JP2002283774A

JP2002283774A - 後加工適性および耐久性に優れた光回折構造転写シートおよびカード

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Publication number: JP2002283774A
Application number: JP2001088360A
Authority: JP
Inventors: Wakana Ishizaka; 和香奈石坂; Atsushi Umezawa; 敦梅沢
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-03-26
Filing date: 2001-03-26
Publication date: 2002-10-03

Abstract

(57)【要約】【課題】カード類の最表面である保護層にホログラム
転写箔などの各種転写箔や、感熱転写方式などにより、
各種絵柄や情報を容易に貼着或は転写可能な光回折構造
転写シートと、それを用いてなる光回折構造付きカード
を提供すること。【解決手段】少なくとも一方の面に離型性樹脂層が設
けられた支持体シートと、該離型性樹脂層の上に形成さ
れている光回折構造転写層とからなる光回折構造転写シ
ートにおいて、前記光回折構造転写層が、支持体シート
側から、保護層、光回折構造形成層、光反射層および接
着層を順に積層した積層構造を有し、かつ上記保護層
が、電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂との混合物で
形成されていることを特徴とする光回折構造転写シー
ト。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カード類などに転
写方式で光回折構造を設けるために用いる光回折構造転
写シートと、それを用いてなる光回折構造付きカードに
関し、さらに詳しくはカード類などに優れた意匠性およ
びセキュリティー性を付与でき、さらに耐久性にも優れ
た光回折構造層を転写できる光回折構造転写シートおよ
び光回折構造層付きカードの提供を目的とする。

【０００２】

【従来の技術】従来より、キャッシュカード、クレジッ
トカード、身分証明用カード類などに使用される磁気記
録カードには、その意匠性およびセキュリティー性を高
めるために、表面に種々の印刷を施したり、ホログラム
や回折格子などの光回折構造を設けるなどの工夫がなさ
れている。

【０００３】例えば、カードの表面が同一の色彩を有す
るように、磁気記録層の上に印刷を施して、磁気記録層
を隠蔽したものがある。磁気記録層を隠蔽することによ
り、磁気記録層の位置が目視によって判別不能となり、
偽造防止効果を高めることができる。また、磁気記録カ
ード上にホログラムなどの光回折構造を設けたものがあ
る。ホログラムは、立体的な３次元画像を再生すること
ができ、意匠性が高められると同時に、一般にはその製
造が困難であることから、偽造防止効果を高めることが
できる。

【０００４】このような光回折構造を磁気記録カード上
に設ける場合、通常、その加工の簡便性の点から、予め
光回折構造転写層を転写シートに設けた光回折構造転写
シートを作製し、この光回折構造転写シートから光回折
構造転写層を磁気記録カード上に転写する方法が採られ
ている。

【０００５】また、磁気記録カード上に設けられる光回
折構造は、従来、磁気記録カードの表面の一部に設けら
れていたが、意匠性、セキュリティー性を一層高めるた
めに、磁気記録カードの表面全体に設ける要望が高まっ
ている。しかし、光回折構造層を磁気記録カードの表面
全体に設けた場合、当然、磁気記録層の上にも光回折構
造層が設けられるため、磁気による記録や読み取りの
際、磁気ヘッドにより光回折構造層の表面が繰り返し擦
られる結果、従来の光回折構造転写シートにより設けら
れた光回折構造層では、耐擦傷性、耐摩耗性が不足し、
光回折構造が損傷されてしまう問題があった。

【０００６】このような問題を解決する方法として、特
開平１０−１８７０４６号公報には、光回折構造層の表
面に電離放射線硬化型樹脂からなる薄い保護層を設け、
上記の問題を解決するとともに、磁気記録層への記録お
よび記録されたデータを読み取ることができるようにし
た光回折構造転写シートおよび光回折構造付きカードが
提案されている。

【０００７】

【発明が解決しようとしている課題】上記従来技術によ
れば、カード類などの物品上にホログラムが貼着された
ものが得られ、該カード類などは表面の耐摩耗性が向上
し、長期にわたり安定的に使用が可能である。しかしな
がら、上記の従来技術を適用してホログラムを形成した
カード類などに、さらに偽造や変造防止用のホログラム
を貼着するような場合には、最表面が電離放射線硬化型
樹脂で形成された硬化済の保護層であるため、ホログラ
ム転写シールの後加工適性が不十分であり、接着剤を種
々変更しても満足し得る接着力が得られない。

