JP2002289125A - 液体金属ターゲットを有するx線源 - Google Patents

液体金属ターゲットを有するx線源

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、液体金属ターゲットと、電子源と
を有し、その連続的な仕事量の能力を増加することが可
能であるX線源を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、液体金属ターゲットと、液体
金属ターゲットが動作時には中を流れるダクトセクショ
ン(51)の窓(23)に電子ビームを放射する電子源
(3)とが設けられるX線源に関する。X線源は、ダク
トセクションが、窓を含み、中を液体金属ターゲットが
流れる第1のダクトセグメント(10、20)と、中を
冷媒が流れ、電子ビームが第1のダクトセグメントに作
用する領域を冷却するよう第1のダクトセグメントに接
続される第2のダクトセグメント(30、40)によっ
て形成されることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体金属ターゲッ
トと、液体金属ターゲットが動作時には中を流れるダク
トセクションの窓ニ電子ビームを放射する電子源とを含
むX線源と、そのようなX線源が設けられるX線装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】このような種類のX線源は、DE198
21939.3から公知である。液体金属ターゲットに
入射するよう電子源からの電子によって横切られる窓
は、その後、ターゲットの乱流によって冷却される。こ
のような種類の冷却は、X線源の連続的な仕事量の能力
(loadability)をかなり高める。しかし、仕事量の能
力の更なる増加は、窓、及び、窓を取り囲むX線源の領
域、即ち、窓フレームは、比較的高い熱応力の影響を受
けやすいという事実によって阻止される。このような応
力の起源は、特に、高エネルギーの電子の直接入射、及
び、窓の下における熱い液体金属の流れによる熱の発生
にある。更に、少量のエネルギー損のみを示す散乱した
電子も、熱の発生に寄与する。
【0003】これは特に、窓と窓フレームとの間の接続
は、用いられる接合技術(例えば、はんだ付け、接着)
に依存する限定された最大温度にのみ耐え得るので重要
である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、上
述されたような種類の液体金属ターゲットと、電子源と
を有し、その連続的な仕事量の能力を更に増加すること
が可能であるX線源を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的は、上述される
ようなX線源によって達成され、これは、請求項1に開
示されるように、ダクトセクションは、窓を含み、その
中を液体金属ターゲットが流れる第1のダクトセグメン
トと、その中を冷媒が流れ、電子ビームが第1のダクト
セグメントに作用する領域が冷却されるよう第1のダク
トセグメントに接続される第2のダクトセグメントとに
よって形成されることを特徴とする。
【0006】この解決策の特定の利点は、増加された熱
の放散によって、更にX線源の仕事量の能力の更なる増
加を可能にするという事実にあり、これは、例えば、高
い走査率を有するCT装置といった高いX線量が短時間
に発生されなければならない適用において、特に言え
る。
【0007】従属項は、本発明の有利な更なる実施例に
関連する。
【0008】請求項2乃至5は、様々な方法によって熱
の放散の更なる改善を実現する処置を開示する。請求項
6及び7に開示される実施例では、ダクトセクション
は、一方で所与の空間開口角で伝搬するX線ビームが妨
害されず、他方で冷却による影響を許容する必要がない
よう有利に構成される。
【0009】本発明の更なる詳細、特徴、及び利点は、
添付図面と供に与えられる好適な実施例の以下の説明か
ら明らかになろう。
【0010】
【発明の実施の形態】図1は、X線源を概略的に示し、
電子によって照射されるターゲットは、X線源の動作状
態では液体である金属によって形成される。動作状態で
は、電子ビーム4を放射する陰極3の形式である電子源
は、管エンベロープ1内の真空空間内に配置される。電
子ビーム4は、ダクトシステム50のダクトセクション
51に向けられ、本質的に電子を透過させる窓22、3
4を介し、ダクトシステム50内を流れる液体金属ター
ゲットに入射し、それにより、X線が発生される。ポン
プ52は、熱交換器53も通過するダクトシステム50
内で液体金属を循環させ、それにより、発生した熱が、
冷却回路を介し液体金属から放散されることが可能とな
る。
【0011】図2及び3に、ダクトシステム50のダク
