JP2002287512A - 液体現像剤の塗布装置、液体現像装置及び画像形成装置 - Google Patents

液体現像剤の塗布装置、液体現像装置及び画像形成装置

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JP2002287512A JP2001085993A JP2001085993A JP2002287512A JP 2002287512 A JP2002287512 A JP 2002287512A JP 2001085993 A JP2001085993 A JP 2001085993A JP 2001085993 A JP2001085993 A JP 2001085993A JP 2002287512 A JP2002287512 A JP 2002287512A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布量が変動することを防止し、安定して各
種液体を塗布することができる液体現像剤の塗布装置を
提供する。 【解決手段】 表面に規則的なパターンを有する彫刻が
加工された塗布ローラ44と、この塗布ローラ44の表
面に当接させて塗布量を制御するドクタブレード47と
からなる、液体現像剤Gの均一な薄層を形成するための
塗布装置に関する。塗布ローラ44の表面の温度を調整
する温度制御装置44d,44iを備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、現像液を使用する
湿式電子複写機、現像液を用いたファクシミリ、プリン
タ等の画像形成装置に用いる液体現像剤の塗布装置、こ
の塗布装置を備えた液体現像装置及びこの液体現像装置
を備えた画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】高粘度、高濃度の液体現像剤を使って静
電潜像を可視化する画像形成装置が、例えば特開平7−
152254号公報や特開平7−209922号公報、
特開平7−219355号公報等に開示されている。こ
の画像形成装置は、感光体表面を帯電手段で均一に帯電
してから書込手段により画像データにしたがって感光体
表面を露光して静電潜像を形成して液体現像剤で現像し
て可視化する。液体現像装置は、例えばジメチルポリシ
ロキサンオイル等の絶縁性液体からなる現像液溶媒中に
顕像化粒子であるトナーが高濃度に分散された50〜1
0000mPa・s の高粘度の液体現像剤で静電潜像
を可視化するものであり、貯蔵タンクに貯蔵した液体現
像剤を現像ローラや現像ベルトに均一な厚さで塗布し、
現像ローラや現像ベルトに塗布された液体現像剤薄層が
感光体に近接して現像領域を通るとき、液体現像剤薄層
のトナーにより感光体の静電潜像を現像してトナー像を
形成する。現像領域を通過した現像ローラや現像ベルト
に残留している液体現像剤を掻き取りブレードで除去し
て貯蔵タンクに回収している。感光体に形成されたトナ
ー像は転写紙に転写され、転写紙に転写したトナー像を
定着して画像を形成する。転写工程終了後の感光体に残
留したトナーはクリーニング手段で除去して画像形成工
程を終了する。
【0003】この画像形成に使用する液体現像剤は、絶
縁性液体「キャリヤ液」中に樹脂及び顔料からなる固形分
を分散した物であり、現像するときに液体現像剤は帯電
したトナーが絶縁性液体中を静電気の力によって移動し
て静電潜像を現像する。したがって、この移動距離が短
いほど現像効率が向上する。そのためには現像ローラ等
の現像剤支持体上に液体現像剤のミクロン単位の薄層を
形成し、この薄層化された液体現像剤を感光体に接触さ
せて現像することが望ましい。このことは特に50〜1
0000mPa・sの高粘度の液体現像剤を用いる場合
により顕著である。
【0004】このように液体現像剤の薄層のよって現像
を行う場合は、層の厚さによって濃度が決定されるため
液体現像剤の均一な薄層を形成することが重要な課題と
なる。そこで、このような液体現像剤の薄層を形成する
ための手段として、例えば特開平11−265122号
公報に示すように、その表面に規則的な彫刻がなされた
塗布ローラ(アニロクスローラ)を用い、この塗布ロー
ラにドクタブレードを接触させることで液体現像剤の量
を計量して現像ローラ等へ転写塗布して均一な液体現像
剤薄層を形成している。
【0005】上記のような塗布機構においては、液体現
像剤の粘性によって塗布量が変化する。液体現像剤の粘
