JP2002290041A - 積層セラミック基板の製造方法 - Google Patents

積層セラミック基板の製造方法

Info

Publication number
JP2002290041A
JP2002290041A JP2001089480A JP2001089480A JP2002290041A JP 2002290041 A JP2002290041 A JP 2002290041A JP 2001089480 A JP2001089480 A JP 2001089480A JP 2001089480 A JP2001089480 A JP 2001089480A JP 2002290041 A JP2002290041 A JP 2002290041A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ceramic substrate
firing
multilayer ceramic
green
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001089480A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidekazu Koga
英一 古賀
Mitsuru Tamaoki
充 玉置
Masaaki Maeda
昌昭 前田
Masatomo Kitada
匡智 北田
Yoshihiro Hiraoka
義広 平岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001089480A priority Critical patent/JP2002290041A/ja
Publication of JP2002290041A publication Critical patent/JP2002290041A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 板状や特にエレクトロニクス用セラミックパ
ッケージ及び回路基板等の反りや歪みを小さくする積層
セラミック基板の製造方法を提供するものである。 【解決手段】 本発明は誘電体と導体とから構成される
グリーン積層セラミック基板4の焼成において、先ずグ
リーン積層セラミック基板4に荷重を加えた状態で焼成
を開始し、その後、焼成過程中において前記荷重を取り
除いて焼成を進めるセラミック基板の製造方法とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は板状のグリーン積層
セラミック基板を焼成する積層セラミック基板の製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】特に、近年の携帯電話に代表される移動
体機器市場の拡大に伴い、エレクトロニクス用セラミッ
クパッケージ及び回路基板等といった高い寸法精度が要
求される用途の増加が著しく増加してきており、前記エ
レクトロニクス用セラミックパッケージ及び回路基板等
に用いる積層セラミック基板を焼成する場合、焼成時の
グリーン積層セラミック基板への熱の伝達の不均一さ、
炉内の温度分布、焼成過程での電極の収縮の影響及びグ
リーン積層セラミック基板とグリーン積層セラミック基
板を載置する台板との摩擦等によって厚み方向の反りや
外形の歪み等が発生し易く、この反りや歪みを低減すべ
く特許登録第2955442号公報や特開平6−329
476号公報によるセラミック基板の焼成方法が提案さ
れている。
【0003】図21は前記特開平6−329476号公
報によるセラミック基板の焼成方法を示す説明図であ
る。図21において、101は焼成を行うグリーン積層
セラミック基板であり、このグリーン積層セラミック基
板101の上下に前記グリーン積層セラミック基板10
1の焼成温度では焼結しない未焼結シート102、10
3を配置し、これらをセンター105の上に設置し、前
記最上層の前記未焼結シート102の上面に硬質多孔質
体104を載置して荷重を加えた状態で前記グリーン積
層セラミック基板101を焼成して反りの小さいセラミ
ック基板を得ようとするものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の構成では厚み方向に荷重を加えた状態で焼成するの
で厚み方向の反りは低減できるが、このグリーン積層セ
ラミック基板の幅や長さの外形方向においては焼成によ
る収縮が抑制され、歪みが発生し易いという問題点を有
していた。
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
であり、グリーン積層セラミック基板の焼成工程で生じ
る厚み方向の反りと外形方向の歪みとを低減し、形状、
寸法精度の優れた積層セラミック基板の製造方法を提供
することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、以下の構成を有するものである。
【0007】本発明の請求項1に記載の発明は、誘電体
と導体とから構成されるグリーン積層セラミック基板の
焼成において、先ず前記グリーン積層セラミック基板に
荷重を加えた状態で焼成を開始し、その後、焼成過程中
において前記荷重を取り除いて焼成する積層セラミック
基板の製造方法であり、これにより、先ずグリーン積層
セラミック基板に荷重を加えた状態で焼成を開始するこ
とで反りの発生を防止し、その後に、焼成過程中に荷重
を取り除いた状態として前記グリーン積層セラミック基
板を外形方向に収縮を促し、反りと歪みとを低減し形
状、寸法精度の優れた積層セラミック基板が得られると
いう作用効果を有する。
【0008】本発明の請求項2に記載の発明は、グリー
ン積層セラミック基板を焼成用台板に載置し、このグリ
ーン積層セラミック基板の周囲にグリーン積層セラミッ
ク基板の焼成前の厚みと焼成後の厚みの中間厚みを有す
るスペーサを配置し、前記グリーン積層セラミック基板
と周辺のスペーサを覆うように平板を載せて焼成する請
求項1に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、
これにより、焼成過程中の収縮によってグリーン積層セ
ラミック基板の厚みが前記スペーサ厚みと同じになるま
ではグリーン積層セラミック基板には荷重が加えられた
状態となって反りを防止し、その後、収縮が進行して前
記スペーサ厚みより薄くなるので焼成過程中に荷重を取
り除いた状態となり前記グリーン積層セラミック基板を
外形方向に収縮を促し、反りと歪みとを低減し形状、寸
法精度の優れた積層セラミック基板が得られるという作
用効果を有する。
【0009】本発明の請求項3に記載の発明は、焼成用
台板上にグリーン積層セラミック基板の焼結温度では焼
結しない材料からなる敷粉を散布し、この上に前記グリ
ーン積層セラミック基板を載置して焼成する請求項2に
記載の積層セラミック基板の製造方法であり、これによ
り、グリーン積層セラミック基板と焼成用台板との間の
焼成収縮での摩擦が低減されるので、前記グリーン積層
セラミック基板を外形方向に収縮を促し、反りと歪みと
を低減し形状、寸法精度の優れた積層セラミック基板が
得られるという作用効果を有する。
【0010】本発明の請求項4に記載の発明は、敷粉を
焼成後に除去する請求項3に記載の積層セラミック基板
の製造方法であり、これにより、グリーン積層セラミッ
ク基板と焼成用台板との間の焼成収縮での摩擦低減に用
いた敷粉の付着を焼成後に積層セラミック基板の表面か
ら除去することで外形の歪みが小さく平滑な表面を有す
る積層セラミック基板が得られるという作用効果を有す
る。
【0011】本発明の請求項5に記載の発明は、焼成用
台板上に散布した敷粉の上に焼成収縮するシートを載置
し、その上にグリーン積層セラミック基板を載置して焼
成する請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法
であり、これにより、前記シートが収縮することでグリ
ーン積層セラミック基板と焼成用台板との間の焼成収縮
での摩擦が吸収されて低減されるので、前記グリーン積
層セラミック基板を外形方向に収縮を促し、反りと歪み
とを低減し形状、寸法精度の優れた積層セラミック基板
が得られるという作用効果を有する。
【0012】本発明の請求項6に記載の発明は、焼成用
台板上に散布した敷粉の上に焼成収縮するシートを載置
し、このシートの上面に前記敷粉を再散布し、この再散
布した敷粉の上にグリーン積層セラミック基板を載置し
て焼成する請求項2に記載の積層セラミック基板の製造
方法であり、これにより、前記シートが収縮することで
グリーン積層セラミック基板と焼成用台板との間の焼成
