 186, 1157 (198
5); Polymer, 28, 303(1987); Macromolecules, 19, 23
07 (1986); ibid. 26, 4995 (1993); ibid. 26, 35 (19
93); Macromolecules, 20, 2968 (1987); ibid. 24, 14
49 (1991); ibid. 26, 6976 (1993); Macromolecules,1
9, 2307 (1986); ibid. 21, 561 (1988); ibid. 22, 26
02 (1989)]。フェニルピリジンを用いて光伝導性および
有機電界発光素子(Orgnic Light Emitting Devices)に
対する研究は盛んに行われており、これを用いたエネル
ギー伝達現象を研究した例が報告されている[Alistair
J. Lee, Chem. Rev. 1987, 87, 711-743; M.A. Baldo,
S. Lamansky, P.E. Burrows, M.E. Thompson, S.R. For
rest, Appl. Phys. Lett., 75, 4, (1999); Raymond C.
Kwong, Sergey Lamansky, and Mark E. Thompson, Ad
v. Mater., 2000, 12, No.15, 1134; Catherine E. Hou
secroft, Coordination Chemistry Reviews, 152, (199
6), 141-156; K. Dedeian,P.I. Djurovich, F.O. Garce
s, G. Carlson, R.J. Watts, Inorg. Chem., 1991,30,
1687-1688; King, K.A, Spellane, P.J., Watts, R.J.,
J. Am. Chem. Soc., 1985, 107, 1431]。
【００１０】以上の如く、フェニルピリジンに関する研
究は、有機単分子に限定されており、未だフェニルピリ
ジンを単量体として用いて高分子を合成した例は報告さ
れていない状況である。
究は、有機単分子に限定されており、未だフェニルピリ
ジンを単量体として用いて高分子を合成した例は報告さ
れていない状況である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明による２−(４
−ビニル−フェニル)ピリジン単量体を用いて高分子化
すると、容易にブロックの長さや大きさおよび組成を制
御して様々な金属化合物(イリジウム、ルテニウム)と錯
体が形成できるため、光機能性材料として使用される
際、広範囲にわたって応用できると予想される。
−ビニル−フェニル)ピリジン単量体を用いて高分子化
すると、容易にブロックの長さや大きさおよび組成を制
御して様々な金属化合物(イリジウム、ルテニウム)と錯
体が形成できるため、光機能性材料として使用される
際、広範囲にわたって応用できると予想される。
【００１２】従って、本発明による前記一般式（１）で
表される新規の単量体は、フェニル基の共鳴化効果によ
ってラジカル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およ
びメタロセン触媒でも重合可能なため、高分子への合成
が容易である上に、高分子化する場合、ブロックの長さ
や大きさおよび組成を容易に制御して様々な金属化合物
(イリジウム、ルテニウムなど)と錯体を形成できるた
め、光機能性材料として使用される際、広範囲にわたっ
て応用できる。
表される新規の単量体は、フェニル基の共鳴化効果によ
ってラジカル重合、陽イオン重合、陰イオン重合、およ
びメタロセン触媒でも重合可能なため、高分子への合成
が容易である上に、高分子化する場合、ブロックの長さ
や大きさおよび組成を容易に制御して様々な金属化合物
(イリジウム、ルテニウムなど)と錯体を形成できるた
め、光機能性材料として使用される際、広範囲にわたっ
て応用できる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明では、下記一般式
（１）で表されるビニル−フェニルピリジン単量体を提
供する。
（１）で表されるビニル−フェニルピリジン単量体を提
供する。
【００１４】
【化１０】
【００１５】また、本発明は、新規の化学的構造の設計
および導入が容易なため、合成する高分子に多様な特殊
機能を付与または調節することができ、且つ、合成され
た高分子が優れた熱的、力学的特性をもち、加工性にも
優れており、使用目的に応じて薄膜や繊維などに成形し
やすいため、新素材としての価値がある凡用高分子合成
に有用な前記一般式（１）で表される新規の単量体およ
びその製造方法を提供する。
および導入が容易なため、合成する高分子に多様な特殊
機能を付与または調節することができ、且つ、合成され
た高分子が優れた熱的、力学的特性をもち、加工性にも
優れており、使用目的に応じて薄膜や繊維などに成形し
やすいため、新素材としての価値がある凡用高分子合成
に有用な前記一般式（１）で表される新規の単量体およ
びその製造方法を提供する。
【００１６】さらに、本発明は、前記一般式（１）で表
される新規の単量体を用いて製造した新規の高分子を提
供する。また、本発明は、前記新規の高分子が光特性を
もつイリジウム、ルテニウムまたは白金と錯体を形成し
ている高分子錯体を提供する。
される新規の単量体を用いて製造した新規の高分子を提
供する。また、本発明は、前記新規の高分子が光特性を
もつイリジウム、ルテニウムまたは白金と錯体を形成し
ている高分子錯体を提供する。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明による前記一般式（１）で表されるビニル
−フェニルピリジン単量体の具体的な例は次のようであ
る：２−(２−ビニル−フェニル)ピリジン、２−(３−
ビニル−フェニル)ピリジン、２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン。本発明による前記一般式（１）で表され
るビニル−フェニルピリジン単量体は次のような製造方
法から合成される。その第一方法は、下記反応式（１）
のようなスズキカップリング反応による。反応式（１）
する。本発明による前記一般式（１）で表されるビニル
−フェニルピリジン単量体の具体的な例は次のようであ