性は温度によって変化する。このため液体現像剤の塗布
ローラ部での温度変化を押さえる必要がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布ロ
ーラは、少なくとも塗布量を制御するための部材、ドク
タブレードやドクタローラなどと接触しており、さらに
被塗布部材である現像ローラなどと接触している。これ
らの接触部では摩擦によって温度が上昇する傾向があ
り、特に連続して運転している場合に激しく温度が上昇
する。このため、低温の状態での装置始動時と連続運転
中では塗布量が変化して画像濃度が変化してしまうとい
う問題があった。
【0007】また、転写後の液体現像剤を熱定着する場
合に高速、低温での定着を可能にするために、液体現像
剤の樹脂のガラス転移点温度を低く設定する要望があ
る。このため、塗布装置において塗布ローラの温度が上
昇してこのガラス転移点温度近くにまで達してしまう
と、薄層化されている液体現像剤は容易に温度上昇して
固形分中の樹脂が溶融して塗布ローラに付着し、塗布ロ
ーラ表面の彫刻部に目詰まりして塗布量を著しく減少さ
せてしまう。この場合、一度目詰まりした塗布ローラは
清掃しない限り塗布量は減少したままであり、より深刻
な問題である。
【0008】この発明はかかる短所を改善し、塗布量が
変動することを防止し、安定して各種液体を塗布するこ
とができる液体現像剤の塗布装置、液体現像装置及び画
像形成装置を提供することをその目的とするものであ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明は、表面に規則的なパターンを有する
彫刻が加工された塗布ローラと、この塗布ローラの表面
に当接させて塗布量を制御する塗布量規制部材とからな
る、液体現像剤の均一な薄層を形成するための塗布装置
であって、前記塗布ローラ表面の温度を調整する温度調
整手段を備えていることを特徴とする液体現像剤の塗布
装置である。また、請求項2の発明は、請求項1に記載
の塗布装置において、前記液体現像剤の粘度が50〜1
0000mPa・sであることを特徴とする液体現像剤
の塗布装置である。また、請求項3の発明は、請求項1
又は2に記載の塗布装置において、前記温度調整手段は
塗布ローラ内に内蔵されていることを特徴とする液体現
像剤の塗布装置である。また、請求項4の発明は、請求
項1又は2に記載の塗布装置において、前記温度調整手
段は前記塗布量規制部材に設けられていることを特徴と
する液体現像剤の塗布装置である。また、請求項5の発
明は、請求項1又は2に記載の塗布装置において、前記
温度調整手段は前記液体現像剤の温度を制御することで
前記塗布ローラの温度を制御することを特徴とする液体
現像剤の塗布装置である。また、請求項6の発明は、請
求項5に記載の塗布装置において、前記温度調整手段
は、塗布装置を内蔵する現像容器内の液体現像剤貯蔵部
内に設置されていることを特徴とする液体現像剤の塗布
装置である。また、請求項7の発明は、請求項5に記載
の塗布装置において、前記温度調整手段は、液体現像剤
の温度を調整する手段を塗布装置を内蔵する現像容器内
へ液体現像剤を供給するために貯蔵している貯蔵部内に
設置されていることを特徴とする液体現像剤の塗布装置
である。また、請求項8の発明は、請求項1〜7の何れ
かに記載の液体現像剤の塗布装置を備えたことを特徴と
する液体現像装置である。また、請求項9の発明は、請
求項8に記載の液体現像装置を備えたことを特徴とする
画像形成装置である。また、請求項10の発明は、請求
項8の液体現像装置を備え、アモルファスシリコン感光
体を用いていることを特徴とする画像形成装置である。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。以下、本発明を液体現像画像形成
装置である電子写真複写機(以下、複写機という)に適
用した場合の実施形態の一例について説明する。図1
は、本実施形態に係る複写機の現像部概略構成図であ
る。本実施形態に係る複写機は、潜像担持体として感光
体1のまわりに、帯電器2、露光装置3、現像装置4、
転写装置5、クリーニング装置6が配設されている。上
記感光体1の材質としてはa−Si、OPC等が使用で
きる。また、上記帯電器2としては、ローラやチャージ
ャ等の形態が使用できる。また、上記露光装置3として
はLEDやレーザー走査光学系等が使用できる。なお、
図1中、符号41aは液体現像剤の供給口、符号41b
