JP2002270991A - Printed wiring board and manufacturing method therefor - Google Patents

Printed wiring board and manufacturing method therefor

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JP2002270991A JP2001070066A JP2001070066A JP2002270991A JP 2002270991 A JP2002270991 A JP 2002270991A JP 2001070066 A JP2001070066 A JP 2001070066A JP 2001070066 A JP2001070066 A JP 2001070066A JP 2002270991 A JP2002270991 A JP 2002270991A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board where loop inductance can be reduced and to provide a manufacturing method for the printed wring board. SOLUTION: For arranging a chip capacitor 20 in the printed wiring board 10, the distance between an IC chip 90 and the chip capacitor 20 becomes short and the loop inductance can be reduced. Since conductive paste 26 is applied to surfaces of electrodes 21 and 22 formed by metallization, connection resistance on the surfaces of the electrodes 21 and 22 can be reduced, and projecting and recessing parts on the surfaces are eliminated. Thus, an adhesion property with a conductive adhesive 34 can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】ICチップなどの電子部品を
載置するプリント配線板に関し、特にコンデンサを内蔵
するプリント配線板に関するのもである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board on which electronic components such as IC chips are mounted, and more particularly to a printed wiring board having a built-in capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、コンピュータ内部においては、電
源とICチップ間の配線距離が長く、この配線部分のル
ープインダクタンスは非常に大きいものとなっている。
このため、高速動作時のIC駆動電圧の変動も大きくな
り、ICの誤動作の原因となり得る。また、電源電圧を
安定化させることも困難である。このため、電源供給の
補助として、コンデンサをプリント配線板の表面に実装
している。
2. Description of the Related Art Usually, inside a computer, a wiring distance between a power supply and an IC chip is long, and a loop inductance of this wiring portion is very large.
For this reason, the fluctuation of the IC drive voltage during the high-speed operation increases, which may cause the IC to malfunction. It is also difficult to stabilize the power supply voltage. For this reason, a capacitor is mounted on the surface of the printed wiring board to assist in power supply.

【0003】即ち、電圧変動となるループインダクタン
スは、図17(A)に示す電源からプリント配線板30
0内の電源線を介してICチップ270の電源端子27
2Pまでの配線長、及び、ICチップ270のアース端
子272Eから電源からプリント配線板300内のアー
ス線を介して電源までの配線長に依存する。また、逆方
向の電流が流れる配線同志、例えば、電源線とアース線
との間隔を狭くすることでループインダクタンスを低減
できる。このため、図17(B)に示すように、プリン
ト配線板300にチップコンデンサ298を表面実装す
ることで、ICチップ270と電源供給源となるチップ
コンデンサ292とを結んでいるプリント配線板300
内の電源線とアース線との配線長を短くするとともに、
配線間隔を狭くすることで、ループインダクタンスを低
減することが行われていた。
That is, the loop inductance that causes voltage fluctuation is generated from the power supply shown in FIG.
Power supply terminal 27 of IC chip 270
It depends on the wiring length up to 2P and the wiring length from the ground terminal 272E of the IC chip 270 to the power supply from the power supply via the ground wire in the printed wiring board 300. Further, the loop inductance can be reduced by reducing the distance between the wirings in which the current flows in the opposite direction, for example, the distance between the power supply line and the ground line. For this reason, as shown in FIG. 17B, by mounting a chip capacitor 298 on the printed wiring board 300, the printed wiring board 300 connecting the IC chip 270 and the chip capacitor 292 serving as a power supply source.
Shorten the wiring length between the power line and the ground line inside
It has been practiced to reduce the loop inductance by reducing the wiring interval.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、IC駆
動電圧変動の原因となる電圧降下の大きさは周波数に依
存する。このため、ICチップの駆動周波数の増加に伴
い、図17(B)を参照して上述したようにチップコン
デンサを表面に実装させてもなおループインダクタンス
を低減できず、IC駆動電圧の変動を十分に抑えること
が難しくなった。
However, the magnitude of the voltage drop that causes the fluctuation of the IC driving voltage depends on the frequency. Therefore, as the driving frequency of the IC chip increases, the loop inductance cannot be reduced even if the chip capacitor is mounted on the surface as described above with reference to FIG. It became difficult to control.

【0005】このため、本発明者は、プリント配線板内
にチップコンデンサを収容するとの着想を持った。コン
デンサを基板に埋め込む技術としては、特開平6−32
6472号、特開平7−263619号、特開平10−
256429号、特開平11−45955号、特開平1
1−126978号、特開平11−312868号等が
ある。
For this reason, the present inventor has an idea of accommodating a chip capacitor in a printed wiring board. As a technique for embedding a capacitor in a substrate, see Japanese Unexamined Patent Publication No.
6472, JP-A-7-263619, JP-A-10-
No. 256429, JP-A-11-45555, JP-A-1
1-112678 and JP-A-11-31868.

【0006】特開平6−326472号には、ガラスエ
ポキシからなる樹脂基板に、コンデンサを埋め込む技術
が開示されている。この構成により、電源ノイズを低減
し、かつ、チップコンデンサを実装するスペースが不要
になり、絶縁性基板を小型化できる。また、特開平7−
263619号には、セラミック、アルミナなどの基板
にコンデンサを埋め込む技術が開示されている。この構
成により、電源層及び接地層の間に接続することで、配
線長を短くし、配線のインダクタンスを低減している。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-326472 discloses a technique for embedding a capacitor in a resin substrate made of glass epoxy. With this configuration, power supply noise is reduced, and a space for mounting a chip capacitor is not required, and the size of the insulating substrate can be reduced. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open
No. 263619 discloses a technique for embedding a capacitor in a substrate made of ceramic, alumina, or the like. With this configuration, by connecting between the power supply layer and the ground layer, the wiring length is shortened and the wiring inductance is reduced.