【０００８】また、同様な理由で、カード類などの表面
に転写方式で各種絵柄などの情報を転写しようとした場
合でも、転写に際して十分な接着力は得られない。この
ように、上記保護層の表面にホログラム転写シールある
いは転写方式で転写を試みようとする場合、保護層の表
面を研削して粗面化する方法、表面の酸素処理、あるい
は前記処理を行い、さらにアンカー層を塗布後に貼着あ
るいは転写するといった方法も考えられるが、いすれも
カード類などの製造工程が増えることになる。また、前
記処理ではカード類などの外観の変化が生じ好ましくな
い。さらに保護層表面に後加工適性改良のために、アン
カー層を塗布する方法では、カード全面にアンカー層を
設けた場合には、磁気記録層と最表面との距離が大きく
なり、記録されたデータの読み取り性が低下する。ま
た、アンカー層を磁気記録層の存在する領域を除いて設
けた場合には、保護層表面に輪郭が生じ、やはりカード
類などの外観上好ましくない。

【０００９】従って本発明の目的は、カード類などの最
表面である保護層にホログラム転写箔シールなどの各種
転写箔や、感熱転写方式などにより、各種絵柄や情報を
容易に貼着あるいは転写可能な光回折構造転写シート
と、それを用いてなる光回折構造付きカードを提供する
ことである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明によって達成される。すなわち、本発明は、少なくと
も一方の面に離型性樹脂層が設けられた支持体シート
と、該離型性樹脂層の上に形成されている光回折構造転
写層とからなる光回折構造転写シートにおいて、前記光
回折構造転写層が、支持体シート側から、保護層、光回
折構造形成層、光反射層および接着層を順に積層した積
層構造を有し、かつ上記保護層が、電離放射線硬化型樹
脂と熱可塑性樹脂との混合物で形成されていることを特
徴とする光回折構造転写シート、好ましい実施形態とし
て上記電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂との重量比
が、５／９５〜９５／５の範囲である上記光回折構造転
写シートを提供する。

【００１１】また、本発明は、基材シートの一方の全面
または一部の面に、磁気記録層を備え、該磁気記録層の
上に光回折構造層が設けられてなるカードにおいて、該
光回折構造層が、本発明の光回折構造転写シートの光回
折構造転写層の転写により設けられていることを特徴と
する光回折構造付きカードを提供する。なお、本発明に
おいて、「光回折構造」とは、ホログラムや回折格子な
どの光を回折するための構造を有しているものを指す。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に本発明の光回折構造転写シ
ートと、それを用いてなるカードについて、その材料お
よび製造方法など、発明の実施の形態について詳しく説
明する。

【００１３】〔光回折構造転写シートについて〕（支持体シート）本発明の光回折構造転写シートに用い
る支持体シートとしては、その上に積層する各層、すな
わち、離型性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、光反
射層および接着層の各層を順次コーティングなどにより
形成する際の耐熱性および耐溶剤性、また、形成された
光回折構造転写層をカード類などの基材シートに転写す
る際、熱転写方式を利用する場合には、その耐熱性が必
要であり、これらの性能を備えたプラスチックフィル
ム、例えば、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（以下、単に「ＰＥＴフィルム」という）などを使
用することができる。ＰＥＴフィルムを使用する場合、
その厚さは５〜２５０μｍのものが好ましく、加工適性
や引張強度、熱転写の際の熱効率などを考慮すると２０
〜５０μｍの厚さがさらに好ましい。

【００１４】（離型性樹脂層）支持体シートの少なくと
も一方の面に、コーティングなどにより積層する離型性
樹脂層は、支持体シートにはよく接着し、その上に形成
する保護層の樹脂を比較的容易に剥離でき、かつ耐熱
性、耐溶剤性などに優れた樹脂で形成することが好まし
い。このような樹脂としては、例えば、メラミン系樹脂
など架橋性に優れた各種熱硬化性樹脂が好適に使用でき
る。このような樹脂は、架橋度合いを制御して用いるこ
とにより、転写の際の剥離力を適宜調整することも可能
である。離型性樹脂層は、リバースロールコーターなど
によるコーティング方式で形成することができ、その厚
さは薄くてよく０．１〜４μｍ程度で充分である。

