JP2002287290A - 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法Info
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- JP2002287290A JP2002287290A JP2001092743A JP2001092743A JP2002287290A JP 2002287290 A JP2002287290 A JP 2002287290A JP 2001092743 A JP2001092743 A JP 2001092743A JP 2001092743 A JP2001092743 A JP 2001092743A JP 2002287290 A JP2002287290 A JP 2002287290A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理に
おいて、銀スラッジと水垢の発生および感光材料への汚
れの付着が改善される処理方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を現像
槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する自動
現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定化処
理する方法において、該感光材料の少なくとも１層に、
下記一般式（１）、（２）又は（３）で表されるフッ素
系界面活性剤の少なくとも１種を含有し、かつ水洗・安
定化処理を複数の処理槽で処理する処理方法。 一般式（１）Ｒ1−（Ｏ−Ｒ2）k−Ｌ1−（Ｘ1）l；一般
式（２）［（Ｒ3Ｏ）n−（パーフルオロシクロアルカン
残基）−ＣＯ−Ｙ］m−Ｌ2−（Ｘ2）p 【化１】
おいて、銀スラッジと水垢の発生および感光材料への汚
れの付着が改善される処理方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を現像
槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する自動
現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定化処
理する方法において、該感光材料の少なくとも１層に、
下記一般式（１）、（２）又は（３）で表されるフッ素
系界面活性剤の少なくとも１種を含有し、かつ水洗・安
定化処理を複数の処理槽で処理する処理方法。 一般式（１）Ｒ1−（Ｏ−Ｒ2）k−Ｌ1−（Ｘ1）l；一般
式（２）［（Ｒ3Ｏ）n−（パーフルオロシクロアルカン
残基）−ＣＯ−Ｙ］m−Ｌ2−（Ｘ2）p 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は黒白ハロゲン化銀写
真感光材料の処理方法に関し、詳しくは、黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の現像処理で生じる銀スラッジおよび
水垢の発生等を改良する技術に関する。
真感光材料の処理方法に関し、詳しくは、黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の現像処理で生じる銀スラッジおよび
水垢の発生等を改良する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】黒白ハロゲン化銀写真感光材料（以下単
に「感光材料」ともいう）は、露光後、現像、脱銀、洗
浄、安定化などの工程により処理される。処理は通常自
動現像機で行われ、処理液の活性度を一定に保つため補
充液を補充する方式が一般に広く用いられている。補充
液の補充は感光材料からの溶出物の希釈、蒸発量の補正
および消費成分の補充を目的としている。また、水洗工
程では通常一般用水道水を供給してフィルム内部に残留
している定着成分を洗い流して除去している。
に「感光材料」ともいう）は、露光後、現像、脱銀、洗
浄、安定化などの工程により処理される。処理は通常自
動現像機で行われ、処理液の活性度を一定に保つため補
充液を補充する方式が一般に広く用いられている。補充
液の補充は感光材料からの溶出物の希釈、蒸発量の補正
および消費成分の補充を目的としている。また、水洗工
程では通常一般用水道水を供給してフィルム内部に残留
している定着成分を洗い流して除去している。
【０００３】処理工程の省エネルギー化のために、水洗
工程で使用する水の量を抑えて節水をしようという動き
があり、過酸化水素を水洗水に混ぜて、水洗水の量を低
減したり、水洗槽を複数化して処理したり、あるいは水
を用いず安定化液を複数の処理槽で用いて処理するなど
の方法が行われていた。
工程で使用する水の量を抑えて節水をしようという動き
があり、過酸化水素を水洗水に混ぜて、水洗水の量を低
減したり、水洗槽を複数化して処理したり、あるいは水
を用いず安定化液を複数の処理槽で用いて処理するなど
の方法が行われていた。
【０００４】しかしながら、近年の廃液量削減および処
理液量低減に伴う低補充化や、イメージセッター出力を
中心とした写真製版のデジタル化および露光スピードア
ップに伴う処理の迅速化により、定着液中の銀濃度が増
加し、定着槽から水洗槽へのキャリーオーバーの増加に
より水洗槽内部の銀スラッジが堆積するという問題が生
じていた。そして、このような問題には補充量の増加や
循環系内部へのフィルターの設置を行うことによって対
応していた。
理液量低減に伴う低補充化や、イメージセッター出力を
中心とした写真製版のデジタル化および露光スピードア
ップに伴う処理の迅速化により、定着液中の銀濃度が増
加し、定着槽から水洗槽へのキャリーオーバーの増加に
より水洗槽内部の銀スラッジが堆積するという問題が生
じていた。そして、このような問題には補充量の増加や
循環系内部へのフィルターの設置を行うことによって対
応していた。
【０００５】しかしながら、これらの試みの効果は不充
分であった。このような状態でも一度処理された感光材
料を再水洗するなどしてユーザーは適宜対応していた
が、銀スラッジが更に増加し、処理中に水洗槽内部に銀
スラッジが浮遊しそれが処理する感光材料に付着したり
し、更に水洗槽に発生した水垢が感光材料に付着して写
真製版に使えないという重大な問題が発生し、解決が強
く望まれている。
分であった。このような状態でも一度処理された感光材
料を再水洗するなどしてユーザーは適宜対応していた
が、銀スラッジが更に増加し、処理中に水洗槽内部に銀
スラッジが浮遊しそれが処理する感光材料に付着したり
し、更に水洗槽に発生した水垢が感光材料に付着して写
真製版に使えないという重大な問題が発生し、解決が強
く望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題を解
決しようとするもので、本発明の目的は、感光材料の現
像処理において銀スラッジおよび水垢の発生が改善さ
れ、処理する感光材料への汚れの付着が改善される黒白
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することで
ある。その他の目的は以下の記載から明らかにされる。
決しようとするもので、本発明の目的は、感光材料の現
像処理において銀スラッジおよび水垢の発生が改善さ
れ、処理する感光材料への汚れの付着が改善される黒白
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することで
ある。その他の目的は以下の記載から明らかにされる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的を解決
する手段は下記である。
する手段は下記である。
【０００８】（１）支持体上に少なくとも１層のハロゲ
ン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を
現像槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する
自動現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定
化処理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
おいて、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも
１層に、前記一般式（１）または一般式（２）で表され
る化合物の少なくとも１種を含有し、かつ水洗または安
定化処理が複数の処理槽で処理されることを特徴とする
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
ン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を
現像槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する
自動現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定
化処理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
おいて、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも
１層に、前記一般式（１）または一般式（２）で表され
る化合物の少なくとも１種を含有し、かつ水洗または安
定化処理が複数の処理槽で処理されることを特徴とする
黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【０００９】（２）支持体上に少なくとも１層のハロゲ
ン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を
現像槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する
自動現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定
化処理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
おいて、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも
１層に前記一般式（３）で表される化合物を含有し、か
つ水洗または安定化処理が複数の処理槽で処理されるこ
とを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
ン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を
現像槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する
自動現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定
化処理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法に
おいて、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも
１層に前記一般式（３）で表される化合物を含有し、か
つ水洗または安定化処理が複数の処理槽で処理されるこ
とを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方
法。
【００１０】（３）上記（１）または（２）に記載の処
理方法において、定着液にアンモニアおよびその化合物
を実質的に含有しないことを特徴とする黒白ハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法。
理方法において、定着液にアンモニアおよびその化合物
を実質的に含有しないことを特徴とする黒白ハロゲン化
銀写真感光材料の処理方法。
【００１１】（４）上記（１）または（２）に記載の処
理方法において、定着液にアルミニウムおよびその化合
物を実質的に含有しないことを特徴とする黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
理方法において、定着液にアルミニウムおよびその化合
物を実質的に含有しないことを特徴とする黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
【００１２】（５）上記（１）〜（４）のいずれか１項
に記載の処理方法において、現像工程および定着工程が
固体処理剤を用いた液で処理されることを特徴とする黒
白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
に記載の処理方法において、現像工程および定着工程が
固体処理剤を用いた液で処理されることを特徴とする黒
白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【００１３】
【発明の実施の形態】請求項１に係る発明に用いる一般
式（１）で表される化合物について説明する。
式（１）で表される化合物について説明する。
【００１４】 一般式（１） Ｒ1−（Ｏ−Ｒ2）k−Ｌ1−（Ｘ1）l 式中、Ｒ1はそれぞれ少なくとも１つのフッ素原子で置
換されたアルキル基、アリール基、またはアルケニル基
を表すが、該アルキル基およびアルケニル基は炭素数が
１〜１８であることが好ましく、２〜１２であることが
より好ましく、特に３〜７であることが好ましく、該ア
リール基は炭素数が６〜１８であることが好ましい。Ｒ
2は少なくとも１つのフッ素原子で置換されたアルキレ
ン基を表すが、その炭素数は１〜８であることが好まし
く、２〜５であることがより好ましく、特に２または３
であることが好ましい。また、（Ｏ−Ｒ2）kは、ｋが２
以上のとき、Ｒ2は同じでも異なっていてもよく、例え
ば（Ｏ−Ｒ21）k1−（Ｏ−Ｒ22）k2（ただし、Ｒ21およ
びＲ22はＲ2の下位概念、ｋ１＋ｋ２＝ｋ）のように、
異なる（Ｏ−Ｒ2）の結合体であってもよい。ｋは１〜
１０の整数、ｌは１〜３の整数を表す。Ｌは単結合また
は連結基を表すが、アルキレン基、アリーレン基、また
はヘテロ原子を有する２価の連結基であることが好まし
い。Ｘ1はヒドロキシル基、アニオン性基、またはカチ
オン性基を表し、該アニオン性基としてはカルボキシル
基、スルホン酸基、またはリン酸基が好ましく、カウン
ターカチオンとして、ナトリウムイオン、カリウムイオ
ンなどのアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンなど
が好ましい。カチオン性基としては、４級アルキルアン
モニウム基が好ましく、カウンターアニオンとして、ハ
ロゲン化物イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなど
が好ましい。ｌは１以上の整数を表すが、１以上３以下
の整数であることが好ましい。
換されたアルキル基、アリール基、またはアルケニル基
を表すが、該アルキル基およびアルケニル基は炭素数が
１〜１８であることが好ましく、２〜１２であることが
より好ましく、特に３〜７であることが好ましく、該ア
リール基は炭素数が６〜１８であることが好ましい。Ｒ
2は少なくとも１つのフッ素原子で置換されたアルキレ
ン基を表すが、その炭素数は１〜８であることが好まし
く、２〜５であることがより好ましく、特に２または３
であることが好ましい。また、（Ｏ−Ｒ2）kは、ｋが２
以上のとき、Ｒ2は同じでも異なっていてもよく、例え
ば（Ｏ−Ｒ21）k1−（Ｏ−Ｒ22）k2（ただし、Ｒ21およ
びＲ22はＲ2の下位概念、ｋ１＋ｋ２＝ｋ）のように、
異なる（Ｏ−Ｒ2）の結合体であってもよい。ｋは１〜
１０の整数、ｌは１〜３の整数を表す。Ｌは単結合また
は連結基を表すが、アルキレン基、アリーレン基、また
はヘテロ原子を有する２価の連結基であることが好まし
い。Ｘ1はヒドロキシル基、アニオン性基、またはカチ
オン性基を表し、該アニオン性基としてはカルボキシル
基、スルホン酸基、またはリン酸基が好ましく、カウン
ターカチオンとして、ナトリウムイオン、カリウムイオ
ンなどのアルカリ金属イオン、アンモニウムイオンなど
が好ましい。カチオン性基としては、４級アルキルアン
モニウム基が好ましく、カウンターアニオンとして、ハ
ロゲン化物イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなど
が好ましい。ｌは１以上の整数を表すが、１以上３以下
の整数であることが好ましい。
【００１５】以下に、一般式（１）で表される好ましい
化合物の具体例を示すが、本発明で使用することができ
る化合物はこれらに限定されるものではない。 （アニオン型） １． Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ２． ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）
2 ３． Ｃ8Ｆ17−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ４． Ｃ10Ｆ21−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ５． Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ６． Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ７． Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ８． Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ９． ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮ
ａ）2 １０．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １１．Ｃ9Ｆ19−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １２．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）
2 １３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）5−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−Ｏ−ＰＯ（ＯＮ
ａ）2 １７．Ｃ3Ｆ7−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ １８．Ｃ4Ｆ9−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ １９．Ｃ5Ｆ11−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ ２０．ＨＣ7Ｆ14−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯ
Ｎａ）2 ２１．Ｃ8Ｆ17−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯＮ
ａ）2 ２２．Ｃ3Ｆ7−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２３．Ｃ4Ｆ9−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２４．Ｃ5Ｆ11−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２５．Ｃ7Ｆ15−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２６．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−ＣＯＯＮａ ２７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ２８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ２９．ＨＣ7Ｆ14−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ３０．Ｃ9Ｆ19−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ３１．Ｃ2Ｆ5−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＣＯＯＮａ ３２．Ｃ2Ｆ5−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−ＣＯＯＮａ ３３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＣＯＯＮａ ３４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＣＯＯＮａ ３５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯＣＨ（ＣＯ
ＯＮａ）2 ３６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯＣＨ（Ｃ
ＯＯＮａ）2 ３７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ３８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ３９．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ４０．Ｃ4Ｆ9−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４１．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４２．ＨＣ6Ｆ12−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４３．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４４．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４５．Ｃ6Ｆ13−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４６．Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ４７．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ４８．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ４９．ＨＣ5Ｆ10−（Ｏ−ＣＦ2）5−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎ
ａ ５０．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５１．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎ
ａ ５２．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ５４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５５．ＨＣ5Ｆ10−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3
Ｎａ ５６．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−〔Ｏ−（ＣＦ2）5〕−Ｏ−Ｓ
Ｏ3Ｎａ ５７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−〔Ｏ−（ＣＦ2）3〕
−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５８．（ＨＣＦ2）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎ
ａ ５９．（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2ＣＦ2−（Ｏ−ＣＦ2）5−Ｏ
Ｃ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ６０．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ （カチオン型） ６１．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯ−（ＣＨ2）
3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６２．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＮＨＣＯ−（Ｃ
Ｈ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６３．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＮＨＣＯ−（ＣＨ
2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ
+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６７．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＮＨＣＯ−
（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3 Ｂｒ- ６８．（ＣＦ3）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ
+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ） Ｂｒ- （ノニオン型） ６９．Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−ＯＨ ７０．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＯＨ ７１．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７２．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）5−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７３．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−ＯＨ ７４．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７５．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７６．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７７．ＨＣ4Ｆ8−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−Ｃ（Ｃ2Ｈ4Ｏ
Ｈ）3 ７８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７９．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−〔Ｏ−（ＣＦ2）5〕−ＯＨ ８０．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−〔Ｏ−（ＣＦ2）3〕
−ＯＨ ８１．（ＣＦ3）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＨ ８２．（ＨＣＦ2）2ＣＦＣＦ2ＣＦ2−（Ｏ−ＣＦ2）5−
ＯＨ ８３．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4ＯＨ 一般式（１）で表される化合物（フッ素系界面活性剤）
の合成方法については、特表平１０−５００９５０号お
よび同１１−５０４３６０号を参考にすることができ
る。
化合物の具体例を示すが、本発明で使用することができ
る化合物はこれらに限定されるものではない。 （アニオン型） １． Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ２． ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）
2 ３． Ｃ8Ｆ17−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ４． Ｃ10Ｆ21−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ５． Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ６． Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ７． Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ８． Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 ９． ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮ
ａ）2 １０．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １１．Ｃ9Ｆ19−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １２．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）
2 １３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）5−Ｏ−ＰＯ（ＯＮａ）2 １６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−Ｏ−ＰＯ（ＯＮ
ａ）2 １７．Ｃ3Ｆ7−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ １８．Ｃ4Ｆ9−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ １９．Ｃ5Ｆ11−Ｏ−（ＣＦ2）3−ＣＯＯＮａ ２０．ＨＣ7Ｆ14−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯ
Ｎａ）2 ２１．Ｃ8Ｆ17−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｏ−ＣＨ（ＣＯＯＮ
ａ）2 ２２．Ｃ3Ｆ7−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２３．Ｃ4Ｆ9−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２４．Ｃ5Ｆ11−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２５．Ｃ7Ｆ15−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＮａ ２６．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−ＣＯＯＮａ ２７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ２８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ２９．ＨＣ7Ｆ14−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ３０．Ｃ9Ｆ19−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＣＯＯＮａ ３１．Ｃ2Ｆ5−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＣＯＯＮａ ３２．Ｃ2Ｆ5−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−ＣＯＯＮａ ３３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＣＯＯＮａ ３４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＣＯＯＮａ ３５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯＣＨ（ＣＯ
ＯＮａ）2 ３６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯＣＨ（Ｃ
ＯＯＮａ）2 ３７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ３８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ３９．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣＦ2ＣＯＯＮａ ４０．Ｃ4Ｆ9−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４１．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４２．ＨＣ6Ｆ12−ＯＣＦ2−Ｏ−（ＣＦ2）5−ＣＯＯＫ ４３．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）5−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４４．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４５．Ｃ6Ｆ13−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−（ＣＦ2）3−Ｃ
ＯＯＫ ４６．Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ４７．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ４８．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ４９．ＨＣ5Ｆ10−（Ｏ−ＣＦ2）5−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎ
ａ ５０．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５１．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎ
ａ ５２．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５３．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ５４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５５．ＨＣ5Ｆ10−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＣ3Ｈ6−ＳＯ3
Ｎａ ５６．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−〔Ｏ−（ＣＦ2）5〕−Ｏ−Ｓ
Ｏ3Ｎａ ５７．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−〔Ｏ−（ＣＦ2）3〕
−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ ５８．（ＨＣＦ2）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＳＯ3Ｎ
ａ ５９．（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2ＣＦ2−（Ｏ−ＣＦ2）5−Ｏ
Ｃ3Ｈ6−ＳＯ3Ｎａ ６０．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−Ｏ−ＳＯ3Ｎａ （カチオン型） ６１．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＮＨＣＯ−（ＣＨ2）
3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６２．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＮＨＣＯ−（Ｃ
Ｈ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６３．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＮＨＣＯ−（ＣＨ
2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3Ｂｒ- ６４．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６５．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６６．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ
+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ）Ｂｒ- ６７．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＮＨＣＯ−
（ＣＨ2）3−Ｎ+（ＣＨ3）3 Ｂｒ- ６８．（ＣＦ3）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−ＣＨ2−Ｎ
+（ＣＨ3）2（Ｃ2Ｈ4ＯＨ） Ｂｒ- （ノニオン型） ６９．Ｃ12Ｆ25−（Ｏ−ＣＦ2）−ＯＨ ７０．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）−ＯＨ ７１．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−ＣＦ2）6−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７２．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−ＣＦ2）5−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７３．ＨＣ6Ｆ12−（Ｏ−ＣＦ2）3−ＯＨ ７４．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７５．Ｃ7Ｆ15−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７６．Ｃ3Ｆ7−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７７．ＨＣ4Ｆ8−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−Ｏ−Ｃ（Ｃ2Ｈ4Ｏ
Ｈ）3 ７８．Ｃ5Ｆ11−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＣ3Ｈ6−ＯＨ ７９．Ｃ5Ｆ11−ＯＣＦ2−〔Ｏ−（ＣＦ2）5〕−ＯＨ ８０．Ｃ4Ｆ9−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）2−〔Ｏ−（ＣＦ2）3〕