【0007】しかしながら、上述した技術は、ICチッ
プからコンデンサの距離をあまり短くできず、ICチッ
プの更なる高周波数領域においては、現在必要とされる
ようにインダクタンスを低減することができなかった。
特に、樹脂製の多層ビルドアップ配線板においては、セ
ラミックから成るコンデンサと、樹脂からなるコア基板
及び層間樹脂絶縁層の熱膨張率の違いから、チップコン
デンサの端子とバイアホールとの間に断線、チップコン
デンサと層間樹脂絶縁層との間で剥離、層間樹脂絶縁層
にクラックが発生し、長期に渡り高い信頼性を達成する
ことができなかった。
[0007] However, the above-described technique cannot make the distance between the IC chip and the capacitor very short, and cannot reduce the inductance as required at present in a higher frequency region of the IC chip.
In particular, in a resin-made multilayer build-up wiring board, disconnection between a terminal of a chip capacitor and a via hole due to a difference in thermal expansion coefficient between a capacitor made of ceramic and a core substrate made of resin and an interlayer resin insulating layer. Peeling occurred between the chip capacitor and the interlayer resin insulation layer, cracks occurred in the interlayer resin insulation layer, and high reliability could not be achieved for a long period of time.

【0008】本発明は上述した課題を解決するためなさ
れたものであり、その目的とするところは、ループイン
ダクタンスを低減できると共に高い信頼性を有するプリ
ント配線板、及びその製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a printed wiring board which can reduce loop inductance and has high reliability, and a method of manufacturing the same. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、請求項1では、コア基板に樹脂絶縁層と導体回路
とを積層してなるプリント配線板であって、前記コア基
板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層で形成され
た接続層とザグリ部にコンデンサを収納した収容層とか
らなり、前記コンデンサのメタライズからなる電極の表
面には、導電性ペーストが塗布されていることを技術的
特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a printed wiring board having a resin insulating layer and a conductive circuit laminated on a core substrate, wherein the core substrate has at least A connection layer formed of at least one insulating resin layer and a housing layer housing a capacitor in a counterbore portion, and a conductive paste is applied to the surface of the electrode formed by metallizing the capacitor. Technical features.

【0010】コア基板上に層間樹脂絶縁層を設けて、該
層間樹脂絶縁層にバイアホールもしくはスルーホールを
施して、導電層である導体回路を形成するビルドアップ
法によって形成する回路を意味している。それらには、
セミアディティブ法、フルアディティブ法のいずれかを
用いることができる。
A circuit formed by a build-up method in which an interlayer resin insulating layer is provided on a core substrate, a via hole or a through hole is formed in the interlayer resin insulating layer, and a conductive circuit as a conductive layer is formed. I have. They include
Either a semi-additive method or a full-additive method can be used.

【0011】請求項1では、プリント配線板内にコンデ
ンサを配置するため、ICチップとコンデンサとの距離
が短くなり、ループインダクタンスを低減することがで
きる。また、コア基板は、少なくとも1層以上の接続層
と、コンデンサを収容する収容層からなり、厚みの厚い
収容層内にコンデンサを収容するため、コア基板が厚く
ならず、コア基板上に層間樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してもプリント配線板を厚くすることがない。
According to the first aspect, since the capacitor is arranged in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, and the loop inductance can be reduced. Further, the core substrate includes at least one or more connection layers and a housing layer for housing the capacitor. Since the capacitor is housed in the thick housing layer, the core substrate does not become thick, and the interlayer resin is formed on the core substrate. Even when the insulating layer and the conductive circuit are laminated, the printed wiring board does not become thick.

【0012】また、コンデンサのメタライズからなる電
極の表面に導電性ペーストが塗布されてるため、メタラ
イズからなり表面の抵抗の高い電極の電気接続性を改善
することができる。また、メタライズからなる電極は、
表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接接続を取って
も、完全に密着することができないが、導電性ペースト
により凹凸を無くすことができ、密着性を高め、接続抵
抗を下げることができる。また、メタライズからなる電
極が、周囲の樹脂層と導電性ペーストを介して接触する
ため、電極と樹脂層との熱膨張差による応力の発生を抑
え、樹脂層のクラックや剥離が無くなる。
In addition, since the conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor, the electrical connectivity of the metallized electrode having a high surface resistance can be improved. Also, the electrode made of metallized
There is unevenness on the surface, and even if a direct connection is made with a conductive adhesive, it cannot be completely adhered, but the conductive paste can eliminate the unevenness, enhance the adhesion, and reduce the connection resistance. . In addition, since the metallized electrode is in contact with the surrounding resin layer via the conductive paste, the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrode and the resin layer is suppressed, and cracks and peeling of the resin layer are eliminated.

【0013】請求項2では、コンデンサの電極の導電性
ペースト上に金属層を設けてあるため、電極でのマイグ
レーションの発生を防止することができ、また、接続抵
抗を更に低減することができる。メタライズからなる電
極は、表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接接続を取
っても、完全に密着することができないが、導電性ペー
ストを塗布し、更に、金属層を設けることで凹凸を完全
に無くすことができ、密着性を高め、接続抵抗を下げる
ことができる。
In the second aspect, since the metal layer is provided on the conductive paste of the electrode of the capacitor, it is possible to prevent the occurrence of migration at the electrode and further reduce the connection resistance. The metallized electrode has irregularities on the surface and cannot be completely adhered even if it is directly connected with a conductive adhesive.However, applying a conductive paste and further providing a metal layer can reduce irregularities. It can be completely eliminated, adhesion can be enhanced, and connection resistance can be reduced.

【0014】請求項3では、コンデンサの表面に、粗化
処理を施す。これにより、セラミックから成るチップコ
ンデンサと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密
着性が高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面
での接着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがな
い。
According to a third aspect, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0015】請求項4では、コンデンサの表面に、シー
ラルカップリング、樹脂被膜の塗布等の濡れ性改善処理
を施す。これにより、セラミックから成るチップコンデ
ンサと樹脂からなる接着層、層間樹脂絶縁層との密着性
が高くなり、ヒートサイクル試験を実施しても界面での
接着層、層間樹脂絶縁層の剥離が発生することがない。
According to a fourth aspect of the present invention, the surface of the capacitor is subjected to a wettability improving treatment such as a seal coupling or a resin coating. Thereby, the adhesion between the chip capacitor made of ceramic and the adhesive layer made of resin and the interlayer resin insulating layer is increased, and the adhesive layer and interlayer resin insulating layer are separated at the interface even when the heat cycle test is performed. Nothing.