収縮での摩擦が吸収されるともに前記シートと前記グリ
ーン積層セラミック基板との融着防止及び摩擦力の低減
となり、前記グリーン積層セラミック基板を外形方向に
収縮を促し、反りと歪みとを低減し形状、寸法精度の優
れた積層セラミック基板が得られるという作用効果を有
する。
【0013】本発明の請求項7に記載の発明は、焼成用
台板上にグリーン積層セラミック基板の焼結温度では焼
結しない材料からなるグリーンシートを敷き、この上に
グリーン積層セラミック基板を載置して焼成する請求項
2に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、これ
により、前記グリーン積層セラミック基板の焼成過程中
に前記グリーンシートが脱脂され前記グリーン積層セラ
ミック基板の表面にこのグリーンシートの粒子が均一に
散布した敷粉となるため、このグリーン積層セラミック
基板と焼成用台板との間の焼成収縮での摩擦の低減が図
られて自由に収縮し収縮による歪みが小さい積層セラミ
ック基板が得られるという作用効果を有する。
【0014】本発明の請求項8に記載の発明は、グリー
ンシートを焼成後に除去する請求項7に記載の積層セラ
ミック基板の製造方法であり、これにより、グリーン積
層セラミック基板と焼成用台板との間の焼成収縮での摩
擦低減に用いた前記グリーンシートの付着をグリーン積
層セラミック基板の表面から除去することで反りと収縮
の歪みが小さい積層セラミック基板を得ることができる
という作用効果を有する。
【0015】本発明の請求項9に記載の発明は、焼成用
台板上に敷いたグリーンシートの上に焼成収縮する第2
のシートを載置し、この上にグリーン積層セラミック基
板を載置して焼成する請求項7に記載の積層セラミック
基板の製造方法であり、これにより、焼成過程中におい
て前記グリーンシートは脱脂後に均一に散布した敷粉と
なるため散布ムラによる反りの防止作用が得られるとと
もに前記第2のシートの焼成収縮によってグリーン積層
セラミック基板と焼成用台板との間の焼成収縮での摩擦
を吸収して低減するので、収縮による歪みが小さい積層
セラミック基板が得られるという作用効果を有する。
【0016】本発明の請求項10に記載の発明は、焼成
用台板上に敷いたグリーンシートの上に焼成収縮する第
2のシートを載置し、この上に更に第3のグリーンシー
トを敷き、この第3のグリーンシート上にグリーン積層
セラミック基板を載置して焼成する請求項7に記載の積
層セラミック基板の製造方法であり、これにより、焼成
過程中において前記グリーンシートは脱脂後に均一に散
布した敷粉となるため散布ムラによる反りの防止作用が
得られるとともに前記第2のシートの焼成収縮によって
グリーン積層セラミック基板と焼成用台板との間の焼成
収縮での摩擦が吸収されるともに前記第2のシートと前
記グリーン積層セラミック基板との反応による融着防止
ができ、収縮による歪みが小さい積層セラミック基板が
得られるという作用効果を有する。
【0017】本発明の請求項11に記載の発明は、スペ
ーサを焼成用台板に取り付けて用いる請求項2に記載の
積層セラミック基板の製造方法であり、このような方法
によって、焼成炉への出し入れ時やベルト炉での焼成過
程中の振動等によって平板の外側の位置へとスペーサが
ズレたり焼成用台板から落下することが防止でき、焼成
過程中に前記平板の荷重がグリーン積層セラミック基板
から取り除かれても安定して位置決めされるので収縮に
よる歪みが小さい積層セラミック基板が得られるという
作用効果を有する。
【0018】本発明の請求項12に記載の発明は、焼成
用台板とスペーサが着脱できるように設置して用いる請
求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、
これにより、先ずスペーサを取り外した平らな状態で焼
成用台板上の異物の除去や清掃あるいは敷粉散布を行え
るので、反りや歪みへ影響を与えるスペーサの周囲部分
にたまりがちなゴミ等の異物除去が確実になるとともに
敷粉のたまりが解消されて散布状態が均一になり、良好
な焼成用台板状態が得られる。また、焼成時にはスペー
サを固定することで、焼成炉への出し入れ時やベルト炉
での焼成過程中の振動等によって平板の外側の位置へと
スペーサがズレたり焼成用台板から落下することがな
く、焼成過程中に前記平板による荷重がグリーン積層セ
ラミック基板から取り除かれても収縮による歪みが小さ
い積層セラミック基板が得られるという作用効果を有す
る。
【0019】本発明の請求項13に記載の発明は、スペ
ーサを平板に取り付けて用いる請求項2に記載の積層セ
ラミック基板の製造方法であり、これにより、焼成炉へ
の出し入れ時やベルト炉での焼成過程中の振動等によっ
て平板の外側の位置へとスペーサがズレたり焼成用台板
から落下することがなく、焼成過程中に前記平板の荷重
がグリーン積層セラミック基板から取り除かれても収縮
による歪みが小さい積層セラミック基板が得られるとい
う作用効果を有する。
【0020】本発明の請求項14に記載の発明は、平板
とスペーサが着脱できるように設置して用いる請求項2
に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、これに
より、焼成前の平板上の異物の除去や清掃を行うことが
でき、スペーサの周囲部分にたまりがちなゴミ等の異物
除去が確実になり、良好な平板の表面状態が得られて焼
成時には前記スペーサを前記平板へ固定した状態とし、
焼成炉への出し入れ時やベルト炉での焼成過程中の振動
等によって平板の外側の位置へとスペーサがズレたり焼
成用台板から落下することがなく、焼成過程中に前記平
板の荷重がグリーン積層セラミック基板から取り除かれ
ても収縮による歪みが小さい積層セラミック基板が得ら
れるという作用効果を有する。
【0021】本発明の請求項15に記載の発明は、スペ
ーサを載置する箇所に凹状に加工した焼成用台板を用い
る請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法であ
り、これにより、スペーサの横ズレの防止効果が得られ
るので焼成炉への出し入れ時やベルト炉での焼成過程中
の振動等によってスペーサが平板の外側の位置へとズレ
ることがなく、焼成過程中に前記平板の荷重が前記グリ
ーン積層セラミック基板から取り除かれても収縮による
歪みが小さい積層セラミック基板が得られるという作用
効果を有する。
【0022】本発明の請求項16に記載の発明は、スペ
ーサ上へ載置する箇所を凹状に加工した平板を用いる請
求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、
これにより、前記スペーサと前記平板とのズレの防止効
果が得られるので焼成過程中の振動等によってスペーサ
が平板の外側の位置へとズレることがなく焼成過程中の
前記平板による荷重がグリーン積層セラミック基板から
取り除かれても収縮による歪みが小さい積層セラミック
基板が得られるという作用効果を有する。
【0023】本発明の請求項17に記載の発明は、スペ
ーサを載置する周辺の部分を凹状にへこませた焼成用台
板を用いる請求項2に記載の積層セラミック基板の製造
方法であり、これにより、焼成過程中に前記グリーン積
層セラミック基板から分解したバインダ等有機成分が容
易に放出でき脱脂効果が良好となり、反りと歪みの小さ
い積層セラミック基板が得られるという作用効果を有す
る。
【0024】本発明の請求項18に記載の発明は、焼成
用台板が多孔質体である請求項2に記載の積層セラミッ
ク基板の製造方法であり、これにより、焼成過程中に前
記グリーン積層セラミック基板から分解したバインダ等
有機成分を容易に放出でき脱脂効果が良好となり、反り
と歪みの小さい積層セラミック基板が得られるという作
用効果を有する。
【0025】本発明の請求項19に記載の発明は、平板
が多孔質体である請求項2に記載の積層セラミック基板
の製造方法であり、これにより、焼成過程中に前記グリ
ーン積層セラミック基板から分解したバインダ等有機成
分を前記多孔質体から容易に放出でき、脱脂が不十分の
ために発生し易い反り、歪み、変色等を防止でき、寸法
精度や外観が良好な積層セラミック基板が得られるとい
う作用効果を有する。
【0026】本発明の請求項20に記載の発明は、焼成
用台板の空孔率が20%以上である請求項18に記載の
積層セラミック基板の製造方法であり、これにより、焼
成で分解したバインダ成分等の有機成分を放出する通気
経路を焼成用台板に確保でき、反りと歪みの小さい積層
セラミック基板が得られるという作用効果を有する。
【0027】本発明の請求項21に記載の発明は、平板
の空孔率が20%以上である請求項19に記載の積層セ