【００１５】（保護層）前記離型性樹脂層の上に設ける
保護層は、転写後、カード類などの最外層となって下側
の層を保護するものであり、保護層形成材料としては、
透明性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性、耐汚
染性などに加えて、優れた後加工適性（接着性）をも兼
ね備えた樹脂が適している。このような樹脂としては、
電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂との混合物が挙げ
られる。電離放射線硬化型樹脂としては、具体的には、
ポリウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート
などが挙げられ、これらはそれぞれのプレポリマーに粘
度、あるいは架橋密度を調整するために多官能または単
官能のモノマーを添加して用いてもよく、また、必要に
応じて公知の光反応開始剤や増感剤を添加して用いても
よい。このほか、ポリエン／チオール系の電離放射線硬
化型樹脂なども耐摩耗性に優れており、好ましく使用で
きる。

【００１６】上記電離放射線硬化型樹脂と併用する熱可
塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ンなどのハロゲン化ポリマー、ポリ酢酸ビニル、ポリア
クリルエステルなどのビニルポリマー、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリ
エステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹
脂、エチレンやプロピレンなどのオレフィンと他のビニ
ルモノマーとの共重合体系樹脂、アイオノマー、セルロ
ースジアセテートなどのセルロース系樹脂、ポリカーボ
ネートなどが挙げられ、特に好ましいものは、ビニル系
樹脂およびポリエステル系樹脂である。

【００１７】前記電離放射線硬化型樹脂（Ａ）と上記熱
可塑性樹脂（Ｂ）とは、重量比でＡ／Ｂ＝９５／５〜５
／９５の割合で使用する。好ましくはＡ／Ｂ＝９０／１
０〜１０／９０、さらに好ましくはＡ／Ｂ＝８０／２０
〜２０／８０である。熱可塑性樹脂の量が少なすぎる
と、形成される保護層の表面の後加工適性が不足し、一
方、熱可塑性樹脂の量が多すぎると、形成される保護層
の各種耐久性が低下する。

【００１８】以上のような保護層用樹脂には、さらに必
要に応じて、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤な
どの添加剤を加えることもできる。また、保護層を設け
る方法は、前記保護層用樹脂組成物で塗布液を作製し、
従来公知の各種ロールコーティング方式やグラビアコー
ティング方式で塗布した後、ＵＶ（紫外線）照射、また
はＥＢ（電子線）照射などにより樹脂を硬化させて保護
層を形成することができる。なお、前記塗布液には粘度
調整のため、必要に応じて適当な有機溶剤を添加しても
よく、その場合には塗布後、先ず有機溶剤を除くための
熱風乾燥を行い、次いでＵＶまたはＥＢの照射により樹
脂の硬化を行えばよい。

【００１９】このような保護層の厚さは、光回折構造転
写層全体の厚さを薄くするために、０．５〜４．０μｍ
の範囲にすることが好ましい。保護層の厚さが０．５μ
ｍ未満の場合は、充分な耐擦傷性、耐摩耗性が得られ
ず、また、４．０μｍを超える厚さは、既に耐摩耗性は
充分にあるため必要性がなく、むしろ、光回折構造転写
層全体の厚さが増し、磁気記録・読み取り特性が低下す
るおそれがあるため好ましくない。

【００２０】（光回折構造形成層）前記保護層の上に
は、光回折構造形成層、すなわち、ホログラムまたは回
折格子を形成した層を設ける。光回折構造自体は、平面
ホログラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例と
しては、レリーフホログラム、リップマンホログラム、
フルネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レ
ンズレスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログ
ラム（イメージホログラムなど）、白色光再生ホログラ
ム（レインボーホログラムなど）、カラーホログラム、
コンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マ
ルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオ
グラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。

【００２１】これらの光回折構造を形成する形成層の材
料には、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ＰＭＭ
Ａ）、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの熱可塑性
樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリ
エステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アク
リレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテ
ル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレ
ート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系ア
クリレートなどの熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、あるい
は上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用す
ることができ、さらには、ラジカル重合性不飽和基を有
する熱成形性物質、あるいはこれらにラジカル重合性不
飽和単量体を加え、電離放射線硬化性としたものなどを
使用することができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼ
ラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォ
トレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サー
モクロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料
なども使用できる。

