JP2002292779A - 高分子樹脂積層体及びそれからなる自動車用窓材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐水性により優れる高分子樹脂／ハードコー
ト積層体を実現することを目的として為されたものであ
る。 【解決手段】 高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
に、厚みが２〜２００μｍの活性光線硬化層と、厚みが
１．５〜１０μｍのハードコート層がこの順に積層され
てなり、該ハードコート層は該高分子樹脂基板側から、
スパッタリング法により形成された厚みが０．０２〜
０．５μｍのスパッタ層と、真空蒸着法により形成され
た蒸着層とがこの順に積層されてなることを特徴とする
高分子樹脂積層体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表面の硬度に優れ
た高分子樹脂積層体、その中でも特に表面の硬度に優れ
たポリカーボネート成形物の積層体に関し、更にはこの
積層体を用いた各種自動車の窓材（風防も含む）に関す
るものである。

【０００２】尚、本発明の高分子樹脂積層体は、前記の
用途以外、例えば、各種の建築物における窓材（ここで
窓材とは少なくとも透視が可能であるものを示す）や、
高速道路等の透明遮音板、太陽電池パネルの表面保護
板、液晶表示装置（ＬＣＤ）やプラズマディスプレー
（ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンスディスプレー（Ｅ
Ｌ）、ＣＲＴ等の各種の画像／情報表示装置の表面保護
板、もしくは各種の携帯情報端末、タッチパネル入力装
置等で用いられる透明タブレットの透明電極基板等の用
途にも好適に用いる事が可能である。

【０００３】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は透明性に優れ、
軽量で耐衝撃性が高いことから、各種の建築物、自動車
等の窓材や構造材等として、広く応用展開されてきた。

【０００４】しかしながら、硬度・耐擦傷性・耐侯性・
耐薬品性の観点でガラスに大幅に劣るという欠点があ
る。そのため、これらの性能をカバーする機能を有する
ハードコート層をポリカーボネート上にコーティングす
る方法（例えば特開昭４８−８１９２８号公報、特開昭
５２−１３８５６５号公報、特開昭５３−１３８４７６
号公報）が提案されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】これらのハードコート
層としては、珪素アルコキシドの加水分解縮合物もしく
は、それに加えて他種のアルコキシドや各種の超微粒子
等を適当な割合で混合した組成物を熱的に硬化してなる
層や、多官能アクリレートを紫外線や電子線等の活性光
線の照射等によって重合してなる層が多く用いられてい
る。

【０００６】しかしながら前記の自動車や建築物の窓材
等の屋外用途に、ポリカーボネート等からなる高分子樹
脂基板上にハードコート層を設けた高分子樹脂積層体
（以下高分子樹脂／ハードコート積層体ということがあ
る）を用いようとする場合には、高度な機械特性（耐磨
耗性、硬度）に加えて、耐候性、すなわち耐光性や耐水
性に非常に優れた性能を示すことが必要になる。

【０００７】ここで耐光性とは屋外紫外線の長期暴露に
よる性能変化を指し、耐水性とは屋外での雨風に曝され
た場合の性能変化を指し、高分子樹脂積層体の色調や外
観の変化、耐磨耗性や硬度、密着性の低下等が観察され
る場合が多い。

【０００８】耐光性については、例えば各種の真空製膜
プロセスで作成した無機酸化物、窒化物等によるハード
コート層は、紫外線暴露による層自身の化学的、物理的
変化が殆ど無く優れており、かつ高い耐磨耗性や硬度が
得られるので好ましく用いられる。

【０００９】ここで、これら真空プロセスによるハード
コート層の密着性や耐磨耗性、硬度を高める為に、ハー
ドコート層と高分子樹脂基板に挟持して、例えば紫外線
硬化や電子線硬化等の活性光線硬化法による（メタ）ア
クリレートの硬化層等が好ましく積層される。

【００１０】しかしこのような構成を有する高分子樹脂
／ハードコート積層体は、場合によって耐水性の問題、
例えば耐水性試験におけるハードコート層の密着性の低
下等の問題が観られていた。

【００１１】本発明はこうした事態に鑑み、耐水性によ
り優れる高分子樹脂／ハードコート積層体を実現するこ
とを目的として為されたものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は次の
通りである。 １．高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが２
〜２００μｍの活性光線硬化層と、厚みが１．５〜１０
μｍのハードコート層がこの順に積層されてなり、該ハ
ードコート層は該高分子樹脂基板側から、スパッタリン
グ法により形成された厚みが０．０２〜０．５μｍのス
パッタ層と、真空蒸着法により形成された蒸着層とがこ
の順に積層されてなることを特徴とする高分子樹脂積層
体。 ２．スパッタ層は、酸化珪素を少なくとも全体の５０重
量％以上含む層であることを特徴とする上記１の高分子
樹脂積層体。 ３．ハードコート層は、酸化珪素を少なくとも全体の５
０重量％以上含む層であることを特徴とする上記１，２
の高分子樹脂積層体。 ４．活性光線硬化層の層単独での鉛筆硬度がＦ以上であ
ることを特徴とする上記１〜３の高分子樹脂積層体。 ５．活性光線硬化層は、分子内もしくは単位繰り返し構
造内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する１種
もしくは２種以上の（メタ）アクリレート成分を、不揮
発成分中の５０重量％以上含んでなる前駆材料に、活性
光線を照射して硬化してなる層であることを特徴とする
上記１〜４の高分子樹脂積層体。 ６．高分子樹脂基板の厚みが０．２〜２０ｍｍの範囲に
あることを特徴とする上記１〜５の高分子樹脂積層体。 ７．高分子樹脂基板がポリカーボネートの成形基板であ
ることを特徴とする上記１〜６の高分子樹脂積層体。 ８．上記１〜７の高分子樹脂積層体からなる自動車用窓
材。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明においては、ハードコート
層がスパッタリング法により形成された層（以下スパッ
タ層と記す）と真空蒸着法によって形成された層（以下
蒸着層と記す）をこの順に積層してなる２層からなるハ
ードコート層であることが大きな特徴である。