トセクション51の詳細を示す平面図を示す。
【0012】図2に示されるように、ダクトセクション
51は、4つの要素10、20、30、及び40からな
り、それらは、(a)乃至(d)の順序で示され、この
順序で互いに重ねられる。つまり、図2(a)の第1の
要素10の上には、図2(b)の第2の要素20が配置
され、その上には図2(c)の第3の要素30が、そし
て最後にその上には図2(d)に示される第4の要素4
0が配置されることを意味する。要素は、図2に示され
るような向きで互いに取り付けられる。電子ビームは最
初に、図平面に対し垂直な方向で、上方から第4の要素
40に入り、続いて、第3の要素及び第2の要素を横断
し、最終的に第1の要素10に入る。
【0013】尚、電子ビームは、図2の左から右に延在
する線状の焦点(ストリップ焦点)を形成すると考えら
れる。このような種類のストリップ焦点は、例えば、1
ミリメートル×7ミリメートルの寸法を有し、出力密度
を一定に保ちながら、照射される表面領域を増加するよ
う一般的にX線源に使用される。
【0014】図2(a)に示される第1の要素10は、
例えば、100ミリメートルの長さ、25ミリメートル
の幅、及び10ミリメートルの奥行きを有する、例え
ば、スチール又はモリブデンといった固体の金属の本体
から形成される。この金属本体の中には、組立てられた
ダクトセクションの動作状態において、X線が発生され
る液体金属ターゲットが矢印P1によって示される方向
に流れる第1のダクト11が設けられる。第1のダクト
の奥行きは一定ではないが、中心領域12においては、
小さくなる。ダクトの奥行きは、電子ビームが入る中心
領域の辺りにおいて最も小さくなり、例えば、この領域
において、約200ミクロンメートルまでなる。
【0015】図2(b)に示される第2の要素20は、
約1ミリメートルの厚さを有し、そうでない場合は、第
1の要素10と同一の外部寸法を有する。中心領域21
内には、電子ビーム用の本質的に矩形である第1のスリ
ット23が中に設けられる本質的に円形のインサート2
2が設けられる。このスリットの長手方向は、液体金属
ターゲットの流れの方向に対し垂直に延在し、それによ
り、最適な熱の放散が達成される。
【0016】第1のスリット23はその下側において
(図示されるように)、約1ミクロンメートルの厚さを
有するダイアモンド層によってシールされる。この層
は、接合、接着、又は他の方法によってインサート22
に取り付けられる。従って、第1のスリットは、電子を
透過させるダイアモンド窓23を形成する。
【0017】第2の要素20は、その中を液体金属ター
ゲットが流れることが可能となる第1の防水ダクトセグ
メント10、20が形成されるようネジ又は他の固定手
段(図示せず)によって第1の要素10に取り付けられ
る。中心領域12におけるダクト11の奥行きは小さい
ので、この領域において、特に、ダイアモンド窓におい
てターゲットの流れは加速され、それにより乱流が形成
される。発生する乱流は、液体を特に徹底的に且つ迅速
に混ぜ合わせるので、熱エネルギーの、窓からの特に効
率のよい放散を与える。これは、特に、ダイアモンド
窓、及び、そのインサート22との接続における温度が
重要な領域において有利である。
【0018】第1のダクトセグメント10、20は、熱
交換器53(図1参照)を通り延在する1次液体金属回
路の一部を形成する。
【0019】更に、冷媒を導き、第1のダクトセグメン
ト10、20の上に、図2(c)及び(d)に示される
ように、略90度の角度で取り付けられ、従って、第1
のスリット23の上で、その長手方向において延在する
第2のダクトセグメント30、40が設けられる。
【0020】第2のダクトセグメントは、図2(c)に
示されるように、例えば、スチール又はモリブデンとい
った金属の本体からなり、中心領域33を含む第3の要
素30を含む。中心領域33には、本質的には矩形であ
る第2のスリット34aが設けられ、これは、第2の要
素20内の第1のスリット23と連続となるよう方向付
けられ、且つ、形成される。金属本体内には、第2のス
リット34aの長手方向に延在し、互いに平行であり、
中心領域33の外側にある凹部にされた2つのダクト3
1、32がある。中心領域33において、ダクト31、
32は、第2のスリット43aの一端の位置で互いから
分岐し始め、中心領域から外れて、即ち、スリット34
aの他端の位置で再び互いに平行となるよう延在し始め
る。従って、ダクト31、32は、第1のスリット34
aが位置する中心領域33内において、本質的に円弧状
にされる表面35を囲む。
【0021】第4の要素40は本質的に、第3の要素3
0と同一の外形を有し、第3の要素30上に固定手段
(図示せず)によって取り付けられ、それにより、第2
の防水ダクトセグメント30、40が形成される。第4