−ＯＨ ８１．（ＣＦ3）3Ｃ−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）3−ＯＨ ８２．（ＨＣＦ2）2ＣＦＣＦ2ＣＦ2−（Ｏ−ＣＦ2）5−
ＯＨ ８３．Ｃ11Ｆ23−（Ｏ−Ｃ2Ｆ4）4ＯＨ 一般式（１）で表される化合物（フッ素系界面活性剤）
の合成方法については、特表平１０−５００９５０号お
よび同１１−５０４３６０号を参考にすることができ
る。
【００１６】一般式（１）で表されるフッ素系化合物と
しては、フッ素原子が結合している炭素数の合計が７以
上であるものが好ましく、８以上２０以下のものが特に
好ましい。
しては、フッ素原子が結合している炭素数の合計が７以
上であるものが好ましく、８以上２０以下のものが特に
好ましい。
【００１７】次に、請求項１に係る発明に使用する一般
式（２）で表される化合物について説明する。
式（２）で表される化合物について説明する。
【００１８】一般式（２）［（Ｒ3Ｏ）n−（ＰＦＣ）−
ＣＯ−Ｙ］m−Ｌ2−（Ｘ2）p 一般式（２）において、Ｒ3は、炭素原子を１〜４個有
するペルフルオロアルキル基を表し、ｎは１〜５の整数
を表し、ＰＦＣはパーフルオロシクロアルカン残基、例
えばパーフルオロシクロオクタン、パーフルオロシクロ
ヘプタン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオロ
シクロペンタン残基などを示す。Ｙは、酸素原子または
窒素原子を含む連結基を表す。Ｌ2は、単結合または連
結基を示す。該連結基としては、置換若しくは未置換の
アルキレン基（たとえば、エチレン、ｎ−プロピレン、
イソブチレン等）、アリーレン基（たとえば、フェニレ
ン等）、アルキレンとアリーレンの組み合わせ（たとえ
ば、キシリレン等）、オキシジアルキレン基（たとえ
ば、ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2等）、チオジアルキレン基
（たとえば、ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2等）などの多価
（一般的には２価）の結合基である。ｍは１〜３の整数
を表し、Ｘ2は、アニオン性基、カチオン性基、ノニオ
ン性基、または両性基を含む水可溶化極性基、又はそれ
らの任意の組み合わせた基である。
ＣＯ−Ｙ］m−Ｌ2−（Ｘ2）p 一般式（２）において、Ｒ3は、炭素原子を１〜４個有
するペルフルオロアルキル基を表し、ｎは１〜５の整数
を表し、ＰＦＣはパーフルオロシクロアルカン残基、例
えばパーフルオロシクロオクタン、パーフルオロシクロ
ヘプタン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオロ
シクロペンタン残基などを示す。Ｙは、酸素原子または
窒素原子を含む連結基を表す。Ｌ2は、単結合または連
結基を示す。該連結基としては、置換若しくは未置換の
アルキレン基（たとえば、エチレン、ｎ−プロピレン、
イソブチレン等）、アリーレン基（たとえば、フェニレ
ン等）、アルキレンとアリーレンの組み合わせ（たとえ
ば、キシリレン等）、オキシジアルキレン基（たとえ
ば、ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2等）、チオジアルキレン基
（たとえば、ＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＨ2等）などの多価
（一般的には２価）の結合基である。ｍは１〜３の整数
を表し、Ｘ2は、アニオン性基、カチオン性基、ノニオ
ン性基、または両性基を含む水可溶化極性基、又はそれ
らの任意の組み合わせた基である。
【００１９】典型的なアニオン性基としては、−ＣＯ2
Ｈ、−ＣＯ2Ｍ、−ＳＯ3Ｈ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｈ、
−ＯＳＯ3Ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）ＯＳＯ3Ｍ、−ＯＰＯ
（ＯＨ）2、および−ＯＰ（ＯＭ）2などが挙げられ、こ
こで、Ｍはナトリウム、カリウム、またはカルシウムな
どの金属イオン、またはアンモニウムなどである。典型
的なカチオン性基としては、４級アルキルアンモニウム
基が好ましく、カウンターアニオンとして、ハロゲン化
物イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなどが好まし
い。ｐは１〜５の整数を表す。
Ｈ、−ＣＯ2Ｍ、−ＳＯ3Ｈ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｈ、
−ＯＳＯ3Ｍ、−（ＯＣＨ2ＣＨ2）ＯＳＯ3Ｍ、−ＯＰＯ
（ＯＨ）2、および−ＯＰ（ＯＭ）2などが挙げられ、こ
こで、Ｍはナトリウム、カリウム、またはカルシウムな
どの金属イオン、またはアンモニウムなどである。典型
的なカチオン性基としては、４級アルキルアンモニウム
基が好ましく、カウンターアニオンとして、ハロゲン化
物イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなどが好まし
い。ｐは１〜５の整数を表す。
【００２０】以下に、一般式（２）で表される好ましい
化合物の具体例を例示するが、本発明で使用することが
できる化合物はこれらに限定されるものではない。 （ベタイン型） １．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＣＯＯ- ２．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ３．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ
3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ４．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3 -）
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｈ ５．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3 -）
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｈ ６．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ７．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ８．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - （カチオン型） ９．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨ Ｃｌ- １０．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨ Ｃｌ-１１．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨＣｌ- １２．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｈ Ｃｌ- １３．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｈ Ｃｌ- １４．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ Ｃｌ- １５．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １６．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １７．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １８．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １９．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- ２０．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- （ノニオン型） ２１．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２２．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２３．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２４．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２５．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２６．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２７．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ ２８．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ ２９．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ （アニオン型） ３０．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｎａ ３１．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｎａ ３２．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｋ ３３．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ ３４．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ ３５．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3Ｋ ３６．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ）Ｃ3Ｈ7 ３７．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ）Ｃ3Ｈ7 ３８．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎ
ａ）Ｃ3Ｈ7 ３９．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４０．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４１．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４２．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４３．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４４．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４５．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４６．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４７．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４８．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ４９．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ５０．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ただし、上記において、（ＰＦＣ）はパーフルオロシク
ロアルカン残基を表し、（ＣＦ3Ｏ）の置換位置は、カ
ルボニル基を１位として、（ＣＦ3Ｏ）3の場合は３，
４，５位であり、（ＣＦ3Ｏ）2の場合は３および４位で
あり、（ＣＦ3Ｏ）の場合は４位である。
化合物の具体例を例示するが、本発明で使用することが
できる化合物はこれらに限定されるものではない。 （ベタイン型） １．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＣＯＯ- ２．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ３．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ
3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ４．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3 -）
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｈ ５．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3 -）
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｈ ６．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ７．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - ８．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ−
ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＳＯ3 - （カチオン型） ９．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨ Ｃｌ- １０．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨ Ｃｌ-１１．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｃ2Ｈ4ＯＨＣｌ- １２．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｈ Ｃｌ- １３．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ
+（ＣＨ3）2Ｈ Ｃｌ- １４．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6Ｎ+（Ｃ
Ｈ3）2Ｈ Ｃｌ- １５．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １６．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １７．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １８．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- １９．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- ２０．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6Ｎ+（ＣＨ3）2ＨＣｌ- （ノニオン型） ２１．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２２．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２３．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）12
Ｈ ２４．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２５．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２６．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯ（Ｃ2Ｈ4Ｏ）15
ＣＨ3 ２７．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ ２８．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ ２９．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＯＨ （アニオン型） ３０．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｎａ ３１．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｎａ ３２．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＣＯＯ
Ｋ ３３．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ ３４．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ ３５．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮＨＣ3Ｈ6ＳＯ3Ｋ ３６．（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ）Ｃ3Ｈ7 ３７．（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3
Ｎａ）Ｃ3Ｈ7 ３８．（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＮ（Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎ
ａ）Ｃ3Ｈ7 ３９．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４０．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４１．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＣＯＯＮａ ４２．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４３．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４４．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＯＯＮａ）2 ４５．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４６．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４７．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2Ｃ
（ＣＨ3）ＳＯ3Ｎａ ４８．［（ＣＦ3Ｏ）3（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ４９．［（ＣＦ3Ｏ）2（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ５０．［（ＣＦ3Ｏ）（ＰＦＣ）−ＣＯＯＣＨ2］2ＣＨ
Ｃ3Ｈ6ＳＯ3Ｎａ ただし、上記において、（ＰＦＣ）はパーフルオロシク
ロアルカン残基を表し、（ＣＦ3Ｏ）の置換位置は、カ
ルボニル基を１位として、（ＣＦ3Ｏ）3の場合は３，
４，５位であり、（ＣＦ3Ｏ）2の場合は３および４位で
あり、（ＣＦ3Ｏ）の場合は４位である。