【００１４】スパッタリング法とは、公知のマグネトロ
ンスパッタ法、ＥｌｅｃｔｒｏｎＣｙｃｌｏｔｒｏｎ
Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ スパッタ法（ＥＣＲスパッタ法）
等の方法を指し、一般に真空装置内の圧力が１０^-1Ｐａ
以下になるように真空排気した後に、装置中に不活性ガ
ス、もしくは若干の反応性ガスを混合した不活性ガスを
導入し、層の材料となる物質のターゲット板とスパッタ
層が堆積される基板に挟まれた空間内に高い電場（交流
および／または直流）と磁場をかけてプラズマ状態を誘
起させ、このプラズマ内で加速したガス（通常主にアル
ゴン等の不活性ガスが用いられる）が材料物質のターゲ
ット板に衝突する衝撃（運動エネルギー）によりターゲ
ット表面から材料物質を気体状に発散（スパッタ）させ
て基板に付着させて層（以下スパッタ層と記す）を得る
方法である。

【００１５】一般にスパッタリング法は、非常に緻密で
（密度の高い）硬度の高い層が得る方法として非常に好
ましく用いられているが、その一方で層の堆積速度が遅
いという欠点がある。一般に高分子樹脂／ハードコート
積層体が実用上充分な硬度と耐磨耗性を有するために
は、ハードコート層の膜厚は通常１．５μｍ以上である
事が好ましいが、スパッタリング法のみによってこうし
た膜厚のハードコート層を形成する事は経済的な観点か
ら困難である。

【００１６】一方、真空蒸着法とは、一般に装置内の圧
力が少なくとも１０^-1Ｐａ以下となるように真空排気し
た後に、装置内において、加熱気化させた材料物質を基
板上に堆積させて層（以下蒸着層と記す）を得る方法で
ある。尚、一般に材料の加熱気化の方法としては、るつ
ぼに充填したり、円筒状にあらかじめ成形した材料物質
に、電子ビームもしくはイオンビーム等を当てて加熱す
る方法、もしくは、タングステンボート等の抵抗線に充
填した材料物質を抵抗線に電流を流して加熱する方式等
が用いられる。

【００１７】尚、真空蒸着法としては、蒸着粒子（ガ
ス）が基板に到達する前に適当な方法により粒子をイオ
ン化させ、更にこれを電界加速して基板上に堆積させる
方法（イオン化蒸着法、電界アシスト蒸着等の名称で呼
ばれることが多い）等の、公知の蒸着粒子に対してその
運動エネルギーを高める工程を付与した各種の真空蒸着
法も、必要に応じて用いることができる。

【００１８】こうした真空蒸着法は、スパッタリング法
に比べると層の緻密性は一般に低くなるが、層の堆積速
度が速い為、数ミクロンを越える膜厚のハードコート層
を形成するに当たって特に経済的観点から適している。

【００１９】前述のように本発明者らは鋭意検討の結
果、活性光線硬化層を介して高分子樹脂基板上に積層す
るハードコート層として、スパッタリング法により形成
されたスパッタ層と、真空蒸着法により形成された蒸着
層をこの順に積層してなる２層からなるハードコート層
を用いる事により、耐水性に非常に優れた高分子樹脂／
ハードコート積層体が得られる事を見い出した。

【００２０】ここで高分子樹脂／ハードコート積層体の
耐水性の試験方法については、例えば後述する沸水試験
により簡易的な評価が為されているが、前記のスパッタ
層と蒸着層の２層からなるハードコート層が積層された
高分子樹脂／ハードコート積層体では、沸水試験による
ハードコート層の外観や密着性の悪化が非常に少なく、
耐水性が優れている事が判明した。この原因について考
察してみると以下のようになる。

【００２１】すなわち本発明者らは、高分子樹脂／ハー
ドコート積層体の耐水性の悪化は、液体状態にある水が
積層体内部に浸透して引き起こされているわけではな
く、気体状態にある水、すなわち水蒸気が積層体内部、
特にハードコート層と活性光線硬化層との界面に浸透す
る事により引き起こされていると考えている。

【００２２】ここでハードコート層としてスパッタ層と
蒸着層がこの順に積層された２層からなるハードコート
層を用いた場合、スパッタ層は非常に緻密であり水蒸気
の透過を遮断する機能を有するために、ハードコート層
と活性光線硬化層の界面への水蒸気の浸透が効果的に抑
制されると考えられ、これによって積層体の耐水性の悪
化の抑制が為されるものと考えられる。

【００２３】尚、こうしたスパッタ層は水蒸気の遮断機
能のみならず、酸素の透過を遮断する機能を有する場合
もあるので、スパッタ層の積層により活性光線硬化層の
酸化劣化（特に光酸化による劣化）が防止されるといっ
た効果が得られる場合もある。更にはスパッタ層の積層
により、ハードコート層としての耐磨耗性が向上すると
いった効果が得られる場合があった。

【００２４】スパッタ層は、例えば酸化珪素、窒化珪
素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化インジウム、酸化錫、酸化セリウム等を材料物
質として用いる事ができるが、これらの中でも酸化珪素
からなる層は水蒸気遮断性と透明性の双方に優れており
特に好ましい。従ってスパッタ層は、酸化珪素を少なく
とも全体の５０重量％以上含む層である事である事が特
に好ましい。

【００２５】尚、この場合、酸化珪素の酸化数を示すＳ
ｉＯｎのｎの値は、可視域の透明性の観点から１．７〜
２．０の範囲にある事が好ましく、より好ましくはｎは
１．８〜２．０、更に好ましくは１．９〜２．０であ
る。

【００２６】スパッタ層の膜厚は、水蒸気遮断性能の観
点から少なくとも０．０２μｍ以上である事が好まし
く、より好ましくは０．０５μｍ以上である。一方、前
述した経済的観点からスパッタ層の膜厚は０．５μｍ以
下、より好ましくは０．２５μｍ以下にする事が好まし
い。

【００２７】尚、スパッタリングを行う際、プラズマが
主に生じている部分（肉眼でプラズマ発光が観察される
部分）に基板があまり近接していると基板表面が逆にス
パッタされて痛んでしまう場合があるので、特に意図し
ない限りにおいては、基板はプラズマとある程度距離を
離して配置する事が好ましい。

【００２８】一方、蒸着層の材料としては、例えば、酸
化珪素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、窒化珪素、
窒化アルミニウム、炭化珪素等の無機酸化物、窒化物、
炭化物等を挙げる事ができるが、この中でもハードコー
ト層が高い透明性と優れた機械物性を有するようにする
ためには、主成分として酸化珪素を用いる事が好まし
く、酸化珪素が層全体の少なくとも５０重量％以上、よ
り好ましくは７５重量％を占めていることが好ましい。

