JPS6139351A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS6139351A JPS6139351A JP15729284A JP15729284A JPS6139351A JP S6139351 A JPS6139351 A JP S6139351A JP 15729284 A JP15729284 A JP 15729284A JP 15729284 A JP15729284 A JP 15729284A JP S6139351 A JPS6139351 A JP S6139351A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- filament
- focus
- target
- point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/06—Cathode assembly
- H01J2235/068—Multi-cathode assembly
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は点焦点及び線焦点の２焦点めＸ線を同方向に発
生させる回転陽極のＸ線発生装置に関する。
生させる回転陽極のＸ線発生装置に関する。
従来回転陽極のＸ線発生装置を第２図、第３図に示す。
１は゛ドラム型の陽極（以下ターゲットと称す）であり
、タープ・ソト１の一端面には同軸に支持軸２が突設さ
れている。これらターゲット１及び支持軸２の内部は穿
孔されて冷却水の流路２０．．２１となっており、ター
ゲット１の外周面２３に対向してタングステンからなる
フィラメント３が配置されている、これらターゲット１
．支持軸２およびフィラメント３はｘｍ発生下では高真
空１例えば１０′〜１０ ” Ｔｏｒｒ下におかれ、フ
ィラメント３には加熱電流が、ターゲット１とフィラメ
ント３との間には高電圧例えば４０ ＫＶ以上が印加さ
れている。その結果、フィラメント３で発生した電子が
矢印Ａの如く、高速で外周面２３に衝突し、衝突面から
Ｘ線が発生する。この時、電子の運動エネルギーのうち
Ｘ線のエネルギーに変換されるのは１％以下であり、大
部分９９％以上が熱に変換される。このためターゲット
１の外周面２３の電子の衝突部分が高温に曝されるので
支持軸２をを中心に図中Ｂ −Ｂ、の回りに高速に回転
させる。
、タープ・ソト１の一端面には同軸に支持軸２が突設さ
れている。これらターゲット１及び支持軸２の内部は穿
孔されて冷却水の流路２０．．２１となっており、ター
ゲット１の外周面２３に対向してタングステンからなる
フィラメント３が配置されている、これらターゲット１
．支持軸２およびフィラメント３はｘｍ発生下では高真
空１例えば１０′〜１０ ” Ｔｏｒｒ下におかれ、フ
ィラメント３には加熱電流が、ターゲット１とフィラメ
ント３との間には高電圧例えば４０ ＫＶ以上が印加さ
れている。その結果、フィラメント３で発生した電子が
矢印Ａの如く、高速で外周面２３に衝突し、衝突面から
Ｘ線が発生する。この時、電子の運動エネルギーのうち
Ｘ線のエネルギーに変換されるのは１％以下であり、大
部分９９％以上が熱に変換される。このためターゲット
１の外周面２３の電子の衝突部分が高温に曝されるので
支持軸２をを中心に図中Ｂ −Ｂ、の回りに高速に回転
させる。
更に流路２０，２１に図中Ｃ−Ｄの如く冷却水を流しタ
ーゲット１を冷却してターゲット１（陽極）の熔解を防
いでいる。
ーゲット１を冷却してターゲット１（陽極）の熔解を防
いでいる。
このようなＸ線発生装置から取り出されるＸ線はフィラ
メント３がらせん状に巻れて、全体として線状になって
いるため第３図に示すように長方形の焦点Ｈを形成して
いる。図中ＥはＸ線のポイント取り出しく以下点焦点と
称す）、Ｆはライン取り出しく以下線焦点と称す）であ