る：２−(２−ビニル−フェニル)ピリジン、２−(３−
ビニル−フェニル)ピリジン、２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン。本発明による前記一般式（１）で表され
るビニル−フェニルピリジン単量体は次のような製造方
法から合成される。その第一方法は、下記反応式（１）
のようなスズキカップリング反応による。反応式（１）
【００１８】
【化１１】
【００１９】反応式（１）によれば、一般式（２）で表
されるビニル−フェニルボロン酸と前記一般式（３）で
表される２−ブロモピリジンをアルカリ金属塩基および
パラジウム触媒の下でスズキカップリング反応させて目
的とする前記一般式（１）で表されるビニル−フェニル
ピリジン単量体を製造する。この際、アルカリ金属塩基
としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどが使用でき、パラジウム触媒
としてはテトラキストリフェニルホスフィン(Pd(PP
h3)4)、酢酸パラジウムなどが使用される。反応溶媒と
してはテトラヒドロフラン(THF)、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、トル
エンなどが使用できる。前記反応式（１）のスズキカッ
プリング反応は８０〜１２０℃の範囲で行う。
されるビニル−フェニルボロン酸と前記一般式（３）で
表される２−ブロモピリジンをアルカリ金属塩基および
パラジウム触媒の下でスズキカップリング反応させて目
的とする前記一般式（１）で表されるビニル−フェニル
ピリジン単量体を製造する。この際、アルカリ金属塩基
としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどが使用でき、パラジウム触媒
としてはテトラキストリフェニルホスフィン(Pd(PP
h3)4)、酢酸パラジウムなどが使用される。反応溶媒と
してはテトラヒドロフラン(THF)、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、トル
エンなどが使用できる。前記反応式（１）のスズキカッ
プリング反応は８０〜１２０℃の範囲で行う。
【００２０】他の製造方法は、次の反応式（２）のよう
なスズキカップリング反応およびウィッティッヒ(Witti
g)反応による。反応式（２）
なスズキカップリング反応およびウィッティッヒ(Witti
g)反応による。反応式（２）
【００２１】
【化１２】
【００２２】反応式（２）によれば、前記一般式（４）
で表されるホルミルフェニルボロン酸と前記一般式
（３）で表される２−ブロモピリジンをアルカリ金属塩
基およびパラジウム触媒の下でスズキカップリング反応
させて前記一般式（５）で表されるホルミルフェニルピ
リジンを製造する。そして、製造された前記一般式
（５）で表されるホルミルフェニルピリジンをメチルト
リフェニルホスホニウムブロミド (PPh3CH3Br) および
水素化ナトリウム(NaH)の存在の下でウィッティッヒ反
応させて前記一般式（１）で表されるビニル−フェニル
ピリジン単量体を製造する。
で表されるホルミルフェニルボロン酸と前記一般式
（３）で表される２−ブロモピリジンをアルカリ金属塩
基およびパラジウム触媒の下でスズキカップリング反応
させて前記一般式（５）で表されるホルミルフェニルピ
リジンを製造する。そして、製造された前記一般式
（５）で表されるホルミルフェニルピリジンをメチルト
リフェニルホスホニウムブロミド (PPh3CH3Br) および
水素化ナトリウム(NaH)の存在の下でウィッティッヒ反
応させて前記一般式（１）で表されるビニル−フェニル
ピリジン単量体を製造する。
【００２３】スズキカップリング反応に使用されるアル
カリ金属塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが使用でき、パ
ラジウム触媒としてはパラジウムテトラキストリフェニ
ルホスフィン(Pd(PPh3) 4)、酢酸パラジウムなどが使用
される。反応溶媒としては、テトラヒドロフラン(TH
F)、 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルス
ルホキシド(DMSO)、トルエンなどが使用できる。スズキ
カップリング反応は８０〜１４０℃の範囲で行い、 ウ
ィッティッヒ反応は９０〜１３０℃の範囲で行う。
カリ金属塩基としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが使用でき、パ
ラジウム触媒としてはパラジウムテトラキストリフェニ
ルホスフィン(Pd(PPh3) 4)、酢酸パラジウムなどが使用
される。反応溶媒としては、テトラヒドロフラン(TH
F)、 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルス
ルホキシド(DMSO)、トルエンなどが使用できる。スズキ
カップリング反応は８０〜１４０℃の範囲で行い、 ウ
ィッティッヒ反応は９０〜１３０℃の範囲で行う。
【００２４】以上ではスズキカップリング反応およびウ
ィッティッヒ反応を例示したが、その他にも塩化トリメ
チルスズまたは塩化トリブチルスズを使用するスチレ(S
tille)カップリング反応、マグネシウムとニッケル触媒
を使用するグリニャール(Grignard) カップリング反
応、および亜鉛(Zinc)、ビピリジン、トリフェニルホス
フィンおよび塩化ニッケル(NiCl2)を使用するカップリ
ング反応を用いて前記一般式（１）で表されるビニル−
フェニルピリジン単量体を合成することもできる。
ィッティッヒ反応を例示したが、その他にも塩化トリメ
チルスズまたは塩化トリブチルスズを使用するスチレ(S
tille)カップリング反応、マグネシウムとニッケル触媒
を使用するグリニャール(Grignard) カップリング反
応、および亜鉛(Zinc)、ビピリジン、トリフェニルホス
フィンおよび塩化ニッケル(NiCl2)を使用するカップリ
ング反応を用いて前記一般式（１）で表されるビニル−
フェニルピリジン単量体を合成することもできる。
【００２５】一方、本発明は、前記一般式（１）で表さ
れるビニル−フェニルピリジン単量体を用いて製造した
高分子を含み、本発明の高分子は単一重合体(homopolym
er)または共重合体(copolymer)であり得る。共重合体の
場合、共重合の単量体としては９−ビニルカルバゾー
ル、４−(９−カルバゾリルカルバゾリル)メチルスチレ