ラミック基板の製造方法であり、これにより、グリーン
積層セラミック基板のバインダ成分等の有機成分の分解
除去の通気経路を平板に確保でき、反りと歪みの小さい
積層セラミック基板が得られるという作用効果を有す
る。
【0028】本発明の請求項22に記載の発明は、焼成
用台板の表面に敷粉の平均粒度以上の高さの凹凸を形成
した請求項3に記載の積層セラミック基板の製造方法で
あり、これにより、グリーン積層セラミック基板と焼成
用台板との接触面において焼成用台板上に敷粉を散布し
てもバインダ成分等の有機成分の分解除去の通気経路
を、前記焼成用台板面の凹凸の中に敷粉が入りこんだ場
合でも塞がれることなく確保できるので、反りと歪みの
小さい積層セラミック基板が得られるという作用効果を
有する。
【0029】本発明の請求項23に記載の発明は、平板
の表面に前記敷粉の平均粒度以上の高さの凹凸を形成し
た請求項3に記載の積層セラミック基板の製造方法であ
り、これにより、グリーン積層セラミック基板の表面に
敷粉や異物の付着があっても、前記グリーン積層セラミ
ック基板の焼成収縮過程で前記平板の凹凸の中に敷粉が
入り込んで前記グリーン積層セラミック基板の表面に傷
付けることなく、前記グリーン積層セラミック基板と前
記平板との接触面に焼成によって分解したバインダ成分
等の有機成分の通気経路を前記平板に確保できるので、
反りと歪みの小さい積層セラミック基板が得られるとい
う作用効果を有する。
【0030】本発明の請求項24に記載の発明は、一枚
の焼成用台板上に2個以上の多数のグリーン積層セラミ
ック基板を並べて焼成する請求項2に記載の積層セラミ
ック基板の製造方法であり、これにより、同一の焼成用
台板上で反りと歪みの小さい積層セラミック基板を一度
の焼成で複数個得ることができるので寸法、歪み及び反
り等のバラツキが少ない多数の積層セラミック基板が得
られるという作用効果を有する。
【0031】本発明の請求項25に記載の発明は、一枚
の焼成用台板上に2個以上の多数のグリーン積層セラミ
ック基板を並べて、これらのグリーン積層セラミック基
板全体を覆うようにして一枚の平板を載置して焼成する
請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法であ
り、これにより、複数のグリーン積層セラミック基板に
前記平板によって均等の荷重が加えられるので寸法、歪
み及び反り等のバラツキが少ない多数の積層セラミック
基板が得られるという作用効果を有する。
【0032】本発明の請求項26に記載の発明は、焼成
用台板を2つ以上多数並べて焼成する請求項2に記載の
積層セラミック基板の製造方法であり、これにより、焼
成工程で2つ以上多数の焼成用台板の温度バラツキが小
さくなり、反りと歪みの小さい多数の積層セラミック基
板が得られるという作用効果を有する。
【0033】本発明の請求項27に記載の発明は、焼成
用台板を2段以上多段にして焼成する請求項2に記載の
積層セラミック基板の製造方法であり、これにより、前
記多段の焼成用台板それぞれの温度バラツキが小さくな
り反りと歪みの小さい多数の積層セラミック基板が得ら
れるという作用効果を有する。
【0034】本発明の請求項28に記載の発明は、複数
の焼成用台板間に焼成用台板載置用スペーサを介して2
段以上の多段にして焼成する請求項2に記載の積層セラ
ミック基板の製造方法であり、これにより、反りと歪み
の小さい多数の積層セラミック基板が容易に得られると
いう作用効果を有する。
【0035】本発明の請求項29に記載の発明は、焼成
用台板に焼成用台板載置用スペーサを取り付けた請求項
28に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、こ
れにより、焼成用台板を多段に安定した状態で多数のグ
リーン積層セラミック基板を焼成できるので多数の反り
と歪みの小さい積層セラミック基板が得られるという作
用効果を有する。
【0036】本発明の請求項30に記載の発明は、ラッ
クに焼成用台板を2段以上の多段に収納して焼成する請
求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法であり、
これにより、焼成用台板を容易に多段に設置できてグリ
ーン積層セラミック基板を安定した状態で多数焼成でき
るので反りと歪みの小さい多数の積層セラミック基板が
得られるという作用効果を有する。
【0037】本発明の請求項31に記載の発明は、リー
ン積層セラミック基板が複数の素子から構成され、焼成
後に素子単位に分割する請求項2に記載の積層セラミッ
ク基板の製造方法であり、これにより、前記複数の素子
間の焼成による熱収縮のバラツキが低減できて、反りと
歪みの小さい複数の積層セラミック基板が容易に得られ
るという作用効果を有する。
【0038】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、実施の形
態1を用いて本発明の特に請求項1〜4、12に記載の
発明について説明する。
【0039】図1、図2は本発明の実施の形態1におけ
る積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示
し、図1は焼成前の状態図、図2は焼成後の状態図であ
る。図3は一般的な積層セラミック基板の外観斜視図、
図4は同積層セラミック基板の断面図である。
【0040】図3〜図4において、1は積層セラミック
基板であり、この積層セラミック基板1はアルミナを基
材とするガラスセラミック材料を主成分とした誘電体2
とAg電極から成る導体3とを積層し、高温下で焼成し
て所定の誘電特性を得たものである。
【0041】前記積層セラミック基板1は、出発原料と
して、アルミナ40重量%とB23−SiO2−PbO
系ガラス60重量%とを湿式混合して粉砕、乾燥して得
たガラスセラミック材料に、酢酸ブチル、可塑剤、有機
バインダを加えて混合分散してスラリーを作成し、この
スラリーを用いて誘電体2となる厚み250μmのグリ
ーンシートを成形し、このグリーンシートにスクリーン
印刷法によって導体パターン電極を印刷して前記誘電体
2グリーンシートと導体3を交互に複数積層し、その後
焼成して形状10mm×10mm厚み0.97mmの積
層セラミック基板1としたものであり、前記焼成過程で
は前記積層セラミック基板1の焼成収縮率は約13%で
ある。
【0042】以上のように構成された積層セラミック基
板1の焼成方法について、以下に図1〜図2を参照しな
がら説明する。
【0043】図1において4は焼成前のグリーン積層セ
ラミック基板であり、このグリーン積層セラミック基板
4をこのグリーン積層セラミック基板4の焼結温度では
焼結しない材料からなる敷粉7を散布した焼成用台板5
に載置し、このグリーン積層セラミック基板4の周囲に
このグリーン積層セラミック基板4の焼成前の厚みTと
後述する焼成後の厚みSの中間厚みMを有するスペーサ
6を配置し、このスペーサ6は前記焼成用台板5に形成
した孔8に前記スペーサ6の小径部9を嵌合して位置決
めし着脱可能な構造とし、前記グリーン積層セラミック
基板4と前記スペーサ6を覆うように平板10を載せた
構成とした。
【0044】前記焼成用台板5とスペーサ6はアルミナ
を主成分とした材質から成り、純度99.5%の高純度
アルミナから成り平均粒径40μmの前記敷粉7を40
〜80μmの厚みになるように前記焼成用台板5上に散
布した。
【0045】図2において、1は前記焼成前のグリーン
積層セラミック基板4を焼成した焼成済みの積層セラミ
ック基板1であり、前記焼成過程中に収縮して前述の厚
みSに形成し、この厚みSは前記スペーサ6の厚みMよ
り小さくなるように設定し、前記平板10と前記積層セ
ラミック基板1との間に間隙11を有し、焼成過程中に
前記グリーン積層セラミック基板4から前記平板10に
よる荷重が除かれる構成とした。
【0046】前記焼成用台板5、平板10及びスペーサ
6の材質はアルミナのほか、マグネシア、ムライト及び
ジルコニア等の耐熱性磁器を用い、前記グリーン積層セ
ラミック基板4との焼成工程における反応性が低く耐熱
性や機械的強度の優れた材質から選択し、前記焼成によ
る反応抑制のために反応防止層として表面に熱分解や化
学反応のない材料をコーティング処理することが好まし
い。
【0047】尚、本実施の形態1に使用した前記焼成用
台板5の形状は縦×横50mm×50mmで厚み5m
m、前記平板10は縦×横50mm×50mmで厚み5
mmであり、スペーサ6は縦×横5mm×3mmで厚み
がMが0.93mmである。前記スペーサ6の厚みは前
記積層セラミック基板1の焼成前の厚み0.97mmと
焼成後の厚み0.85mmとの中間厚みとしたが、焼結
開始から短時間で急峻に収縮が完結する材料では焼結開