る。点焦点Ｘ線Ｅは、フィラメント３を電子線Ａの方向
に外周面２３上に投影する長方形の実焦点Ｈを含む平面
（外周面２３に接する平面）に０１の角度１通常６影す
る長方形の焦点Ｈを含む平面に０２度（同様に６度前後
）で取り出さ・れている。従って点焦点・Ｘ線Ｅはフィ
ラメント３の厚みに対応し、線焦点Ｘ＃ｌＦはフィラメ
ント３の幅に対応し夫々点状で細く、他方は線状に広く
なっており、これらは互に９０度に交叉している。点焦
点Ｘ＠Ｅは、単結晶の物質の回折斑点用のＸ線カメラや
マイクロチ゛イフラクトメータで、一方線焦点Ｘ＆ＪＸ
Ｆは、ディフラクトメータで夫々使用され、これらは各
々測角器（ゴニオメータ）を有している。
メント３がらせん状に巻れて、全体として線状になって
いるため第３図に示すように長方形の焦点Ｈを形成して
いる。図中ＥはＸ線のポイント取り出しく以下点焦点と
称す）、Ｆはライン取り出しく以下線焦点と称す）であ
る。点焦点Ｘ線Ｅは、フィラメント３を電子線Ａの方向
に外周面２３上に投影する長方形の実焦点Ｈを含む平面
（外周面２３に接する平面）に０１の角度１通常６影す
る長方形の焦点Ｈを含む平面に０２度（同様に６度前後
）で取り出さ・れている。従って点焦点・Ｘ線Ｅはフィ
ラメント３の厚みに対応し、線焦点Ｘ＃ｌＦはフィラメ
ント３の幅に対応し夫々点状で細く、他方は線状に広く
なっており、これらは互に９０度に交叉している。点焦
点Ｘ＠Ｅは、単結晶の物質の回折斑点用のＸ線カメラや
マイクロチ゛イフラクトメータで、一方線焦点Ｘ＆ＪＸ
Ｆは、ディフラクトメータで夫々使用され、これらは各
々測角器（ゴニオメータ）を有している。
最近では１つのＸ線源を用いて２つのＸ線分析装置例え
ば前記Ｘ線カメラとディフラクトメータとを使用する場
合が多くなっている。
ば前記Ｘ線カメラとディフラクトメータとを使用する場
合が多くなっている。
このような装置構成の場合には点焦点Ｘ線Ｅと線焦点Ｘ
線Ｆとは互に９０°（垂直）の位置関係にあるため、Ｘ
線カメラのゴニオメータが水平面上を走査する横型ゴニ
オメータだとすると、ディフラクトメータのゴニオメー
タが鉛直面上を走査する縦型ゴニオメータとなっていた
。もしくは、Ｘ線カメラおよびディフラクトメータ双方
のゴニオメータを横型ゴニオメータに統一し、そのかわ
りにＸ線発生装置全体即ちターゲットおよびフィラメン
トの方向を９０度変えて点焦点Ｘ線Ｅ、線焦点Ｘ線Ｆ＠
取り出していた。
線Ｆとは互に９０°（垂直）の位置関係にあるため、Ｘ
線カメラのゴニオメータが水平面上を走査する横型ゴニ
オメータだとすると、ディフラクトメータのゴニオメー
タが鉛直面上を走査する縦型ゴニオメータとなっていた
。もしくは、Ｘ線カメラおよびディフラクトメータ双方
のゴニオメータを横型ゴニオメータに統一し、そのかわ
りにＸ線発生装置全体即ちターゲットおよびフィラメン
トの方向を９０度変えて点焦点Ｘ線Ｅ、線焦点Ｘ線Ｆ＠
取り出していた。
上記のようにゴニオメータを縦横型の２種類に設けると
装置が高価なものとなる。一方ターゲットおよびフィラ
メントの軸方向を変換する場合には、常に真空解除、真
空設定、Ｘ線の光軸調整等を必要とし、装置の切り換え
に長時間を要するという問題点があった。
装置が高価なものとなる。一方ターゲットおよびフィラ
メントの軸方向を変換する場合には、常に真空解除、真
空設定、Ｘ線の光軸調整等を必要とし、装置の切り換え
に長時間を要するという問題点があった。
この発明は、１つのＸ線源を用いて２つのＸ線分析装置
を使用する場合において、特にその一方がＸ線の点焦点
取り出しで他方が線焦点取り出しを必要とする場合、容
易な切り換え操作と簡単な構造で前記２種のＸ線の取り
出しが可能なＸ線発生装置を提供することを目的として
いる。
を使用する場合において、特にその一方がＸ線の点焦点
取り出しで他方が線焦点取り出しを必要とする場合、容
易な切り換え操作と簡単な構造で前記２種のＸ線の取り