はキャリアの供給口である。
【0011】上記構成の複写機で反転現像により画像を
形成する場合について説明する。上記感光体1は、図示
しないモータ等の駆動手段によって複写時には一定速度
で矢印方向に回転駆動される。そして帯電チャージャー
21により暗中にて一様に帯電された後に、露光3によ
り原稿光像が照射結像されて静電潜像が感光体1の外周
表面上に担持される。その後、上記静電潜像は現像装置
4の部分を通過する間に現像される。静電潜像に現像さ
れたトナー像は、転写部にある転写ローラ52を介して
中間転写体である転写ベルト51に転写後、図示されて
いない部分で転写紙に転写され、さらに転写紙は、図示
しない定着装置を通過して機外に排出される。
【0012】感光体1は転写後、除電ランプ61により
残留電位が除去されて、クリーニング装置6により、残
留トナーが除去され次の作像に備えられる。なお、上記
転写装置5としては、例えば、静電ローラによる方法、
コロナ放電による方法、粘着転写法、熱転写法などを用
いることができる。また、上記定着装置としては、例え
ば熱転写方式、溶剤定着、UV定着、加圧定着などを用
いることができる。
【0013】本実施形態の複写機で用いられる液体現像
剤Gは、従来一般的に市販され使用されているIsop
ar(エクソン商標)をキャリアとした低粘性(1cS
t程度)、低濃度(1%程度)の液体現像剤ではなく、
高粘性高濃度の液体現像剤である。この液体現像剤Gの
粘度及び濃度の範囲としては、例えば粘度が50〜10
000mPa・s、濃度が5%から40%のものを用いる。
キャリア液としては、シリコーンオイル、ノルマルパラ
フィン、IsoparM(エクソン商標)、植物油、鉱
物油等の絶縁性が高いものを使用する。揮発性、不揮発
性については、目的に合わせて選択することができる。
また、トナーの粒径は、サブミクロンから6μm程度ま
で目的に合わせて選択することができる。
【0014】次に、本実施形態の特徴部である現像装置
について説明する。現像装置4は、図示するように内部
に液体現像剤Gを収容する現像剤収容タンク48、現像
ローラ42、スイープローラ43、塗布手段として、表
面に均一なパターンの彫刻がなされている塗布ローラ4
4、攪拌スクリュ45から主に構成されている。現像ロ
ーラ42とスイープローラ43とにはそれぞれ金属ブレ
ードもしくはゴムブレードからなるクリーニング部材4
6が備えられている。各クリーニング部材46はブレー
ドに限らずローラ式であってもよい。また、塗布ローラ
44にはドクタブレード47が備えられている。
【0015】上記現像ローラ42及びスイープローラ4
3は、外周面にそれぞれ導電性を有する弾性体の層が設
けられている。これらの弾性体の層の材質としてはウレ
タンゴムを用いることができる。各弾性体の層のゴム硬
度としては、感光体1との間で効率的にニップを形成で
きるようにJIS−A硬度で50度以下であることが望
ましい。各弾性体の層の材質はウレタンゴムに限られる
ものではなく、導電性を有するものであって、かつキャ
リア液・現像剤で膨潤したり溶解したりしない材質であ
ればよい。また、現像ローラ42とスイープローラ43
の表面が導電性を有し、かつキャリア液・現像剤で膨潤
したり溶解したりしない材質であり、その内層にキャリ
ア液・現像剤が接触しないような構成であれば、その内
層としての、各弾性体の層の材質は、上記導電性・膨潤
溶解の制約なく、弾性を有していればよい。このとき、
現像バイアス電圧・スイープバイアス電圧は、現像ロー
ラ42・スイープローラ43の軸からではなく、表面か
ら印加する必要がある。
【0016】また、弾性体の層を現像ローラ42とスイ
ープローラ43とに設ける構成ではなく、弾性体の層を
感光体1側に設ける構成であってもよい。さらに、感光
体1を無端ベルト状部材で構成してもよい。また、現像
ローラ42、スイープローラ43は、コーティングもし
くはチューブにより、その表面がRz3μm以下の平滑
性を有するように構成されている。
【0017】上記現像ローラ42及びスイープローラ4
3を感光体1に対してそれぞれ適当な圧力で当接させる
と、各ローラの弾性体の層が弾性変形し、現像ニップ及
び除去ニップを形成する。特に、現像ニップを形成する
ことによって、現像剤のトナーが現像領域の現像電界に
より、感光体1に対して移動し付着するための一定の現
像時間を確保することができる。また、当接圧力を調整
することで各ニップ部における表面移動方向の幅である