【００２２】上記の材料を用いて光回折構造を形成する
方法は、従来既知の方法によって形成することができ、
例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレ
リーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹
凸の形で記録された原版をプレス型として用い、前記支
持体シート上に離型性樹脂層および保護層を順に積層し
た積層シートの保護層の上に、前記光回折構造形成層用
樹脂の塗布液をグラビアコート法、ロールコート法、バ
ーコート法などの手段で塗布して、塗膜を形成し、その
上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段によ
り、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を
複製することができる。また、フォトポリマーを用いる
場合は、前記積層シートの保護層上に、フォトポリマー
を同様にコーティングした後、前記原版を重ねてレーザ
ー光を照射することにより複製することができる。この
ように、表面凹凸のレリーフとして回折格子やホログラ
ムの干渉縞を光回折構造層の表面に記録する方法は、量
産性があり、コストも低くできる点で特に好ましい。こ
のような光回折構造形成層の膜厚は０．１〜６μｍの範
囲が好ましく、０．１〜４μｍの範囲がさらに好まし
い。

【００２３】（光反射層）前記のように光回折構造形成
層の表面に凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を記録した場合には、その回折効率を高めるた
めに光反射層をレリーフ面に形成することが好ましい。
光反射層として、光を反射する金属薄膜をレリーフ面に
形成すれば反射型の光回折構造が得られ、また、透明薄
膜をレリーフ面に形成すれば透明型の光回折構造が得ら
れる。これらは目的に応じて適宜選択することができ
る。本発明における光回折構造形成層の光反射層として
は、光回折構造形成層の下層にも情報表示、その他の印
刷層が設けられることから、これらの透過性を有するこ
とが必要であり、反射透明性を有するものが用いられ
る。

【００２４】このような光反射層の材質としては、光回
折構造形成層とは屈折率の異なる物質の連続薄膜や金属
薄膜などが挙げられる。連続薄膜の膜厚は、薄膜を形成
する材料の透明領域であればよいが、通常は１００〜１
０００Åが好ましい。連続薄膜をレリーフ面に形成する
方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法などの薄膜形成法が挙げられる。連続
薄膜は、その屈折率が光回折構造形成層より大きくても
小さくてもよいが、屈折率の差が０．３以上あることが
好ましく、差が０．５以上、さらには１．０以上あるこ
とがより好ましい。

【００２５】光回折構造形成層より屈折率が大きい連続
薄膜としては、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｂ
₂Ｓ₃、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ₂などが挙げられる。光
回折構造形成層より屈折率が小さい連続薄膜としては、
ＬｉＦ、ＭｇＦ₂、ＡｌＦ₃などが挙げられる。また、厚
さが２００Å以下の場合には、光の透過率が比較的小さ
いため、透明でありながら光反射層として使用すること
ができる。さらに、光回折構造形成層とは屈折率の異な
る透明な合成樹脂、例えば、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタク
リレートの層を光反射層に用いることもできる。

【００２６】（接着層）前記光反射層の上には接着層を
設けて光回折構造転写シートを完成する。接着層の材質
は、光反射層との接着性がよく、かつ転写に際して、磁
気記録カード類などの被転写体に対しても強固に接着で
きるものが好ましい。具体的には、塩化ビニル系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系
樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ゴム変性物などが挙げ
られ、これらの中から適するものを適宜選択して使用で
き、また、これらは単体、もしくは２種以上の混合系
で、さらに必要に応じてハードレジンや可塑剤、その他
の添加剤を加えて使用することができる。

【００２７】上記のような材料で形成される接着層は、
通常、上記材料を溶液状の塗布液とし、これをロールコ
ーターなどで塗布および乾燥することによって形成でき
る。接着層の厚さは、０．５〜５μｍの範囲が好まし
く、１．０〜３．０μｍの範囲がさらに好ましい。以上
のようにして、支持体シートの離型性樹脂層の上に、光
回折構造転写層として、保護層、光回折構造形成層、光
反射層および接着層が順に積層された光回折構造転写シ
ートが製造できる。上記光回折構造転写層は、全体とし
ての厚さ（保護層から接着層までの厚さ）が８μｍ以下
に形成されることが好ましく、６μｍ以下がさらに好ま
しい。

【００２８】〔光回折構造付きカードについて〕前記本
発明の光回折構造転写シートは、前述したように磁気記
録カードの磁気記録層の上に、その光回折構造転写層を
転写しても、その磁気記録特性を損なわず、また、表面
の耐摩耗性など物性を向上させて耐久性を有するように
構成したものであり、主たる転写対象物は、当然、磁気
記録カードであるが、光回折構造転写層の表面が耐摩耗
性など物性に優れていることから、磁気記録カードに限
らず、ＩＣカード類なども含めてカード類など全般に広
く使用できる。