【0016】凹部内には、樹脂を充填させることが望ま
しい。コンデンサ、コア基板間の空隙をなくすことによ
って、内蔵されたコンデンサが、挙動することが小さく
なるし、コンデンサを起点とする応力が発生したとして
も、該充填された樹脂により緩和することができる。ま
た、該樹脂には、コンデンサとコア基板との接着やマイ
グレーションの低下させるという効果も有する。
It is desirable to fill the recess with a resin. By eliminating the gap between the capacitor and the core substrate, the built-in capacitor is less likely to behave, and even if a stress originating from the capacitor is generated, the stress can be reduced by the filled resin. The resin also has the effect of reducing adhesion and migration between the capacitor and the core substrate.

【0017】請求項5では、収容層は、心材に樹脂を含
浸させた樹脂基板からなるため、コア基板に十分な強度
を得ることができる。
According to the fifth aspect, the housing layer is made of a resin substrate in which a core material is impregnated with a resin, so that the core substrate can have sufficient strength.

【0018】請求項6では、接続層と収容層に収容され
たコンデンサとは、導電性接着剤を介して接続される。
これにより、コンデンサとの電気接続とコンデンサと接
続層との密着性が確保される。導電性接着材には、半田
(Sn/Pb、Sn/Ag、Sn/Sb、Sn/Ag/
Cu)、導電性ペースト、あるいは樹脂に金属粒子が含
浸されたもの等の導電性と接着性を兼ね備えるものを用
いることができる。
According to the present invention, the connection layer and the capacitor housed in the housing layer are connected via a conductive adhesive.
Thereby, electrical connection with the capacitor and adhesion between the capacitor and the connection layer are ensured. Solder (Sn / Pb, Sn / Ag, Sn / Sb, Sn / Ag /
Cu), a conductive paste, or a resin having both conductivity and adhesiveness, such as a resin impregnated with metal particles, can be used.

【0019】導電接着剤とコンデンサとの空隙には、樹
脂を充填させるのが望ましい。コンデンサを起因とする
挙動を緩和し、導電接着剤のマイグレーションを防止す
ることができるからである。
It is desirable to fill the gap between the conductive adhesive and the capacitor with a resin. This is because the behavior caused by the capacitor can be reduced and migration of the conductive adhesive can be prevented.

【0020】請求項7では、接続層と収容層の間に、導
電性接着剤と接続される回路が設けられているため、当
該回路を介してコンデンサと確実に接続を取ることがで
きる。また、接続層と収容層の間に、金属層からなる回
路を配設することで、コア基板の反りを防ぐことができ
る。
According to the seventh aspect, since a circuit connected to the conductive adhesive is provided between the connection layer and the housing layer, the connection to the capacitor can be reliably established via the circuit. Further, by arranging a circuit formed of a metal layer between the connection layer and the housing layer, it is possible to prevent the core substrate from warping.

【0021】請求項8では、プリント配線板の裏面側に
接続される外部基板(ドータボード、マザーボード)と
コンデンサの端子とは、接続層に設けられたバイアホー
ル及びコア基板に形成されたスルーホールを介して接続
される。即ち、心材を備え加工が困難な収容層に通孔を
形成してコンデンサの端子と外部基板とを直接接続しな
いため、接続信頼性を高めることができる。
According to the present invention, the external board (daughter board, motherboard) connected to the back side of the printed wiring board and the terminal of the capacitor are connected to the via hole provided in the connection layer and the through hole formed in the core board. Connected via. That is, since the through holes are formed in the encasing layer provided with the core material and which are difficult to process and the terminals of the capacitor are not directly connected to the external substrate, the connection reliability can be improved.

【0022】請求項9では、コンデンサ間にICチップ
と外部基板との接続用配線を配設し、コンデンサを信号
線が通過しないため、高誘電体によるインピーダンス不
連続による反射、及び、高誘電体通過による伝搬遅延が
発生しない。電源用のコンデンサを備えることで、IC
チップに大電力を容易に供給することが可能となる。ま
た、プリント配線板の信号伝搬のノイズを低減すること
ができる。
In the ninth aspect, a wiring for connecting the IC chip and the external substrate is provided between the capacitors, and the signal lines do not pass through the capacitors. No propagation delay occurs due to passage. By providing a capacitor for power supply, IC
Large power can be easily supplied to the chip. Further, noise of signal propagation of the printed wiring board can be reduced.

【0023】また、接続用配線を配設することにより、
コンデンサの下部にも、配線を施すことが可能となる。
そのために配線の自由度が増して、高密度化、小型化を
することが出来る。
Further, by arranging the connection wiring,
Wiring can also be provided below the capacitor.
Therefore, the degree of freedom of wiring is increased, and higher density and smaller size can be achieved.

【0024】請求項10では、基板内に収容したコンデ
ンサに加えて表面にコンデンサを配設してある。プリン
ト配線板内にコンデンサが収容してあるために、ICチ
ップとコンデンサとの距離が短くなり、ループインダク
タンスを低減し、瞬時に電源を供給することができ、一
方、プリント配線板の表面にもコンデンサが配設してあ
るので、大容量のコンデンサを取り付けることができ、
ICチップに大電力を容易に供給することが可能とな
る。
In the tenth aspect, a capacitor is provided on the surface in addition to the capacitor housed in the substrate. Since the capacitor is housed in the printed wiring board, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, the loop inductance is reduced, and power can be supplied instantaneously. Because a capacitor is provided, a large-capacity capacitor can be attached.
Large power can be easily supplied to the IC chip.

【0025】請求項11では、表面のコンデンサの静電
容量は、内層のコンデンサの静電容量以上であるため、
高周波領域における電源供給の不足がなく、所望のIC
チップの動作が確保される。
In the eleventh aspect, since the capacitance of the capacitor on the surface is larger than the capacitance of the capacitor in the inner layer,
There is no shortage of power supply in the high frequency range, and the desired IC
The operation of the chip is ensured.