の要素40の中心領域41には、第2のスリット34a
の本質的に矩形の開口34bが設けられる。更に、中心
領域41の外面には、第3の要素30の中心領域33に
おけるダクト31、32によって囲まれる表面35の形
状に対応する円弧状にされる凹部43が形成される。凹
部は、ミリング又は他の方法によって材料を取り除くこ
とにより形成される。
【0022】組立てられた状態においては、第2のダク
トセグメント30、40は、電子ビームのストリップ焦
点が位置する凹部43の領域においては約3ミリメート
ルの厚さを有する。この領域の外側、つまり、この領域
から上流方向、下流方向、及びこの領域に対し垂直な方
向において、厚さは大きくてもよく、それにより、ダク
ト31、32は、広く又は深くなるよう形成されること
が可能になり、従って、冷媒(2次的な液体)の粘度に
よる流れ損が減少される。この点に関する唯一の制限
は、第2のダクトセグメントの寸法及び形状は、有用な
X線ビームを妨害するべきでないという条件によって課
される。
【0023】第2のダクトセグメント30、40は、2
次液体回路の一部を形成し、第1のダクトセグメント、
特に、第1のスリット、従って、ダイアモンド窓が位置
する第1のダクトセグメントの中心領域からの熱を放散
するよう作用する。この為に、第2のダクトセグメント
30、40は、第1のダクトセグメント10、20に対
し90度の角度で延在する。第1のダクトセグメント1
0、20を通る1次液体金属ターゲットの好ましい流れ
の方向は、図2(a)中、矢印P1によって示され、第
2のダクトセグメント30、40を通る2次液体の好ま
しい流れの方向は、図2(c)中、矢印P2によって示
される。
【0024】この配置によって、3つの有利な効果が達
成される。一方で、1次液体金属ターゲットの実用温度
が下げられる。他方で、ダイアモンド窓とインサート2
2との間の接続の温度も下げられ、最終的には、陰極に
対し正である陽極の電位の影響下で焦点の付近に入射す
るよう1次電子ビームから散乱される2次電子の熱効果
も減少される。
【0025】これらの効果は、第2のダクトセグメント
30、40の2つのダクト31、32が、電子ビームの
ストリップ焦点の方向、及び、スリットの両側と平行に
延在するという事実により支援される。従って、2次液
体回路内の流れは、電子が入射する領域の非常に近くで
導かれる。
【0026】第2のダクトセグメントの中心領域33内
におけるダクト31、32の分岐路と、第4の要素40
の中心領域41内の凹部43は円弧状にされる事実によ
って、X線ビームは、所与の空間開口角で第2のスリッ
ト34aの開口34bから放射しなければならないとい
う条件を満足する。通常の診断X線管においては、陽極
の平面と、陽極の平面に最も近いX線との間の角度は約
12度になる。図3は、上記の関係を、第1のダクトセ
グメント及び第2のダクトセグメントから構成されるダ
クトセクション51に対し示す。ここでも、1次液体金
属ターゲットの好適な流れの方向は、矢印P1によって
示され、2次液体の好適な流れの方向は、矢印P2によ
って示される。
【0027】ダクト31、32は、第3の要素30の中
心領域33内において、図3に示されるように放射する
X線ビーム50がダクトによって妨害される又は減衰さ
れることがないよう分岐する。第4の要素内の凹部43
のプロポーショニングにおいても同様のことが言え、そ
れにより、形成されるX線ビームは、これらの2つの処
置が採られると、妨害されることなく円錐状に伝搬する
ことが可能である。
【0028】図4に従う表示では、1次液体回路及び2
次液体回路は、ダクト50(図1参照)、即ち、ポンプ
52によって同一の液体金属で共通に給送されることが
可能であり、その場合、ダクト50は、熱交換器53を
経由することが好適である。
【0029】より詳細には、このために第1のダクト分
岐片(Y片)501が設けられ、これは、ダクト50が
接続され、そこから1次ダクト502及び2次ダクト5
03が出る。これらのダクトは、ダクトセクション51
に給送し、第2のダクト分岐片504(Y片)によって
再び結合されるまで続き、その後共通のダクト50とし
て続けられる。1次ダクト502及び2次ダクト503
は、ダクトセクション51の入口及び出口(互いに直角
に延在する)、且つ、第1のダクト分岐片501及び第
2のダクト分岐片504に接続可能であるようつながれ
る。
【0030】或いは、2次液体回路は更に、液体金属タ
ーゲットの1次回路とは別個に、及び、独立してつなげ
られることも可能である。この取り組み方法は、特に、
例えば、特に低い粘度及び/又は高い熱伝導率を有する
冷却液が使用される場合に、有用である。
【0031】いずれの場合においても、本発明のダクト
セクション51によって熱の放散が達成され、つまり、