【００２９】尚、この場合、酸化珪素の酸化数を示すＳ
ｉＯｎのｎの値は、蒸着層の可視域での透明性の観点か
ら、少なくとも１．９以上である事が好ましく、より好
ましくは２．０である。（蒸着層はスパッタ層よりも膜
厚が厚いため、ｎの値による可視域の透明性の変化がよ
り著しい）

【００３０】また、ハードコート層は、前記のように酸
化珪素を主成分として用いる事が好ましいが、必要に応
じて適当な割合で他種の無機酸化物を副成分として混合
した材料を用いる事も可能である。

【００３１】このような副成分としては、酸化マグネシ
ウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が好ましく例示
され、ハードコート層の硬度上昇や脆性の改善、ならび
にハードコート層と活性光線硬化層との屈折率差に由来
する光干渉縞の低減を目的とした屈折率の調整等の目的
において混合される。

【００３２】尚、ここでスパッタリングの工程と真空蒸
着の工程は、同一の真空槽内、もしくは可動式の敷居板
を隔てて連続する２つ以上の真空槽（真空チャンバー）
中を、基板を移動させながら連続的に行う事が、表面汚
染の防止効果、真空排気時間の短縮等の観点から好まし
く行われる。

【００３３】さて前述のように高分子樹脂／ハードコー
ト積層体が優れた硬度と耐磨耗性を得るためには、ハー
ドコート層全体の膜厚は１．５μｍ以上であることが好
ましく、より好ましくは２．５μｍ以上、更に好ましく
は３．５μｍ以上である。ただし膜厚が１０μｍを越え
ると、層にクラックを生じたり、密着性が低下する場合
が多くなるので好ましくない。

【００３４】尚、ハードコート層の積層工程において
は、真空槽内で基板を適度に加熱する事が好ましい場合
がある。基板の加熱方法としては、ハロゲンランプ等を
用いることができる。加熱温度としては、およそ５０〜
１２０℃程度の範囲が好ましく、蒸着膜の残留応力の緩
和や、蒸着膜の密着性向上、特に積層体の周囲温度変化
に対する蒸着膜の密着性の悪化を防ぐ目的において好ま
しい場合がある。

【００３５】活性光線硬化層は、前述のように本発明の
高分子樹脂／ハードコート積層体の硬度や耐磨耗性を更
に向上し、また高分子樹脂基板の耐光性試験による着色
現象を抑制する等の目的で積層形成される。

【００３６】活性光線硬化層は、後述のように電子線や
紫外線等の活性光線の照射により層の硬化が進行する層
を指す。

【００３７】活性光線硬化層の膜厚は、２〜２００μｍ
の範囲にあることが好ましい。ここで膜厚が２μｍ未満
であると、硬度や耐磨耗性向上の効果が小さくなるので
好ましくない。活性光線硬化層の膜厚は、より好ましく
は５〜１５０μmである。

【００３８】また層単独での鉛筆硬度（これは例えばガ
ラス板上に形成して硬化層の表面硬度を測定する事で求
められる）はＦ以上である事が好ましく、より好ましく
は２Ｈ以上である。

【００３９】更に活性光線硬化層は、層のガラス転移温
度もしくは軟化温度がおよそ１２０℃以上である事が好
ましい。これらの値は、例えば示差熱分析（ＤＳＣ）に
おける吸熱ピークや、熱走査による動的粘弾性の分析、
その他の方法によって評価することができる。

【００４０】活性光線硬化層のガラス転移温度もしくは
軟化温度が高いことにより、ハードコート層の真空成膜
時にエネルギーを持った蒸着粒子の堆積やターゲットか
らの放熱によって、層の温度が上昇した場合でもハード
コート層を機械的にしっかりと支える事が可能になる。

【００４１】これに対し、活性光線硬化層のガラス転移
温度もしくは軟化温度が低い場合には、ハードコート層
の密着性不良やハードコート層のクラック発生等の問題
を引き起こす場合が多く、また積層体全体の温度上昇に
対する耐性も弱くなる。

【００４２】このような活性光線硬化層としては、例え
ば、分子内もしくは単位繰り返し構造内に２個以上の官
能基を有する（メタ）アクリレートの一種もしくは二種
以上を混合して用い、これらの成分を不揮発成分の５０
重量％以上含む前駆材料を、紫外線、電子線等の活性光
線の照射によって硬化してなる層が好ましく用いられ
る。

【００４３】このような（メタ）アクリレートとして
は、ジシクロペンタニルジアクリレート、ジシクロペン
タニルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサ
イド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンプ
ロピレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
アクリレート、イソシアヌール環を含む多官能（メタ）
アクリレート（官能基数３〜１５程度）、イソシアネー
ト結合を有する多官能（メタ）アクリレート（官能基数
２〜６程度。これらは一般にウレタンアクリレートと呼
ばれる事が多い）、いわゆるポリエステルアクリレート
（例えば東亞合成化学製「アロニックスＭ８０３０、Ｍ
８０６０、Ｍ８１００、Ｍ８５３０、Ｍ８５６０、Ｍ９
０５０」等）等が好ましく例示される。

【００４４】尚、活性光線硬化層には必要に応じて、副
成分として不揮発成分中の５０重量％未満の割合で、分
子内もしくは単位繰り返し構造内に含まれる官能基数が
１である（メタ）アクリレートや、ビニル基やアリル基
を有する化合物、珪素アルコキシドを始めとする各種の
アルコキシド成分、平均粒径（直径）が３〜３０ｎｍの
超微粒子、光重合開始剤等の硬化剤もしくは硬化触媒、
光重合開始助剤（増感剤）、レベリング剤、光吸収剤
（紫外線吸収剤）、光安定剤（酸化防止剤）、消泡剤、
増粘剤等が必要に応じて混合される。

【００４５】尚、副成分の添加量は、より好ましくは３
０％未満、更に好ましくは２０％未満である。

【００４６】ここで分子内もしくは単位繰り返し構造内
に含まれる官能基数が１である（メタ）アクリレートと
しては、例えばアクリロイルモルフォリン、イソボルニ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリド
ン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン等が挙げられるが、これらの中でも特にγ−（メ
タ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いた
場合には、活性光線硬化層と前記のアミノシラン層との
密着性が向上する傾向があり、好ましく用いられる。