【００２９】（基材シート）本発明の光回折構造付きカ
ードの基材シートとしては、ポリ塩化ビニル、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポ
リスチレン系樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン、ポ
リエチレンなどの樹脂のほか、アルミニウム、銅などの
金属、紙、そして、樹脂またはラテックスなどの含浸紙
などの単独、あるいは複合体シートなどを用いることが
できる。

【００３０】このような基材シートの厚さは、材質によ
っても異なるが、通常、１０μｍ〜５ｍｍ程度の範囲で
ある。特に磁気記録カードの場合、基材シートをＩＳＯ
規格に準拠したものとする場合には、その厚さは０．７
６ｍｍである。そして、基材シートをポリ塩化ビニル
（以下、「ＰＶＣ」という）で形成する場合、通常、厚
さ２８０μｍの白色ＰＶＣシートをコアシートとして、
これを２枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ１００μｍの
透明ＰＶＣシートをオーバーシートとして重ねて、熱プ
レスなどにより積層する４層構成の基材シート（合計厚
さ０．７６ｍｍ）が用いられている。この場合、磁気記
録層は、前記透明ＰＶＣシート（オーバーシート）の表
面にテープ状または全面状に予め設けておくことによ
り、熱プレスなどによる積層時に、テープ状であっても
基材シートに押し込まれ、表面平滑に一体化され積層さ
れる。

【００３１】また、上記のように基材シートを積層体で
構成した場合には、印刷などにより着色印刷層、絵柄印
刷層、情報表示印刷層などを設ける際、印刷面をオーバ
ーシートの下、例えば、コアシート上に印刷することが
できるため、磁気記録層の磁気特性に関係なく自由に印
刷層を設けることができる。例えば、コアシート上に磁
気記録層と同じ色彩の着色印刷層を全面に設け、その上
に絵柄や情報表示の印刷層を設けてもよく、その場合に
は、最終製品である光回折構造付き磁気記録カードに仕
上げた時、磁気記録層と着色印刷層とが同一の色彩を有
するため、外側からは目視により磁気記録層の存在を確
認することができず、隠蔽されるようになり、磁気記録
カードのセキュリティー性を高めることができる。

【００３２】また、光回折構造転写層は、下地の透過性
を有するので、着色印刷層およびその上に設けられた絵
柄印刷層や情報表示印刷層を目視により見ることができ
る。さらに、光回折構造転写層をカードの基材シート上
の略全領域に設けることにより、意匠性が向上すると同
時に、光回折構造転写層を剥がして他のカードに貼り替
えるなどの偽造が困難となりセキュリティー性も向上す
る。

【００３３】以上の如くして得られた本発明のカード
は、その保護層が熱可塑性樹脂を含んでいることから、
該保護層の表面に特別な表面処理を施すことなく、例え
ば、ホログラム転写箔シールを用いてカード中に組み込
まれている光回折構造とは異なるホログラムなどを容易
にかつ密着性良好に貼着することができる。また、ホロ
グラム転写箔シールに限らず、その他の転写箔、昇華型
転写方式、熱溶融型転写方式などによって任意の絵柄や
文字などの情報が容易にかつ高い耐久性をもって記録で
きる。従って、本発明のカードにはさらなる優れた意匠
性や高いセキュリティー性を付与することができる。

【００３４】

【実施例】以下に、図面および具体的な実施例、比較例
を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発
明はこれらの図面および実施例に限定されるものではな
い。また、図面に付した符号は、異なる図面においても
同一名称の部分には同一符号を用いた。

【００３５】図１は、本発明の光回折構造転写シート２
０の１実施例の構成を説明する模式断面図である。図１
において、光回折構造転写シート２０は、支持体シート
１の一方の面に離型性樹脂層２を設け、さらにその離型
性樹脂層２の上に、光回折構造転写層７として、保護層
３、光回折構造形成層４、光反射層５および接着層６を
順に積層して構成されるとともに、前記保護層３には、
電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂との混合物を用い
て、被転写体に転写後の光回折構造転写層７（厚さ１．
１〜８．０μｍ）を形成する。

【００３６】そして、磁気記録カード類などの被転写体
に光回折構造転写層７を転写する際には、例えば、光回
折構造転写シート２０の接着層６の面を被転写体表面に
合わせて重ね、熱プレス装置、またはホットスタンピン
グ装置などにより支持体シート１側から加熱および圧着
することにより、接着層６が溶融または軟化し被転写体
表面に接着する。その後、支持体シート１を引き剥がす
ことにより、離型性樹脂層２と保護層３との界面で容易
に剥離し、保護層３を最外層とする光回折構造転写層７
が被転写体に転写される。