ニップ幅を調整することができる。各ニップ幅は、各ロ
ーラの線速と現像時定数との積、以上に設定する。ここ
で、現像時定数とは、現像量が飽和するまでに要する時
間であって、必要最小ニップ幅をプロセス速度で除した
ものである。例えば、必要最小ニップ幅が3mmでプロ
セス速度が300mm/secであれば、現像時定数は
10msecとなる。
【0018】現像動作時においては、上記現像ローラ4
2に塗布ローラ44によって現像剤の薄層が形成され
る。このとき現像ローラ42上に塗布される現像剤の厚
みが、その表面の1cm2 当たりに担持されるトナー中
の顔料含有分が3μg以上、60μg以下となるように
設定した。このために、現像剤の薄層を3〜10μmの
厚みに塗布するようにした。この理由は、現像剤の塗布
厚が、現像ローラ42表面の1cm2 当たりに担持され
るトナー中の顔料含有分が3μgより小さくなるような
厚みでは、十分な量の顔料が上記感光体1上に形成され
た潜像の画像部に移動せず、画像部の画像濃度が薄くな
るおそれがあるからである。また、現像ローラ42表面
の1cm2 当たりに担持されるトナー中の顔料含有分が
60μgより大きくなるような厚みでは、現像後の地肌
部に残留する余剰トナーが多くなり上記スイープローラ
43による除去が不完全になる虞があるからである。
【0019】そして、上記現像ローラ42表面に形成さ
れた現像剤の薄層は、感光体1と現像ローラ42とによ
り形成された現像ニップを通過する際に感光体1上の潜
像に応じて現像される。すなわち、画像部では、トナー
が感光体1に移動し、地肌部(非画像部)では、現像バ
イアス電位と感光体電位とによって形成される電界によ
り、現像ローラ42表面にトナーを移動させて地肌部分
にトナーが付着しないようにする。しかしながら、地肌
部分のトナーの一部が、現像ローラ42表面まで移動し
きれずに感光体1に残るとカブリの原因となる。そこ
で、本実施形態に係る複写機の現像装置では、このカブ
リの原因となるトナー(以下、「カブリトナー」とい
う)をスイープ(掃除)するため上記スィープローラ4
3を設けている。このスィープローラ43は、現像ロー
ラ42に対し感光体1の回転方向下流側であって、現像
されたトナー層を挟むように、感光体1に押圧して設置
されている。スィープローラ43の表面は、感光体1の
表面と略等速で移動しながら地肌部のカブリトナーを除
去している。
【0020】現像ローラ42の現像後のトナーはゴース
ト防止のためにクリーニングブレード46によって除去
され、スィープローラ43で除去した液体現像剤Gはス
ィープの性能の維持のために除去される。これらの液体
現像剤Gは液体現像剤調整タンク41に集められて、こ
こで、濃度を調整後に改めて現像ユニット内へ送られる
ようになっている。液体現像剤調整タンク41内には攪
拌手段である攪拌装置41c、濃度検知手段(図示して
いない)及び液量検知手段(図示していない)があり、
タンク内の濃度を均一にした状態で濃度および液量を検
知して、新しい液体現像剤Gの補給やキャリアの補給に
よる濃度調整を行っている。ここからの現像ユニット内
への液体現像剤Gの供給量は液体現像剤Gの使用量より
若干多くなるように設定されており、溢れた分は液体現
像剤調整タンク41へ戻るようになっていて、液体現像
剤Gは常に循環するようになっている。
【0021】以上のような動作を行う液体現像装置にお
いては、画像の濃度は、現像剤担持体上に塗布された液
体現像剤の厚さによって決定される。本発明で用いる塗
布ローラ44はその表面に彫刻をなされたローラであ
り、塗布ローラ44の表面には、図2(A)、(C)に
示すような斜線型パターンの彫刻溝44aが形成され、
塗布ローラ44の表面についた液体現像剤Gを計量手段
であるドクタブレード47で余剰分をかきおとすことに
よって彫刻溝44aによって正確に計量し、これを現像
ローラ42上に転写することで液体現像剤Gの均一な薄
層を形成している。塗布ローラ44表面の形状として
は、図2(C)の斜線型の他に、図2(D)のピラミッ
ド型、図2(E)の格子型などが考えられるが、転写性
の良さなどの理由から本実施例で使用している塗布ロー
ラ44は斜線型を用いている。
【0022】このような計量機能を備えた塗布装置で
は、例えば2本のローラ間の圧力調整によって付着量を
決める機構に比べて、液体現像液Gの粘度によって塗布
ローラ44上の付着量が影響を受け難いという特性を持