【００２１】一般式（２）で表される化合物の合成方法
は、特開平１０−１５８２１８号、特表２０００−５０
５８０３号を参考にすることができる。
は、特開平１０−１５８２１８号、特表２０００−５０
５８０３号を参考にすることができる。
【００２２】次に、請求項２に係る発明に用いられる一
般式（３）で表される化合物について説明する。
般式（３）で表される化合物について説明する。
【００２３】
【化２】
【００２４】一般式（３）において、Ｒ4は少なくとも
１つのフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、その
炭素数は３〜１５であることが好ましく、さらに４〜１
０であることがより好ましく、特に４〜７であることが
好ましい。
１つのフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、その
炭素数は３〜１５であることが好ましく、さらに４〜１
０であることがより好ましく、特に４〜７であることが
好ましい。
【００２５】Ｌ3およびＬ4は各々単結合または連結基を
表し、連結基としてはヘテロ原子またはカルボニル基、
アミド残基、あるいはこれらと結合したアルキレン基、
例えばオキシアルキレン基が挙げられる。上記ヘテロ原
子としては窒素原子、酸素原子、またはイオウ原子が好
ましい。
表し、連結基としてはヘテロ原子またはカルボニル基、
アミド残基、あるいはこれらと結合したアルキレン基、
例えばオキシアルキレン基が挙げられる。上記ヘテロ原
子としては窒素原子、酸素原子、またはイオウ原子が好
ましい。
【００２６】Ｘ3は水素原子、ヒドロキシル基、アニオ
ン性基、カチオン性基、または両性基を表す。アニオン
性基としてはカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基
が好ましく、カウンターカチオンとして、ナトリウムイ
オン、カリウムイオンなどのアルカリ金属イオン、アン
モニウムイオンなどが好ましい。カチオン性基としては
４級アルキルアンモニウム基が好ましく、カウンターア
ニオンとして、ハロゲン化物イオン、ｐ−トルエンスル
ホン酸イオンなどが好ましい。両性基としては、前記カ
チオン性基とアニオン性基の結合したものが好ましい。
ｓは１以上の整数を表す。
ン性基、カチオン性基、または両性基を表す。アニオン
性基としてはカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基
が好ましく、カウンターカチオンとして、ナトリウムイ
オン、カリウムイオンなどのアルカリ金属イオン、アン
モニウムイオンなどが好ましい。カチオン性基としては
４級アルキルアンモニウム基が好ましく、カウンターア
ニオンとして、ハロゲン化物イオン、ｐ−トルエンスル
ホン酸イオンなどが好ましい。両性基としては、前記カ
チオン性基とアニオン性基の結合したものが好ましい。
ｓは１以上の整数を表す。
【００２７】Ｒ5およびＲ6は各々水素原子または低級ア
ルキル基、例えばメチル基、エチル基を表す。ｑおよび
ｒは各々重合モル比を表し、ｑ＋ｒ＝１．０であり、好
ましくは０．３≦ｑ≦０．９、０．１≦ｒ≦０．７であ
る。
ルキル基、例えばメチル基、エチル基を表す。ｑおよび
ｒは各々重合モル比を表し、ｑ＋ｒ＝１．０であり、好
ましくは０．３≦ｑ≦０．９、０．１≦ｒ≦０．７であ
る。
【００２８】一般式（３）で表される化合物（ポリマ
ー）は、異なるＲ4基を有する異なる複数のモノマーが
共重合してもよいし、また異なるＸ3基を有する異なる
複数のモノマーが共重合してもよい。すなわち、ｑ＝ｑ
１＋ｑ２＋ｑ３＋・・・、ｒ＝ｒ１＋ｒ２＋ｒ３＋・・
・という複合型構成であってもよい。ｓは１以上の整数
を表し、ｓが２以上のときＸ3は同じでも異なっていて
もよい。ｓは好ましくは１または２である。
ー）は、異なるＲ4基を有する異なる複数のモノマーが
共重合してもよいし、また異なるＸ3基を有する異なる
複数のモノマーが共重合してもよい。すなわち、ｑ＝ｑ
１＋ｑ２＋ｑ３＋・・・、ｒ＝ｒ１＋ｒ２＋ｒ３＋・・
・という複合型構成であってもよい。ｓは１以上の整数
を表し、ｓが２以上のときＸ3は同じでも異なっていて
もよい。ｓは好ましくは１または２である。
【００２９】以下に、一般式（３）で表される化合物の
好ましい具体例を示すが、本発明で使用することができ
る化合物はこれらに限定されるものではない。
好ましい具体例を示すが、本発明で使用することができ
る化合物はこれらに限定されるものではない。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】
【表３】
【００３３】
【表４】
【００３４】
【表５】
【００３５】一般式（３）で表される化合物の合成方法
については、特表平１０−５０１５９１号、同１１−５
０４３６０号、特開２０００−２６３７１４号等を参考
にすることができる。
については、特表平１０−５０１５９１号、同１１−５
０４３６０号、特開２０００−２６３７１４号等を参考
にすることができる。
【００３６】一般式（１）、（２）または（３）で表さ
れる化合物は、感光材料の支持体上に設ける層の少なく
とも１層に含有させればよいが、特に支持体上ハロゲン
化銀乳剤面と反対側のバッキング面の層に含有させるこ
とが好ましく、より好ましくはバッキング保護層に含有
させることが好ましい。
れる化合物は、感光材料の支持体上に設ける層の少なく
とも１層に含有させればよいが、特に支持体上ハロゲン
化銀乳剤面と反対側のバッキング面の層に含有させるこ
とが好ましく、より好ましくはバッキング保護層に含有
させることが好ましい。
【００３７】一般式（１）または（２）で表される化合
物の含有量は、感光材料１ｍ2当たり０．１〜５．０ｍ
ｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは１．０〜５．０ｍ
ｇ／ｍ2である。一般式（３）で表される化合物の含有
量は、感光材料１ｍ2当たり０．１〜５．０ｍｇ／ｍ2が
好ましく、より好ましくは１．０〜５．０ｍｇ／ｍ2で
ある。
物の含有量は、感光材料１ｍ2当たり０．１〜５．０ｍ
ｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは１．０〜５．０ｍ
ｇ／ｍ2である。一般式（３）で表される化合物の含有
量は、感光材料１ｍ2当たり０．１〜５．０ｍｇ／ｍ2が
好ましく、より好ましくは１．０〜５．０ｍｇ／ｍ2で
ある。
【００３８】請求項１〜５に係る処理方法が適用される
感光材料にはヒドラジン誘導体を含有させることが硬調
化の観点から好ましい。ヒドラジン誘導体としては下記
一般式（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体を用いること
ができる。
感光材料にはヒドラジン誘導体を含有させることが硬調
化の観点から好ましい。ヒドラジン誘導体としては下記
一般式（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体を用いること
ができる。
【００３９】
【化３】
【００４０】一般式（Ｂ）において、Ａは脂肪族基、芳
香族基、又はヘテロ環基を表し、これらの基は置換基を
有していてもよい。Ｂはアシル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファ
モイル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、オキザリル
基、又はヘテロ環基を表す。また、ＢはＡ2及びそれら
が結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を形成してもよ
い。Ａ1及びＡ2は、ともに水素原子、又は一方が水素原
子で他方はアシル基又はオキザリル基を表す。
香族基、又はヘテロ環基を表し、これらの基は置換基を
有していてもよい。Ｂはアシル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファ
モイル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、オキザリル
基、又はヘテロ環基を表す。また、ＢはＡ2及びそれら
が結合する窒素原子とともに、ヘテロ環を形成してもよ
い。Ａ1及びＡ2は、ともに水素原子、又は一方が水素原
子で他方はアシル基又はオキザリル基を表す。
【００４１】一般式（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体
の好ましい態様を以下に示す。Ａで表される脂肪族基は
炭素数１〜３０のものが好ましく、特に炭素数１〜２０
の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが好まし
い。例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられ、こ
れらはさらに適当な置換基（例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、アシルアミ
ノ基、ウレイド基等）で置換されてもよい。Ａで表され
る芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好まし
く、例えばベンゼン環又はナフタレン環などが挙げられ
る。Ａで表されるヘテロ環基としては、単環又は縮合環
の少なくとも窒素、硫黄及び酸素から選ばれる少なくと
も１つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えば
ピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン
環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリ
ン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン
環、フラン環などが挙げられる。Ａとして特に好ましい
ものは、アリール基及びヘテロ環基である。Ａで表され
るアリール基及びヘテロ環基は、置換基を有していても
よい。この場合の代表的な置換基としてはアルキル基
（好ましくは炭素数１〜２０のもの）、アラルキル基
（好ましくはアルキル部分の炭素数が１〜３の単環又は
縮合環のもの）、アルコキシ基（好ましくはアルキル部
分の炭素数が１〜２０のもの）、置換アミノ基（好まし
くは炭素数１〜２０のアルキル基又はアルキリデン基で
置換されたアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭
素数１〜４０のもの）、スルホンアミド基（好ましくは
炭素数１〜４０のもの）、ウレイド基（好ましくは炭素
数１〜４０のもの）、ヒドラジノカルボニルアミノ基
（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ヒドロキシル
基、ホスホアミド基（好ましくは炭素数１〜４０のも
の）などがある。また、Ａは耐拡散基又はハロゲン化銀
吸着促進基を少なくとも１つ含むことが好ましい。耐拡
散基としてはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常
用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭
素数８以上の写真性に対して比較的不活性である例えば
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基
などが挙げられる。ハロゲン化銀吸着促進基としては、
チオ尿素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテ
ル基、チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メル
カプト複素環基、或いは特開昭６４−９０４３９号に記
載の吸着基などが挙げられる。
の好ましい態様を以下に示す。Ａで表される脂肪族基は
炭素数１〜３０のものが好ましく、特に炭素数１〜２０
の直鎖、分岐又は環状のアルキル基であることが好まし
い。例えばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、オクチ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等が挙げられ、こ
れらはさらに適当な置換基（例えばアリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、アシルアミ
ノ基、ウレイド基等）で置換されてもよい。Ａで表され
る芳香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好まし
く、例えばベンゼン環又はナフタレン環などが挙げられ
る。Ａで表されるヘテロ環基としては、単環又は縮合環
の少なくとも窒素、硫黄及び酸素から選ばれる少なくと
も１つのヘテロ原子を含むヘテロ環が好ましく、例えば
ピロリジン環、イミダゾール環、テトラヒドロフラン
環、モルホリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリ
ン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チオフェン
環、フラン環などが挙げられる。Ａとして特に好ましい
ものは、アリール基及びヘテロ環基である。Ａで表され
るアリール基及びヘテロ環基は、置換基を有していても
よい。この場合の代表的な置換基としてはアルキル基
（好ましくは炭素数１〜２０のもの）、アラルキル基
（好ましくはアルキル部分の炭素数が１〜３の単環又は
縮合環のもの）、アルコキシ基（好ましくはアルキル部
分の炭素数が１〜２０のもの）、置換アミノ基（好まし
くは炭素数１〜２０のアルキル基又はアルキリデン基で
置換されたアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭
素数１〜４０のもの）、スルホンアミド基（好ましくは
炭素数１〜４０のもの）、ウレイド基（好ましくは炭素
数１〜４０のもの）、ヒドラジノカルボニルアミノ基
（好ましくは炭素数１〜４０のもの）、ヒドロキシル
基、ホスホアミド基（好ましくは炭素数１〜４０のも
の）などがある。また、Ａは耐拡散基又はハロゲン化銀
吸着促進基を少なくとも１つ含むことが好ましい。耐拡
散基としてはカプラーなどの不動性写真用添加剤にて常
用されるバラスト基が好ましく、バラスト基としては炭
素数８以上の写真性に対して比較的不活性である例えば
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ
基、フェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基
などが挙げられる。ハロゲン化銀吸着促進基としては、
チオ尿素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテ
ル基、チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メル
カプト複素環基、或いは特開昭６４−９０４３９号に記
載の吸着基などが挙げられる。
【００４２】Ｂは具体的にはアシル基（例えばホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、２−ヒドロキシ
メチルベンゾイル、４−クロロベンゾイル等）、アルキ
ルスルホニル基（例えばメタンスルホニル、２−クロロ
エタンスルホニル等）、アリールスルホニル基（例えば
ベンゼンスルホニル等）、アルキルスルフィニル基（例
えばメタンスルフィニル等）、アリールスルフィニル基
（ベンゼンスルフィニル等）、カルバモイル基（例えば
メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、アル
コキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、メト
キシエトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニ
ル基（例えばフェノキシカルボニル等）、スルファモイ
ル基（例えばジメチルスルファモイル等）、スルフィナ
モイル基（例えばメチルスルフィナモイル等）、アルコ
キシスルホニル基（例えばメトキシスルホニル等）、チ
オアシル基（例えばメチルチオカルボニル等）、チオカ
ルバモイル基（例えばメチルチオカルバモイル等）、オ
キザリル基（一般式（４）に関しては後述）、又はヘテ
ロ環基（例えばピリジン環、ピリジニウム環等）を表
す。ＢはＡ2及びそれらが結合する窒素原子とともに
ル、アセチル、プロピオニル、トリフルオロアセチル、
メトキシアセチル、フェノキシアセチル、メチルチオア
セチル、クロロアセチル、ベンゾイル、２−ヒドロキシ
メチルベンゾイル、４−クロロベンゾイル等）、アルキ
ルスルホニル基（例えばメタンスルホニル、２−クロロ
エタンスルホニル等）、アリールスルホニル基（例えば
ベンゼンスルホニル等）、アルキルスルフィニル基（例
えばメタンスルフィニル等）、アリールスルフィニル基
（ベンゼンスルフィニル等）、カルバモイル基（例えば
メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等）、アル
コキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、メト
キシエトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニ
ル基（例えばフェノキシカルボニル等）、スルファモイ
ル基（例えばジメチルスルファモイル等）、スルフィナ
モイル基（例えばメチルスルフィナモイル等）、アルコ
キシスルホニル基（例えばメトキシスルホニル等）、チ
オアシル基（例えばメチルチオカルボニル等）、チオカ
ルバモイル基（例えばメチルチオカルバモイル等）、オ
キザリル基（一般式（４）に関しては後述）、又はヘテ
ロ環基（例えばピリジン環、ピリジニウム環等）を表
す。ＢはＡ2及びそれらが結合する窒素原子とともに
【００４３】
【化４】
【００４４】を形成してもよい。Ｒ9はアルキル基、ア
リール基又はヘテロ環基を表し、Ｒ10は水素原子、アル
キル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ｂとして
は、アシル基又はオキザリル基が特に好ましい。
リール基又はヘテロ環基を表し、Ｒ10は水素原子、アル
キル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。Ｂとして
は、アシル基又はオキザリル基が特に好ましい。
【００４５】Ａ1及びＡ2は、ともに水素原子、又は一方
が水素原子で他方はアシル基（アセチル、トリフルオロ
アセチル、ベンゾイル等）、スルホニル基（メタンスル
ホニル、トルエンスルホニル等）、又はオキザリル基
（エトキザリル等）を表す。
が水素原子で他方はアシル基（アセチル、トリフルオロ
アセチル、ベンゾイル等）、スルホニル基（メタンスル
ホニル、トルエンスルホニル等）、又はオキザリル基
（エトキザリル等）を表す。
【００４６】本発明で用いるヒドラジン誘導体のうち特
に好ましいものは下記一般式（４）で表される化合物で
ある。
に好ましいものは下記一般式（４）で表される化合物で
ある。
【００４７】
【化５】
【００４８】一般式（４）において、Ｒ61はアリール基
又はヘテロ環基を表し、Ｒ62は
又はヘテロ環基を表し、Ｒ62は
【００４９】
【化６】
【００５０】を表す。Ｒ63及びＲ64は各々水素原子、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリー
ルオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ63とＲ64
でＮ原子とともに環を形成してもよい。Ｒ65は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、又はヘテロ環基を表す。Ａ1は一般式（Ｂ）のＡ1
と、Ａ2は一般式（Ｂ）のＡ2とそれぞれ同義である。
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