始から比較的早いタイミングで平板3の荷重を取り除く
必要性があり、この場合は前記スペーサ6の厚みMを調
整することで、前記グリーン積層セラミック基板4から
前記平板10の荷重を取り除くタイミングを制御する。
【0048】前記敷粉7の材質は本実施の形態1で高純
度のアルミナを使用したが前記グリーン積層セラミック
基板4と反応性が低くこのグリーン積層セラミック基板
4の焼成温度では焼結しない材料粉から選択し、この敷
粉7の形状は球状に近いほど粉自身が収縮に伴って転が
りやすく摩擦低減効果を得られるので好ましい。
【0049】また、本実施の形態1では前記敷粉7の効
果を確認するためこの敷粉7を散布しないで焼成した試
料も同時に作成した。
【0050】前記焼成は、先ず、450℃の熱風循環式
脱脂炉内に50時間放置して脱脂処理を行い、その後、
前記焼成を900℃のベルト炉内に20分間保持して行
った。その後、前記積層セラミック基板1の裏面を観察
したところ、焼結過程で、前記平板10の荷重が取り除
かれているので前記敷粉7の食い込み及び付着が軽微な
状態となっているので容易にブラッシング等の手段によ
って除去することができた。
【0051】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みの評価を行い従来例と比較して(表
1)に示す。反りは、前記積層セラミック基板1の一枚
中を厚み方向の寸法を9ポイント測定して最も大きい値
を反り値とした。歪みは前記積層セラミック基板1の一
枚中の外形の1辺につき両端と中央の計3箇所の測定を
行い、これを4辺全て実施して1基板につき12箇所の
収縮率の測定結果を得た。このうち、得られた収縮率の
最大値から最小値の差を歪みとし、例えばこの歪みの値
が大きいほど歪んだ基板になっている。
【0052】
【表1】
【0053】(表1)に示したように本実施の形態1で
得られた積層セラミック基板1は従来例と比較すると外
形の歪みを低減することができ、且つ、反りの低減は従
来例と同等の効果を得ることができた。また本発明の実
施の形態1の中で敷粉を散布した条件で前記積層セラミ
ック基板1の反りを一層低減する効果を得ることができ
た。
【0054】(実施の形態2)以下、実施の形態2を用
いて本発明の特に請求項5に記載の発明について、図面
を参照しながら説明する。尚、本実施の形態2の基本的
な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部品
は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴とす
る部分について記載する。
【0055】図5、図6は本発明の実施の形態1におけ
る積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示
し、図5は焼成前の状態図、図6は焼成後の状態図であ
る。
【0056】図5、図6において12は焼成収縮するシ
ートであり、焼成用台板5上に散布した敷粉7の上に載
置し、この上にグリーン積層セラミック基板4を載せた
構成とした。前記焼成収縮するシート12はグリーン積
層セラミック基板4に含有するガラスセラミック材料と
有機バインダ及び可塑剤とから厚み80μmに構成した
シートであり、焼成時には前記グリーン積層セラミック
基板4と同じく収縮し前記グリーン積層セラミック基板
4と焼成用台板5との間の摩擦を吸収緩和する。
【0057】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みとを評価し従来例と比較して(表1)
に示した。
【0058】(表1)に示すように本発明の実施の形態
2の積層セラミック基板の製造方法により製造した積層
セラミック基板1は歪みが一層小さくなり良好な結果が
得られた。尚、前記焼成収縮するシート12は焼成収縮
率が前記グリーン積層セラミック基板4と同程度のもの
から選択し、必ずしも前記グリーン積層セラミック基板
4と同じ材料でなくともよい。
【0059】(実施の形態3)以下、実施の形態3を用
いて本発明の特に請求項6に記載の発明について、図面
を参照しながら説明する。尚、本実施の形態3の基本的
な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部品
は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴とす
る部分について記載する。
【0060】図7は本発明の実施の形態3における積層
セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成
前の状態図である。
【0061】図7において5は焼成用台板であり、この
焼成で収縮するシート12の下面と上面にそれぞれ敷粉
7、敷粉16を敷いて載置した構成としている。前記敷
粉16は前記敷粉7と同じように40〜80μmの厚み
になるように散布した。13はスペーサでありガラス粉
を含む耐熱接着剤14により前記焼成用台板5に接合し
た。
【0062】前記敷粉16を前記焼成収縮するシート1
2と前記グリーン積層セラミック基板4との間に介在さ
せることによって、前記シート12と前記グリーン積層
セラミック基板4との間の焼成収縮に摩擦が生じないよ
うに緩和できるので収縮の歪みを小さくする作用を得る
ことができ、また、前記グリーン積層セラミック基板4
と焼成収縮するシート12との融着防止の効果、及び相
互の拡散による特性劣化を防止する効果を有する。
【0063】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みを評価し従来例と比較して(表1)に
示した。
【0064】(表1)に示すように本発明の実施の形態
3の積層セラミック基板の製造方法により製造した積層
セラミック基板1は歪みが一層小さくなり良好な結果が
得られた。
【0065】(実施の形態4)以下、実施の形態4を用
いて本発明の特に請求項7、8に記載の発明について、
図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態4の基
本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成
部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴
とする部分について記載する。
【0066】図8は本発明の実施の形態4における積層
セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成
前の状態図である。
【0067】図8において、15はグリーンシートであ
り、前記グリーン積層セラミック基板4の焼成温度では
焼成しないでこのグリーンシート15に含有するバイン
ダが脱脂される材料からなり、前記グリーン積層セラミ
ック基板4の焼成過程で粉状に分解してこのグリーン積
層セラミック基板4と焼成用台板5との摩擦を緩和する
ものであり、前記グリーンシート15は、前記敷粉7と
同じ高純度アルミナを主成分として有機成分であるバイ
ンダ、可塑剤を混合分散したスラリーをドクターブレー
ド法によって厚み80μに成形したシートであり、前記
グリーン積層セラミック基板4の焼成温度では焼結しな
い材料で形成し、前記グリーン積層セラミック基板4の
焼成で脱脂されてこのグリーンシート15の有機成分で
あるバインダと可塑剤成分が分解され、粉状になり前記
グリーン積層セラミック基板4と焼成用台板5との摩擦
を緩和する。
【0068】このグリーンシート15に用いる原料に
は、前記敷粉7と同じく前記グリーン積層セラミック基
板4との焼成による反応性が低い材料から選択し、ま
た、接着性は必要ないので焼成の準備等の取り扱いに問
題がない程度に可塑剤の含有を低くした。
【0069】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みを評価し従来例と比較して(表1)に
示した。
【0070】(表1)に示すように本発明の実施の形態
4の積層セラミック基板の製造方法により製造した積層
セラミック基板1は従来例と比較し歪みが小さくなり良
好な結果が得られた。
【0071】(実施の形態5)以下、実施の形態5を用
いて本発明の特に請求項9、11に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態5
の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の
構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは
特徴とする部分について記載する。
【0072】図9は本発明の実施の形態5における積層
セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成
前の状態図である。
【0073】図9において17は第2のグリーンシート
であり、前記グリーンシート15に重ね、この上に焼成
前のグリーン積層セラミック基板4を重ねた構成とし
た。
【0074】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みを評価し従来例と比較して(表1)に
示した。
【0075】(表1)に示すように本発明の実施の形態
5の積層セラミック基板の製造方法により製造した積層
セラミック基板1は従来例と比較し歪みが小さくなり良
好な結果が得られた。
【0076】(実施の形態6)以下、実施の形態6を用
いて本発明の特に請求項10に記載の発明について、図
面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態6の基本
的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部
品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴と
する部分について記載する。
【0077】図10は本発明の実施の形態6における積
層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼
成前の状態図である。
【0078】図10において18は第3のグリーンシー
トであり、前記グリーンシート15と前記第2のグリー
ンシート17の上に重ね、この上に焼成前のグリーン積
層セラミック基板4を重ねた構成とした。
【0079】19はスペーサであり、平板20に形成し
た孔21にクビレ部22を嵌合し、このスペーサ19は
前記平板20の前後にスライドして位置決めと着脱が行
える構成とした。前記スペーサ19の取り付け位置は、
焼成用台板5に載置される前記グリーン積層セラミック
基板4の周囲であり、前記焼成用台板5の上の平板20
が安定して載ることができる箇所に行うものとした。ま
た、このとき焼成による脱脂性を向上させるための前記
グリーン積層セラミック基板4の周囲全面に沿って前記
スペーサ19を構成するよりも間隔を設けて分割してあ
るいは開口孔をあけて構成するのが好ましく、前記グリ
ーン積層セラミック基板4と密着させないように構成す
る方が良いことは実施の形態2と同じである。また、こ
のスペーサ19自体の重量を調整することで前記グリー
ン積層セラミック基板4へ加える荷重の調整も容易にで
きる。
【0080】このようにして得られた積層セラミック基
板1の反りと歪みを評価し従来例と比較して(表1)に
示した。
【0081】(表1)に示すように本発明の実施の形態
6の積層セラミック基板の製造方法により製造した積層
セラミック基板1は従来例と比較し歪みが小さくなり良
好な結果が得られた。
【0082】(実施の形態7)以下、実施の形態7を用
いて本発明の特に請求項15に記載の発明について、図
面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態7の基本
的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部
品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴と
する部分について記載する。
【0083】図11は本発明の実施の形態7における積
層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼
成前の状態図である。
【0084】図11において23は焼成用台板24に形
成した凹部であり、この凹部23にスペーサ13を載置
した構成としたものである。
【0085】(実施の形態8)以下、実施の形態8を用
いて本発明の特に請求項16に記載の発明について、図
面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態8の基本
的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部
品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴と
する部分について記載する。
【0086】図12は本発明の実施の形態8における積
層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼
成前の状態図である。
【0087】図12において26は平板25に形成した
凹部であり、この凹部26にスペーサ13を載置した構
成としたものである。
【0088】(実施の形態9)以下、実施の形態9を用
いて本発明の特に請求項17に記載の発明について、図
面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態9の基本
的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一の構成部
品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここでは特徴と
する部分について記載する。
【0089】図13は本発明の実施の形態9における積
層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す焼
成前の状態図である。
【0090】図13において28は凹部であり焼成用台
板27においてスペーサ13を載置する周辺を凹状に加
工して形成したものである。
【0091】(実施の形態10)以下、実施の形態10
を用いて本発明の特に請求項18〜23に記載の発明に
ついて、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形
態10の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため
同一の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、こ
こでは特徴とする部分について記載する。
【0092】図14は本発明の実施の形態10における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0093】図14において29は多孔質体で形成した
焼成用台板、30は多孔質体で形成した平板であり、こ
の焼成用台板29に平均粒径25μmの敷粉7を散布し
前記平板30との間に焼成前のグリーン積層セラミック
基板4を挟んで焼成を行う構成とした。また前記焼成用
台板29と前記平板30との表面は前記敷粉7の平均粒
度以上の凹凸を有する面粗度とした。
【0094】ここでは(表2)に示すように前記焼成用
台板29及び前記平板30の空孔率と凹凸寸法とを種々
に変えてその効果を記載した。前記空孔率は0、5、1
0、20、30%の5条件、前記凹凸寸法は0μm(凹
凸なし)、30μm、50μm(敷粉7の平均粒径以上
の粗さ)の3条件とし、得られた試料の反りと歪みを評
価して(表2)に示した。
【0095】
【表2】
【0096】(表2)に示した通り、先ず、前記焼成用
台板29と前記平板30の表面の凹凸寸法を0μmとし
空孔率を変化させた試料番号12〜16の結果から、前
記焼成用台板29、前記平板30の空孔率が20%以上
のもので反りが10μm以下、歪みが1%以下の良好な
結果を得ていることがわかる。特に、空孔率0の試料番
号12のものは脱脂不良を起こして変色していた。ま
た、試料番号17及び18の結果から、前記焼成用台板
29または前記平板30のうち、どちらか一方の空孔率
が20%以上であれば、脱脂不良を起こすことなく反り
と歪みの小さい結果が得られることがわかる。そして、
前記焼成用台板29と前記平板30の空孔率を5%と
し、表面の凹凸寸法を変化させた試料番号13、19、
20の結果から、前記焼成用台板29と前記平板30の
空孔率が5%のものであっても、表面の凹凸寸法(表面
粗さ)が50μmのものでは良好な結果が得られてい
る。また、前記焼成用台板29と前記平板30のうちど
ちらか一方の表面粗さが50μmの場合でも脱脂不良を
起こすことなく反りと歪みの小さい結果が得られてい
る。この理由は、敷粉7の平均粒径40μmよりも表面
粗さが小さい場合、焼成用台板29の表面の凹凸を敷粉
7が完全に塞いでしまって、脱脂処理で分解除去される
有機成分(グリーン積層セラミック基板4の中のバイン
ダ、可塑剤等)の放出経路が閉じられることが原因と考
えられる。