【００４７】また平均粒径が３〜３０ｎｍの超微粒子と
しては例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、塩化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸
化セリウム、酸化錫等の無機酸化物による超微粒子や、
メチルメタクリレートやジビニルベンゼンを酸やイミド
により架橋した有機架橋微粒子による超微粒子等が好適
である。これらの超微粒子は、その表面をあらかじめ各
種の有機基を含有する成分によって表面処理しておく事
が更に好ましい。特に有機基として（メタ）アクリロイ
ル基を含有していることが好ましいので、表面処理に用
いる成分としては特にγ−（メタ）アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン等が好ましく例示される。

【００４８】これらの副成分は活性光線硬化層の硬化収
縮率の低減や、基材もしくは真空蒸着法による酸化珪素
層との密着性の向上、耐候性の向上、耐水性の向上、表
面性の改善、および活性光線硬化層の硬度の向上や真空
蒸着法による酸化珪素層との屈折率のマッチング化等の
各種の機能を付与する目的で混合される。

【００４９】尚、本発明の高分子樹脂積層体を優れた耐
光性（耐紫外線劣化性）を必要とする用途（屋外使用用
途等）に用いる場合には特に、活性光線硬化層は、厚み
７μｍの活性光線硬化層に波長２９５〜４５０ｎｍ、照
度１００ｍＷ／ｃｍ²の光を１００時間照射した前後の
層の透過光の日本工業規格Ｚ８７２９号に定めるＬ^*ａ^*
ｂ^*表色系のクロマティクネス指数ｂ^*値の増加、すなわ
ち色差△ ｂ^*の値が２以下である活性光線硬化層である
事がより好ましい。尚、△ ｂ^*値はより好ましくは１以
下である。これは本発明の高分子樹脂積層体を特に屋外
環境で用いる場合に、長期の紫外線暴露により活性光線
硬化層の変色（着色）が起こると、積層体の外観が著し
く悪化することを考慮したものである。

【００５０】前述のように活性光線硬化層は、前記の材
料を必要に応じて各種の溶剤で希釈した後に基板上にコ
ーティングし、電子線、紫外線（可視光を含んでいても
良い）等の活性光線を照射することによって材料の硬化
を進行させ、形成することができる。

【００５１】電子線硬化法は一般に電子の加速電圧と硬
化層の密度とによって浸入深さが決まり、硬化層自身の
光吸収（主に紫外域）の影響を受けない特徴を有してい
る。また紫外線の吸収波長領域を利用しないため、高分
子樹脂積層体の耐候性（例えば紫外線老化性）を向上さ
せる目的で硬化層内に紫外線吸収剤を混合する場合等に
特に有効な硬化方法となる。

【００５２】紫外線硬化を行う場合には、光重合開始剤
を副成分として適量添加することが好ましく、また硬化
反応の効率を向上する目的で各種の増感剤も必要に応じ
て適量添加される。

【００５３】また電子線硬化、紫外線硬化のいずれの方
法においても、酸素による硬化障害を抑制する目的で、
周囲雰囲気の酸素を窒素等の不活性気体で置換すること
も必要に応じて行われる。

【００５４】光重合開始剤としては、例えばジエトキシ
アセトフェノン、２−メチル−１−｛４−（メチルチ
オ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン、２−ヒド
ロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の
アセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチ
ルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、
ベンゾイル安息香酸等のベンゾフェノン系化合物；チオ
キサンソン、２、４−ジクロロチオキサンソン等のチオ
キサンソン系化合物等が挙げられる。またこれらの骨格
にアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニ
ル基を付与した共重合性の光重合開始剤も好ましく用い
られ、例えばα−アリルベンゾイン、α−アリルベンゾ
インアリールエーテル、アクリル化ベンゾフェノン等が
例示される。

【００５５】光重合開始剤の添加量は、活性光線硬化層
の前駆材料の不揮発成分全体の０．１〜１０重量％であ
ることが好ましい。ここで紫外線照射時に周囲雰囲気の
酸素を置換しない場合には１〜１０重量％、不活性気体
による置換を行う場合には０．１〜３重量％の添加量が
好ましい。

【００５６】さて活性光線硬化層は、層自身が十分な紫
外線吸収性を有することが好ましい。すなわち活性光線
硬化層内に副成分として紫外線吸収剤を添加する方法を
用いる事が好ましい。これは基板に用いる高分子樹脂
が、屋外での長期の紫外線暴露により著しく変色（着
色）する問題への対策として最適な方法である。

【００５７】このように活性光線硬化層に紫外線吸収剤
を副成分として添加する場合、少なくとも３００〜３５
０ｎｍの波長範囲の波長領域に大きな吸収を有する紫外
線吸収剤が好ましく用いられ、その中でも分子内にベン
ゾトリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物が
特に好ましい。

【００５８】これらの例としては、例えば、２−（２Ｈ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６
−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノー
ル、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２
Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−
６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，４−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール
−２−イル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフ
ェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フ
ェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−ト
リアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−
フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデ
シルオキシプロピル）オキシ］−４，６−ビス（２，４
−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が好
ましく挙げられる。

【００５９】更には紫外線吸収剤として、前記のベンゾ
トリアゾール骨格やトリアジン骨格等を含む化合物とメ
タクリロイル基、アクリロイル基もしくはビニル基を含
有する化合物を共重合してなる化合物（例えば２−
（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシフェニル）
−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる）は活性光
線硬化層を主に形成するアクリレート成分もしくはメタ
クリレート成分と架橋反応を起こすことが可能な反応型
紫外線吸収剤と呼ばれており、活性光線硬化層内に紫外
線吸収剤を安定に固定し、耐久性を高める目的のために
好ましく用いられる。

【００６０】高分子樹脂積層体の耐候性（紫外線老化
性）を充分なものにするためには、活性光線硬化層の３
００〜３５０ｎｍの波長領域のいずれの波長においても
光吸収率が少なくとも９９％以上、より好ましくは９
９．９％以上とすることが好ましい。なお、上記４．に
おける「活性光線硬化層（Ａ）の３００〜３５０ｎｍの
波長領域における光吸収率が９９％以上である」とは、
「３００〜３５０ｎｍの波長領域のいずれの波長におい
ても光吸収率が少なくとも９９％以上」という意味であ
る。