ヘテロ環基、アミノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリー
ルオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ63とＲ64
でＮ原子とともに環を形成してもよい。Ｒ65は水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、又はヘテロ環基を表す。Ａ1は一般式（Ｂ）のＡ1
と、Ａ2は一般式（Ｂ）のＡ2とそれぞれ同義である。
【００５１】一般式（４）について更に詳しく説明す
る。Ｒ61で表されるアリール基としては、単環又は縮合
環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン
環などが挙げられる。Ｒ61で表されるヘテロ環基として
は、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄及び酸素か
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含む５又は６
員の不飽和ヘテロ環が好ましく、例えばピリジン環、キ
ノリン環、ピリミジン環、チオフェン環、フラン環、チ
アゾール環又はベンゾチアゾール環等が挙げられる。Ｒ
61として好ましいものは、置換又は無置換のアリール基
である。この置換基としては一般式（Ｂ）のＡの置換基
と同義のものが挙げられるが、ｐＨ１１．２以下の現像
液で硬調化する場合はスルホアミド基を少なくとも１つ
有することが好ましい。Ａ1及びＡ2は、一般式（Ｂ）の
Ａ1及びＡ2と同義の基を表すが、ともに水素原子である
ことが最も好ましい。Ｒ62は
る。Ｒ61で表されるアリール基としては、単環又は縮合
環のものが好ましく、例えばベンゼン環又はナフタレン
環などが挙げられる。Ｒ61で表されるヘテロ環基として
は、単環又は縮合環の少なくとも窒素、硫黄及び酸素か
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含む５又は６
員の不飽和ヘテロ環が好ましく、例えばピリジン環、キ
ノリン環、ピリミジン環、チオフェン環、フラン環、チ
アゾール環又はベンゾチアゾール環等が挙げられる。Ｒ
61として好ましいものは、置換又は無置換のアリール基
である。この置換基としては一般式（Ｂ）のＡの置換基
と同義のものが挙げられるが、ｐＨ１１．２以下の現像
液で硬調化する場合はスルホアミド基を少なくとも１つ
有することが好ましい。Ａ1及びＡ2は、一般式（Ｂ）の
Ａ1及びＡ2と同義の基を表すが、ともに水素原子である
ことが最も好ましい。Ｒ62は
【００５２】
【化７】
【００５３】を表し、ここでＲ63及びＲ64は、各々水素
原子、アルキル基（メチル、エチル、ベンジル等）、ア
ルケニル基（アリル、ブテニル等）、アルキニル基（プ
ロパルギル、ブチニル等）、アリール基（フェニル、ナ
フチル等）、ヘテロ環基（２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニル、Ｎ−ベンジルピペリジニル、キノリジ
ニル、Ｎ，Ｎ´−ジエチルピラゾリジニル、Ｎ−ベンジ
ルピロリジニル、ピリジル等）、アミノ基（アミノ、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ等）、
ヒドロキシル基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ
等）、アルケニルオキシ基（アリルオキシ等）、アルキ
ニルオキシ基（プロパルギルオキシ等）、アリールオキ
シ基（フェノキシ等）、又はヘテロ環オキシ基（ピリジ
ルオキシ等）を表し、Ｒ63とＲ64で窒素原子とともに環
（ピペリジン、モルホリン等）を形成してもよい。Ｒ65
は水素原子、アルキル基（メチル、エチル、メトキシエ
チル、ヒドロキシエチル等）、アルケニル基（アリル、
ブテニル等）、アルキニル基（プロパルギル、ブチニル
等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、ヘテロ環
基（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル、Ｎ−
メチルピペリジニル、ピリジル等）を表す。
原子、アルキル基（メチル、エチル、ベンジル等）、ア
ルケニル基（アリル、ブテニル等）、アルキニル基（プ
ロパルギル、ブチニル等）、アリール基（フェニル、ナ
フチル等）、ヘテロ環基（２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジニル、Ｎ−ベンジルピペリジニル、キノリジ
ニル、Ｎ，Ｎ´−ジエチルピラゾリジニル、Ｎ−ベンジ
ルピロリジニル、ピリジル等）、アミノ基（アミノ、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジベンジルアミノ等）、
ヒドロキシル基、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ
等）、アルケニルオキシ基（アリルオキシ等）、アルキ
ニルオキシ基（プロパルギルオキシ等）、アリールオキ
シ基（フェノキシ等）、又はヘテロ環オキシ基（ピリジ
ルオキシ等）を表し、Ｒ63とＲ64で窒素原子とともに環
（ピペリジン、モルホリン等）を形成してもよい。Ｒ65
は水素原子、アルキル基（メチル、エチル、メトキシエ
チル、ヒドロキシエチル等）、アルケニル基（アリル、
ブテニル等）、アルキニル基（プロパルギル、ブチニル
等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、ヘテロ環
基（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル、Ｎ−
メチルピペリジニル、ピリジル等）を表す。
【００５４】一般式（４）で示されるヒドラジン誘導体
の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。この他にも、一般式（４）で示され
るヒドラジン誘導体の具体例は特開平５−２４１２６４
号に記載されている。
の具体例を以下に示す。但し、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。この他にも、一般式（４）で示され
るヒドラジン誘導体の具体例は特開平５−２４１２６４
号に記載されている。
【００５５】
【化８】
【００５６】一般式（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体
の合成法は、特開昭６２−１８０３６１号、同６２−１
７８２４６号、同６３−２３４２４５号、同６３−２３
４２４６号、同６４−９０４３９号、特開平２−３７
号、同２−８４１号、同２−９４７号、同２−１２０７
３６号、同２−２３０２３３号、同３−１２５１３４
号、米国特許４，６８６，１６７号、同４，９８８，６
０４号、同４，９９４，３６５号、ヨーロッパ特許２５
３，６６５号、同３３３，４３５号などに記載されてい
る方法を参考にすることができる。
の合成法は、特開昭６２−１８０３６１号、同６２−１
７８２４６号、同６３−２３４２４５号、同６３−２３
４２４６号、同６４−９０４３９号、特開平２−３７
号、同２−８４１号、同２−９４７号、同２−１２０７
３６号、同２−２３０２３３号、同３−１２５１３４
号、米国特許４，６８６，１６７号、同４，９８８，６
０４号、同４，９９４，３６５号、ヨーロッパ特許２５
３，６６５号、同３３３，４３５号などに記載されてい
る方法を参考にすることができる。
【００５７】一般式（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体
の使用量は、ハロゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５
×１０-1モルであることが好ましく、特に５×１０-6〜
５×１０-2モルの範囲とすることが好ましい。一般式
（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体を感光材料中に含有
させるときには、ハロゲン化銀乳剤層又は該乳剤層に隣
接する親水性コロイド層に含有させる。
の使用量は、ハロゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５
×１０-1モルであることが好ましく、特に５×１０-6〜
５×１０-2モルの範囲とすることが好ましい。一般式
（Ｂ）で表されるヒドラジン誘導体を感光材料中に含有
させるときには、ハロゲン化銀乳剤層又は該乳剤層に隣
接する親水性コロイド層に含有させる。
【００５８】請求項１又は２に係る感光材料において、
ヒドラジン誘導体を含有する感光材料には、造核促進剤
を含有させることができる。造核促進剤としては、下記
一般式（５）又は（６）に示される造核促進剤が挙げら
れる。
ヒドラジン誘導体を含有する感光材料には、造核促進剤
を含有させることができる。造核促進剤としては、下記
一般式（５）又は（６）に示される造核促進剤が挙げら
れる。
【００５９】
【化９】
【００６０】一般式（５）において、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又
は置換アリール基を表す。Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73で環を形成
することができる。特に好ましくは脂肪族の３級アミン
化合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又
はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散
性を有するためには分子量１００以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量３００以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル
基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、又
は置換アリール基を表す。Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73で環を形成
することができる。特に好ましくは脂肪族の３級アミン
化合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又
はハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散
性を有するためには分子量１００以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量３００以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。
【００６１】具体的化合物としては以下に示すものが挙
げられる。
げられる。
【００６２】
【化１０】
【００６３】
【化１１】
【００６４】
【化１２】
【００６５】
【化１３】
【００６６】
【化１４】
【００６７】一般式（６）において、Ａｒはそれぞれ置
換若しくは無置換のアリール基又は複素芳香環を表す。
Ｒ81は置換されていてもよいアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、又はアリール基を表す。一般式
（６）で表される化合物は分子内に耐拡散性基又はハロ
ゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好ましい耐拡
散基をもたせるためには分子量１２０以上が好ましく、
特に好ましくは３００以上である。
換若しくは無置換のアリール基又は複素芳香環を表す。
Ｒ81は置換されていてもよいアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、又はアリール基を表す。一般式
（６）で表される化合物は分子内に耐拡散性基又はハロ
ゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。好ましい耐拡
散基をもたせるためには分子量１２０以上が好ましく、
特に好ましくは３００以上である。
【００６８】前記一般式（６）で表される化合物の具体
的化合物としては以下に示すものが挙げられる。
的化合物としては以下に示すものが挙げられる。
【００６９】
【化１５】
【００７０】
【化１６】
【００７１】請求項１〜５に係る処理方法が適用される
感光材料はテトラゾリウム化合物を含有することが硬調
化の観点から好ましい。テトラゾリウム化合物として下
記一般式〔Ｃ〕で表されるテトラゾリウム化合物が挙げ
られる。
感光材料はテトラゾリウム化合物を含有することが硬調
化の観点から好ましい。テトラゾリウム化合物として下
記一般式〔Ｃ〕で表されるテトラゾリウム化合物が挙げ
られる。
【００７２】
【化１７】
【００７３】一般式〔Ｃ〕において、Ｒc1、Ｒc2および
Ｒc3は各々水素原子または置換基を表し、Ｘ-はアニオ
ンを表す。Ｒc1、Ｒc2，Ｒc3が表す置換基の好ましい例
としてアルキル基（例えばメチル、エチル、シクロプロ
ピル、プロピル、イソプロピル、シクロブチル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキシル等）、アミ
ノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ）、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ等）、アシルオ
キシ基（例えばアセチルオキシ）、ハロゲン原子（例え
ばフッ素、塩素、臭素等）、カルバモイル基、アシルチ
オ基（例えばアセチルチオ）、アルコキシカルボニル基
（例えばエトキシカルボニル）、カルボキシル基、アシ
ル基（例えばアセチル）、シアノ基、ニトロ基、メルカ
プト基、スルホオキシ基、アミノスルホキシ基のような
基が挙げられる。
Ｒc3は各々水素原子または置換基を表し、Ｘ-はアニオ
ンを表す。Ｒc1、Ｒc2，Ｒc3が表す置換基の好ましい例
としてアルキル基（例えばメチル、エチル、シクロプロ
ピル、プロピル、イソプロピル、シクロブチル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、シクロヘキシル等）、アミ
ノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ）、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ等）、アシルオ
キシ基（例えばアセチルオキシ）、ハロゲン原子（例え
ばフッ素、塩素、臭素等）、カルバモイル基、アシルチ
オ基（例えばアセチルチオ）、アルコキシカルボニル基
（例えばエトキシカルボニル）、カルボキシル基、アシ
ル基（例えばアセチル）、シアノ基、ニトロ基、メルカ
プト基、スルホオキシ基、アミノスルホキシ基のような
基が挙げられる。
【００７４】Ｘ-で示されるアニオンとしては、例えば
塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロ
ゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、
スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系
の活性剤、具体的にはｐ−トルエンスルホン酸アニオン
等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−ド
デシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベ
ンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニ
オン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフ
ェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−２−エチルヘキ
シルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホ
サクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェ
ートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エステル
アニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族アニオ
ン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに酸根のつい
たもの等を挙げることができる。
塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等のハロ
ゲンイオン、硝酸、硫酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、
スルホン酸、カルボン酸等の有機酸の酸根、アニオン系
の活性剤、具体的にはｐ−トルエンスルホン酸アニオン
等の低級アルキルベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−ド
デシルベンゼンスルホン酸アニオン等の高級アルキルベ
ンゼンスルホン酸アニオン、ラウリルスルフェートアニ
オン等の高級アルキル硫酸エステルアニオン、テトラフ
ェニルボロン等の硼酸系アニオン、ジ−２−エチルヘキ
シルスルホサクシネートアニオン等のジアルキルスルホ
サクシネートアニオン、セチルポリエテノキシサルフェ
ートアニオン等のポリエーテルアルコール硫酸エステル
アニオン、ステアリン酸アニオン等の高級脂肪族アニオ
ン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに酸根のつい
たもの等を挙げることができる。
【００７５】一般式〔Ｃ〕で表されるテトラゾリウム化
合物の具体例を以下に挙げる。
合物の具体例を以下に挙げる。
【００７６】
【化１８】
【００７７】テトラゾリウム化合物の上記以外の具体例
として、特開平１−２８７５５７号の〔化８〕、〔化
９〕、〔化１０〕、〔化１１〕、〔化１２〕で示される
テトラゾリウム化合物を挙げられる。
として、特開平１−２８７５５７号の〔化８〕、〔化
９〕、〔化１０〕、〔化１１〕、〔化１２〕で示される
テトラゾリウム化合物を挙げられる。
【００７８】テトラゾリウム化合物は、例えばケミカル
・レビュー（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ）第５
５巻、第３３５頁〜４８３頁に記載の方法に従って容易
に合成することができる。
・レビュー（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ）第５
５巻、第３３５頁〜４８３頁に記載の方法に従って容易
に合成することができる。
【００７９】一般式〔Ｃ〕で表されるテトラゾリウム化
合物は、感光材料中に含有されるハロゲン化銀１モル当
り約１ｍｇ以上１０ｇまで、特に、約１０ｍｇ以上約２
ｇまでの範囲で用いられるのが好ましい。
合物は、感光材料中に含有されるハロゲン化銀１モル当
り約１ｍｇ以上１０ｇまで、特に、約１０ｍｇ以上約２
ｇまでの範囲で用いられるのが好ましい。
【００８０】請求項１〜５に係る処理方法が適用される
感光材料は支持体上に少なくとも１層の導電性層を設け
ることが帯電防止性の点から好ましい。導電性層を形成
する代表的方法としては、水溶性導電性ポリマー、疎水
性ポリマー、硬化剤を用いて形成する方法と金属酸化物
を用いて形成する公知の方法を用いることができる。こ
れらの方法については例えば特開平３−２６５８４２号
の第（５）頁〜第（１５）頁に記載されている。
感光材料は支持体上に少なくとも１層の導電性層を設け
ることが帯電防止性の点から好ましい。導電性層を形成
する代表的方法としては、水溶性導電性ポリマー、疎水
性ポリマー、硬化剤を用いて形成する方法と金属酸化物