【0026】請求項12では、表面のコンデンサのイン
ダクタンスは、内層のコンデンサのインダクタンス以上
であるため、高周波領域における電源供給の不足がな
く、所望のICチップの動作が確保される。
In the twelfth aspect, since the inductance of the capacitor on the surface is equal to or larger than the inductance of the capacitor in the inner layer, there is no shortage of power supply in a high frequency region, and a desired operation of the IC chip is ensured.

【0027】請求項13では、コア基板のザグリ部とコ
ンデンサとの間に、樹脂を充填し、樹脂の熱膨張率を、
コア基板よりも小さく、即ち、セラミックからなるコン
デンサに近いように設定してある。このため、ヒートサ
イクル試験において、コア基板とコンデンサとの間に熱
膨張率差から内応力が発生しても、コア基板にクラッ
ク、剥離等が生じ難く、高い信頼性を達成できる。ま
た、マイグレーションの発生を防止することも出来る。
According to a thirteenth aspect, a resin is filled between the counterbore portion of the core substrate and the capacitor, and the coefficient of thermal expansion of the resin is determined by
It is set smaller than the core substrate, that is, close to a capacitor made of ceramic. For this reason, in the heat cycle test, even if internal stress is generated due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the core substrate and the capacitor, cracks, peeling, and the like hardly occur on the core substrate, and high reliability can be achieved. Further, occurrence of migration can be prevented.

【0028】請求項14では、外縁の内側に電極の形成
されたチップコンデンサを用いるため、バイアホールを
経て導通を取っても外部電極が大きく取れ、アライメン
トの許容範囲が広がるために、接続不良がなくなる。
According to the fourteenth aspect, since a chip capacitor having an electrode formed inside the outer edge is used, a large external electrode can be obtained even when conduction is established through a via hole, and the allowable range of alignment is widened. Disappears.

【0029】請求項15では、マトリクス状に電極が形
成されたコンデンサを用いるので、大判のチップコンデ
ンサをコア基板に収容することが容易になる。そのた
め、静電容量を大きくできるので、電気的な問題を解決
することができる。さらに、種々の熱履歴などを経ても
プリント配線板に反りが発生し難くなる。
According to the fifteenth aspect, since a capacitor having electrodes formed in a matrix is used, it is easy to accommodate a large chip capacitor in the core substrate. Therefore, the capacitance can be increased, so that an electrical problem can be solved. Further, even after various thermal histories, the printed wiring board is less likely to warp.

【0030】請求項16では、コンデンサに多数個取り
用のチップコンデンサを複数連結させてもよい。それに
よって、静電容量を適宜調整することができ、適切にI
Cチップを動作させることができる。
In the sixteenth aspect, a plurality of chip capacitors for multi-cavity may be connected to the capacitor. As a result, the capacitance can be adjusted appropriately, and I
The C chip can be operated.

【0031】請求項17のプリント配線板の製造方法
は、少なくとも以下(a)〜(c)の工程を備えること
を技術的特徴とする: (a)片面あるいは両面に回路パターンを形成した樹脂
板に、接着材料を介して前記回路パターンにメタライズ
電極の上に導電性ペーストを塗布したコンデンサを接続
する工程; (b)前記樹脂板に、前記コンデンサを収容するキャビ
ティを形成した樹脂基板を貼り付け、コア基板を形成す
る工程; (c)前記樹脂板に前記コンデンサの電極へ至る開口を
設けてバイアホールを形成する工程。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board, which comprises at least the following steps (a) to (c): (a) a resin board having a circuit pattern formed on one or both sides; Connecting a capacitor having a conductive paste applied on a metallized electrode to the circuit pattern via an adhesive material; and (b) attaching a resin substrate having a cavity for accommodating the capacitor to the resin plate. Forming a core substrate; and (c) forming an opening to the electrode of the capacitor in the resin plate to form a via hole.

【0032】請求項17のプリント配線板の製造方法で
は、コア基板内にチップコンデンサを収容することが可
能となり、ループインダクタンスを低減させたプリント
配線板を提供できる。
According to the method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, the chip capacitor can be accommodated in the core substrate, and a printed wiring board with reduced loop inductance can be provided.

【0033】また、コンデンサのメタライズからなる電
極の表面に導電性ペーストが塗布されてるため、メタラ
イズからなり表面の抵抗の高い電極の電気接続性を改善
することができる。また、メタライズからなる電極は、
表面に凹凸があり、導電性接着剤で直接接続を取って
も、完全に密着することができないが、導電性ペースト
により凹凸を無くすことができ、密着性を高め、接続抵
抗を下げることができる。また、メタライズからなる電
極が、周囲の樹脂層と導電性ペーストを介して接触する
ため、電極と樹脂層との熱膨張差による応力の発生を抑
え、樹脂層のクラックや剥離が無くなる。
Further, since the conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor, the electrical connectivity of the metallized electrode having a high surface resistance can be improved. Also, the electrode made of metallized
There is unevenness on the surface, and even if a direct connection is made with a conductive adhesive, it cannot be completely adhered, but the conductive paste can eliminate the unevenness, enhance the adhesion, and reduce the connection resistance. . In addition, since the metallized electrode is in contact with the surrounding resin layer via the conductive paste, the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrode and the resin layer is suppressed, and cracks and peeling of the resin layer are eliminated.

【0034】請求項18のプリント配線板の製造方法で
は、コンデンサを収容した樹脂基板と樹脂板とを、両面
に圧力を加えて張り合わせコア基板を形成するため、表
面が平坦化され、高い信頼性を備える層間樹脂絶縁層及
び導体回路を積層することができる。
In the method for manufacturing a printed wiring board according to the eighteenth aspect, the resin substrate containing the capacitor and the resin plate are bonded to each other by applying pressure to both surfaces to form a core substrate. Can be laminated.

【0035】請求項19のプリント配線板の製造方法で
は、コンデンサ間にICチップと外部基板とのスルーホ
ールを配設し、コンデンサを信号線が通過しないため、
高誘電体によるインピーダンス不連続による反射、及
び、高誘電体通過による伝搬遅延が発生しない。電源用
のコンデンサを備えることで、ICチップに大電力を容
易に供給することが可能となる。
In the method for manufacturing a printed wiring board according to the nineteenth aspect, a through hole between the IC chip and the external substrate is provided between the capacitors, and the signal lines do not pass through the capacitors.
Reflection due to impedance discontinuity due to the high dielectric and propagation delay due to passage through the high dielectric do not occur. Providing a power supply capacitor makes it possible to easily supply large power to an IC chip.