ン、２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメタクリレート、３
−(ビニル−９−エチル)カルバゾールの中から選択され
る。
れるビニル−フェニルピリジン単量体を用いて製造した
高分子を含み、本発明の高分子は単一重合体(homopolym
er)または共重合体(copolymer)であり得る。共重合体の
場合、共重合の単量体としては９−ビニルカルバゾー
ル、４−(９−カルバゾリルカルバゾリル)メチルスチレ
ン、２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメタクリレート、３
−(ビニル−９−エチル)カルバゾールの中から選択され
る。
【００２６】本発明の高分子合成に適用される重合方法
は通常の方法による。重合方法には、バルク重合、溶液
重合、懸濁重合などのいれも適用可能であり、重合シス
テムとして利用されたラジカル重合のみならず、陰イオ
ン重合、陽イオン重合なども可能である。重合開始剤と
してはアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)以外にも、ベ
ンゾイルペルオキシド、過酸化水素水、クメンペルオキ
シド、ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペル
オキシド、ラウロイルペルオキシドなど一般のスチレン
系単量体重合に使用される開始剤ならいずれも適用可能
である。共重合体合成の際、目的に応じて２−(４−ビ
ニル−フェニル)ピリジンの含有量を0.01〜99.99モル％
に調節することもできる。
は通常の方法による。重合方法には、バルク重合、溶液
重合、懸濁重合などのいれも適用可能であり、重合シス
テムとして利用されたラジカル重合のみならず、陰イオ
ン重合、陽イオン重合なども可能である。重合開始剤と
してはアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)以外にも、ベ
ンゾイルペルオキシド、過酸化水素水、クメンペルオキ
シド、ｔ−ブチルペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペル
オキシド、ラウロイルペルオキシドなど一般のスチレン
系単量体重合に使用される開始剤ならいずれも適用可能
である。共重合体合成の際、目的に応じて２−(４−ビ
ニル−フェニル)ピリジンの含有量を0.01〜99.99モル％
に調節することもできる。
【００２７】また、合成された高分子はＧＰＣで数平均
分子量、重量平均分子量、分子量分布(Mw/Mn)を測定
し、FT−NMRとFT−IRを用いて含量を分析した。以上の
重合方法から合成される本発明の高分子の例を下記一般
式（６）〜（８）に示す。
分子量、重量平均分子量、分子量分布(Mw/Mn)を測定
し、FT−NMRとFT−IRを用いて含量を分析した。以上の
重合方法から合成される本発明の高分子の例を下記一般
式（６）〜（８）に示す。
【００２８】
【化１３】
【００２９】
【化１４】 （式中、n+m=100、ｎは0.01〜99.99の整数である）。
【００３０】
【化１５】 （式中、n+m=100、ｎは0.01〜99.99の整数である）。
【００３１】一方、本発明は、前記高分子がイリジウ
ム、ルテニウム、白金などの金属と錯体を形成している
ため、光機能性材料としても適用できる光特性を有する
高分子錯体を含む。その代表的な高分子を下記一般式
（９）に示す。
ム、ルテニウム、白金などの金属と錯体を形成している
ため、光機能性材料としても適用できる光特性を有する
高分子錯体を含む。その代表的な高分子を下記一般式
（９）に示す。
【００３２】
【化１６】
【００３３】（式中、Ｍはイリジウム、ルテニウム、ま
たは白金を表し、n+m=100、nは0.01〜99.99の整数であ
る）。本発明による高分子錯体を製造する方法の一例を
下記反応式（３）に示す。反応式（３）
たは白金を表し、n+m=100、nは0.01〜99.99の整数であ
る）。本発明による高分子錯体を製造する方法の一例を
下記反応式（３）に示す。反応式（３）
【００３４】
【化１７】
【００３５】前記反応式（３）によれば、イリジウム(I
II)アセチルアセトネート(Iracac)と２−フェニルピリ
ジンを２モル当量にグリセリン溶媒で反応させた後、２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体
１モル当量を加えて還流する。反応完了の後、塩酸水溶
液に反応混合物を注いだ後、クロロホルムで抽出し、ク
ロロホルム／メタノール溶液に沈殿させて合成された高
分子を分離する。そして、クロマトグラフィーなどの通
常の精製工程を経た後乾燥して目的とする高分子錯体を
高純度に得る。以上の方法で合成した高分子錯体は光機
能性材料として有用である。
II)アセチルアセトネート(Iracac)と２−フェニルピリ
ジンを２モル当量にグリセリン溶媒で反応させた後、２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体
１モル当量を加えて還流する。反応完了の後、塩酸水溶
液に反応混合物を注いだ後、クロロホルムで抽出し、ク
ロロホルム／メタノール溶液に沈殿させて合成された高
分子を分離する。そして、クロマトグラフィーなどの通
常の精製工程を経た後乾燥して目的とする高分子錯体を
高純度に得る。以上の方法で合成した高分子錯体は光機
能性材料として有用である。
【００３６】
【実施例】以下、本発明を次の実施例に基づいてさらに
詳細に説明するものの、本発明がこれに限定されるので
はない。 実施例１：２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlに４−ビニル−フ
ェニルボロン酸10 g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン
12.64 g(0.08 mol) 、テトラヒドロフラン100 ml、およ
び 2M炭酸カリウム水溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパ
ラジウムテトラキストリフェニルホスフィン(Pd(PP
h3)4; 0.06 g(1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流し
た後、反応を終了した。蒸留水200 mlをビーカーに入れ