を用いて形成する公知の方法を用いることができる。こ
れらの方法については例えば特開平３−２６５８４２号
の第（５）頁〜第（１５）頁に記載されている。
【００８１】請求項１〜５に係る処理方法が適用される
感光材料のハロゲン化銀乳剤層に使用されるハロゲン化
銀としては、例えば臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭
化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用さ
れる任意のものを用いることができるが、好ましくは５
０モル％以上の塩化銀を含む塩臭化銀又は塩化銀であ
る。
感光材料のハロゲン化銀乳剤層に使用されるハロゲン化
銀としては、例えば臭化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭
化銀、及び塩化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用さ
れる任意のものを用いることができるが、好ましくは５
０モル％以上の塩化銀を含む塩臭化銀又は塩化銀であ
る。
【００８２】また、ハロゲン化銀粒子は、電子顕微鏡写
真法により測定されたハロゲン化銀粒子の粒径から求め
た｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝×１００
で表される粒径分布の変動係数が１５％以下である単分
散粒子であることが好ましい。
真法により測定されたハロゲン化銀粒子の粒径から求め
た｛（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）｝×１００
で表される粒径分布の変動係数が１５％以下である単分
散粒子であることが好ましい。
【００８３】請求項１〜５に係る処理方法が適用される
感光材料には当業界で公知の各種技術、添加剤等を用い
ることができる。例えば、ハロゲン化銀乳剤層、バッキ
ング層等には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界
面活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫
外線吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マ
ット剤等を各種の方法で更に含有させることができる。
また、ハロゲン化銀乳剤及びバッキング層中にはポリマ
ーラテックスを含有させることができる。これらの添加
剤は、より詳しくは、リサーチ・ディスクロージャ（Ｒ
Ｄ）第１７６巻Ｉｔｅｍ／７６４３（１９７８年１２
月）および同１８７巻Ｉｔｅｍ／８７１６（１９７９年
１１月）に記載されており、その該当個所を以下にまと
めて示す。
感光材料には当業界で公知の各種技術、添加剤等を用い
ることができる。例えば、ハロゲン化銀乳剤層、バッキ
ング層等には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界
面活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫
外線吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マ
ット剤等を各種の方法で更に含有させることができる。
また、ハロゲン化銀乳剤及びバッキング層中にはポリマ
ーラテックスを含有させることができる。これらの添加
剤は、より詳しくは、リサーチ・ディスクロージャ（Ｒ
Ｄ）第１７６巻Ｉｔｅｍ／７６４３（１９７８年１２
月）および同１８７巻Ｉｔｅｍ／８７１６（１９７９年
１１月）に記載されており、その該当個所を以下にまと
めて示す。
【００８４】 添加剤種類 ＲＤ／７６４３ ＲＤ／８７１６ １．化学増感剤 ２３頁 ６４８頁右欄 ２．感度上昇剤 ６４８頁右欄 ３．分光増感剤 ２３〜２４頁 ６４８頁右欄〜 強色増感剤 ６４９頁右欄 ４．増白剤 ２４頁 ５．かぶり防止剤および安定剤 ２４〜２５頁 ６４９頁右欄 ６．光吸収剤、フイルター染料 ２５〜２６頁 ６４９頁右欄〜 紫外線吸収剤 ６５０頁左欄 ７．ステイン防止剤 ２５頁右欄 ６５０頁左〜右欄 ８．色素画像安定剤 ２５頁 ９．硬膜剤 ２６頁 ６５１頁左欄 10．バインダー ２６頁 ６５１頁左欄 11．可塑剤、潤滑剤 ２７頁 ６５０頁右欄 12．塗布助剤、表面活性剤 ２６〜２７頁 ６５０頁右欄 13．スタチィック防止剤 ２７頁 ６５０頁右欄 請求項１〜５に係る処理方法が適用される感光材料の支
持体にはこの技術分野で通常用いられる支持体を用いる
ことができる。典型的な支持体としては、酢酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートのよ
うなポリエステル、ポリエチレンのようなポリオレフィ
ン、ポリスチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗布
した紙、ガラス、金属等を挙げることができる。これら
の支持体は必要に応じて下地加工が施される。
持体にはこの技術分野で通常用いられる支持体を用いる
ことができる。典型的な支持体としては、酢酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートのよ
うなポリエステル、ポリエチレンのようなポリオレフィ
ン、ポリスチレン、バライタ紙、ポリオレフィンを塗布
した紙、ガラス、金属等を挙げることができる。これら
の支持体は必要に応じて下地加工が施される。
【００８５】支持体上に設けられる感光性ハロゲン化銀
乳剤層その他の層に用いられる親水性保護コロイドとし
ては、通常のハロゲン化銀乳剤に用いられるゼラチンの
他にアセチル化ゼラチンやフタル化ゼラチン等のゼラチ
ン誘導体、水溶性セルロース誘導体その他の合成または
天然の親水性ポリマーを用いることができる。
乳剤層その他の層に用いられる親水性保護コロイドとし
ては、通常のハロゲン化銀乳剤に用いられるゼラチンの
他にアセチル化ゼラチンやフタル化ゼラチン等のゼラチ
ン誘導体、水溶性セルロース誘導体その他の合成または
天然の親水性ポリマーを用いることができる。
【００８６】感光材料は、感光性ハロゲン化銀乳剤層に
加えて保護層、フィルター層、ハレーション防止層、ク
ロスオーバー光カット層、バッキング層等の補助層を設
けることができる。
加えて保護層、フィルター層、ハレーション防止層、ク
ロスオーバー光カット層、バッキング層等の補助層を設
けることができる。
【００８７】請求項１〜５に係る処理方法において、感
光材料の露光には限定はなく通常用いられる方法を適用
することができる。
光材料の露光には限定はなく通常用いられる方法を適用
することができる。
【００８８】請求項１〜５に係る処理方法において、現
像処理に用いる自動現像機は、現像槽、定着槽、並びに
水洗槽および／または安定化槽を有し、該水洗槽および
安定化槽が複数の処理層で構成されるものである。２槽
以上の水洗槽または安定化槽は、従来から知られている
水洗水の補充液量を少なくする手段としての多段向流方
式を用いることが好ましい。多段向流方式を用いれば、
定着後の感光材料は徐々に清浄な方向つまり定着液で汚
れていない処理液の方へ順次接触して処理されていくの
で、より効率の良い水洗または安定化がなされる。
像処理に用いる自動現像機は、現像槽、定着槽、並びに
水洗槽および／または安定化槽を有し、該水洗槽および
安定化槽が複数の処理層で構成されるものである。２槽
以上の水洗槽または安定化槽は、従来から知られている
水洗水の補充液量を少なくする手段としての多段向流方
式を用いることが好ましい。多段向流方式を用いれば、
定着後の感光材料は徐々に清浄な方向つまり定着液で汚
れていない処理液の方へ順次接触して処理されていくの
で、より効率の良い水洗または安定化がなされる。
【００８９】現像および定着に用いる処理液ついては特
に制限はなく、通常使用される現像液および定着液を用
い公知の条件で処理することができる。
に制限はなく、通常使用される現像液および定着液を用
い公知の条件で処理することができる。
【００９０】定着開始液は、通常用いられている濃厚液
キットを水で希釈し用いてもよいが、２種以上の化合物
から成形された固体処理剤の単独物または混合物を水で
溶解して用いることができる。補充液については、２種
以上の化合物から成形された固体処理剤の単独物または
混合物を水で溶解して用いるのが好ましい。
キットを水で希釈し用いてもよいが、２種以上の化合物
から成形された固体処理剤の単独物または混合物を水で
溶解して用いることができる。補充液については、２種
以上の化合物から成形された固体処理剤の単独物または
混合物を水で溶解して用いるのが好ましい。
【００９１】定着液はチオ硫酸塩を含む水溶液であり定
着開始液のｐＨは４．０以上、好ましくは４．２〜７．
０であり、更に好ましくは、４．４〜６．９である。定
着主薬としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムが使用でき、チオ硫酸イオンを必須成分とするもの
である。
着開始液のｐＨは４．０以上、好ましくは４．２〜７．
０であり、更に好ましくは、４．４〜６．９である。定
着主薬としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニ
ウムが使用でき、チオ硫酸イオンを必須成分とするもの
である。
【００９２】臭気の発生を防止するため、定着主薬とし
てはアンモニアおよびその化合物例えばチオ硫酸アンモ
ニウムを実質的に含有しないことが好ましく、全く含有
しないことが最も好ましい。ここで、実質的にアンモニ
アおよびその化合物を含まないとは、臭気が障害になら
ない程度に含有しても差し支えないことをいう。本発明
の処理方法に用いる定着液の定着主薬としてはチオ硫酸
ナトリウムが特に好ましい。定着主薬の使用量は適宜変
えることができ、一般には、０．１〜約６．０ｍｏｌ／
ｌである。定着液には、所望により保恒剤（例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ調整剤（例えば、硫酸、水
酸化ナトリウム）、硬水軟化能のあるキレート剤や特開
昭６２−７８５５１号記載の化合物を含むことができ
る。
てはアンモニアおよびその化合物例えばチオ硫酸アンモ
ニウムを実質的に含有しないことが好ましく、全く含有
しないことが最も好ましい。ここで、実質的にアンモニ
アおよびその化合物を含まないとは、臭気が障害になら
ない程度に含有しても差し支えないことをいう。本発明
の処理方法に用いる定着液の定着主薬としてはチオ硫酸
ナトリウムが特に好ましい。定着主薬の使用量は適宜変
えることができ、一般には、０．１〜約６．０ｍｏｌ／
ｌである。定着液には、所望により保恒剤（例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ調整剤（例えば、硫酸、水
酸化ナトリウム）、硬水軟化能のあるキレート剤や特開
昭６２−７８５５１号記載の化合物を含むことができ
る。
【００９３】本発明の処理方法において、定着液にはア
ルミニウムおよびその化合物を実質的に含有しないこと
が好ましく、全く含有しないことが最も好ましい。ここ
で実質的にとは、アルミニウムおよびその化合物による
水垢を生じない程度であれば含有しても差し支えないこ
とをいう。
ルミニウムおよびその化合物を実質的に含有しないこと
が好ましく、全く含有しないことが最も好ましい。ここ
で実質的にとは、アルミニウムおよびその化合物による
水垢を生じない程度であれば含有しても差し支えないこ
とをいう。
【００９４】本発明の処理方法の１つの形態として、現
像工程及び定着工程に用いる処理剤がそれぞれ固体処理
剤から調製された液である形態が挙げられる。固体処理
剤とは、処理液を構成する成分が２種以上で成形された
固体をいい、処理液成分が全て含有された１種の固体、
または固体が２種以上で処理液の成分を構成できるもの
であってもよい。固体処理剤においては、少なくとも２
種以上の化合物が成形された固体が少なくとも１種あれ
ばよく、成形された固体以外は単体物質でもよい。
像工程及び定着工程に用いる処理剤がそれぞれ固体処理
剤から調製された液である形態が挙げられる。固体処理
剤とは、処理液を構成する成分が２種以上で成形された
固体をいい、処理液成分が全て含有された１種の固体、
または固体が２種以上で処理液の成分を構成できるもの
であってもよい。固体処理剤においては、少なくとも２
種以上の化合物が成形された固体が少なくとも１種あれ
ばよく、成形された固体以外は単体物質でもよい。
【００９５】固体処理剤を作製する方法としては水を添
加して造粒を行った後に乾燥させて顆粒を得て成形する
方法と水の添加量を少なくして造粒を行い、もしくはま
ったく水を添加せずに、直接乾燥工程を経ずに成形する
方法がある。水添加量としては全体の素材の量に対して
０％以上２％以下であることが好ましい。造粒を行わず
に原材料を直接圧縮成形して顆粒状の固体処理剤を成形
する方式の例としてブリケッティングマシンがある。ま
た、造粒する手段としては一般に用いられている撹拌造
粒機やヘンシェルミキサーを用いる方法が挙げられる。
加して造粒を行った後に乾燥させて顆粒を得て成形する
方法と水の添加量を少なくして造粒を行い、もしくはま
ったく水を添加せずに、直接乾燥工程を経ずに成形する
方法がある。水添加量としては全体の素材の量に対して
０％以上２％以下であることが好ましい。造粒を行わず
に原材料を直接圧縮成形して顆粒状の固体処理剤を成形
する方式の例としてブリケッティングマシンがある。ま
た、造粒する手段としては一般に用いられている撹拌造
粒機やヘンシェルミキサーを用いる方法が挙げられる。
【００９６】
【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を具体的に説
明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるもの
ではない。
明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるもの
ではない。
【００９７】実施例１ Ｈｅ−Ｎｅレーザー光源用印刷製版スキャナー用ハロゲ
ン化銀写真感光材料の作製 （ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）同時混合法を用いて塩化
銀７０モル％、残りは臭化銀からなる平均厚み０．０５
μｍ平均直径０．１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にＫ3ＲｕＣｌ6を銀１モルあたり８
×１０-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル
あたり３×１０ -7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み０．１０μｍ平均直径０．２５μｍのコア／シェル型
単分散（変動係数１０％）の（１００）面を主平面とし
て有する塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、沃臭化銀０．
２モル％、残りは臭化銀からなる）平板状粒子の乳剤で
あった。
ン化銀写真感光材料の作製 （ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）同時混合法を用いて塩化
銀７０モル％、残りは臭化銀からなる平均厚み０．０５
μｍ平均直径０．１５μｍの塩臭化銀コア粒子を調製し
た。コア粒子混合時にＫ3ＲｕＣｌ6を銀１モルあたり８
×１０-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を
用いてシェルを付けた。その際Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モル
あたり３×１０ -7モル添加した。得られた乳剤は平均厚
み０．１０μｍ平均直径０．２５μｍのコア／シェル型
単分散（変動係数１０％）の（１００）面を主平面とし
て有する塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、沃臭化銀０．
２モル％、残りは臭化銀からなる）平板状粒子の乳剤で
あった。
【００９８】この乳剤を４０℃に冷却し、凝集高分子剤
としてフェニルカルバモイル基で変性（置換率９０％）
された変性ゼラチン１３．８質量％水溶液１８００ｍｌ
を添加し、３分間撹拌した。その後、酢酸５６質量％水
溶液を添加して乳剤のｐＨを４．６に調整し３分間撹拌
した後２０分間静置させデカンテーションにより上澄み
液を排水した。
としてフェニルカルバモイル基で変性（置換率９０％）
された変性ゼラチン１３．８質量％水溶液１８００ｍｌ
を添加し、３分間撹拌した。その後、酢酸５６質量％水
溶液を添加して乳剤のｐＨを４．６に調整し３分間撹拌
した後２０分間静置させデカンテーションにより上澄み
液を排水した。
【００９９】その後、４０℃の蒸留水９．０Ｌを加え、
撹拌静置後上澄み液を排水しさらに蒸留水１１．２５Ｌ
を加え撹拌静置後上澄み液を排水した。続いてゼラチン
水溶液と炭酸ナトリウム１０質量％水溶液を加えてｐＨ
が５．８０になるよう調整し、５０℃で３０分間撹拌し
再分散した。再分散後４０℃にてｐＨを５．８０、ｐＡ
ｇを８．０６に調整した。脱塩後この乳剤のＥＡｇは５
０℃で１９０ｍＶであった。
撹拌静置後上澄み液を排水しさらに蒸留水１１．２５Ｌ
を加え撹拌静置後上澄み液を排水した。続いてゼラチン
水溶液と炭酸ナトリウム１０質量％水溶液を加えてｐＨ
が５．８０になるよう調整し、５０℃で３０分間撹拌し
再分散した。再分散後４０℃にてｐＨを５．８０、ｐＡ
ｇを８．０６に調整した。脱塩後この乳剤のＥＡｇは５
０℃で１９０ｍＶであった。
【０１００】得られた乳剤に４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モルあ
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、ｐ−トルエンチオスルホン酸ナトリウム１×１０-3
モルを添加後、銀１モルあたりクロラミンＴを３５０ｍ
ｇ、無機硫黄（Ｓ8）を０．６ｍｇ、トリクロロオーレ
イト６ｍｇを添加して温度６０℃で最高感度が出るまで
化学熟成を行った。
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モルあ
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、ｐ−トルエンチオスルホン酸ナトリウム１×１０-3
モルを添加後、銀１モルあたりクロラミンＴを３５０ｍ
ｇ、無機硫黄（Ｓ8）を０．６ｍｇ、トリクロロオーレ
イト６ｍｇを添加して温度６０℃で最高感度が出るまで
化学熟成を行った。
【０１０１】熟成終了後、銀１モルあたり４−ヒドロキ
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテト
ラゾールを３×１０-4モル及び沃化カリウムを３００ｍ
ｇ添加した。 （ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製）同時混合法を用いて塩化
銀６０モル％、沃化銀２．５モル％、残りは臭化銀から
なる平均厚み０．０５μｍ、平均粒径０．１５μｍの塩
沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合時にＫ3Ｒ
ｈ（Ｈ2Ｏ）Ｂｒ5を銀１モルあたり２×１０-8モル添加
した。このコア粒子に、同時混合法を用いてシェルを付
けた。その際、Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モルあたり３×１０
-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み０．１０μ
ｍ、平均粒径０．４２μｍのコア／シェル型単分散（粒
径分布の変動係数１０％）の塩沃臭化銀（塩化銀９０モ
ル％、沃臭化銀０．５モル％、残りは臭化銀からなる）
平板状粒子の乳剤であった。ついで、特開平２−２８０
１３９号に記載の変性ゼラチン（ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもの）で、特開平２−