【0036】本発明において層間樹脂絶縁層、接続層と
して使用する熱硬化型樹脂シートは、酸または酸化剤に
可溶性の粒子(以下、可溶性粒子という)が酸または酸
化剤に難溶性の樹脂(以下、難溶性樹脂という)中に分
散したものである。なお、本発明で使用する「難溶性」
「可溶性」という語は、同一の酸または酸化剤からなる
溶液に同一時間浸漬した場合に、相対的に溶解速度の早
いものを便宜上「可溶性」と呼び、相対的に溶解速度の
遅いものを便宜上「難溶性」と呼ぶ。
In the present invention, the thermosetting resin sheet used as the interlayer resin insulating layer and the connection layer is made of a resin (hereinafter, referred to as a soluble particle) that is soluble in an acid or an oxidizing agent. , Hardly soluble resin). In addition, the "poorly soluble" used in the present invention
The term "soluble" refers to a substance having a relatively high dissolution rate when immersed in a solution containing the same acid or oxidizing agent for the same time as "soluble" for convenience, and a substance having a relatively low dissolution rate for convenience. Called "poorly soluble".

【0037】上記可溶性粒子としては、例えば、酸また
は酸化剤に可溶性の樹脂粒子(以下、可溶性樹脂粒
子)、酸または酸化剤に可溶性の無機粒子(以下、可溶
性無機粒子)、酸または酸化剤に可溶性の金属粒子(以
下、可溶性金属粒子)等が挙げられる。これらの可溶性
粒子は、単独で用いても良いし、2種以上併用してもよ
い。
Examples of the soluble particles include resin particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble resin particles”), inorganic particles soluble in an acid or an oxidizing agent (hereinafter referred to as “soluble inorganic particles”), and an acid or an oxidizing agent. Soluble metal particles (hereinafter referred to as “soluble metal particles”) and the like. These soluble particles may be used alone or in combination of two or more.

【0038】上記可溶性粒子の形状は特に限定されず、
球状、破砕状等が挙げられる。また、上記可溶性粒子の
形状は、一様な形状であることが望ましい。均一な粗さ
の凹凸を有する粗化面を形成することができるからであ
る。
The shape of the soluble particles is not particularly limited.
Spherical, crushed and the like. The shape of the soluble particles is desirably a uniform shape. This is because a roughened surface having unevenness with a uniform roughness can be formed.

【0039】上記可溶性粒子の平均粒径としては、0.
1〜10μmが望ましい。この粒径の範囲であれば、2
種類以上の異なる粒径のものを含有してもよい。すなわ
ち、平均粒径が0.1〜0.5μmの可溶性粒子と平均
粒径が1〜3μmの可溶性粒子とを含有する等である。
これにより、より複雑な粗化面を形成することができ、
導体回路との密着性にも優れる。なお、本発明におい
て、可溶性粒子の粒径とは、可溶性粒子の一番長い部分
の長さである。
The average particle size of the above-mentioned soluble particles is 0.1.
1 to 10 μm is desirable. Within this particle size range, 2
More than one kind of particles having different particle sizes may be contained. That is, it contains soluble particles having an average particle size of 0.1 to 0.5 μm and soluble particles having an average particle size of 1 to 3 μm.
Thereby, a more complicated roughened surface can be formed,
Excellent adhesion to conductor circuits. In the present invention, the particle size of the soluble particles is the length of the longest portion of the soluble particles.

【0040】上記可溶性樹脂粒子としては、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂等からなるものが挙げられ、酸あるい
は酸化剤からなる溶液に浸漬した場合に、上記難溶性樹
脂よりも溶解速度が速いものであれば特に限定されな
い。上記可溶性樹脂粒子の具体例としては、例えば、エ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフ
ェニレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等から
なるものが挙げられ、これらの樹脂の一種からなるもの
であってもよいし、2種以上の樹脂の混合物からなるも
のであってもよい。
Examples of the soluble resin particles include those made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and the like. When immersed in a solution containing an acid or an oxidizing agent, the soluble resin particles have a higher dissolution rate than the hardly soluble resin. If it is, there is no particular limitation. Specific examples of the soluble resin particles include, for example, those made of epoxy resin, phenol resin, polyimide resin, polyphenylene resin, polyolefin resin, fluororesin, and the like, and may be made of one of these resins. Alternatively, it may be composed of a mixture of two or more resins.

【0041】また、上記可溶性樹脂粒子としては、ゴム
からなる樹脂粒子を用いることもできる。上記ゴムとし
ては、例えば、ポリブタジエンゴム、エポキシ変性、ウ
レタン変性、(メタ)アクリロニトリル変性等の各種変
性ポリブタジエンゴム、カルボキシル基を含有した(メ
タ)アクリロニトリル・ブタジエンゴム等が挙げられ
る。これらのゴムを使用することにより、可溶性樹脂粒
子が酸あるいは酸化剤に溶解しやすくなる。つまり、酸
を用いて可溶性樹脂粒子を溶解する際には、強酸以外の
酸でも溶解することができ、酸化剤を用いて可溶性樹脂
粒子を溶解する際には、比較的酸化力の弱い過マンガン
酸塩でも溶解することができる。また、クロム酸を用い
た場合でも、低濃度で溶解することができる。そのた
め、酸や酸化剤が樹脂表面に残留することがなく、後述
するように、粗化面形成後、塩化パラジウム等の触媒を
付与する際に、触媒が付与されなたかったり、触媒が酸
化されたりすることがない。
As the above-mentioned soluble resin particles, resin particles made of rubber can also be used. Examples of the rubber include polybutadiene rubber, various modified polybutadiene rubbers such as epoxy-modified, urethane-modified, (meth) acrylonitrile-modified, and (meth) acrylonitrile-butadiene rubber containing a carboxyl group. By using these rubbers, the soluble resin particles are easily dissolved in an acid or an oxidizing agent. In other words, when dissolving the soluble resin particles using an acid, an acid other than a strong acid can be dissolved, and when dissolving the soluble resin particles using an oxidizing agent, permanganese having a relatively weak oxidizing power is used. Acid salts can also be dissolved. Even when chromic acid is used, it can be dissolved at a low concentration. Therefore, the acid or the oxidizing agent does not remain on the resin surface, and as described later, when a catalyst such as palladium chloride is applied after forming the roughened surface, the catalyst is not applied or the catalyst is oxidized. Or not.