【００６１】この目的のためには、活性光線硬化層の前
駆材料の不揮発成分中の紫外線吸収剤の添加量（重量
％）と活性光線硬化層の膜厚（μｍ）との積が、３０〜
３００重量％・μｍの範囲にあることが好ましく、より
好ましくは５０〜１５０重量％・ｕｍである。

【００６２】なお、活性光線硬化層の前駆材料に紫外線
吸収剤を混合し、紫外線照射により層の硬化を行う場合
には、硬化（光重合）を誘起する紫外線の波長と紫外線
吸収剤の吸収波長とが幾分相違していることが好まし
い。すなわち前述のように紫外線吸収剤としては３００
〜３５０ｎｍの波長領域に大きな吸収を持つものを用い
ることが好ましいので、光重合を誘起する紫外線の波長
は３５０ｎｍ以上もしくは３００ｎｍ以下の波長とする
ことが好ましい。

【００６３】この目的では、大きな光吸収を有する波長
領域が３５０〜４００ｎｍおよび／または２２０〜３０
０ｎｍであるような光重合開始剤を用いる方法がある。
これらの例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピ
ルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−
１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル
（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロ
キシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、ベンゾイル安息香酸、ベンゾ
イル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジ
フェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メト
キシベンゾフェノン、チオキサンソン、２−クロルチオ
キサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４ジメチ
ルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，
４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピル
チオキサンソン、ジベンゾスベロン、メチルフェニルグ
リオキシレート、１−フェニル−１，２−プロパンジオ
ン−２（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等が例示さ
れる。

【００６４】また同様の目的で、２２０〜３００ｎｍお
よび／または３５０〜４００ｎｍに大きな光吸収性を有
する光重合開始助剤（増感剤）を、光重合開始剤と併用
して用いることも好ましく行われる。

【００６５】このような光重合開始助剤としては、例え
ば２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ
−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４−ジメチルアミノアセトフェノン等が挙げられ
る。

【００６６】こうした光重合開始助剤は、光重合開始剤
の混合量に対して１０〜４０重量％の割合で混合される
ことが好ましい。

【００６７】これら活性光線硬化層の高分子樹脂基板上
へのコーティング方法としては、例えば、（ドクター）
ナイフコート法、マイクログラビヤコート法、ダイレク
トグラビヤコート法、オフセットグラビヤ法、リバース
グラビヤ法、リバースロールコート法、（マイヤー）バ
ーコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディッ
プコート法等の方法が好ましく適用できる。

【００６８】ここで活性光線硬化層の前駆材料を塗布し
た高分子樹脂基板は、前駆材料液のレベリング性の向上
や、活性光線硬化層と高分子樹脂基板との間の密着性の
向上等の目的で活性光線の照射を行う前に一度５０〜１
３０℃に昇温することが好ましい場合がある。

【００６９】また活性光線硬化層を高分子樹脂基板を積
層した後、真空成膜プロセスによるハードコート層を積
層する前に、この積層体を該高分子樹脂基板のガラス転
移温度付近の温度（好ましくはガラス転移温度より２０
℃程度低い温度）で熱処理を行う事が好ましい。こうし
た熱処理の実施により、活性光線硬化層を積層した高分
子樹脂基板の残留応力が熱的に緩和されて、層の密着性
の向上が観られると同時に、活性光線硬化層中に含まれ
る揮発性成分（主に光重合開始剤の分解物）が揮発除去
され、真空蒸着時に揮発成分の真空槽への放出量が減少
するといった効果があり、好ましく実施される。

【００７０】また同様に、活性光線硬化層を高分子樹脂
基板上に積層した後、真空成膜プロセスによるハードコ
ート層を積層する前に、この積層体に加熱成形（熱曲げ
加工など）を施したり、積層体を用いて真空成形、イン
サート成形等を行い、成形後の活性光線硬化層上に真空
成膜プロセスによるハードコート層を積層する事も可能
である。

【００７１】さて、活性光線硬化層とハードコート層と
の間に挟持して、分子内に１つ以上のアミノ基を有する
珪素アルコキシドの加水分解縮合層（以下アミノシラン
層と記す）を積層形成する事により、高分子樹脂／ハー
ドコート積層体の耐水性が更に改善されて好ましい場合
がある。

【００７２】この原因については、おそらくアミノ基の
有する強い極性に起因して、アミノシラン層とハードコ
ート層、およびアミノシラン層と活性光線硬化層の層間
に強い引力が働くためではないかと考えられる。

【００７３】ここで分子内に１つ以上のアミノ基を有す
る珪素アルコキシドとしては、例えば、Ｎ−β（アミノ
エチル）γ―アミノプロピルトリメトキシ（エトキシ）
シラン、およびまたはγ―アミノプロピルトリメトキシ
（エトキシ）シラン、およびまたはγ―アミノウレタン
トリメトキシ（エトキシ）シランが好ましく挙げられ
る。

【００７４】尚、アミノシラン層には、必要に応じて他
種の珪素アルコキシドを添加して作成してもよい。この
ような珪素アルコキシドとしては、例えばγ−グリシド
キシプロピルトリメトキシ（エトキシ）シラン等のエポ
キシ基を含む珪素アルコキシドや、アクリロキシプロピ
ルトリメトキシ（エトキシ）シラン、メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシ（エトキシ）シラン等の（メタ）ア
クリル基を有する珪素アルコキシドや、テトラメトキシ
（エトキシ）シラン、メチル（エチル）トリメトキシ
（エトキシ）シラン等が挙げられる。

【００７５】尚、これらアミノシラン層は、原料となる
珪素アルコキシドを加水分解ならびに部分縮合して作成
した塗液を基板上に湿式コーティングし、加熱硬化させ
て強固な塗膜として形成する事ができる。