【００３７】図２は、本発明の光回折構造付きカードの
１実施例の構成を説明する模式断面図である。図２にお
いて、カード３０は、カード用基材シート９の一方の面
にテープ状などの磁気記録層８が設けられ、その上に前
記図１に示した構成の光回折構造転写シート２０の光回
折構造転写層７が転写により積層された構成である。従
って、光回折構造転写層７は、基材シート９側から、接
着層６、光反射層５、光回折構造形成層４および保護層
３が順に積層された積層体で構成されるとともに、最外
層の保護層３は、電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂
との混合物で好ましくは厚さ０．５〜４．０μｍに形成
されている。

【００３８】図３は、図２に示すカードの表面に、ホロ
グラム転写箔シールを用いて任意のホログラム層を転写
している状態を示している。すなわち、カード３０の最
表面である保護層３の表面に基材シート４１と離型層４
２とホログラム層４３と接着層（または粘着層）４４と
からなるホログラム転写箔シール４０の接着層４４を保
護層３に対向させて加熱および／または加圧した後、基
材シート４１及び離型層４２を剥離することにより、接
着層４４およびホログラム層４３は容易にかつ密着性良
好に保護層３の表面に貼着される。

【００３９】以下に具体的な実施例および比較例を挙げ
て説明する。（実施例１）（光回折構造転写シートの作製）厚さ２５μｍの２軸延
伸透明ＰＥＴフィルム（片面コロナ放電処理）のコロナ
放電処理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラ
ビアリバースコート法により、乾燥時の厚さが０．５μ
ｍとなるように塗布して、離型性樹脂層が積層された支
持体シートを作製した。

【００４０】（離型性樹脂層用塗工液）メラミン系樹脂５重量部溶剤メチルアルコール２５重量部溶剤エチルアルコール４５重量部酢酸セルロース樹脂１重量部パラトルエンスルフォン酸０．０５重量部

【００４１】前記離型性樹脂層の上に、下記組成の塗工
液Ａと塗工液Ｂを樹脂成分の混合重量比が５０：５０に
なるように混合し、グラビアリバースコート法により塗
布し、１００℃、１分間の条件により熱乾燥を行い溶剤
を乾燥させた後、紫外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍ
の高圧水銀ランプ２灯式）により、紫外線を照射量５０
０ｍＪ／ｃｍ²で照射して塗膜の硬化を行い、厚さ２μ
ｍの保護層を形成した。なお、転写の際には、離型性樹
脂層と保護層との間で剥離する。

【００４２】（塗工液Ａ）ポリウレタンアクリレート（プレポリマー）２０重量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部２−ヒドロキシエチルアクリレート５重量部光重合開始剤１重量部増感剤１重量部メチルエチルケトン１００重量部

【００４３】（塗工液Ｂ）酢酸セルロース樹脂１０重量部ポリエステル樹脂２０重量部メチルエチルケトン１００重量部パラトルエンスルフォン酸０．０５重量部

【００４４】前記保護層の上に、下記組成の光回折構造
形成層用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾
燥時の厚さが２μｍとなるように塗布し、１００℃、１
分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成するための樹
脂層を形成した。（光回折構造形成層用塗工液）アクリル樹脂４０重量部メラミン樹脂１０重量部溶剤シクロヘキサノン５０重量部溶剤メチルエチルケトン２５重量部

【００４５】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ²、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フを型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログラ
ムレリーフを備えた光回折構造形成層を形成した。次
に、前記光回折構造形成層のホログラムレリーフ形成面
に、スパッタ法により厚さ２００ÅのＺｎＳ薄膜層を形
成して光反射層とした。

【００４６】前記光反射層の上に、下記組成の接着層用
塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の厚
さが２μｍとなるように塗布および乾燥して接着層を形
成し、実施例１の光回折構造転写シートを作製した。（接着剤形成用塗工液）塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体２０重量部アクリル樹脂１０重量部溶剤酢酸エチル２０重量部溶剤トルエン５０重量部

【００４７】以上のように作製した実施例１の光回折構
造転写シートの各層の厚さ構成は下記の通りである。（厚さ構成）支持体シート２５μｍ離型性樹脂層０．５μｍ保護層２μｍ光回折構造形成層２μｍ光反射層２００Å 接着剤層２μｍ