【0042】上記可溶性無機粒子としては、例えば、ア
ルミニウム化合物、カルシウム化合物、カリウム化合
物、マグネシウム化合物およびケイ素化合物からなる群
より選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げら
れる。
Examples of the soluble inorganic particles include particles made of at least one selected from the group consisting of aluminum compounds, calcium compounds, potassium compounds, magnesium compounds and silicon compounds.

【0043】上記アルミニウム化合物としては、例え
ば、アルミナ、水酸化アルミニウム等が挙げられ、上記
カルシウム化合物としては、例えば、炭酸カルシウム、
水酸化カルシウム等が挙げられ、上記カリウム化合物と
しては、炭酸カリウム等が挙げられ、上記マグネシウム
化合物としては、マグネシア、ドロマイト、塩基性炭酸
マグネシウム等が挙げられ、上記ケイ素化合物として
は、シリカ、ゼオライト等が挙げられる。これらは単独
で用いても良いし、2種以上併用してもよい。
Examples of the aluminum compound include alumina and aluminum hydroxide. Examples of the calcium compound include calcium carbonate and
Examples of the potassium compound include potassium carbonate.Examples of the magnesium compound include magnesia, dolomite, and basic magnesium carbonate.Examples of the silicon compound include silica and zeolite. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

【0044】上記可溶性金属粒子としては、例えば、
銅、ニッケル、鉄、亜鉛、鉛、金、銀、アルミニウム、
マグネシウム、カルシウムおよびケイ素からなる群より
選択される少なくとも一種からなる粒子等が挙げられ
る。また、これらの可溶性金属粒子は、絶縁性を確保す
るために、表層が樹脂等により被覆されていてもよい。
The soluble metal particles include, for example,
Copper, nickel, iron, zinc, lead, gold, silver, aluminum,
Examples include particles made of at least one selected from the group consisting of magnesium, calcium, and silicon. These soluble metal particles may have a surface layer coated with a resin or the like in order to ensure insulation.

【0045】上記可溶性粒子を、2種以上混合して用い
る場合、混合する2種の可溶性粒子の組み合わせとして
は、樹脂粒子と無機粒子との組み合わせが望ましい。両
者とも導電性が低くいため樹脂フィルムの絶縁性を確保
することができるとともに、難溶性樹脂との間で熱膨張
の調整が図りやすく、樹脂フィルムからなる層間樹脂絶
縁層にクラックが発生せず、層間樹脂絶縁層と導体回路
との間で剥離が発生しないからである。
When two or more of the above-mentioned soluble particles are used in combination, the combination of the two types of soluble particles to be mixed is preferably a combination of resin particles and inorganic particles. Both have low conductivity, so that the insulation of the resin film can be ensured, and thermal expansion can be easily adjusted with the poorly soluble resin, and no crack occurs in the interlayer resin insulation layer made of the resin film. This is because peeling does not occur between the interlayer resin insulating layer and the conductor circuit.

【0046】上記難溶性樹脂としては、層間樹脂絶縁層
に酸または酸化剤を用いて粗化面を形成する際に、粗化
面の形状を保持できるものであれば特に限定されず、例
えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、これらの複合体等
が挙げられる。また、これらの樹脂に感光性を付与した
感光性樹脂であってもよい。感光性樹脂を用いることに
より、層間樹脂絶縁層に露光、現像処理を用いてビア用
開口を形成することできる。これらのなかでは、熱硬化
性樹脂を含有しているものが望ましい。それにより、め
っき液あるいは種々の加熱処理によっても粗化面の形状
を保持することができるからである。
The hardly soluble resin is not particularly limited as long as it can maintain the shape of the roughened surface when the roughened surface is formed using an acid or an oxidizing agent in the interlayer resin insulating layer. Examples thereof include thermosetting resins, thermoplastic resins, and composites thereof. Further, a photosensitive resin obtained by imparting photosensitivity to these resins may be used. By using a photosensitive resin, a via opening can be formed in the interlayer resin insulating layer by using exposure and development processes. Among these, those containing a thermosetting resin are desirable. Thereby, the shape of the roughened surface can be maintained even by the plating solution or various heat treatments.

【0047】上記難溶性樹脂の具体例としては、例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリオレフィン
樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独
で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。さらに
は、1分子中に、2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂がより望ましい。前述の粗化面を形成することが
できるばかりでなく、耐熱性等にも優れてるため、ヒー
トサイクル条件下においても、金属層に応力の集中が発
生せず、金属層の剥離などが起きにくいからである。
Specific examples of the hardly soluble resin include, for example, epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin,
Examples thereof include a polyimide resin, a polyphenylene resin, a polyolefin resin, and a fluorine resin. These resins may be used alone or in combination of two or more. Further, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is more desirable. Not only can the above-described roughened surface be formed, but also excellent in heat resistance, etc., even under heat cycle conditions, stress concentration does not occur in the metal layer, and peeling of the metal layer does not easily occur. Because.

【0048】上記エポキシ樹脂としては、例えば、クレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノールF型エポキシ
樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基
を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、
トリグリシジルイソシアヌレート、脂環式エポキシ樹脂
等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、2種
以上を併用してもよい。それにより、耐熱性等に優れる
ものとなる。
Examples of the epoxy resin include cresol novolak type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, alkylphenol novolak type epoxy resin, biphenol F type epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin. Resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxidized product of condensate of phenols and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group,
Triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Thereby, it becomes excellent in heat resistance and the like.