２８０１３９号、２８７（３）頁の例示化合物Ｇ−８を
使い脱塩した。脱塩後のＥＡｇは５０℃で１９０ｍＶで
あった。
シ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
を２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテト
ラゾールを３×１０-4モル及び沃化カリウムを３００ｍ
ｇ添加した。 （ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製）同時混合法を用いて塩化
銀６０モル％、沃化銀２．５モル％、残りは臭化銀から
なる平均厚み０．０５μｍ、平均粒径０．１５μｍの塩
沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混合時にＫ3Ｒ
ｈ（Ｈ2Ｏ）Ｂｒ5を銀１モルあたり２×１０-8モル添加
した。このコア粒子に、同時混合法を用いてシェルを付
けた。その際、Ｋ2ＩｒＣｌ6を銀１モルあたり３×１０
-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み０．１０μ
ｍ、平均粒径０．４２μｍのコア／シェル型単分散（粒
径分布の変動係数１０％）の塩沃臭化銀（塩化銀９０モ
ル％、沃臭化銀０．５モル％、残りは臭化銀からなる）
平板状粒子の乳剤であった。ついで、特開平２−２８０
１３９号に記載の変性ゼラチン（ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもの）で、特開平２−
２８０１３９号、２８７（３）頁の例示化合物Ｇ−８を
使い脱塩した。脱塩後のＥＡｇは５０℃で１９０ｍＶで
あった。
【０１０２】得られた乳剤に４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モルあ
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、塩化金酸を２×１０-5モル添加した後にＮ，Ｎ，
Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−ヘプタフルオロセレノ尿素を
３×１０-5モル添加して温度６０℃で最高感度がでるま
で化学熟成を行った。熟成終了後４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モ
ルあたり２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプ
トテトラゾールを３×１０-4モル及びゼラチンを添加し
た。 （感光性ハロゲン化銀乳剤層等の塗設）２軸延伸した厚
み１００μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の両
面に３０Ｗ／（ｍ2・ｍｉｎ）のコロナ放電を施した
後、該支持体の一方の下塗層上に、下記組成のゼラチン
下塗層をゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、そ
の上に下記組成のハロゲン化銀乳剤層１を銀量１．５ｇ
／ｍ2、ゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、さら
にその上層に中間保護層として下記組成の中間層をゼラ
チン量が０．３ｇ／ｍ2になるように、さらにその上層
に下記組成のハロゲン化銀乳剤層２を銀量１．４ｇ／ｍ
2、ゼラチン量が０．４ｇ／ｍ2になるように、さらに下
記組成の乳剤保護層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2にな
るよう同時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下
記組成のバッキング層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2に
なるように、その上に下記組成の疎水性ポリマー層を、
さらにその上に下記組成のバッキング保護層をゼラチン
量が０．４ｇ／ｍ2になるように乳剤層側と同時重層塗
布することで感光性ハロゲン化銀写真感光材料試料を得
た。 （ゼラチン下塗層組成） ゼラチン ０．５ｇ／ｍ2 染料Ｄ−１の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２５ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１（ソジウム−イソアミル−ｎ−デシルスルホサクシネート） ０．４ｍｇ／ｍ2 （ハロゲン化銀乳剤層１組成） ハロゲン化銀乳剤Ａ 銀量１．５ｇ／ｍ2になるように 染料Ｄ−２の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２０ｍｇ／ｍ2 シクロデキストリン（親水性ポリマー） ０．５ｇ／ｍ2 増感色素ｄ−１ ５ｍｇ／ｍ2 増感色素ｄ−２ ５ｍｇ／ｍ2 ヒドラジン誘導体ＨＹ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 造核促進剤ＡＭ−１ ４０ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物：ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 化合物ｅ １００ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ2 硬膜剤ｇ ５ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１ ０．７ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ３０ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 （中間層組成） ゼラチン ０．３ｇ／ｍ2 Ｓ−１ ２ｍｇ／ｍ2 （ハロゲン化銀乳剤層２組成） ハロゲン化銀乳剤Ｂ 銀量１．４ｇ／ｍ2になるように 増感色素ｄ−１ ６ｍｇ／ｍ2 ヒドラジン誘導体ＨＹ−２ ２０ｍｇ／ｍ2 造核促進剤ＡＭ−１ ４０ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ２０ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ2 Ｓ−１ １．７ｍｇ／ｍ2 （乳剤保護層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2 染料Ｄ−３の固体分散体（平均粒径０．１μｍ） ４０ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１ １２ｍｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径３．５μｍの単分散シリカ ２５ｍｇ／ｍ2 １，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール ４０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤ｊ ３０ｍｇ／ｍ2 （バッキング層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2 Ｓ−１ ５ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．３ｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） ７０ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ２０ｍｇ／ｍ2 化合物ｉ １００ｍｇ／ｍ2 （疎水性ポリマー層組成） ポリマーラテックス（メチルメタクリレート：アクリル酸＝９７：３） １．０ｇ／ｍ2 硬膜剤ｇ ６ｍｇ／ｍ2 （バッキング保護層組成） 表１、表２記載の一般式（１）、（２）または（３）の化合物 ３．２ｍｇ／ｍ2 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径５μｍの単分散ポリメチルメタクリレート ５０ｍｇ／ｍ2 ソジウム−ジ−（２−エチルヘキシル）スルホサクシネート １０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ2 染料Ｄ−４ ２０ｍｇ／ｍ2 Ｈ（ＯＣＨ2ＣＨ2）68ＯＨ ５０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤ｊ ２０ｍｇ／ｍ2
ル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モルあ
たり１×１０-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、塩化金酸を２×１０-5モル添加した後にＮ，Ｎ，
Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−ヘプタフルオロセレノ尿素を
３×１０-5モル添加して温度６０℃で最高感度がでるま
で化学熟成を行った。熟成終了後４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを銀１モ
ルあたり２×１０-3モル、１−フェニル−５−メルカプ
トテトラゾールを３×１０-4モル及びゼラチンを添加し
た。 （感光性ハロゲン化銀乳剤層等の塗設）２軸延伸した厚
み１００μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の両
面に３０Ｗ／（ｍ2・ｍｉｎ）のコロナ放電を施した
後、該支持体の一方の下塗層上に、下記組成のゼラチン
下塗層をゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、そ
の上に下記組成のハロゲン化銀乳剤層１を銀量１．５ｇ
／ｍ2、ゼラチン量が０．５ｇ／ｍ2になるように、さら
にその上層に中間保護層として下記組成の中間層をゼラ
チン量が０．３ｇ／ｍ2になるように、さらにその上層
に下記組成のハロゲン化銀乳剤層２を銀量１．４ｇ／ｍ
2、ゼラチン量が０．４ｇ／ｍ2になるように、さらに下
記組成の乳剤保護層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2にな
るよう同時重層塗布した。また反対側の下塗層上には下
記組成のバッキング層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ2に
なるように、その上に下記組成の疎水性ポリマー層を、
さらにその上に下記組成のバッキング保護層をゼラチン
量が０．４ｇ／ｍ2になるように乳剤層側と同時重層塗
布することで感光性ハロゲン化銀写真感光材料試料を得
た。 （ゼラチン下塗層組成） ゼラチン ０．５ｇ／ｍ2 染料Ｄ−１の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２５ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１（ソジウム−イソアミル−ｎ−デシルスルホサクシネート） ０．４ｍｇ／ｍ2 （ハロゲン化銀乳剤層１組成） ハロゲン化銀乳剤Ａ 銀量１．５ｇ／ｍ2になるように 染料Ｄ−２の固体分散微粒子（平均粒径０．１μｍ） ２０ｍｇ／ｍ2 シクロデキストリン（親水性ポリマー） ０．５ｇ／ｍ2 増感色素ｄ−１ ５ｍｇ／ｍ2 増感色素ｄ−２ ５ｍｇ／ｍ2 ヒドラジン誘導体ＨＹ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 造核促進剤ＡＭ−１ ４０ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物：ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 化合物ｅ １００ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ2 硬膜剤ｇ ５ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１ ０．７ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ３０ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 （中間層組成） ゼラチン ０．３ｇ／ｍ2 Ｓ−１ ２ｍｇ／ｍ2 （ハロゲン化銀乳剤層２組成） ハロゲン化銀乳剤Ｂ 銀量１．４ｇ／ｍ2になるように 増感色素ｄ−１ ６ｍｇ／ｍ2 ヒドラジン誘導体ＨＹ−２ ２０ｍｇ／ｍ2 造核促進剤ＡＭ−１ ４０ｍｇ／ｍ2 レドックス化合物ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ2 ＥＤＴＡ ２０ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ2 Ｓ−１ １．７ｍｇ／ｍ2 （乳剤保護層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2 染料Ｄ−３の固体分散体（平均粒径０．１μｍ） ４０ｍｇ／ｍ2 Ｓ−１ １２ｍｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径３．５μｍの単分散シリカ ２５ｍｇ／ｍ2 １，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール ４０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤ｊ ３０ｍｇ／ｍ2 （バッキング層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ2 Ｓ−１ ５ｍｇ／ｍ2 ラテックスポリマーｆ ０．３ｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） ７０ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ２０ｍｇ／ｍ2 化合物ｉ １００ｍｇ／ｍ2 （疎水性ポリマー層組成） ポリマーラテックス（メチルメタクリレート：アクリル酸＝９７：３） １．０ｇ／ｍ2 硬膜剤ｇ ６ｍｇ／ｍ2 （バッキング保護層組成） 表１、表２記載の一般式（１）、（２）または（３）の化合物 ３．２ｍｇ／ｍ2 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2 マット剤：平均粒径５μｍの単分散ポリメチルメタクリレート ５０ｍｇ／ｍ2 ソジウム−ジ−（２−エチルヘキシル）スルホサクシネート １０ｍｇ／ｍ2 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ2 染料Ｄ−４ ２０ｍｇ／ｍ2 Ｈ（ＯＣＨ2ＣＨ2）68ＯＨ ５０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤ｊ ２０ｍｇ／ｍ2
【０１０３】
【化１９】
【０１０４】
【化２０】
【０１０５】
【化２１】
【０１０６】
【化２２】
【０１０７】固形定着剤キットの作製（使用液１００Ｌ
分） ・素材の前処理 １−オクタンスルホン酸ナトリウムをホソカワミクロン
（株）製ＭＩＫＲＯ−ＰＵＬＶＥＲＩＺＥＲ ＡＰ−Ｂ
粉砕器で、メッシュ４ｍｍ、回転数６０Ｈｚで粉砕し
た。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記処
方を１０分間混合した。 チオ硫酸ナトリウム １５ｋｇ （アンモニウム塩を含む比較例の場合はチオ硫酸アンモニウム１５ｋｇ） 亜硫酸ナトリウム ２．２ｋｇ 得られた混合体に１−オクタンスルホン酸ナトリウム
（上記粉砕品）を１ｋｇ添加してさらに５分間混合し
た。 ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数３０ｒｐ
ｍ、フィーダー回転数６７ｒｐｍにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍ
の顆粒と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以
上のものは解砕）。また、２．４ｍｍ以下の微粉につい
ては、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成
形した。以上により顆粒ＦＡが得られた。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記成
分を１０分間混合した。 クエン酸３ナトリウム２水塩 ２．９４ｋｇ グルコン酸ナトリウム ０．５ｋｇ コハク酸 １．２ｋｇ 脱水硫酸アルミニウム（比較例のみに添加） １．３ｋｇ ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数３０ｒｐ
ｍ、フィーダー回転数６７ｒｐｍにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍ
の顆粒と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以
上のものは解砕）。また２．４ｍｍ以下の微粉について
は、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形
した。以上により顆粒ＦＢが得られた。 ・包装（使用液１０Ｌキット） 上記素材をポリ塩化ビニル製の袋に下記順番で原材料混
合体および成形品を充填、密封し真空包装を行なった。 顆粒ＦＢ （最下層） 顆粒ＦＡ （最上層） この１００Ｌ分を１０Ｌキットに包装した。真空包装後
の残存酸素は全容積の０．７％であった。仕上がり１０
Ｌに溶解後のｐＨは５．６であった。 固形現像剤キットの作製（使用液１０Ｌ分） 素材の前処理 ホソカワミクロン（株）製ＭＩＫＲＯ−ＰＵＬＶＥＲＩ
ＺＥＲ ＡＰ−Ｂ粉砕器を用いて素材を粉砕した。８−
メルカプトアデニンを上記同粉砕器にて、メッシュ８ｍ
ｍ、回転数５０Ｈｚで粉砕した。ＫＢｒを上記同粉砕器
にて、メッシュ８ｍｍ、回転数５０Ｈｚで粉砕した。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記処
方を１０分間混合した。 ハイドロキノン ５０ｋｇ ジメゾンＳ ３．５ｋｇ ８−メルカプトアデニン ０．１ｋｇ ＤＴＰＡ・５Ｈ １１ｋｇ ＫＢｒ（上記粉砕物） ６．５ｋｇ ソルビトール ５ｋｇ （計７６．１ｋｇ） 得られた混合体の任意の点（５ヶ所）から５０ｇづつサ
ンプリングして分析したところ、各成分の濃度は上記処
方値の±５％以内の濃度を有しており、充分に均一に混
合されていた。 ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数２０rpｍ、
フィーダー回転数５０rpｍにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍの顆粒
と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以上のも
のは解砕）。また２．４ｍｍ以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
以上により顆粒ＤＡが得られた。 ・原材料の準備 以下の原材料を準備し、前処理を行った。 ・亜硫酸ナトリウム／１−フェニル−５−メルカプトテ
トラゾール／ベンゾトリアゾールの混合 エチルアルコール４００ｍｌに１−フェニル−５−メル
カプトテトラゾール１８ｇおよびベンゾトリアゾール７
８ｇを溶解した。得られた溶液を、ミキサーにて回転し
ている亜硫酸ナトリウム２０ｋｇに少量づつ滴下し、充
分乾燥するまで回転を続けた。得られた混合体の任意の
点（５ヶ所）から１０ｇづつサンプリングして分析した
ところ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールと
ベンゾトリアゾールは充分均一に混合されていた。得ら
れた混合物をＭ−１とする。 ・炭酸カリウム／炭酸ナトリウム・無水／水酸化リチウ