【００４８】（磁気記録層およびカード基材の作製）厚
さ２５μｍのＰＥＴフィルムに、下記組成を有する磁気
記録層形成用の塗工液をグラビアコート法により塗布し
て、残留磁束密度が１．７ｍａｘｅｌｌ／ｃｍとなるよ
うに磁気記録層を形成した。（磁気記録層形成用の塗工液）Ｂａフェライト３６重量部（抗磁力６２０エルステッド、板状比２．２）ウレタン樹脂１２重量部トルエン１８重量部メチルエチルケトン１５重量部メチルイソブチルケトン１５重量部イソシアネート系硬化剤４重量部

【００４９】この磁気記録層を厚さ１００μｍの透明な
ＰＶＣオーバーシートの所定の位置にテープ状に熱転写
し、ＰＥＴフィルムを剥離することにより磁気記録層を
施したオーバーシートを得た。次に下記層構成のように
厚さ２８０μｍの白色不透明なＰＶＣコアシート２枚、
コアシートと接するように厚さ１００μｍの透明なＰＶ
Ｃオーバーシートを片側に、前記方法で得られた磁気記
録層を塗工後の透明なＰＶＣオーバーシートを片側に積
層し、温度１５０℃、圧力２５ｋｇ／ｃｍ²、時間１５
分の条件で熱プレスを行い、樹脂積層体を得た。次に磁
気記録層上を含む前記樹脂積層体上全面に、下記組成の
磁気記録層の隠蔽層用塗工液をシルクスクリーン法によ
り厚さ５μｍで塗布した。

【００５０】（層構成）磁気記録層を有する透明なＰＶＣオーバーシート１００μｍ白色不透明なＰＶＣコアシート２８０μｍ白色不透明なＰＶＣコアシート２８０μｍ透明なＰＶＣオーバーシート１００μｍ

【００５１】（磁気記録層の隠蔽層用塗工液）アクリル系樹脂１０重量部酢酸ビニル系樹脂１０重量部アルミニウム粉末５０重量部顔料４重量部溶剤５０重量部

【００５２】次に、前記磁気記録層の隠蔽層上に、磁気
記録層上を除きオフセット印刷によりパターン印刷層を
形成した。本実施例では、磁気記録層上を除きパターン
印刷層を形成したが、磁気記録層上の厚みが読みとり装
置の読みとり性に支障のない範囲であれば、磁気記録層
上にもパターン印刷を設けてもよい。

【００５３】次に、前記の光回折構造転写シートを、磁
気記録層の隠蔽層およびパターン印刷層が印刷された面
に重ねて、ホットスタンプ装置により、１５０℃、１０
ｋｇ／ｃｍ²、１秒間の条件で加熱圧着して転写後支持
体シートを引き剥がすことにより、離型性樹脂層と保護
層との界面で容易に剥離し、保護層を最外層とする光回
折構造層の積層体を得た。磁気記録層の隠蔽層と光回折
構造層の合計膜厚は約１１μｍである。最後にＪＩＳサ
イズ（８６ｍｍ×５４ｍｍ）に打ち抜き磁気記録カード
が得られる。

【００５４】（実施例２）実施例１と同じ方法で光反射
層までを形成した光回折構造転写シートに、実施例１と
同様にオフセット印刷でパターン印刷層を形成し、その
後実施例１と同組成の磁気記録層の隠蔽層用塗工液をシ
ルクスクリーン法により厚さ５μｍで塗布し、光回折構
造層と磁気記録層の隠蔽層が積層された転写シートを作
製した。保護層から磁気記録層の隠蔽層までの各層の合
計膜厚は約１１μｍである。このシートを実施例１の樹
脂積層体の磁気記録層面に重ねて、ホットスタンプ装置
により、１５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ²、５秒間の条件で
加熱圧着して転写後支持体シートを剥離することによ
り、保護層を最外層とする磁気記録層の隠蔽層と光回折
構造層の積層体を作製し、ＪＩＳサイズ（８６ｍｍ×５
４ｍｍ）に打ち抜き磁気記録カードを得た。

【００５５】（実施例３）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成
分の混合重量比を５：９５に変更した以外は、実施例１
と同じ方法で磁気記録カードを得た。（実施例４）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成分の混合重量
比を２０：８０に変更した以外は、実施例１と同じ方法
で磁気記録カードを得た。