【0049】本発明で用いる樹脂フィルムにおいて、上
記可溶性粒子は、上記難溶性樹脂中にほぼ均一に分散さ
れていることが望ましい。均一な粗さの凹凸を有する粗
化面を形成することができ、樹脂フィルムにビアやスル
ーホールを形成しても、その上に形成する導体回路の金
属層の密着性を確保することができるからである。ま
た、粗化面を形成する表層部だけに可溶性粒子を含有す
る樹脂フィルムを用いてもよい。それによって、樹脂フ
ィルムの表層部以外は酸または酸化剤にさらされること
がないため、層間樹脂絶縁層を介した導体回路間の絶縁
性が確実に保たれる。
In the resin film used in the present invention, it is preferable that the soluble particles are substantially uniformly dispersed in the hardly-soluble resin. A roughened surface having unevenness with a uniform roughness can be formed, and even when a via or a through hole is formed in a resin film, the adhesion of a metal layer of a conductive circuit formed thereon can be secured. Because. Alternatively, a resin film containing soluble particles only in the surface layer forming the roughened surface may be used. Thereby, since the portions other than the surface layer of the resin film are not exposed to the acid or the oxidizing agent, the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer is reliably maintained.

【0050】上記樹脂フィルムにおいて、難溶性樹脂中
に分散している可溶性粒子の配合量は、樹脂フィルムに
対して、3〜40重量%が望ましい。可溶性粒子の配合
量が3重量%未満では、所望の凹凸を有する粗化面を形
成することができない場合があり、40重量%を超える
と、酸または酸化剤を用いて可溶性粒子を溶解した際
に、樹脂フィルムの深部まで溶解してしまい、樹脂フィ
ルムからなる層間樹脂絶縁層を介した導体回路間の絶縁
性を維持できず、短絡の原因となる場合がある。
In the above resin film, the amount of the soluble particles dispersed in the poorly soluble resin is desirably 3 to 40% by weight based on the resin film. If the amount of the soluble particles is less than 3% by weight, it may not be possible to form a roughened surface having desired irregularities. If the amount exceeds 40% by weight, the soluble particles may be dissolved using an acid or an oxidizing agent. In addition, there is a case where the resin film is melted to a deep portion of the resin film and the insulation between the conductor circuits via the interlayer resin insulating layer made of the resin film cannot be maintained, which may cause a short circuit.

【0051】上記樹脂フィルムは、上記可溶性粒子、上
記難溶性樹脂以外に、硬化剤、その他の成分等を含有し
ていることが望ましい。上記硬化剤としては、例えば、
イミダゾール系硬化剤、アミン系硬化剤、グアニジン系
硬化剤、これらの硬化剤のエポキシアダクトやこれらの
硬化剤をマイクロカプセル化したもの、トリフェニルホ
スフィン、テトラフェニルホスフォニウム・テトラフェ
ニルボレート等の有機ホスフィン系化合物等が挙げられ
る。
The resin film desirably contains a curing agent and other components in addition to the soluble particles and the hardly soluble resin. As the curing agent, for example,
Imidazole-based curing agents, amine-based curing agents, guanidine-based curing agents, epoxy adducts of these curing agents and microcapsules of these curing agents, and organic materials such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium, and tetraphenylborate. Phosphine compounds and the like can be mentioned.

【0052】上記硬化剤の含有量は、樹脂フィルムに対
して0.05〜10重量%であることが望ましい。0.
05重量%未満では、樹脂フィルムの硬化が不十分であ
るため、酸や酸化剤が樹脂フィルムに侵入する度合いが
大きくなり、樹脂フィルムの絶縁性が損なわれることが
ある。一方、10重量%を超えると、過剰な硬化剤成分
が樹脂の組成を変性させることがあり、信頼性の低下を
招いたりしてしまうことがある。
The content of the curing agent is desirably 0.05 to 10% by weight based on the resin film. 0.
If the amount is less than 05% by weight, the resin film is insufficiently cured, so that the degree of penetration of the acid or the oxidizing agent into the resin film is increased, and the insulating property of the resin film may be impaired. On the other hand, when the content exceeds 10% by weight, an excessive curing agent component may modify the composition of the resin, which may cause a decrease in reliability.

【0053】上記その他の成分としては、例えば、粗化
面の形成に影響しない無機化合物あるいは樹脂等のフィ
ラーが挙げられる。上記無機化合物としては、例えば、
シリカ、アルミナ、ドロマイト等が挙げられ、上記樹脂
としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアクリル樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリフェニレン樹脂、メラ
ニン樹脂、オレフィン系樹脂等が挙げられる。これらの
フィラーを含有させることによって、熱膨脹係数の整合
や耐熱性、耐薬品性の向上などを図りプリント配線板の
性能を向上させることができる。
Examples of the other components include fillers such as inorganic compounds or resins which do not affect the formation of a roughened surface. As the inorganic compound, for example,
Examples of the resin include silica, alumina, and dolomite. Examples of the resin include a polyimide resin, a polyacryl resin, a polyamideimide resin, a polyphenylene resin, a melanin resin, and an olefin resin. By incorporating these fillers, the performance of the printed wiring board can be improved by matching the thermal expansion coefficient, improving heat resistance and chemical resistance, and the like.

【0054】また、上記樹脂フィルムは、溶剤を含有し
ていてもよい。上記溶剤としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、
酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートやトル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素等が挙げられる。こ
れらは単独で用いてもよいし、2種類以上併用してもよ
い。
The resin film may contain a solvent. As the solvent, for example, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone,
Ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene. These may be used alone or in combination of two or more.

【0055】[0055]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図を参照して説明する。先ず、本発明の第1実施形態に
係るプリント配線板の構成について図7、図8を参照し
て説明する。図7は、プリント配線板10の断面を示
し、図8は、図7に示すプリント配線板10にICチッ
プ90を搭載し、ドータボード94側へ取り付けた状態
を示している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the configuration of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 7 shows a cross section of the printed wiring board 10, and FIG. 8 shows a state where the IC chip 90 is mounted on the printed wiring board 10 shown in FIG.