反応混合物を注いだ。エーテル150 mlで３回抽出した
後、硫酸マグネシウム10 gを加え、回転攪拌機で30分間
攪拌した後、抽出混合物を減圧フラスコでろ過した。エ
バポレータを用いて溶媒をまず除去した後、残りをカラ
ムクロマトグラフィを用いて分離した。この際、展開溶
媒としてはへキサン／酢酸エチル(1/9)を使用した。２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの収率は90 %、融点
は19.3 ℃、沸点は 115℃/1mmHg であった。また、合成
した２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンに対する1H-N
MR、13C-NMR、FT-IR、GCおよびMASSスペクトルは図１〜
図５に示す。
詳細に説明するものの、本発明がこれに限定されるので
はない。 実施例１：２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlに４−ビニル−フ
ェニルボロン酸10 g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン
12.64 g(0.08 mol) 、テトラヒドロフラン100 ml、およ
び 2M炭酸カリウム水溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパ
ラジウムテトラキストリフェニルホスフィン(Pd(PP
h3)4; 0.06 g(1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流し
た後、反応を終了した。蒸留水200 mlをビーカーに入れ
反応混合物を注いだ。エーテル150 mlで３回抽出した
後、硫酸マグネシウム10 gを加え、回転攪拌機で30分間
攪拌した後、抽出混合物を減圧フラスコでろ過した。エ
バポレータを用いて溶媒をまず除去した後、残りをカラ
ムクロマトグラフィを用いて分離した。この際、展開溶
媒としてはへキサン／酢酸エチル(1/9)を使用した。２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの収率は90 %、融点
は19.3 ℃、沸点は 115℃/1mmHg であった。また、合成
した２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンに対する1H-N
MR、13C-NMR、FT-IR、GCおよびMASSスペクトルは図１〜
図５に示す。
【００３７】実施例２：２−(３−ビニル−フェニル)ピ
リジンの製造 前記実施例１と同じ実験条件で３−ビニル−フェニルボ
ロン酸10g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン12.64 g
(0.08 mol)、テトラヒドロフラン100 ml、および2M炭酸
カリウム溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパラジウムテ
トラキストリフェニルホスフィン (Pd(PPh3) 4; 0.06
g, 1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流した後、前記
実施例１と同じ方法で分離した。収率は80％であった。
リジンの製造 前記実施例１と同じ実験条件で３−ビニル−フェニルボ
ロン酸10g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン12.64 g
(0.08 mol)、テトラヒドロフラン100 ml、および2M炭酸
カリウム溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパラジウムテ
トラキストリフェニルホスフィン (Pd(PPh3) 4; 0.06
g, 1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流した後、前記
実施例１と同じ方法で分離した。収率は80％であった。
【００３８】実施例３：２−(２−ビニル−フェニル)ピ
リジンの製造 前記実施例１と同じ実験条件で２−ビニル−フェニルボ
ロン酸10g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン12.64 g
(0.08 mol)、テトラヒドロフラン100 ml、および2M炭酸
カリウム溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパラジウムテ
トラキストリフェニルホスフィン(Pd(PPh3) 4; 0.06 g,
1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流した後、前記実
施例１と同じ方法で分離した。収率は75％であった。
リジンの製造 前記実施例１と同じ実験条件で２−ビニル−フェニルボ
ロン酸10g(0.0676 mol)、２−ブロモピリジン12.64 g
(0.08 mol)、テトラヒドロフラン100 ml、および2M炭酸
カリウム溶液(26 ml)を加えた後、触媒のパラジウムテ
トラキストリフェニルホスフィン(Pd(PPh3) 4; 0.06 g,
1 mol%)を加えた。80 ℃で24時間還流した後、前記実
施例１と同じ方法で分離した。収率は75％であった。
【００３９】実施例４：２−(４−ホルミル−フェニル)
ピリジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlに４−ホルミルフ
ェニルボロン酸10.14 g(0.0676 mol)、２−ブロモピリ
ジン12.64 g(0.08 mol) 、テトラヒドロフラン100 ml、
および2M水酸化ナトリウム溶液(26 ml)を加えた後、触
媒の酢酸パラジウム((Pd(OAc)2; 0.04 g, 1 mol%)を加
えた。90 ℃で24時間還流した後、反応終了した。蒸留
水200 mlをビーカーに入れ反応混合物を注いだ。エーテ
ル150 mlで３回抽出した後、硫酸マグネシウム10 gを加
え、回転攪拌機で３０分間攪拌した後、 抽出混合物を
減圧フラスコでろ過した。エバポレータを用いて溶媒を
まず除去した後、残りをカラムクロマトグラフィを用い
て分離した。この際、展開溶媒としてはへキサン／酢酸
エチル(1/5)を使用した。収率は80％であった。
ピリジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlに４−ホルミルフ
ェニルボロン酸10.14 g(0.0676 mol)、２−ブロモピリ
ジン12.64 g(0.08 mol) 、テトラヒドロフラン100 ml、
および2M水酸化ナトリウム溶液(26 ml)を加えた後、触
媒の酢酸パラジウム((Pd(OAc)2; 0.04 g, 1 mol%)を加
えた。90 ℃で24時間還流した後、反応終了した。蒸留
水200 mlをビーカーに入れ反応混合物を注いだ。エーテ
ル150 mlで３回抽出した後、硫酸マグネシウム10 gを加
え、回転攪拌機で３０分間攪拌した後、 抽出混合物を
減圧フラスコでろ過した。エバポレータを用いて溶媒を
まず除去した後、残りをカラムクロマトグラフィを用い
て分離した。この際、展開溶媒としてはへキサン／酢酸
エチル(1/5)を使用した。収率は80％であった。
【００４０】実施例５：２−(４−ビニル−フェニル)ピ
リジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlにメチルトリフェ
ニルホスホニウムブロミド25 g(0.07 mol)、塩化ナトリ
ウム(NaH; 3.36 g, 0.14 mol)、トルエン100 mlを加え
た後、110℃で３時間還流した。この際、反応液の色が
オレンジ色に変わり、その後、再び温度を下げて２−
(４−ホルミル−フェニル)ピリジン10 g(0.0545 mol)を
加えた。温度を再び110 ℃に上げて12時間還流した。蒸
留水300 mlをビーカーに入れ反応混合物を注いだ。エー
テル150 mlで３回抽出した後、硫酸マグネシウム15 gを
加え、回転攪拌機で３０分間攪拌した後、 抽出混合物
を減圧フラスコでろ過した。エバポレータを用いて溶媒
をまず除去した後、残りをカラムクロマトグラフィを用
いて分離した。この際、展開溶媒としてはへキサン／酢
酸エチル(1/10)を使用した。収率は85％であった。
リジンの製造 窒素気流下で２口丸底フラスコ250mlにメチルトリフェ
ニルホスホニウムブロミド25 g(0.07 mol)、塩化ナトリ
ウム(NaH; 3.36 g, 0.14 mol)、トルエン100 mlを加え
た後、110℃で３時間還流した。この際、反応液の色が
オレンジ色に変わり、その後、再び温度を下げて２−
(４−ホルミル−フェニル)ピリジン10 g(0.0545 mol)を
加えた。温度を再び110 ℃に上げて12時間還流した。蒸
留水300 mlをビーカーに入れ反応混合物を注いだ。エー
テル150 mlで３回抽出した後、硫酸マグネシウム15 gを
加え、回転攪拌機で３０分間攪拌した後、 抽出混合物
を減圧フラスコでろ過した。エバポレータを用いて溶媒
をまず除去した後、残りをカラムクロマトグラフィを用
いて分離した。この際、展開溶媒としてはへキサン／酢
酸エチル(1/10)を使用した。収率は85％であった。
【００４１】実施例６：ポリ(２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン)単一重合体の製造 窒素気流の下で１口丸底フラスコ10 mlに合成された２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジン0.5 g(2.761 mmol)
とアゾビスイソブチロニトリル (AIBN) 0.0045 g(0.027
6 mmol, 1 mol%)を加え、75 ℃で30分間バルク重合し
た。反応終了の後、クロロホルム15 mlで溶解した後、
0.2μmテフロン（登録商標）フィルタでろ過した。500
mlビーカーにメタノール200 mlを加えて攪拌しながらク
ロロホルム溶液を入れて沈殿させた。沈殿した高分子は
減圧フラスコを用いてガラスフィルタでろ過し、 60 ℃
真空オーブンで24時間乾燥した。収率は95 %、数平均分
子量は54,000 g/mole、重量平均分子量は230,000 g/mol
e、分子量分布 (Mw/Mn)は4.32であった。また、製造し
た単一重合体に対する1H-NMR、FT-IR、 DSC、TGA、GPC
スペクトルは図６〜図１０に示す。
ル)ピリジン)単一重合体の製造 窒素気流の下で１口丸底フラスコ10 mlに合成された２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジン0.5 g(2.761 mmol)
とアゾビスイソブチロニトリル (AIBN) 0.0045 g(0.027
6 mmol, 1 mol%)を加え、75 ℃で30分間バルク重合し
た。反応終了の後、クロロホルム15 mlで溶解した後、
0.2μmテフロン（登録商標）フィルタでろ過した。500
mlビーカーにメタノール200 mlを加えて攪拌しながらク
ロロホルム溶液を入れて沈殿させた。沈殿した高分子は
減圧フラスコを用いてガラスフィルタでろ過し、 60 ℃
真空オーブンで24時間乾燥した。収率は95 %、数平均分
子量は54,000 g/mole、重量平均分子量は230,000 g/mol
e、分子量分布 (Mw/Mn)は4.32であった。また、製造し
た単一重合体に対する1H-NMR、FT-IR、 DSC、TGA、GPC
スペクトルは図６〜図１０に示す。
【００４２】実施例７：ポリ(２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン−／９−ビニルカルバゾール)共重合体の製
造 前記実施例６と同じバルク重合方法から20 %組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
合成した。まず、２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン
0.5 g(2.76 mmol)と共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾール2.22 g(10.9 mmol) およびアゾビスイソブチ
ロニトリル0.015 g(1 mol %)を加えて75 ℃で 30分間バ
ルク重合した。
ル)ピリジン−／９−ビニルカルバゾール)共重合体の製
造 前記実施例６と同じバルク重合方法から20 %組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
合成した。まず、２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン
0.5 g(2.76 mmol)と共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾール2.22 g(10.9 mmol) およびアゾビスイソブチ
ロニトリル0.015 g(1 mol %)を加えて75 ℃で 30分間バ
ルク重合した。
【００４３】反応完了の後、クロロホルム20 mlで溶解
した後、0.2μmテフロンフィルタでろ過した。 500 ml
ビーカーにメタノール250 mlを加えて攪拌しながらクロ
ロホルム溶液を入れて沈殿させた。沈殿した高分子は減
圧フラスコを使用してガラスフィルタでろ過し、60 ℃
真空オーブンで24時間乾燥した。収率は 87 %、数平均
分子量は43,000 g/mole、重量平均分子量は71,000 g/mo
le、分子量分布(Mw/Mn)は1.65であった。また、合成し
たポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−
ビニルカルバゾール)の1H-NMR、FT-IR、GPCは図１１〜
図１３に示す。
した後、0.2μmテフロンフィルタでろ過した。 500 ml
ビーカーにメタノール250 mlを加えて攪拌しながらクロ
ロホルム溶液を入れて沈殿させた。沈殿した高分子は減
圧フラスコを使用してガラスフィルタでろ過し、60 ℃
真空オーブンで24時間乾燥した。収率は 87 %、数平均
分子量は43,000 g/mole、重量平均分子量は71,000 g/mo
le、分子量分布(Mw/Mn)は1.65であった。また、合成し
たポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−
ビニルカルバゾール)の1H-NMR、FT-IR、GPCは図１１〜
図１３に示す。
【００４４】実施例８：ポリ(２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン−／４−(９−カルバゾール)メチルスチレ
ン)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって４−(９−カルバゾリル)メチルス
チレンを使用した。分離過程は実施例７と同様であり、
収率は80%であった。
ル)ピリジン−／４−(９−カルバゾール)メチルスチレ
ン)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって４−(９−カルバゾリル)メチルス
チレンを使用した。分離過程は実施例７と同様であり、
収率は80%であった。
【００４５】実施例９：ポリ(２−(４−ビニル−フェニ
ル)ピリジン−／２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメタク
リレート)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメ
タクリレートを使用した。分離過程は実施例７と同様で
あり、収率は87%であった。
ル)ピリジン−／２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメタク
リレート)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって２−(Ｎ−カルバゾリル)エチルメ
タクリレートを使用した。分離過程は実施例７と同様で
あり、収率は87%であった。
【００４６】実施例１０：ポリ(２−(４−ビニル−フェ
ニル)ピリジン−／３−(ビニル−９−エチル)カルバゾ
ール)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって３−(ビニル−９−エチル)カルバ
ゾールを使用した。分離過程は実施例７と同様であり、
収率は90%であった。
ニル)ピリジン−／３−(ビニル−９−エチル)カルバゾ
ール)共重合体の製造 前記実施例７と同じバルク重合方法から20％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、共重合の単量体として９−ビニルカ
ルバゾールに代わって３−(ビニル−９−エチル)カルバ
ゾールを使用した。分離過程は実施例７と同様であり、
収率は90%であった。
【００４７】実施例１１：ポリ(２−(４−ビニル−フェ
ニル)ピリジン−／９−ビニルカルバゾール)共重合体の
製造 前記実施例６と同じバルク重合方法から12％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、２−(４−ビニル−フェニル)ピリジ
ン0.4 g(2.2 mmol)、９−ビニルカルバゾール2 g(10.3
mmol)とアゾビスイソブチロニトリル0.021 g(1 mol %)
を使用した。合成された高分子は数平均分子量が22,000
g/mole、重量平均分子量が57,000 g/moleであり、分子
量分布(Mw/Mn)は2.56であった。
ニル)ピリジン−／９−ビニルカルバゾール)共重合体の
製造 前記実施例６と同じバルク重合方法から12％組成の２−
(４−ビニル−フェニル)ピリジンを含有した共重合体を
製造した。ただし、２−(４−ビニル−フェニル)ピリジ
ン0.4 g(2.2 mmol)、９−ビニルカルバゾール2 g(10.3
mmol)とアゾビスイソブチロニトリル0.021 g(1 mol %)
を使用した。合成された高分子は数平均分子量が22,000
g/mole、重量平均分子量が57,000 g/moleであり、分子
量分布(Mw/Mn)は2.56であった。
【００４８】実施例１２：ポリ([(２−(４−ビニル−フ
ェニル)ピリジン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／
９−ビニルカルバゾール)の製造 ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−ビ
ニルカルバゾール)共重合体とイリジウム金属との高分
子錯体を合成した。まず。窒素雰囲気の下で、250 mlの
２口丸底フラスコにイリジウム(III)アセチルアセトネ
ート0.5 g (1.02 mmol), ２−フェニルピリジン0.32 g
(2.04 mmol)とグリセリン50 mlを加え、170℃で３時間
還流した。その後、前記実施例１１で合成したポリ(２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−ビニルカル