ム・１Ｈ2Ｏの混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して炭酸カリ
ウム５６ｋｇ、炭酸ナトリウム４２ｋｇ、水酸化リチウ
ム・１Ｈ2Ｏ２０ｋｇを１０分間混合した。得られた混
合物をＭ−２とする。 ・包装（使用液１０キット） 上記素材をポリ塩化ビニル製の袋に下記順番で原材料混
合体および成形品を充填、密封し真空包装を行った。 混合体Ｍ−２ ６００ｇ （最下層） 混合体Ｍ−１ ６６３．２ｇ（中間層） 顆粒ＤＡ ３９９ｇ （最上層） 真空包装後の残存酸素は全容積の０．５％であった。こ
のキットを仕上がり１０Ｌに溶解後のｐＨは１０．５０
であった。
分） ・素材の前処理 １−オクタンスルホン酸ナトリウムをホソカワミクロン
（株）製ＭＩＫＲＯ−ＰＵＬＶＥＲＩＺＥＲ ＡＰ−Ｂ
粉砕器で、メッシュ４ｍｍ、回転数６０Ｈｚで粉砕し
た。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記処
方を１０分間混合した。 チオ硫酸ナトリウム １５ｋｇ （アンモニウム塩を含む比較例の場合はチオ硫酸アンモニウム１５ｋｇ） 亜硫酸ナトリウム ２．２ｋｇ 得られた混合体に１−オクタンスルホン酸ナトリウム
（上記粉砕品）を１ｋｇ添加してさらに５分間混合し
た。 ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数３０ｒｐ
ｍ、フィーダー回転数６７ｒｐｍにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍ
の顆粒と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以
上のものは解砕）。また、２．４ｍｍ以下の微粉につい
ては、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成
形した。以上により顆粒ＦＡが得られた。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記成
分を１０分間混合した。 クエン酸３ナトリウム２水塩 ２．９４ｋｇ グルコン酸ナトリウム ０．５ｋｇ コハク酸 １．２ｋｇ 脱水硫酸アルミニウム（比較例のみに添加） １．３ｋｇ ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数３０ｒｐ
ｍ、フィーダー回転数６７ｒｐｍにて成形した。得られ
た板状成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍ
の顆粒と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以
上のものは解砕）。また２．４ｍｍ以下の微粉について
は、上記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形
した。以上により顆粒ＦＢが得られた。 ・包装（使用液１０Ｌキット） 上記素材をポリ塩化ビニル製の袋に下記順番で原材料混
合体および成形品を充填、密封し真空包装を行なった。 顆粒ＦＢ （最下層） 顆粒ＦＡ （最上層） この１００Ｌ分を１０Ｌキットに包装した。真空包装後
の残存酸素は全容積の０．７％であった。仕上がり１０
Ｌに溶解後のｐＨは５．６であった。 固形現像剤キットの作製（使用液１０Ｌ分） 素材の前処理 ホソカワミクロン（株）製ＭＩＫＲＯ−ＰＵＬＶＥＲＩ
ＺＥＲ ＡＰ−Ｂ粉砕器を用いて素材を粉砕した。８−
メルカプトアデニンを上記同粉砕器にて、メッシュ８ｍ
ｍ、回転数５０Ｈｚで粉砕した。ＫＢｒを上記同粉砕器
にて、メッシュ８ｍｍ、回転数５０Ｈｚで粉砕した。 ・素材の混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して、下記処
方を１０分間混合した。 ハイドロキノン ５０ｋｇ ジメゾンＳ ３．５ｋｇ ８−メルカプトアデニン ０．１ｋｇ ＤＴＰＡ・５Ｈ １１ｋｇ ＫＢｒ（上記粉砕物） ６．５ｋｇ ソルビトール ５ｋｇ （計７６．１ｋｇ） 得られた混合体の任意の点（５ヶ所）から５０ｇづつサ
ンプリングして分析したところ、各成分の濃度は上記処
方値の±５％以内の濃度を有しており、充分に均一に混
合されていた。 ・成形 上記混合体を、新東工業（株）製圧縮造粒機ブリケッタ
ＢＳＳ−IV型を使用して、ポケット形状５．０ｍｍΦ×
１．２ｍｍ（Ｄｅｐｔｈ）、ローラー回転数２０rpｍ、
フィーダー回転数５０rpｍにて成形した。得られた板状
成型物を分級器にて解砕し、２．４〜７．０ｍｍの顆粒
と２．４ｍｍ以下の微粉に分けた（７．０ｍｍ以上のも
のは解砕）。また２．４ｍｍ以下の微粉については、上
記混合体と混ぜて再度圧縮成型機にもどして成形した。
以上により顆粒ＤＡが得られた。 ・原材料の準備 以下の原材料を準備し、前処理を行った。 ・亜硫酸ナトリウム／１−フェニル−５−メルカプトテ
トラゾール／ベンゾトリアゾールの混合 エチルアルコール４００ｍｌに１−フェニル−５−メル
カプトテトラゾール１８ｇおよびベンゾトリアゾール７
８ｇを溶解した。得られた溶液を、ミキサーにて回転し
ている亜硫酸ナトリウム２０ｋｇに少量づつ滴下し、充
分乾燥するまで回転を続けた。得られた混合体の任意の
点（５ヶ所）から１０ｇづつサンプリングして分析した
ところ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールと
ベンゾトリアゾールは充分均一に混合されていた。得ら
れた混合物をＭ−１とする。 ・炭酸カリウム／炭酸ナトリウム・無水／水酸化リチウ
ム・１Ｈ2Ｏの混合 市販のＶ型混合機（容量２００Ｌ）を使用して炭酸カリ
ウム５６ｋｇ、炭酸ナトリウム４２ｋｇ、水酸化リチウ
ム・１Ｈ2Ｏ２０ｋｇを１０分間混合した。得られた混
合物をＭ−２とする。 ・包装（使用液１０キット） 上記素材をポリ塩化ビニル製の袋に下記順番で原材料混
合体および成形品を充填、密封し真空包装を行った。 混合体Ｍ−２ ６００ｇ （最下層） 混合体Ｍ−１ ６６３．２ｇ（中間層） 顆粒ＤＡ ３９９ｇ （最上層） 真空包装後の残存酸素は全容積の０．５％であった。こ
のキットを仕上がり１０Ｌに溶解後のｐＨは１０．５０
であった。
【０１０８】現像剤、定着剤とも液剤の場合は固体処理
剤処方からソルビトールとオクタンスルホン酸Ｎａを除
いたものを水に溶解して作製した。 安定化液処方 ＤＴＰＡ・５Ｎａ ０．５ｇ／ｌ ＤＴＰＡ・５Ｈ ０．５ｇ／ｌ 殺菌剤 ０．１ｇ／ｌ ジプロピレングリコール ０．３ｇ／ｌ ｐＨが５．０となるようにＨ2ＳＯ4とＫＯＨで調整し、
３０Ｌ作製した。
剤処方からソルビトールとオクタンスルホン酸Ｎａを除
いたものを水に溶解して作製した。 安定化液処方 ＤＴＰＡ・５Ｎａ ０．５ｇ／ｌ ＤＴＰＡ・５Ｈ ０．５ｇ／ｌ 殺菌剤 ０．１ｇ／ｌ ジプロピレングリコール ０．３ｇ／ｌ ｐＨが５．０となるようにＨ2ＳＯ4とＫＯＨで調整し、
３０Ｌ作製した。
【０１０９】前記ハロゲン化銀写真感光材料を大日本ス
クリーン（株）製イメージセッターＦＴＲ−５０５５を
用いて網パターン１７５ＬＩＮＥ／ｉｎｃｈ、Ｅ＝２０
０で黒化率５％となるように露光した。そして大日本ス
クリーン（株）製自動現像機ＬＤ−Ｍ１０６０に現像
液、定着液補充用に顆粒を投入できるようにコニカ
（株）製ミキサーＳＭ−１１を装着し、水洗槽は改造し
て３槽多段槽のタンクとなるように改造し、乾燥ゾーン
もヒートドラム乾燥ができるように改造し、ヒートドラ
ムはステンレス製で温度は４５℃に設定した。またライ
ンスピードも２．０倍まで可変できるよう改造し、高速
処理が可能となるようにした。
クリーン（株）製イメージセッターＦＴＲ−５０５５を
用いて網パターン１７５ＬＩＮＥ／ｉｎｃｈ、Ｅ＝２０
０で黒化率５％となるように露光した。そして大日本ス
クリーン（株）製自動現像機ＬＤ−Ｍ１０６０に現像
液、定着液補充用に顆粒を投入できるようにコニカ
（株）製ミキサーＳＭ−１１を装着し、水洗槽は改造し
て３槽多段槽のタンクとなるように改造し、乾燥ゾーン
もヒートドラム乾燥ができるように改造し、ヒートドラ
ムはステンレス製で温度は４５℃に設定した。またライ
ンスピードも２．０倍まで可変できるよう改造し、高速
処理が可能となるようにした。
【０１１０】そして上記現像液と定着液を使用してハロ
ゲン化銀写真感光材料１ｍ2あたり現像補充液１２０ｍ
ｌ／ｍ2、定着補充液１３０ｍｌ／ｍ2の補充を行い一年
間一日あたり５０８ｍｍ×６１０ｍｍサイズを１０００
枚処理し、その液をランニング液とした。 安定化槽に発生する銀スラッジ汚れの評価 ランニング後に水洗槽もしくは安定化槽に発生する汚れ
の程度を下記の様に目視で５段階で評価した。
ゲン化銀写真感光材料１ｍ2あたり現像補充液１２０ｍ
ｌ／ｍ2、定着補充液１３０ｍｌ／ｍ2の補充を行い一年
間一日あたり５０８ｍｍ×６１０ｍｍサイズを１０００
枚処理し、その液をランニング液とした。 安定化槽に発生する銀スラッジ汚れの評価 ランニング後に水洗槽もしくは安定化槽に発生する汚れ
の程度を下記の様に目視で５段階で評価した。
【０１１１】 Ａ：沈殿が全くなく、液が澄んでいる Ｂ：沈殿が全くない。
【０１１２】 Ｃ：沈殿は発生しないが、汚れがある。実用可 Ｄ：沈殿がややする Ｅ：沈殿が底部に蓄積する Ｃ以上が実用可である 安定化槽に発生する水垢の評価 ランニング後に安定化槽第一槽に発生する水垢の程度を
下記の様に目視で５段階で評価した。
下記の様に目視で５段階で評価した。
【０１１３】 Ａ：水垢が全くなく、液が澄んでいる Ｂ：水垢が全くない Ｃ：水垢は目立たないが、やや汚れて見える。実用可 Ｄ：水垢がやや浮遊する Ｅ：水垢が浮遊したり底部に蓄積する Ｃ以上が実用可である。 ランニング感光材料の目視による汚れ付着評価 ランニング終了直前の１００枚の感光材料について目視
評価をおこなった。 Ａ：汚れが全く付着しない Ｂ：汚れが多少付着する Ｃ：汚れが付着するが、実用可 Ｄ：汚れがやや付着する感光材料が数枚ある Ｅ：汚れがやや付着する感光材料が大部分である Ｃ以上が実用可である。
評価をおこなった。 Ａ：汚れが全く付着しない Ｂ：汚れが多少付着する Ｃ：汚れが付着するが、実用可 Ｄ：汚れがやや付着する感光材料が数枚ある Ｅ：汚れがやや付着する感光材料が大部分である Ｃ以上が実用可である。
【０１１４】以上の結果を下記表６に示す。
【０１１５】
【表６】
【０１１６】（注）表６及び後記表７中、「アンモニア
の有無」は定着液中のアンモニアおよびその化合物の有
無、「アルミニウムの有無」は定着液中のアルミニウム
およびその化合物の有無を意味する。
の有無」は定着液中のアンモニアおよびその化合物の有
無、「アルミニウムの有無」は定着液中のアルミニウム
およびその化合物の有無を意味する。
【０１１７】表６に示す結果から、銀スラッジ、水垢、
および感光材料の汚れが本発明の実施例は比較例より顕
著に改善されていることが明らかであり、比較例では処
理した感光材料に悪影響を及ぼすが、本発明の実施例で
は良好な結果が得られ、充分に実用可能である。
および感光材料の汚れが本発明の実施例は比較例より顕
著に改善されていることが明らかであり、比較例では処
理した感光材料に悪影響を及ぼすが、本発明の実施例で
は良好な結果が得られ、充分に実用可能である。
【０１１８】実施例２ 一般式（１）、（２）または（３）の化合物、定着液中
のアンモニアおよびその化合物とアルミニウムおよびそ
の化合物、水洗水の種類、並びに安定化槽の数を表７の
通りに変え、処理剤キットの経時を読みとって処理剤の
補充量を自動的に変化するようにミキサーＳＭ−１１
（コニカ（株）製）を改造し、現像補充量をハロゲン化
銀写真感光材料１ｍ2あたり１００ｍｌに変え、１０カ
月間一日あたり５０８ｍｍ×６１０ｍｍサイズを１２０
０枚処理し、その液をランニング液とし、定着液を安定
化液の廃液で希釈して使用した他は実施例１と同様の実
験を行った。なお、ミキサー底部には金網を設置し、溶
け残り顆粒が配管に詰まることのないようにした。その
結果を下記表７に示す。
のアンモニアおよびその化合物とアルミニウムおよびそ
の化合物、水洗水の種類、並びに安定化槽の数を表７の
通りに変え、処理剤キットの経時を読みとって処理剤の
補充量を自動的に変化するようにミキサーＳＭ−１１
（コニカ（株）製）を改造し、現像補充量をハロゲン化
銀写真感光材料１ｍ2あたり１００ｍｌに変え、１０カ
月間一日あたり５０８ｍｍ×６１０ｍｍサイズを１２０
０枚処理し、その液をランニング液とし、定着液を安定
化液の廃液で希釈して使用した他は実施例１と同様の実
験を行った。なお、ミキサー底部には金網を設置し、溶
け残り顆粒が配管に詰まることのないようにした。その
結果を下記表７に示す。
【０１１９】
【表７】
【０１２０】表２に示す結果から、比較例は銀スラッジ
汚れ、水垢、および感光材料の汚れが劣るのに対して、
本発明の実施例では良好な結果が得られ、充分に実用可
能であることが分かる。
汚れ、水垢、および感光材料の汚れが劣るのに対して、
本発明の実施例では良好な結果が得られ、充分に実用可
能であることが分かる。
【０１２１】
【発明の効果】請求項１〜５に係る発明によれば、黒白
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理における銀スラッ
ジ及び水垢の発生が改善され、処理する感光材料への汚
れの付着が改善されるハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法が提供される。請求項３に係る発明によれば、上記
効果に加えて現像処理における臭気が改善される。
ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理における銀スラッ
ジ及び水垢の発生が改善され、処理する感光材料への汚
れの付着が改善されるハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法が提供される。請求項３に係る発明によれば、上記
効果に加えて現像処理における臭気が改善される。
Claims (5)
- 【請求項１】 支持体上に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を現像
槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する自動
現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定化処
理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法におい
て、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも１層
に、下記一般式（１）または一般式（２）で表される化
合物の少なくとも１種を含有し、かつ水洗または安定化
処理が複数の処理槽で処理されることを特徴とする黒白
ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 一般式（１） Ｒ1−（Ｏ−Ｒ2）k−Ｌ1−（Ｘ1）l （式中、Ｒ1はそれぞれ少なくとも１つのフッ素原子で
置換されたアルキル基、アリール基またはアルケニル基
を表し、Ｒ2は少なくとも１つのフッ素原子で置換され
たアルキレン基を表し、Ｌ1は単結合または連結基を表
し、Ｘ1はヒドロキシル基、アニオン性基またはカチオ
ン性基を表し、ｋは１〜１０の整数を表し、ｌは１〜３
の整数を表す。） 一般式（２） ［（Ｒ3Ｏ）n−（ＰＦＣ）−ＣＯ−Ｙ］
m−Ｌ2−（Ｘ2）p （式中、Ｒ3は炭素原子を１〜４個有するペルフルオロ
アルキル基を表し、ｎは１〜５の整数を表し、ＰＦＣは
パーフルオロシクロアルカン残基を表し、Ｙは酸素原子
または窒素原子を含む連結基を表し、Ｌ2は単結合また
は連結基を表し、Ｘ2はアニオン性基、カチオン性基、
ノニオン性基、若しくは両性基を含む水可溶化極性基、
またはこれらの任意の組み合わせを表し、ｍは１〜３の
整数を表し、ｐは１〜５の整数を表す。） - 【請求項２】 支持体上に少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料を現像
槽、定着槽、および水洗槽または安定化槽を有する自動
現像機を用いて現像、定着、および水洗または安定化処
理する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法におい
て、該黒白ハロゲン化銀写真感光材料の少なくとも１層
に下記一般式（３）で表される化合物を含有し、かつ水
洗または安定化処理が複数の処理槽で処理されることを
特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 【化１】 （式中、Ｒ4は少なくとも１つのフッ素原子を含有する
アルキル基を表し、Ｌ3およびＬ4は各々単結合または連
結基を表し、Ｘ3は水素原子、ヒドロキシル基、アニオ
ン性基、カチオン性基、または両性基を表し、Ｒ5およ
びＲ6は各々水素原子または低級アルキル基を表す。ｑ
およびｒは各々重合モル比を表し、ｑ＋ｒ＝１．０であ
る。ｓは１以上の整数を表す。） - 【請求項３】 請求項１または２記載の処理方法におい
て、定着液にアンモニアおよびその化合物を実質的に含
有しないことを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法。 - 【請求項４】 請求項１または２記載の処理方法におい
て、定着液にアルミニウムおよびその化合物を実質的に
含有しないことを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光
材料の処理方法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項記載の処理
方法において、該現像工程および定着工程が固体処理剤
を用いた液で処理されることを特徴とする黒白ハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001092743A JP2002287290A (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001092743A JP2002287290A (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002287290A true JP2002287290A (ja) | 2002-10-03 |
Family
ID=18947159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001092743A Pending JP2002287290A (ja) | 2001-03-28 | 2001-03-28 | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002287290A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110068996A (ko) * | 2008-08-11 | 2011-06-22 | 솔베이 솔렉시스 에스.피.에이. | 열적 안정성 및 화학적 안정성이 개선된 하이드로플루오로알코올 |
-
2001
- 2001-03-28 JP JP2001092743A patent/JP2002287290A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20110068996A (ko) * | 2008-08-11 | 2011-06-22 | 솔베이 솔렉시스 에스.피.에이. | 열적 안정성 및 화학적 안정성이 개선된 하이드로플루오로알코올 |
| JP2011530565A (ja) * | 2008-08-11 | 2011-12-22 | ソルヴェイ・ソレクシス・エッセ・ピ・ア | 熱安定性及び化学的安定性が改善されたハイドロフルオロアルコール |
| KR101632762B1 (ko) * | 2008-08-11 | 2016-06-22 | 솔베이 스페셜티 폴리머스 이태리 에스.피.에이. | 열적 안정성 및 화학적 안정성이 개선된 하이드로플루오로알코올 |
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