【0097】また、前記グリーン積層セラミック基板4
と前記平板30との間に敷粉は介在してないが前記グリ
ーン積層セラミック基板4の上下両面から有機成分を同
じようにバランス良く分解放出させた方が反りと歪みが
小さい結果(試料番号20、21、22)を得ている。
したがって、前記平板30の表面粗さは、焼成用台板2
9と同じ方が好ましいことが言える。
【0098】また、空孔率に関しても同じことが言える
ので、焼成用台板29と平板30の空孔率は同じ方が、
反りと歪みを小さくするには有効である。
【0099】以上の結果から、前記焼成用台板29また
は前記平板30は多孔質体が好ましく、更に空孔率20
%以上の多孔質体を用い、表面粗さが敷粉の平均粒径よ
りも大きいものを用いることがより好ましく、反りと歪
みの小さい積層セラミック基板1が得られることとな
る。
【0100】(実施の形態11)以下、実施の形態11
を用いて本発明の特に請求項24に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態1
1の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一
の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここで
は特徴とする部分について記載する。
【0101】図15は本発明の実施の形態11における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0102】図15において31は焼成用台板であり、
この焼成用台板31上に多数の焼成前のグリーン積層セ
ラミック基板4を並べて、このグリーン積層セラミック
基板4のそれぞれに平板10を載せた構成とした。この
とき前記平板10のそれぞれは互いに間隙32を有し焼
成で発生する脱脂成分の揮発が十分に行い得るものとし
た。
【0103】(実施の形態12)以下、実施の形態12
を用いて本発明の特に請求項25に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態1
2の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一
の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここで
は特徴とする部分について記載する。
【0104】図16は本発明の実施の形態12における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0105】図16において33は一枚の平板であり、
前記一枚の焼成用台板31との間に焼成前のグリーン積
層セラミック基板4を複数はさんで焼成を行う構成とし
た。前記焼成前の複数のグリーン積層セラミック基板4
は互いに密着することなく間隙34を形成し、前記平板
33と焼成用台板31の前記グリーン積層セラミック基
板4との設置面からずらして貫通孔を形成し焼成で発生
するガス成分の通気路を構成した。
【0106】(実施の形態13)以下、実施の形態13
を用いて本発明の特に請求項26に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態1
3の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一
の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここで
は特徴とする部分について記載する。
【0107】図17は本発明の実施の形態13における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0108】図17において35、36、37は焼成用
台板であり、多数並べて焼成する構成とした。
【0109】このように前記焼成用台板35、36、3
7を多数並べて焼成することによって多数の反りの小さ
い積層セラミック基板1を得ることができる。焼成炉
は、ベルト炉でも単炉でもかまわない。また、脱脂炉に
ついても焼成炉と同じことである。
【0110】(実施の形態14)以下、実施の形態14
を用いて本発明の特に請求項27、28、29に記載の
発明について、図面を参照しながら説明する。尚、本実
施の形態14の基本的な構成は前記実施の形態1と共通
のため同一の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省
き、ここでは特徴とする部分について記載する。
【0111】図18は本発明の実施の形態14における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0112】図18において38、39、40はスペー
サ41、42を介して多段に積み重ねた焼成用台板であ
り、この焼成用台板38、39、40の上面にグリーン
積層セラミック基板4を配置し、このグリーン積層セラ
ミック基板4の上面に平板10を載せて焼成する構成と
した。
【0113】(実施の形態15)以下、実施の形態15
を用いて本発明の特に請求項30に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態1
5の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一
の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここで
は特徴とする部分について記載する。
【0114】図19は本発明の実施の形態15における
積層セラミック基板の製造方法における焼成方法を示す
焼成前の状態図である。
【0115】図19において43はラックであり、この
ラック43に焼成用台板38、39、及び40を多段に
収納して焼成を行うものとした。
【0116】前記ラック43の材質は前記グリーン積層
セラミック基板4の焼成に化学反応を起すことが無く熱
伝導性が良く焼成時の温度分布が小さい純度99.5%
のアルミナを選択し5mm角状の棒によって構成した。
【0117】(実施の形態16)以下、実施の形態16
を用いて本発明の特に請求項31に記載の発明につい
て、図面を参照しながら説明する。尚、本実施の形態1
6の基本的な構成は前記実施の形態1と共通のため同一
の構成部品は同一符合を付し詳細な説明を省き、ここで
は特徴とする部分について記載する。
【0118】図20は本発明の実施の形態16における
積層セラミック基板の焼成前の断面図であり、複数の素
子44、45、46を一体に成形した構成とし、焼成後
に前記素子44、45、46を分割して前記積層セラミ
ック基板1を得るものとした。
【0119】前記素子44、45、及び46の内部構造
は非対称で不均等な場合の方が一般的であり、このよう
な場合は焼成時の反りや歪みが発生しやすくなるので、
前記素子44、45、及び46を複数連結する場合、前
記素子44、45、及び46を交互に上下を反転させた
り左右を反転したりすることで左右上下の均等な断面を
得ることができ焼成で反りや歪みが小さい積層セラミッ
ク基板1を得ることができる。また、前記素子44、4
5、及び46を一つずつ焼成すると反りが発生し易いが
このように連続してつないだ状態で焼成することで前記
素子44、45、及び46の一つ当たりの反りが抑制さ
れる効果も得られることとなる。
【0120】
【発明の効果】以上のように本発明は、積層セラミック
基板の焼成において、先ずグリーン積層セラミック基板
に荷重を加えた状態で焼成を開始し、その後、焼成過程
中において前記荷重を取り除いて焼成を進めることによ
って、反りと歪みの小さい積層セラミック基板を得るこ
とができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1において積層セラミック
基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態図
【図2】同実施の形態1における焼成後の状態図
【図3】一般的な積層セラミック基板の外観斜視図
【図4】同積層セラミック基板の断面図
【図5】本発明の実施の形態2において積層セラミック
基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態図
【図6】同実施の形態2における焼成後の状態図
【図7】本発明の実施の形態3において積層セラミック
基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態図
【図8】本発明の実施の形態4において積層セラミック
基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態図