【００７６】さて高分子樹脂基板上に活性光線硬化層を
積層するにあたって、もしくは活性光線硬化層上に真空
プロセスによるハードコート層を積層するにあたって
は、必要に応じて高分子樹脂基板上もしくは活性光線硬
化層上に各種の表面処理を施してもよい。このような表
面処理としては、例えば公知のプラズマ処理、コロナ処
理、ＵＶ−オゾン処理等の方法が好ましく用いられ、表
面の汚染物質の除去、表面活性化による層の密着性向
上、前駆材料の塗工性の向上等の効果を得ることができ
る場合がある。

【００７７】尚、主に高分子樹脂基板と活性光線硬化層
の密着性を向上する目的で、適当なプライマー層を両者
の間に挟持して積層する事も可能である。このようなプ
ライマー層としては、例えばポリメチルメタクリレート
やポリメチルメタクリレートにアクリレート成分を共重
合してなる層等が好ましく用いられる。

【００７８】本発明において好適に用いられる高分子樹
脂基板としては、例えばポリカーボネート、ポリアリレ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレートや各種のポリオレフィイン樹脂（例えばＪＳＲ
社の商品名「アートン」、日本ゼオン社の商品名「ゼオ
ネックス」）等による高分子樹脂基板が挙げられる。

【００７９】高分子樹脂基板の厚みは、ハードコート層
積層時の内部応力に起因する高分子樹脂積層体のカーリ
ングを低減する観点から、少なくとも０．２ｍｍ以上で
ある事が好ましく、より好ましくは０．４ｍｍ以上、更
に好ましくは０．８ｍｍ以上である。

【００８０】また一方、厚みがおよそ２０ｍｍ超である
と基板の重量の増加により取り扱い性が悪くなるので、
厚みの上限は２０ｍｍである。

【００８１】尚、高分子樹脂基板には必要に応じて、前
述の紫外線吸収剤や光安定剤（酸化防止剤）、各種の可
視光の吸収剤（顔料、染料等）、赤外光の吸収剤、帯電
防止剤（導電性物質）、難燃剤等が混合されても良い。

【００８２】自動車や建築物の窓材等の用途においては
耐衝撃性、透明性、成形性等の観点からポリカーボネー
トが特に好ましい。ここでポリカーボネートとは、芳香
族ジヒドロキシ化合物と炭酸結合形成性化合物との重縮
合物を意味する。

【００８３】かかる芳香族ジヒドロキシ化合物として
は、具体的にはビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘ
プタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジク
ロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、４，４−ジヒド
ロキシフェニル−１，１’−ｍ−ジイソプロピルベンゼ
ン、４，４’−ジヒドロキシフェニル−９，９−フルオ
レンなどのビス（４−ヒドロキシアリール）アルカン
類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペ
ンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサン、１−メチル−１−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−（ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチ
ル−シクロヘキサン、４−［１−〔３−（４−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチルシクロヘキシル〕−１−メチ
ルエチル］−フェノール、４，４’−〔１−メチル−４
−（１−メチルエチル）−１，３−シクロヘキサンジイ
ル〕ビスフェノール、２，２，２’，２’−テトラヒド
ロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−ス
ピロビス−〔１Ｈ−インデン〕−６，６’−ジオールな
どのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル、４，
４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエー
テルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒ
ドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィドな
どのジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒ
ドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド
などのジヒドロキシジアリールスルスルホキシド類、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’
−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホ
ン、などのジヒドロキシジアリールスルホン類、４，
４’−ジヒドロキシジフェニル−３，３’−イサチンな
どのジヒドロキシジアリールイサチン類、３，６−ジヒ
ドロキシ−９，９−ジメチルキサンテンなどのジヒドロ
キシジアリールキサンテン類、レゾルシン、３−メチル
レゾルシン、３−エチルレゾルシン、３−ブチルレゾル
シン、３−ｔ−ブチルレゾルシン、３−フェニルレゾル
シン、３−クミルレゾルシン、ヒドロキノン、２−メチ
ルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２−ブチル
ヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、２−フェ
ニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノンなどのジヒ
ドロキシベンゼン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジヒドロキシジフ
ェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げられる。

【００８４】中でも２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンが好ましい。

【００８５】炭酸結合形成性化合物としては、具体的に
はホスゲンやトリクロロメチルクロロフォーメート、ビ
ス（トリクロロメチル）カーボネートなどのホスゲン
類、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネートな
どのジアリールカーボネート類、ジメチルカーボネー
ト、ジエチルカーボネートなどのジアルキルカーボネー
ト類、メチルフェニルカーボネート、エチルフェニルカ
ーボネートなどのアルキルアリールカーボネート類など
を挙げることができる。

【００８６】ホスゲン類を用いる場合はポリカーボネー
トは溶液法で製造され、カーボネート結合を有する炭酸
エステル類を用いる場合は溶融法で製造される。

【００８７】炭酸エステル類の中ではジフェニルカーボ
ネートが好ましく用いられる。

【００８８】これらの化合物は単独または組み合わせて
用いることができる。

【００８９】なお、他の成分を共重合またはブレンド成
分として含むものも上記８．のポリカーボネートの範疇
に含まれる。

【００９０】本発明にもっとも適するものは芳香族ジヒ
ドロキシ化合物として、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパンを使用し、炭酸結合形成性化合物と
して、ホスゲン類やカーボネート結合を有する炭酸エス
テル類を使用するポリカーボネートである。

【００９１】それ以外の成分の共重合率またはブレンド
率が高いとポリカーボネートの特徴が薄れるため、共重
合率またはブレンド率は２０重量％以下が望ましく、１
０重量％以下が更に望ましい。

【００９２】高分子樹脂基板の形状に関しては特に限定
はないが、フィルム状、シート状の形状を有する成形物
は均一な層のコーティングが実現しやすいので特に好ま
しく用いられる。曲面や凹凸等の複雑な形状を有する成
形物も用いることができるが、層のコーティング方法に
制約を生じる（ディップコート法が主に用いられる）場
合もある。

【００９３】なお、これらの高分子樹脂基板は前記の活
性光線硬化層を積層するに当たり、あらかじめ基板の表
面処理を施したり、適当なプライマー層を積層すること
も必要に応じて行われる。このような表面処理として
は、公知のプラズマ処理、コロナ処理、ＵＶ−オゾン処
理等の方法が好ましく用いられ、硬化層の密着性を向上
させたり、前駆材料の塗工性を向上するといった効果を
得ることができる。