出しが可能なＸ線発生装置を提供することを目的として
いる。
本発明は１回転陽極のＸ線発生装置において、ドラム型
ターゲットの支持軸とその反対側の端面にフィラメント
を対向させる構成とし、点焦点Ｘ線と、線焦点Ｘ線とを
訪端面から取り出すようにしたことを特徴としている。
ターゲットの支持軸とその反対側の端面にフィラメント
を対向させる構成とし、点焦点Ｘ線と、線焦点Ｘ線とを
訪端面から取り出すようにしたことを特徴としている。
本発明の一実施例を第１図に示す。同図中１０は内部に
図示外の冷却水通路を有するドラム型ターゲット（陽極
）であり、このターゲット１０の一端面には冷却水通路
を有する支持軸１２が同軸に突設されている。これら冷
却水通路は互いに連通しており、水が流されるようにな
っているとともに、ターゲット１０は支持軸１２を中心
に回転可能となっている。
図示外の冷却水通路を有するドラム型ターゲット（陽極
）であり、このターゲット１０の一端面には冷却水通路
を有する支持軸１２が同軸に突設されている。これら冷
却水通路は互いに連通しており、水が流されるようにな
っているとともに、ターゲット１０は支持軸１２を中心
に回転可能となっている。
１３．１４はターゲット１０の支持軸１２と反対側の円
形端面１５に対向して配設されたフィラメントであり、
フィラメント１３はその幅（長手）方向を例えば水平方
向に、一方フィラメント１４はその幅方向を鉛直方向に
夫々配設されている。
形端面１５に対向して配設されたフィラメントであり、
フィラメント１３はその幅（長手）方向を例えば水平方
向に、一方フィラメント１４はその幅方向を鉛直方向に
夫々配設されている。
これらフィラメント１３．１４は互いに直交するものを
２個設けてもよく、−個のフィラメント１３もしくは１
４のみを設け、ターゲット１０の軸回りに９０度回動可
能にしてもよい。
２個設けてもよく、−個のフィラメント１３もしくは１
４のみを設け、ターゲット１０の軸回りに９０度回動可
能にしてもよい。
フィラメント１３．１４の幅はターゲット１０の半径に
較べて充分小さくし、ターゲψノド１０が回転したとき
にフィラメント１３．１４が投影される領域が該円形端
面１５の外周附近に沿って当るようにする。これらメー
タ・ソト１０およびフィラメント１３．１４は充分な真
空１０ ’Ｔｏｒｒ〜１０ ”Ｔｏｒｒ下に保たれ、こ
れらの間には高電圧４０ＫＶ以上が印加される。フィラ
メント１３．１４はタングステン等が使用され、ヒータ
ー電流が流されて加熱され熱電子の放出を容易にする。
較べて充分小さくし、ターゲψノド１０が回転したとき
にフィラメント１３．１４が投影される領域が該円形端
面１５の外周附近に沿って当るようにする。これらメー
タ・ソト１０およびフィラメント１３．１４は充分な真
空１０ ’Ｔｏｒｒ〜１０ ”Ｔｏｒｒ下に保たれ、こ
れらの間には高電圧４０ＫＶ以上が印加される。フィラ
メント１３．１４はタングステン等が使用され、ヒータ
ー電流が流されて加熱され熱電子の放出を容易にする。
ターゲット１０の陽極には融点の高く熱伝導率のよい金
属が使用されており１発生するＸ線の目的に応じてＣｕ
、Ｍｏ。
属が使用されており１発生するＸ線の目的に応じてＣｕ
、Ｍｏ。
Ａｇ（ＫｃＸ線）や軟かいＸ線用としてＣｒ 、Ｆｅ
、Ｃｏ等が使用されている。Ａ、Ａはフィラメント１３
゜１４から該円形端面１５に向けて放出された電子の流
れであり、Ｇ、Ｇ、は電子の照射領域である。
、Ｃｏ等が使用されている。Ａ、Ａはフィラメント１３
゜１４から該円形端面１５に向けて放出された電子の流
れであり、Ｇ、Ｇ、は電子の照射領域である。
この照射領域が長方形の実焦点Ｇ、Ｇ、であり、Ｅは一
方のフィラメント１３に対応する実焦点Ｇから例えば水
平方向に取り出した点焦点のＸ線である。またＦは他方
のフィラメント１４に対応する実焦点Ｇ、から同じく水
平方向に取り出した線焦点のＸ線である。これら点及び