つが、完全にないわけではなく、図3のように粘度が高
いほど付着量は多くなる傾向がある。
【0023】一方、図4に示すように、液体現像剤Gの
粘度は、温度に依存して変化する。即ち、液体現像剤G
は、温度が高いほど粘度は低く、低温では粘度は高くな
る。このような変化は粘度の高い場合ほど顕著であり、
本実施例のように50〜10000mPa・sといった高
粘度の液体現像剤Gでの変化は大きく、温度変化によっ
て塗布量は変化してしまう。したがって、塗布ローラ4
4上での液体現像剤Gの温度はなるべく変化しないよう
にすることが望ましい。また、液体現像剤Gは塗布ロー
ラ44上で薄層化されるので塗布ローラ44の温度によ
って塗布ローラ44上の液体現像剤Gの温度は決定され
る。したがって、塗布ローラ44上での液体現像剤Gの
温度は塗布ローラ44に大きく依存することになり、液
体現像剤Gの温度の変動を押さえるためには塗布ローラ
44の温度変動を押さえることが必要となる。
【0024】ところが、塗布ローラ44は、現像ローラ
42、塗布量規制ブレードであるドクタブレード47な
どと接触しており、これらの部材との摩擦によって熱が
発生し、使用中に温度が上昇してしまう。温度が上昇す
ると、塗布部での液体現像剤Gの温度が上昇して、粘度
が下がり、塗布量が減少してしまう。さらに、連続して
使用して温度が上昇すると、液体現像剤G中の固形分の
樹脂がTg(ガラス転移転温度)によって溶融し、液体
現像剤同士の凝集や、塗布ローラ44の表面への付着な
どの問題が顕著になる。図5は塗布装置を連続して動作
させた際の塗布ローラ44の表面の温度変化および現像
ローラ42上の塗布量の変化を示したものであり、3時
間程度の連続運転で温度は40度を超え、塗布量は当初
の80%程度にまで減少している。これは、主に温度変
化によって粘度が変化したことよりも塗布ローラ44の
彫刻部に溶融・凝集した液体現像剤Gは付着したことに
よる要因が大きい。1時間程度、放置して冷却後、再び
塗布量を測定しても塗布量は復元できなかった。
【0025】そこで、本発明では塗布ローラ44の温度
制御を行って、塗布ローラ44の温度変動(主に連続動
作時の温度上昇)を押さえ、塗布部での塗布量の変動を
防止している。塗布ローラ44の温度制御の方法とし
て、塗布ローラ44自体を温度制御する方法(図6、
7)、塗布ローラ44に接触している部材、塗布量制御
部材を温度制御する方法(図8、9)、および液体現像
剤Gを温度制御する方法(図10)などがある。
【0026】これらの手法の中でもっとも効率的な制御
手段としては、塗布ローラ44自体を温度制御する手法
であり、具体的には塗布ローラ44中に熱伝達のための
媒体(例えば水)を通す管44kを通しておき、ここの
中を温度制御された水などの媒体を流しておくことによ
って温度制御している。この手法は熱交換を効率的に行
うことができる利点を持つが回転している塗布ローラ4
4に管を埋め込みここに液体を通すという点で装置が大
掛かりになるという問題を持つ。また、図7のように塗
布ローラ44内にヒートパイプ44hを通しておいてロ
ーラの外に熱交換用のフィン44eをつけ、ここで送風
ファン44gとヒータ44fによって温度制御する方法
もある。図6の実施例に比べて装置自体は小型化できる
がやはり塗布ローラ44内に配管が必要であり複雑な加
工技術を要する。
【0027】次に塗布ローラ44に接触していて回転し
たりしない塗布量規制部材であるドクタブレード47を
通して冷却する方法である。図8、9はその実施例であ
り、図8では、ドクタブレード47の支持部材44j内
にヒートパイプ44hを通してその端部を奥側などのス
ペースへ配管してここにフィン44eを取り付けて温度
制御している。図9はドクタブレード47の支持部材4
4jに直接フィン44eを取り付けここで送風ファン4
4gによって温度制御しているものである。塗布ローラ
44内に埋め込む場合に比べて装置の構成は比較的簡略
であるが塗布ローラ44との接点がドクタブレード47
であるため塗布ローラ44自体を冷却する点での効率は
良くない。
【0028】また、このドクタブレード47の他、被塗
布部材である現像ローラ42も塗布ローラ44に接触し
ているが、塗布ローラ44同様に回転しており、さらに
表面を弾性部材で覆っているため熱効率が悪く塗布ロー
ラ44を温度制御するためには適していない。
【0029】図10は、液体現像剤Gを温度制御する手
法の実施例であり、塗布ローラ44の浸漬している現像