X線を発生させるよう電子ビームによって横断される窓
からの熱の放散は、このような種類の公知の装置におけ
るよりもかなり効果的であり、それにより、実用温度を
下げることが可能であるか、又は、当該のX線源におけ
る放射線強度を増加することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のX線源を示す図である。
【図2】本発明のダクトセクションの様々な要素を示す
図である。
【図3】組立てられた状態にある本発明のダクトセクシ
ョンを示す図である。
【図4】本発明のダクトセクションの給送を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 管エンベロープ 3 陰極 4 X線ビーム 10、20、30、40 ダクトセクションを構成する
要素 11 第1のダクト 12、21、33、41 中心領域 22、34 窓、第1のスリット 34a 第2のスリット 31、32 ダクト 50 ダクトシステム 51 ダクトセクション 52 ポンプ 53 熱交換器
フロントページの続き (72)発明者 ジェフリー ハーディング ドイツ連邦共和国,22547 ハンブルク, イェフェンシュテッター シュトラーセ 170D (72)発明者 ベルント ウルマ ドイツ連邦共和国,70499 シュトゥット ガルト,シュタインレーレンヴェーク 16 (72)発明者 ベルント ダーフィット ドイツ連邦共和国,24641 ヒュットブレ ク,ドルフシュトラーセ 20 Fターム(参考) 4C092 AA01 AB21 AC01 BD05 BD11 BD12 BD17 BD19

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液体金属ターゲットと、上記液体金属タ
    ーゲットが、動作時には中を流れるダクトセクションの
    窓に電子ビームを放射する電子源とを含むX線源であっ
    て、 上記ダクトセクションは、上記窓を含み、内部を上記液
    体金属ターゲットが流れる第1のダクトセグメントと、 内部を冷媒が流れ、上記電子ビームが上記第1のダクト
    セグメントに作用する領域を冷却するよう上記第1のダ
    クトセグメントに接続される第2のダクトセグメントと
    によって形成されることを特徴とするX線源。
  2. 【請求項2】 上記第1のダクトセグメント及び上記第
    2のダクトセグメントは、上記電子ビームが入射する方
    向に対し本質的に垂直に延在する平面に位置し、互いに
    対し約90度の角度をなすことを特徴とする請求項1記
    載のX線源。
  3. 【請求項3】 上記第1のダクトセグメント内の上記窓
    は、ダイアモンド層が設けられる本質的に矩形である第
    1のスリットによって形成され、 上記スリットの長手方向は、上記液体金属ターゲットの
    流れの方向に対し本質的に垂直に延在することを特徴と
    する請求項1記載のX線源。
  4. 【請求項4】 上記第1のダクトセグメントは、中を上
    記液体金属ターゲットが流れ、上記第1のスリットの領
    域においてくびれが設けられるダクトが設けられること
    を特徴とする請求項1記載のX線源。
  5. 【請求項5】 上記第2のダクトセグメントは、上記電
    子源と上記第1のダクトセグメントとの間に配置され、
    本質的に矩形の第2のスリットが設けられ、 上記電子ビームは、上記第2のスリットを通り、上記第
    1のダクトセグメントの第1のスリットに入射すること
    を特徴とする請求項1記載のX線源。
  6. 【請求項6】 上記第2のダクトセグメントは、本質的
    に平行に延在するが、上記第2のスリットの領域におい
    ては、上記第2のスリットが位置する本質的に円弧状に
    される表面領域を囲むよう分岐する、冷媒用の2つのダ
    クトを含むことを特徴とする請求項5記載のX線源。
  7. 【請求項7】 上記第2のスリットの開口は、上記第2
    のダクトセグメントに設けられ、本質的に円弧状にされ
    る、上記外面上の凹部に位置することを特徴とする請求
    項5記載のX線源。
  8. 【請求項8】 上記第1のダクトセグメント及び上記第
    2のダクトセグメントは、上記液体金属ターゲット用の
    共通の回路に接続され、上記第2のダクトセグメント内
    の上記液体金属が上記冷媒として作用することを特徴と
    する請求項1記載のX線源。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至8のうちいずれか一項記載
    のX線源を含むX線装置。
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