バゾール)共重合体1.622 g (1.02 mmol)とクロロホル
ム50 mlを加えて24時間還流した。反応完了の後、塩酸1
N水溶液200 mlに反応混合物を注いだ後、クロロホルム
で合成された高分子錯体を抽出した。エバポレータで溶
媒を蒸発した後、再びクロロホルム10 mlに溶かした
後、99.9 %メタノール200 mlに沈殿させた。沈殿した高
分子は減圧フラスコを使用してガラスフィルタでろ過
し、60 ℃真空オーブンで24時間乾燥した。収率は95
%、数平均分子量は43,000 g/mole、重量平均分子量は7
1,000 g/moleであり、分子量分布(Mw/Mn)は1.65であっ
た。また、合成した高分子錯体に対する1H-NMR、FT-I
R、UVおよび PLスペクトルは図１４〜図１６に示す。
ェニル)ピリジン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／
９−ビニルカルバゾール)の製造 ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−ビ
ニルカルバゾール)共重合体とイリジウム金属との高分
子錯体を合成した。まず。窒素雰囲気の下で、250 mlの
２口丸底フラスコにイリジウム(III)アセチルアセトネ
ート0.5 g (1.02 mmol), ２−フェニルピリジン0.32 g
(2.04 mmol)とグリセリン50 mlを加え、170℃で３時間
還流した。その後、前記実施例１１で合成したポリ(２
−(４−ビニル−フェニル)ピリジン−／９−ビニルカル
バゾール)共重合体1.622 g (1.02 mmol)とクロロホル
ム50 mlを加えて24時間還流した。反応完了の後、塩酸1
N水溶液200 mlに反応混合物を注いだ後、クロロホルム
で合成された高分子錯体を抽出した。エバポレータで溶
媒を蒸発した後、再びクロロホルム10 mlに溶かした
後、99.9 %メタノール200 mlに沈殿させた。沈殿した高
分子は減圧フラスコを使用してガラスフィルタでろ過
し、60 ℃真空オーブンで24時間乾燥した。収率は95
%、数平均分子量は43,000 g/mole、重量平均分子量は7
1,000 g/moleであり、分子量分布(Mw/Mn)は1.65であっ
た。また、合成した高分子錯体に対する1H-NMR、FT-I
R、UVおよび PLスペクトルは図１４〜図１６に示す。
【００４９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明による新規の
スチレン系単量体は、他の単量体とは異なり、フェニル
基の共鳴化効果によってラジカル重合、陽イオン重合、
陰イオン重合、およびメタロセン触媒による重合など高
分子化のための重合方法が非常に多様である。また、本
発明の新規の単量体は、単一重合体または共重合体の合
成に使用することができ、共重合体の合成に際して容易
にブロックの長さや大きさおよび組成が制御でき、この
高分子がイリジウム、ルテニウム、または白金のように
光特性を有する金属化合物と錯体を形成するため、光機
能性材料として広範囲にわたって応用できる。
スチレン系単量体は、他の単量体とは異なり、フェニル
基の共鳴化効果によってラジカル重合、陽イオン重合、
陰イオン重合、およびメタロセン触媒による重合など高
分子化のための重合方法が非常に多様である。また、本
発明の新規の単量体は、単一重合体または共重合体の合
成に使用することができ、共重合体の合成に際して容易
にブロックの長さや大きさおよび組成が制御でき、この
高分子がイリジウム、ルテニウム、または白金のように
光特性を有する金属化合物と錯体を形成するため、光機
能性材料として広範囲にわたって応用できる。
【図１】２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの1H−NM
Rスペクトル。
Rスペクトル。
【図２】２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンの13H−N
MRスペクトル。
MRスペクトル。
【図３】２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンのFT−IR
スペクトル。
スペクトル。
【図４】２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンのGCスペ
クトル。
クトル。
【図５】２−(４−ビニル−フェニル)ピリジンのMASSス
ペクトル。
ペクトル。
【図６】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン)の
1H−NMRスペクトル。
1H−NMRスペクトル。
【図７】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン)の
FT−IRスペクトル。
FT−IRスペクトル。
【図８】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン)の
DSCスペクトル。
DSCスペクトル。
【図９】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン)の
TGAスペクトル。
TGAスペクトル。
【図１０】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン)
のGPCスペクトル。
のGPCスペクトル。
【図１１】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン
−／９−ビニルカルバゾール)の1H−NMRスペクトル。
−／９−ビニルカルバゾール)の1H−NMRスペクトル。
【図１２】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン
−／９ビニルカルバゾール)のFT−IRスペクトル。
−／９ビニルカルバゾール)のFT−IRスペクトル。
【図１３】ポリ(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジン
−／９ビニルカルバゾール)のGPCスペクトル。
−／９ビニルカルバゾール)のGPCスペクトル。
【図１４】ポリ([(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジ
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)の1H−NMRスペクトル。