装置4内の貯蔵タンク48にパイプ44mを配管しここ
に水などの媒体を通してこの水を温度制御することで液
体現像剤Gを温度制御している。塗布ローラ44は液体
現像剤Gに浸漬しているので比較的効率よく温度制御す
ることができる。また、配管等もローラ内にするよりも
容易である。また、図10には併せて現像装置4内に液
体現像剤Gを調整・供給するための貯蔵部である液体現
像剤調整タンク41に同様の配管をした例である。前者
は、塗布ローラ44の回りの液体現像剤Gを温度制御す
るため応答性が良いという利点を持つが、現像装置4内
にパイプ44mがあるため空間的な余裕がなく、複雑な
構成になってしまうという問題がある。
【0030】これに対して後者のように、調整用の貯蔵
部、即ち液体現像剤調整タンク41で液体現像剤Gの温
度制御を行う場合、若干応答性は遅くなるが、現像装置
4とは別にある部分で温度制御できるので現像装置4内
でのレイアウトの自由度が大きく現像装置4の小型化な
どの点で有利である。
【0031】図11は、図10の実施例で調整用の貯蔵
部に配管してここに20℃に温度制御した水を通して液
体現像剤Gを温度制御した状態で、連続動作させた際の
塗布ローラ44の温度変化と塗布量とを示したものであ
り、塗布温度変動を押さえることによって塗布量を安定
させることができている。このように塗布量の安定した
液体現像剤Gの塗布装置を用いた現像装置4および画像
形成装置によれば安定した濃度の画像を得ることができ
る。
【0032】また、さらに、その表面がアモルファスシ
リコン(a-Si)によって形成された感光体1を用いるこ
とで、有機感光体(OPC)よりも優れた機械的強度を
発揮し、その寿命を長くする事ができる。
【0033】上記実施形態では、液体現像剤の温度制御
を行っているが、これは塗布ローラの温度制御の手法で
あり、液体現像剤を薄層化して現像する構成によって始
めて必要となる塗布ローラと塗布量制御手段とを備える
塗布装置において、塗布量を安定させるためのものであ
る。
【0034】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種
々変形して実施することができる。
【0035】
【発明の効果】以上、説明したように、請求項1の発明
によれば、塗布ローラとこれに当接する塗布量規制部材
であるドクタブレードによって塗布量を決定する液体現
像剤の塗布装置において、塗布ローラの温度制御を行う
ことによって塗布ローラの温度変動に起因する塗布量の
変動を抑制することができる。また、請求項2の発明に
よれば、高粘度の液体現像剤においては温度変動による
粘度の変化、塗布量の変化が低粘度の液体現像剤に比べ
て顕著であり、塗布ローラの温度制御による塗布量の安
定の効果が大きい。また、請求項3の発明によれば、塗
布ローラとこれに当接する塗布量規制部材で構成される
塗布装置において、塗布ローラの温度制御機構を塗布ロ
ーラ内に設けることによって効率的に温度制御すること
ができる。また、請求項4の発明によれば、塗布ローラ
とこれに当接する塗布量規制部材で構成される塗布装置
において、塗布ローラの温度制御機構を塗布量規制部材
に設けることによって小型の温度制御装置を実現するこ
とができる。また、請求項5の発明によれば、塗布ロー
ラとこれに当接する塗布量規制部材で構成される塗布装
置において、塗布ローラの温度制御を液体現像剤を温度
制御することで行うことによって比較的簡単な構成の装
置で効率的に行うことができる。また、請求項6の発明
によれば、塗布ローラの温度制御を液体現像剤を温度制
御することで行う塗布装置において、液体現像剤の温度
制御を塗布ローラの浸漬している現像器内の貯蔵部に設
けることによって効率的に行うことができる。また、請
求項7の発明によれば、塗布ローラの温度制御を液体現
像剤を温度制御することで行う塗布装置において、液体
現像剤の温度制御を現像器内へ液体現像剤を調整して供
給する調整貯蔵部内に設けることによって現像装置の小
型化を図ることができる。また、請求項8の発明によれ
ば、請求項1〜7の何れかに記載の液体現像剤の塗布装
置を備えた液体現像装置によって安定した画像濃度の画
像を得ることができる。また、請求項9の発明によれ
ば、請求項8に記載の液体現像装置によって安定した画
像濃度の画像を得ることができる。また、請求項10の
発明によれば、アモルファスシリコンを表層にもつ感光
体を備えた画像形成装置によって高耐久の装置で安定し