【００９４】プライマー層は、同様に硬化層の密着性を
向上させたり、積層体の耐候性（例えば耐紫外線老化
性）を向上させる機能を有するものが好ましく用いられ
る。

【００９５】このようなプライマー層としては、例えば
各種のメタクリル酸エステルやアクリル酸エステルによ
る重合物、もしくはそれらと他種成分との共重合物が好
ましく挙げられる。こうした共重合成分は分子内にアミ
ノ基、エポキシ基を有する成分であることが好ましい。

【００９６】また前記の耐候性向上の目的で、プライマ
ー層には必要に応じて各種の紫外線吸収剤や酸化防止剤
等の成分を適量含有させることも可能である。

【００９７】プライマー層の膜厚は、０．１〜１５μｍ
の範囲で塗布されるのが好ましく、０．３〜１０μｍの
範囲とすることがより好ましい。

【００９８】本願発明の高分子樹脂積層体は、積層体の
透視性が高いことが必要である。具体的には積層体のヘ
ーズ値が５％以下であることが好ましく、より好ましく
は３％以下、更に好ましくは２％以下である。

【００９９】ただし高分子樹脂積層体の光透過率に関し
ては、一般的には高いことが望まれ、全光透過率は５０
％以上である事が好ましく、より好ましくは７０％以上
である。ただし用途によっては必ずしも高い光透過率が
望まれない場合もあり、例えば、自動車の後部座席用の
窓材においては太陽光線の直射による車内温度の上昇を
抑える目的等において、高分子樹脂基板内に可視光の吸
収剤（顔料、染料等）を混合する等の方法により、意図
的に積層体の光透過率を低下させる場合もある。

【０１００】

【実施例】以下に発明の好適な実施例について説明す
る。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
また、「部」は特に断らない限り「重量部」である。

【０１０１】なお、実施例における各種の特性評価は以
下の要領にて行った。

【０１０２】（鉛筆硬度の測定）日本工業規格Ｋ５４０
０に記載されている鉛筆硬度測定法に準拠して測定を行
ったが、本実施例においては測定の再現性を高める観点
から、サンプルを厚み２ｍｍのガラス板上にエポキシ系
の接着剤（ニチバン社製商品名「アラルダイトラピッ
ド」）を用いて固定した状態において鉛筆を平面方向に
走査した。

【０１０３】これはサンプルをしっかり固定することに
より鉛筆走査時のサンプルの歪みや曲がり等の影響を排
除できるためであり、特にサンプルの厚みが１ｍｍ以下
であるような場合に再現性の向上に効果がある。

【０１０４】なお、サンプルの傷付きの有無の判定は、
前記規格に準拠して測定者の肉眼にて行うが、傷つきの
判定が微妙となる場合には、傷（凹部）の深さを市販の
触針式表面粗さ計により測定し、異なる５個所で測定し
た深さの平均値が０．２μｍ以上である場合に「傷が発
生した」と判定することとした。

【０１０５】また活性光線硬化層単独の鉛筆硬度は、活
性光線硬化層を２ｍｍ厚みのガラス板上に７μｍ前後の
膜厚で積層硬化した後、層の表面について測定したもの
である。

【０１０６】尚、これらの測定を行う際、活性光線硬化
層と石英板の密着性を向上する目的で、プライマー層を
活性光線硬化層と石英板との間に挟持して設けることが
好ましく行われる。これらのプライマー層としては、例
えばポリメチルメタクリレートや、メチルメタクリレー
トと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの共重合
物、メチルメタクリレートとγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシランとの共重合物による層等が好まし
く例示される。このプライマー層の厚みは鉛筆硬度の測
定結果への影響を防ぐ観点から１〜２μｍの範囲とする
ことが好ましい。

【０１０７】（テーバー摩耗性の測定）テーバー摩耗試
験機（東洋精機（株）製）を用い、摩耗輪ＣＳ−１０
Ｆ、荷重４．９Ｎ、１０００サイクルの条件で試験片表
面（酸化珪素層の積層されている面）を摩耗し、次式か
ら求められるヘーズ値の摩耗前後の差（ΔＨ）で評価し
た。 ヘーズ（％）＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００

【０１０８】（ヘーズ値および全光線透過率の測定）日
本電色工業社製の測定器（商品名「ＣＯＨ−３００
Ａ」）を用いて測定を行った。

【０１０９】（密着性試験）日本工業規格Ｋ５４００に
記載されている碁盤目テープ試験法に準拠して測定を行
った。

【０１１０】（耐水性試験）高分子樹脂積層体のサンプ
ルを沸騰水中（純水）に１時間浸せきした後に室内で自
然乾燥させ、積層体の外観の悪化の有無について目視観
察した。

【０１１１】（層の膜厚）高分子樹脂積層体の断面を走
査型電子顕微鏡により観察して、各層の膜厚を求めた。

【０１１２】［実施例１］高分子樹脂基板として、ビス
フェノールＡとジフェニルカーボネートとより合成され
たポリカーボネート樹脂による厚み１ｍｍ、縦横３５０
ｍｍ×２５０ｍｍの成形板（帝人化成製「パンライトＰ
Ｃ−１１５１」を用いた。

【０１１３】この基板上に下記の活性光線硬化層形成用
前駆材料をバーコーターを用いてコーティングし、７０
℃で１分間乾燥した後に１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ラン
プにより積算光量１Ｊ／ｃｍ²の紫外線を照射して、厚
み４０μｍの活性光線硬化層を積層した。

【０１１４】なお、活性光線硬化層形成用前駆材料とし
ては、トリメチロールプロパンＥＯ編成トリアクリレー
ト（東亜合成化学製「アロニックスＭ３５０」）９０重
量部と、光重合開始剤（チバスペシャリティケミカルス
製「イルガキュア１８４」）５重量部と、紫外線吸収剤
として大塚化学製反応性紫外線吸収剤「ＲＵＶＡ９３」
２ｐｈｒと、ノルマルプロピルアルコール５０重量部と
を混合して用いた。

【０１１５】尚、この活性光線硬化層単独の鉛筆硬度は
５Ｈ以上であった。

【０１１６】次にサンプルを７ｃｍ角の正方形の形に切
り取り、１３０℃で３０分間の熱処理を行って、水分や
光重合開始剤の分解物等を揮発除去させた後に、以下の
真空成膜プロセスによりスパッタ層と蒸着層の２層から
なるハードコート層を積層した。