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)の1H−NMRスペクトル。
【図１５】ポリ([(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジ
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)のFT−IRスペクトル。
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)のFT−IRスペクトル。
【図１６】ポリ([(２−(４−ビニル−フェニル)ピリジ
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)のUVおよびPLスペクトル。
ン)(フェニルピリジン)2イリジウム]−／９−ビニルカ
ルバゾール)のUVおよびPLスペクトル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リイ，ジャエ−スク 大韓民国 カンジュ，ボオク−ク，オリョ ン−ドン １，カンジュ インスチチユー ト オブ サイエンス アンド テクノロ ジイ，ニュー マテリアル サイエンス デパートメント (72)発明者 アン，ジュン−フワン 大韓民国 カンジュ，ボオク−ク，オリョ ン−ドン １，カンジュ インスチチユー ト オブ サイエンス アンド テクノロ ジイ，ニュー マテリアル サイエンス デパートメント (72)発明者 チョ，ヨウン−スン 大韓民国 カンジュ，ボオク−ク，オリョ ン−ドン １，カンジュ インスチチユー ト オブ サイエンス アンド テクノロ ジイ，ニュー マテリアル サイエンス デパートメント (72)発明者 カン，ナム−ゴオ 大韓民国 カンジュ，ボオク−ク，オリョ ン−ドン １，カンジュ インスチチユー ト オブ サイエンス アンド テクノロ ジイ，ニュー マテリアル サイエンス デパートメント (72)発明者 リイ，ヒエ−キョン 大韓民国 カンジュ，ボオク−ク，オリョ ン−ドン １，カンジュ インスチチユー ト オブ サイエンス アンド テクノロ ジイ，ニュー マテリアル サイエンス デパートメント Ｆターム(参考） 4C055 AA01 BA02 BA08 CA01 DA01 FA03 FA31 FA34 FA37 4H039 CA19 CA42 CG20 4J100 AB07P AN04Q AN06Q BC66Q BC69P BD11 CA04 DA61 JA32
Claims (7)
- 【請求項１】下記一般式（１）で表されることを特徴と
するビニル−フェニルピリジン単量体。 【化１】 - 【請求項２】下記一般式（２）で表されるビニル−フェ
ニルボロン酸と下記一般式（３）で表される２−ブロモ
ピリジンをアルカリ金属塩基およびパラジウムテトラキ
ストリフェニルホスフィン触媒の下でスズキカップリン
グ反応させて下記一般式（１）で表されるビニル−フェ
ニルピリジン単量体を製造することを特徴とする製造方
法。 【化２】 - 【請求項３】下記一般式（４）で表されるホルミルフェ
ニルボロン酸と下記一般式（３）で表される２−ブロモ
ピリジンをアルカリ金属塩基およびパラジウムテトラキ
ストリフェニルホスフィン触媒の下でスズキカップリン
グ反応させて下記一般式（５）で表されるホルミルフェ
ニルピリジンを製造し、前記で製造された一般式（５）
で表されるホルミルフェニルピリジンをメチルトリフェ
ニルホスホニウムブロミド(PPh3CH33Br)および水素化ナ
トリウム(NaH)の存在の下でウィッティッヒ反応させて
下記一般式（１）で表されるビニル−フェニルピリジン
単量体を製造することを特徴とする製造方法。 【化３】 - 【請求項４】下記一般式（６）を繰返し単位とすること
を特徴とする単一重合体。 【化４】 - 【請求項５】下記一般式（７）で表されることを特徴と
する共重合体。 【化５】 （式中、n+m=100、ｎは 0.01 〜 99.99の整数であ
る）。 - 【請求項６】下記一般式（８）で表されることを特徴と
する共重合体。 【化６】 （式中、n+m=100、ｎは0.01〜99.99の整数である）。 - 【請求項７】下記一般式（９）で表されることを特徴と
する高分子錯体。 【化７】 （式中、Mはイリジウム、ルテニウム、または白金であ
り、 n+m=100、ｎは0.01〜99.99の整数である）。
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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| JP2006008996A (ja) * | 2004-05-21 | 2006-01-12 | Showa Denko Kk | 高分子発光材料および有機発光素子 |
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| WO2009072476A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Nagaoka University Of Technology | イソブテン、イソプレン、及びスチリルイソプレンよりなる三元共重合体、それらの製造方法、および電解コンデンサ用封口体 |
| JP2010525112A (ja) * | 2007-04-17 | 2010-07-22 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | ポリカルバゾリル（メタ）アクリレート発光組成物 |
| WO2010098387A1 (ja) | 2009-02-27 | 2010-09-02 | 新日鐵化学株式会社 | 高分子発光材料、その製造方法及び有機電界発光素子 |
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| EP3405479A4 (en) * | 2016-01-21 | 2019-08-21 | T2 Biosystems, Inc. | NMR METHOD AND SYSTEMS FOR THE FAST DETECTION OF BACTERIA |
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-
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