た画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態に係る複写機の現像部概略構成図で
ある。
【図2】塗布ローラの表面の彫刻溝形状を示す図であ
り、(A)は塗布ローラの正面図、(B)は塗布ローラ
の側面図、(C)は斜線型の彫刻溝を示す図、(D)は
ピラミッド型の彫刻溝を示す図、(E)は格子型の彫刻
溝を示す図である。
【図3】付着量の温度依存性を示す図であり、図中Aは
本発明の塗布方式、Bは2本のローラ間の圧力調整によ
る塗布方式を示す。
【図4】粘度の温度依存性を示す図である。
【図5】温度と付着量の経時変化を示す図である。
【図6】本発明に係る第1実施形態の塗布ローラ内蔵の
温度制御装置を示す図である。
【図7】本発明に係る第2実施形態の塗布ローラ内蔵の
温度制御装置を示す図である。
【図8】本発明に係る第3実施形態の塗布量規制部材内
蔵の温度制御装置を示す図である。
【図9】本発明に係る第4実施形態の塗布量規制部材内
蔵の温度制御装置を示す図である。
【図10】本発明に係る第5実施形態の貯蔵タンクと液
体現像剤調整タンクとに内蔵の温度制御装置を示す図で
ある。
【図11】温度と付着量の経時変化を示す図である。
【符号の説明】
41 液体現像剤調整タンク(貯蔵部) 42 塗布ローラ 44a,44b,44c 彫刻溝 44d 温度制御装置 44e フィン 44h ヒートパイプ 44i 温度制御装置 47 ドクタブレード(塗布量規制部材) 48 液体現像剤貯蔵部 G 液体現像剤

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に規則的なパターンを有する彫刻が
    加工された塗布ローラと、この塗布ローラの表面に当接
    させて塗布量を制御する塗布量規制部材とからなる、液
    体現像剤の均一な薄層を形成するための塗布装置であっ
    て、 前記塗布ローラ表面の温度を調整する温度調整手段を備
    えていることを特徴とする液体現像剤の塗布装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の塗布装置において、前
    記液体現像剤の粘度が50〜10000mPa・sであ
    ることを特徴とする液体現像剤の塗布装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の塗布装置におい
    て、前記温度調整手段は塗布ローラ内に内蔵されている
    ことを特徴とする液体現像剤の塗布装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2に記載の塗布装置におい
    て、前記温度調整手段は前記塗布量規制部材に設けられ
    ていることを特徴とする液体現像剤の塗布装置。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2に記載の塗布装置におい
    て、前記温度調整手段は前記液体現像剤の温度を制御す
    ることで前記塗布ローラの温度を制御することを特徴と
    する液体現像剤の塗布装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の塗布装置において、前
    記温度調整手段は、塗布装置を内蔵する現像容器内の液
    体現像剤貯蔵部内に設置されていることを特徴とする液
    体現像剤の塗布装置。
  7. 【請求項7】 請求項5に記載の塗布装置において、前
    記温度調整手段は、液体現像剤の温度を調整する手段を
    塗布装置を内蔵する現像容器内へ液体現像剤を供給する
    ために貯蔵している貯蔵部内に設置されていることを特
    徴とする液体現像剤の塗布装置。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7の何れかに記載の液体現像
    剤の塗布装置を備えたことを特徴とする液体現像装置。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の液体現像装置を備えた
    ことを特徴とする画像形成装置。
  10. 【請求項10】 請求項8の液体現像装置を備え、アモ
    ルファスシリコン感光体を用いていることを特徴とする
    画像形成装置。
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