【０１１７】すなわちサンプルをスパッタリング装置の
真空槽内にセットして２時間の真空排気を行い、圧力５
×１０^-4Ｐａの真空度まで到達させた後に、アルゴンガ
ス（１００％）を流量１５ｓｃｃｍで導入し、雰囲気圧
力を１．８×１０^-1Ｐａとした。

【０１１８】スパッタリングのターゲットとして、酸化
珪素（１００％）のターゲットを用い、投入電力１００
Ｗの条件でＥＣＲスパッタリング法により、膜厚０．１
２μｍの酸化珪素層（スパッタ層）を形成した。尚、こ
のスパッタ層の形成に要した時間は約３時間であった。

【０１１９】続いてこのサンプルを真空蒸着装置に移し
てセッティングした後、４時間の真空排気を行い、圧力
１×１０^-3Ｐａの真空度まで到達した後に、電子線加熱
蒸着（ＥＢ蒸着）により円筒状に成形した酸化珪素（１
００％）の溶融塊を昇華させ、膜厚２．４μｍの酸化珪
素層（蒸着層）を積層した。尚、この蒸着層の形成に要
した時間は約１０分間であった。

【０１２０】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．３％、ヘーズは０．８％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．９％、密
着性は１００／１００であった。そして耐水性試験後に
ハードコート層の剥離やクラックの発生は全く観られな
かった。

【０１２１】［実施例２］実施例１において活性光線硬
化層形成用前駆材料として以下の塗液を用い、膜厚３５
μｍの活性光線硬化層を積層した以外は全く実施例１と
同様にして高分子樹脂積層体を積層した。

【０１２２】すなわち塗液としては、ポリエステルアク
リレート（東亜合成化学製「アロニックスＭ８０３
０」）９０重量部と、光重合開始剤（チバスペシャリテ
ィケミカルス製「イルガキュア１８４」）５重量部と、
紫外線吸収剤として大塚化学製反応性紫外線吸収剤「Ｒ
ＵＶＡ９３」２ｐｈｒと、ノルマルプロピルアルコール
５０重量部を混合して用いた。尚、この活性光線硬化層
単独の鉛筆硬度は７Ｈ以上であった。

【０１２３】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．７％、ヘーズは１．０％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は１．６％、密
着性は１００／１００であった。そして耐水性試験後の
ハードコート層の剥離やクラックの発生は全く観られな
かった。

【０１２４】［比較例１］実施例１においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層した後に、スパッタ
層を積層せずに直接蒸着層（ハードコート層）を積層し
た以外は全く実施例１と同様にして、高分子樹脂／ハー
ドコート積層体を作成した。

【０１２５】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．４％、ヘーズは０．８％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は３．４％、密
着性は１００／１００であった。

【０１２６】しかしながら耐水性試験後にはハードコー
ト層が基板から完全に剥離しており、この高分子樹脂／
ハードコート積層体は耐水性が不十分であることがわか
った。

【０１２７】［比較例２］実施例２においてポリカーボ
ネート板上に活性光線硬化層を積層した後に、スパッタ
層を積層せずに直接蒸着層（ハードコート層）を積層し
た以外は全く実施例１と同様にして、高分子樹脂／ハー
ドコート積層体を作成した。

【０１２８】この高分子樹脂／ハードコート積層体の全
光線透過率は８９．８％、ヘーズは０．８％、鉛筆硬度
は３Ｈ、テーバー磨耗によるヘーズ上昇は２．９％、密
着性は１００／１００であった。

【０１２９】しかしながら耐水性試験後にはハードコー
ト層の全体にクラックが発生しており、この高分子樹脂
／ハードコート積層体は耐水性が不十分であることがわ
かった。

【０１３０】

【発明の効果】ポリカーボネート等の硬度や耐磨耗性の
低い樹脂成形物に対して、本発明を適用することによ
り、優れた耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性を有す
る高分子樹脂／ハードコート積層体を得ることができ、
自動車や建材等の窓材や透視性を必要とする構造材、そ
の他の幅広い用途に利用することができるようになっ
た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 峯松 宏昌 山口県岩国市日の出町２番１号 帝人株式 会社岩国研究センター内 Ｆターム(参考） 4F100 AA20C AA20D AK01A AK25B AK45A BA04 BA07 BA10D DE01C EH66C EH66D EJ08B EJ52B EJ54B GB32 JB14B JK12 JK12B YY00B 4K029 AA11 AA24 BA46 BB02 CA01 CA05 DB21 DC05 FA07

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高分子樹脂基板の少なくとも一方の面
   に、厚みが２〜２００μｍの活性光線硬化層と、厚みが
   １．５〜１０μｍのハードコート層がこの順に積層され
   てなり、該ハードコート層は該高分子樹脂基板側から、
   スパッタリング法により形成された厚みが０．０２〜
   ０．５μｍのスパッタ層と、真空蒸着法により形成され
   た蒸着層とがこの順に積層されてなることを特徴とする
   高分子樹脂積層体。
2. 【請求項２】 スパッタ層は、酸化珪素を少なくとも全
   体の５０重量％以上含む層であることを特徴とする請求
   項１に記載の高分子樹脂積層体。
3. 【請求項３】 ハードコート層は、酸化珪素を少なくと
   も全体の５０重量％以上含む層であることを特徴とする
   請求項１または２記載の高分子樹脂積層体。
4. 【請求項４】 活性光線硬化層の該層単独での鉛筆硬度
   がＦ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
   かに記載の高分子樹脂積層体。
5. 【請求項５】 活性光線硬化層は、分子内もしくは単位
   繰り返し構造内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を
   有する１種もしくは２種以上の（メタ）アクリレート成
   分を、不揮発成分中の５０重量％以上含んでなる前駆材
   料に、活性光線を照射して硬化してなる層であることを
   特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の高分子樹脂
   積層体。
6. 【請求項６】 高分子樹脂基板の厚みが０．２〜２０ｍ
   ｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
   かに記載の高分子樹脂積層体。
7. 【請求項７】 高分子樹脂基板がポリカーボネートの成
   形基板であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか
   に記載の高分子樹脂積層体。
8. 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかに記載の高分子
   樹脂積層体からなる自動車用窓材。