線焦点のＸ線取り出し角θ３．θ、は計円形端面１５に
対して４度乃至６度傾いており、実焦点Ｇ、Ｇ、は端面
１５の面積に対して充分小さく、メータ・ソト１０が回
転すると端面１５上で一様に分散されメータ・ソト１０
の加熱が分散される。
方のフィラメント１３に対応する実焦点Ｇから例えば水
平方向に取り出した点焦点のＸ線である。またＦは他方
のフィラメント１４に対応する実焦点Ｇ、から同じく水
平方向に取り出した線焦点のＸ線である。これら点及び
線焦点のＸ線取り出し角θ３．θ、は計円形端面１５に
対して４度乃至６度傾いており、実焦点Ｇ、Ｇ、は端面
１５の面積に対して充分小さく、メータ・ソト１０が回
転すると端面１５上で一様に分散されメータ・ソト１０
の加熱が分散される。
上記のような構成のＸ線発生装置において、フィラメン
ト１３．１４とターゲット１０との間に高電圧を印加す
るとＡ、Ａのように電子線が円形端面１５に衝突する。
ト１３．１４とターゲット１０との間に高電圧を印加す
るとＡ、Ａのように電子線が円形端面１５に衝突する。
この電子線の照射領域Ｇ、Ｇ。
からＸ線が発生する。必要に応じて水平方向もしくは鉛
直方向の点焦点Ｘ線が、又水平方向もしくは鉛直方向の
線焦点Ｘ線が取り出せる。メータ・ソト１０内方に冷却
水を通すとともに、ターゲット１０を支持軸】２を中心
に回転させることにより照射領域Ｇ 、 Ｇ、の過熱を
防ぐことができる、このようにして取り出したＸ線は目
的に応じてディフラクトメータ又はＸ線カメラおよびマ
イクロディフラクトメータ等に利用される。
直方向の点焦点Ｘ線が、又水平方向もしくは鉛直方向の
線焦点Ｘ線が取り出せる。メータ・ソト１０内方に冷却
水を通すとともに、ターゲット１０を支持軸】２を中心
に回転させることにより照射領域Ｇ 、 Ｇ、の過熱を
防ぐことができる、このようにして取り出したＸ線は目
的に応じてディフラクトメータ又はＸ線カメラおよびマ
イクロディフラクトメータ等に利用される。
本発明のＸ線発生装置においては、ターゲット１０を常
に一定の軸方向に配置したまま、フィラメント１３ （
１４）の配置を軸の回りに９０度毎回動させるだけで水
平方向（鉛直方向）にＸ線の点焦点取り出しや、線焦点
の取り出しが必要に応じて自由に行なわれる。又２個の
フィラメント１３゜１４を配置した場合には、単にフィ
ラメント１３と１４とをスイッチで切り換えることによ
り同様の効果が得られる。従って従来のような線焦点Ｘ
線源と点焦点Ｘ線源の切り換えのたびに、メータ・ソト
やフィラメントの配置の変更、真空操作、光軸調整等を
行うことがなく、Ｘ線分析装置の取扱時間が大幅に短縮
できる。又高価な縦型ゴニオメータを購入する必要もな
く横型ゴニオメータのみでＸ線分析装置が構成できると
いう効果が得られ第１図は本発明の実施例を示す要部構
成図であり、第２図は従来のＸ線発生装置を示す構成図
。
に一定の軸方向に配置したまま、フィラメント１３ （
１４）の配置を軸の回りに９０度毎回動させるだけで水
平方向（鉛直方向）にＸ線の点焦点取り出しや、線焦点
の取り出しが必要に応じて自由に行なわれる。又２個の
フィラメント１３゜１４を配置した場合には、単にフィ
ラメント１３と１４とをスイッチで切り換えることによ
り同様の効果が得られる。従って従来のような線焦点Ｘ
線源と点焦点Ｘ線源の切り換えのたびに、メータ・ソト
やフィラメントの配置の変更、真空操作、光軸調整等を
行うことがなく、Ｘ線分析装置の取扱時間が大幅に短縮
できる。又高価な縦型ゴニオメータを購入する必要もな
く横型ゴニオメータのみでＸ線分析装置が構成できると
いう効果が得られ第１図は本発明の実施例を示す要部構
成図であり、第２図は従来のＸ線発生装置を示す構成図
。
第３図は第２図の要部拡大図である。
１０・・・ターゲット、１２・・・支持軸、１３．１４
・・・フィラメント、１５・・・端面、Ｇ 、 Ｇ、・
・・実焦点、Ａ・・・電子線、Ｅ・・・点焦点Ｘ線、Ｆ