【図9】本発明の実施の形態5において積層セラミック
基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態図
【図10】本発明の実施の形態6において積層セラミッ
ク基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態
【図11】本発明の実施の形態7において積層セラミッ
ク基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態
【図12】本発明の実施の形態8において積層セラミッ
ク基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態
【図13】本発明の実施の形態9において積層セラミッ
ク基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状態
【図14】本発明の実施の形態10において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図15】本発明の実施の形態11において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図16】本発明の実施の形態12において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図17】本発明の実施の形態13において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図18】本発明の実施の形態14において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図19】本発明の実施の形態15において積層セラミ
ック基板の製造方法における焼成方法を示す焼成前の状
態図
【図20】本発明の実施の形態16における積層セラミ
ック基板の焼成前の断面図
【図21】従来の積層セラミック基板の製造方法におけ
る焼成方法を示す状態図
【符号の説明】
1 積層セラミック基板 2 誘電体 3 導体 4 グリーン積層セラミック基板 5、24、29、31、35〜40 焼成用台板 6、13、19、41、42 スペーサ 7 敷粉 8 孔 9 小径部 10、20、25、30 平板 11、32 間隙 12 焼成収縮するシート 14 接着剤 15 グリーンシート 17 第2のグリーンシート 18 第3のグリーンシート 21 孔 22 クビレ部 23、26、28 凹部 43 ラック 44、45、46 素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 昌昭 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 北田 匡智 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 平岡 義広 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E346 AA12 AA15 AA22 AA32 AA51 CC16 CC17 DD34 EE21 EE27 EE29 GG09 HH11

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘電体と導体とから構成されるグリーン
    積層セラミック基板の焼成において、先ず前記グリーン
    積層セラミック基板に荷重を加えた状態で焼成を開始
    し、その後、焼成過程中において前記荷重を取り除いて
    焼成する積層セラミック基板の製造方法。
  2. 【請求項2】 グリーン積層セラミック基板を焼成用台
    板に載置し、このグリーン積層セラミック基板の周囲に
    グリーン積層セラミック基板の焼成前の厚みと焼成後の
    厚みの中間厚みを有するスペーサを配置し、前記グリー
    ン積層セラミック基板と周辺のスペーサを覆うように平
    板を載せて焼成する請求項1に記載の積層セラミック基
    板の製造方法。
  3. 【請求項3】 焼成用台板上にグリーン積層セラミック
    基板の焼結温度では焼結しない材料からなる敷粉を散布
    し、この上に前記グリーン積層セラミック基板を載置し
    て焼成する請求項2に記載の積層セラミック基板の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 敷粉を焼成後に除去する請求項3に記載
    の積層セラミック基板の製造方法。
  5. 【請求項5】 焼成用台板上に散布した敷粉の上に焼成
    収縮するシートを載置し、その上にグリーン積層セラミ
    ック基板を載置して焼成する請求項2に記載の積層セラ
    ミック基板の製造方法。
  6. 【請求項6】 焼成用台板上に散布した敷粉の上に焼成
    収縮するシートを載置し、このシートの上面に前記敷粉
    を再散布し、この再散布した敷粉の上にグリーン積層セ
    ラミック基板を載置して焼成する請求項2に記載の積層
    セラミック基板の製造方法。
  7. 【請求項7】 焼成用台板上にグリーン積層セラミック
    基板の焼結温度では焼結しない材料からなるグリーンシ
    ートを敷き、この上にグリーン積層セラミック基板を載
    置して焼成する請求項2に記載の積層セラミック基板の
    製造方法。
  8. 【請求項8】 グリーンシートを焼成後に除去する請求
    項7に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  9. 【請求項9】 焼成用台板上に敷いた前記グリーンシー
    トの上に焼成収縮する第2のシートを載置し、この上に
    グリーン積層セラミック基板を載置して焼成する請求項
    7に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  10. 【請求項10】 焼成用台板上に敷いたグリーンシート
    の上に焼成収縮する第2のシートを載置し、この上に更
    に第3のグリーンシートを敷き、この第3のグリーンシ
    ート上にグリーン積層セラミック基板を載置して焼成す
    る請求項7に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  11. 【請求項11】 スペーサを焼成用台板に取り付けて用
    いる請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  12. 【請求項12】 焼成用台板とスペーサが着脱できるよ
    うに設置して用いる請求項2に記載の積層セラミック基
    板の製造方法。
  13. 【請求項13】 スペーサを平板に取り付けて用いる請
    求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  14. 【請求項14】 平板とスペーサが着脱できるように設
    置して用いる請求項2に記載の積層セラミック基板の製
    造方法。
  15. 【請求項15】 スペーサを載置する箇所に凹部を設け
    た焼成用台板を用いる請求項2に記載の積層セラミック
    基板の製造方法。
  16. 【請求項16】 スペーサ上へ載置する箇所に凹部を設
    けた平板を用いる請求項2に記載の積層セラミック基板
    の製造方法。
  17. 【請求項17】 スペーサを載置する周辺の部分を凹状
    にへこませた焼成用台板を用いる請求項2に記載の積層
    セラミック基板の製造方法。
  18. 【請求項18】 焼成用台板が多孔質体である請求項2
    に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  19. 【請求項19】 平板が多孔質体である請求項2に記載
    の積層セラミック基板の製造方法。
  20. 【請求項20】 焼成用台板の空孔率が20%以上であ
    る請求項18に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  21. 【請求項21】 平板の空孔率が20%以上である請求
    項19に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  22. 【請求項22】 焼成用台板の表面に敷粉の平均粒度以
    上の高さの凹凸を形成した請求項3に記載の積層セラミ
    ック基板の製造方法。
  23. 【請求項23】 平板の表面に敷粉の平均粒度以上の高