【００５６】（実施例５）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成
分の混合重量比を８０：２０に変更した以外は、実施例
１と同じ方法で磁気記録カードを得た。（実施例６）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成分の混合重量
比を９５：５に変更した以外は、実施例１と同じ方法で
磁気記録カードを得た。

【００５７】（比較例１）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成
分の混合重量比を０：１００に変更した以外は、実施例
１と同じ方法で磁気記録カードを得た。（比較例２）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成分の混合重量
比を４：９６に変更した以外は、実施例１と同じ方法で
磁気記録カードを得た。

【００５８】（比較例３）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成
分の混合重量比を９６：４に変更した以外は、実施例１
と同じ方法で磁気記録カードを得た。（比較例４）塗工液Ａと塗工液Ｂを樹脂成分の混合重量
比を１００：０に変更した以外は、実施例１と同じ方法
で磁気記録カードを得た。

【００５９】前記実施例１〜６および比較例１〜４で得
られた磁気記録カードの保護層上に、ホログラム転写箔
シールを、１５０℃、２秒、１０ｋｇ／ｃｍ²の条件で
貼着した。ホログラム転写箔シール貼着後、セロテープ
（登録商標）剥離試験にて得られた磁気記録カードとホ
ログラム転写箔シールとの密着性を評価した結果を表１
に示す。また、前記実施例１〜６および比較例１〜４で
得られた磁気記録カードをＲ／Ｗ（メーカ：（株）ニュ
ーロン、機種：ＣＴ−６７０Ｎ）で４０００回読みとっ
た際の、保護層の外観損傷程度についても表１に示す。

【００６０】表１の結果が示すように、保護層を構成す
る電離放射線固化型樹脂（Ａ）と熱可塑性樹脂（Ｂ）と
の混合重量比を、Ａ／Ｂ＝５／９５〜９５／５の範囲
で、表面耐久性、箔押しなどの後加工適性の両者に優れ
た光回折構造体が得られた。

【００６１】

【００６２】＊１：評価基準 ○：（良好）光回折構造の再生画像を良好に視認でき
る。 △：（やや劣るが実用性あり）表面に擦り傷が若干認め
られるが、光回折構造の再生画像を視認できる。 ×：（不良）表面の擦り傷が著しく光回折構造の再生画
像の視認性が低下するか、あるいは視認不能。＊２：評価基準 ○：（良好）記録後の読み取り時に磁気情報読み取り不
良は発生しない。 ×：（不良）記録後の読み取り時に磁気情報を読みとれ
ない、あるいは読み取り不良が生じやすい。

【００６３】

【発明の効果】以上の如き本発明によれば、カード類な
どの最表面である保護層にホログラム転写箔シールなど
の各種転写箔や、感熱転写方式などにより、各種絵柄や
情報を容易に貼着あるいは転写可能な光回折構造付きカ
ードを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光回折構造転写シートの１実施例を
説明する模式断面図。

【図２】本発明の光回折構造付きカードの１実施例を
説明する模式断面図。

【図３】本発明の光回折構造付きカードの後加工を説
明する模式断面図。

【符号の説明】

１：支持体シート２：離型性樹脂層３：保護層４：光回折構造形成層５：光反射層６：接着層７：光回折構造転写層８：磁気記録層９：基材シート２０：光回折構造転写シート３０：カード４０：ホログラム転写箔シール４１：基材シート４２：離型層４３：ホログラム層４４：接着層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方の面に離型性樹脂層が設
けられた支持体シートと、該離型性樹脂層の上に形成さ
れている光回折構造転写層とからなる光回折構造転写シ
ートにおいて、前記光回折構造転写層が、支持体シート
側から、保護層、光回折構造形成層、光反射層および接
着層を順に積層した積層構造を有し、かつ上記保護層
が、電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂との混合物で
形成されていることを特徴とする光回折構造転写シー
ト。
【請求項２】電離放射線硬化型樹脂と熱可塑性樹脂と
の重量比が、５／９５〜９５／５の範囲である請求項１
に記載の光回折構造転写シート。
【請求項３】基材シートの一方の全面または一部の面
に、磁気記録層を備え、該磁気記録層の上に光回折構造
層が設けられてなるカードにおいて、該光回折構造層
が、前記請求項１または２に記載の光回折構造転写シー
トの光回折構造転写層の転写により設けられていること
を特徴とする光回折構造付きカード。