・・・線焦点Ｘ線。
・・・フィラメント、１５・・・端面、Ｇ 、 Ｇ、・
・・実焦点、Ａ・・・電子線、Ｅ・・・点焦点Ｘ線、Ｆ
・・・線焦点Ｘ線。
Claims (1)
- 回転陽極型のＸ線発生装置において、一端面に回転用の
支持軸が突設されたターゲットの内方に冷却水通路を穿
孔し、このターゲットの他端面に対向するようにフィラ
メントを設け、このフィラメントの幅方向が前記ターゲ
ットの略中心方向を向くように配置して、これらフィラ
メントとターゲット間に高電圧を印加してＸ線を発生さ
せ、点焦点Ｘ線および線焦点Ｘ線を同一方向に取り出す
ようにしたＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15729284A JPS6139351A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15729284A JPS6139351A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6139351A true JPS6139351A (ja) | 1986-02-25 |
Family
ID=15646467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15729284A Pending JPS6139351A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6139351A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01204337A (ja) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 | Rigaku Denki Kk | 点焦点と線焦点を切替可能なｘ線管球 |
| JP2007323964A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Rigaku Corp | Ｘ線管 |
| JP2008168039A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Ｘ線発生装置およびｘ線ｃｔ装置 |
| EP3346484A4 (en) * | 2015-08-31 | 2019-05-01 | Bruker Japan K.K. | X-RAY GENERATION AND METHOD AND SAMPLE MEASURING SYSTEM |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15729284A patent/JPS6139351A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01204337A (ja) * | 1988-02-09 | 1989-08-16 | Rigaku Denki Kk | 点焦点と線焦点を切替可能なｘ線管球 |
| JP2007323964A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Rigaku Corp | Ｘ線管 |
| JP2008168039A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | Ｘ線発生装置およびｘ線ｃｔ装置 |
| EP3346484A4 (en) * | 2015-08-31 | 2019-05-01 | Bruker Japan K.K. | X-RAY GENERATION AND METHOD AND SAMPLE MEASURING SYSTEM |
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