    さの凹凸を形成した請求項3に記載の積層セラミック基
    板の製造方法。
  24. 【請求項24】 一枚の焼成用台板上に2個以上の多数
    のグリーン積層セラミック基板を並べて焼成する請求項
    2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  25. 【請求項25】 一枚の焼成用台板上に2個以上の多数
    のグリーン積層セラミック基板を並べて、これらのグリ
    ーン積層セラミック基板全体を覆うようにして一枚の平
    板を載置して焼成する請求項2に記載の積層セラミック
    基板の製造方法。
  26. 【請求項26】 焼成用台板を2つ以上多数並べて焼成
    する請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  27. 【請求項27】 焼成用台板を2段以上多段にして焼成
    する請求項2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  28. 【請求項28】 複数の焼成用台板間に焼成用台板載置
    用スペーサを介して2段以上多段にして焼成する請求項
    2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
  29. 【請求項29】 焼成用台板に焼成用台板載置用スペー
    サを取り付けた請求項28に記載の積層セラミック基板
    の製造方法。
  30. 【請求項30】 ラックに焼成用台板を2段以上多段に
    収納して焼成する請求項2に記載の積層セラミック基板
    の製造方法。
  31. 【請求項31】 グリーン積層セラミック基板が複数の
    素子から構成され、焼成後に素子単位に分割する請求項
    2に記載の積層セラミック基板の製造方法。
JP2001089480A 2001-03-27 2001-03-27 積層セラミック基板の製造方法 Pending JP2002290041A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001089480A JP2002290041A (ja) 2001-03-27 2001-03-27 積層セラミック基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001089480A JP2002290041A (ja) 2001-03-27 2001-03-27 積層セラミック基板の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002290041A true JP2002290041A (ja) 2002-10-04

Family

ID=18944404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001089480A Pending JP2002290041A (ja) 2001-03-27 2001-03-27 積層セラミック基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002290041A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005306672A (ja) * 2004-04-22 2005-11-04 Tdk Corp 積層セラミック基板の製造方法
WO2013146789A1 (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 日立金属株式会社 窒化珪素焼結体基板及びその製造方法
JP2015226020A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 富士通株式会社 回路基板の製造装置及び回路基板の製造方法
KR20160068205A (ko) * 2014-12-05 2016-06-15 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법
KR101842319B1 (ko) * 2014-12-05 2018-05-14 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법
KR20180134324A (ko) * 2018-12-11 2018-12-18 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005306672A (ja) * 2004-04-22 2005-11-04 Tdk Corp 積層セラミック基板の製造方法
WO2013146789A1 (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 日立金属株式会社 窒化珪素焼結体基板及びその製造方法
JP5729519B2 (ja) * 2012-03-26 2015-06-03 日立金属株式会社 窒化珪素焼結体基板及びその製造方法
JP2015226020A (ja) * 2014-05-29 2015-12-14 富士通株式会社 回路基板の製造装置及び回路基板の製造方法
KR20160068205A (ko) * 2014-12-05 2016-06-15 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법
KR101842319B1 (ko) * 2014-12-05 2018-05-14 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법
KR20180134324A (ko) * 2018-12-11 2018-12-18 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법
KR101940712B1 (ko) 2018-12-11 2019-01-22 주식회사 엘지화학 고체 산화물 연료 전지 및 이의 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8377240B2 (en) Method for the production of a metal-ceramic substrate or copper-ceramic substrate, and support to be used in said method
TWI326093B (ja)
TWI528013B (zh) Burn the use of the framework
JPH0428991B2 (ja)
JP2002290041A (ja) 積層セラミック基板の製造方法
KR101476313B1 (ko) 금속화된 컴포넌트를 생성하기 위한 방법, 그에 대응하는 컴포넌트, 및 금속화 동안에 상기 컴포넌트를 지지하기 위한 기판
WO2022049980A1 (ja) 焼成用セッター
KR20100053464A (ko) 세라믹 기판 및 전자 부품의 제조 방법
JP2010093001A (ja) 金属−セラミック基板または銅−セラミック基板の製造方法および該方法で使用するための支持体
JP2955442B2 (ja) セラミックス回路基板の製造方法
KR102341028B1 (ko)
JPH10120469A (ja) セラミック基板の製造方法
JP2007059443A (ja) 複数個取り用配線基板
JP4093068B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法
JPH1112047A (ja) セラミック基板の製造方法
JP2004018325A (ja) 焼結体の製造方法、焼結体、焼結用部材、セラミック多層基板の製造方法およびセラミック多層基板
JP2011247502A (ja) 焼成用セッターおよびこれを用いたセラミックグリーンシートの焼成方法
JP2007254281A (ja) 焼結体の製造方法、焼結体、焼結用部材、セラミック多層基板の製造方法およびセラミック多層基板
JPH0945574A (ja) セラミック電子部品の製造方法
JPH0945575A (ja) セラミック電子部品の製造方法
JP3881619B2 (ja) 配線基板
JP2897067B2 (ja) セラミック多層基板の製造方法
JP2003283130A (ja) セラミック多層基板の製造方法
JPH1112046A (ja) セラミック基板の製造方法
JPH01186601A (ja) V↓2o↓3系セラミクス抵抗体素子