【0056】図7に示すようにプリント配線板10は、
チップコンデンサ20と、チップコンデンサ20を収容
するコア基板30と、ビルドアップ層80A、80Bを
構成する層間樹脂絶縁層60とからなる。コア基板30
は、コンデンサ20を収容する収容層31と接続層40
とからなる。接続層40には、バイアホール46及び導
体回路48が形成され、層間樹脂絶縁層60には、バイ
アホール66及び導体回路68が形成されている。本実
施形態では、ビルドアップ層が1層の層間樹脂絶縁層6
0からなるが、ビルドアップ層は、複数の層間樹脂絶縁
層からなることができる。
As shown in FIG. 7, the printed wiring board 10
The chip capacitor 20 includes a core substrate 30 that houses the chip capacitor 20, and an interlayer resin insulation layer 60 that forms the build-up layers 80A and 80B. Core substrate 30
Are a housing layer 31 for housing the capacitor 20 and a connection layer 40
Consists of Via holes 46 and conductor circuits 48 are formed in the connection layer 40, and via holes 66 and conductor circuits 68 are formed in the interlayer resin insulation layer 60. In the present embodiment, the build-up layer has one interlayer resin insulation layer 6.
However, the build-up layer may include a plurality of interlayer resin insulation layers.

【0057】図8に示すように上側のビルドアップ層8
0Aのバイアホール66には、ICチップ90のパッド
92S1、92S2、92P1,92P2へ接続するた
めのバンプ76が形成されている。一方、下側のビルド
アップ層80Bのバイアホール66には、ドータボード
94のパッド96S1、96S2、96P1、96P2
へ接続するためのバンプ76が配設されている。コア基
板30にはスルーホール36が形成されている。
As shown in FIG. 8, the upper build-up layer 8
Bumps 76 for connecting to pads 92S1, 92S2, 92P1, and 92P2 of IC chip 90 are formed in via hole 66 of 0A. On the other hand, pads 96S1, 96S2, 96P1, 96P2 of the daughter board 94 are provided in the via holes 66 of the lower buildup layer 80B.
A bump 76 is provided for connection to the substrate. A through hole 36 is formed in the core substrate 30.

【0058】チップコンデンサ20は、図12に示すよ
うに第1電極21と第2電極22と、該第1、第2電極
に挟まれた誘電体23とから成り、該誘電体23には、
第1電極21側に接続された第1導電膜24と、第2電
極22側に接続された第2導電膜25とが複数枚対向配
置されている。第1電極21と第2電極22の表面には
導電性ペースト26が被せてある。
As shown in FIG. 12, the chip capacitor 20 includes a first electrode 21 and a second electrode 22, and a dielectric 23 sandwiched between the first and second electrodes.
A plurality of first conductive films 24 connected to the first electrode 21 side and a plurality of second conductive films 25 connected to the second electrode 22 side are arranged facing each other. A conductive paste 26 covers the surfaces of the first electrode 21 and the second electrode 22.

【0059】ここで、第1電極21及び第2電極22
は、Ni、Pb、又は、Ag金属のメタライズからな
る。導電性ペースト26は、Cu、Ni又はAg等の金
属粒子を含むペーストからなる。ここで、金属粒子の粒
径は、0.1〜10μmが望ましく、とくに1〜5μm
が最適である。導電性ペーストとしては、金属粒子に、
エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリフェニレンスル
フィド(PPS)樹脂を加えた有機系導電性ペーストが
望ましい。この導電性ペースト26の厚みは、1〜30
μmが望ましい。1μm未満では、電極表面の凹凸を無
くすことができず、一方、30μmを越えても、特に効
果が向上しないからである。ここで、5〜20μmの厚
みが最も望ましい。なお、2種類以上の径の異なる粒子
を配合したペーストを用いることもでき、更に、2種類
以上の異なる金属ペーストを被覆することも可能であ
る。
Here, the first electrode 21 and the second electrode 22
Consists of metallization of Ni, Pb or Ag metal. The conductive paste 26 is made of a paste containing metal particles such as Cu, Ni or Ag. Here, the particle size of the metal particles is preferably 0.1 to 10 μm, particularly 1 to 5 μm.
Is optimal. As the conductive paste, metal particles,
An organic conductive paste to which a thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyphenylene sulfide (PPS) resin is added is desirable. The thickness of the conductive paste 26 is 1 to 30.
μm is desirable. If the thickness is less than 1 μm, unevenness on the electrode surface cannot be eliminated, while if it exceeds 30 μm, the effect is not particularly improved. Here, a thickness of 5 to 20 μm is most desirable. Note that a paste containing two or more types of particles having different diameters can be used, and further, two or more types of different metal pastes can be coated.

【0060】第1実施形態では、コンデンサ20のメタ
ライズからなる電極21,22の表面に導電性ペースト
26が塗布されてるため、メタライズからなり表面の抵
抗の高い電極21,22の電気接続性を改善することが
できる。また、メタライズからなる電極21、22は、
表面に凹凸があり、導電性接着剤34で直接接続を取っ
ても、完全に密着することができないが、導電性ペース
ト26により凹凸を無くすことができ、密着性を高め、
接続抵抗を下げることができる。また、メタライズから
なる電極21、22が、樹脂充填材32及びコア基板3
0と導電性ペースト26を介して接触するため、電極2
1、22と樹脂充填材32及びコア基板30との熱膨張
差による応力の発生を抑え、樹脂充填材32の剥離や、
コア基板30でのクラックの発生が無くなる。
In the first embodiment, since the conductive paste 26 is applied to the surfaces of the electrodes 21 and 22 made of metallized capacitor 20, the electrical connection between the electrodes 21 and 22 made of metallized and having high surface resistance is improved. can do. The electrodes 21 and 22 made of metallized
Even if the surface has irregularities and the direct connection is made with the conductive adhesive 34, it cannot be completely adhered. However, the irregularities can be eliminated by the conductive paste 26, and the adhesiveness can be improved.
Connection resistance can be reduced. In addition, the electrodes 21 and 22 made of metallization are used as the resin filler 32 and the core substrate 3.
0 through the conductive paste 26, the electrode 2
The generation of stress due to the difference in thermal expansion between the first and second resin fillers 32 and the core substrate 30 is suppressed.
The occurrence of cracks in the core substrate 30 is eliminated.

【0061】図8中に示すICチップ90の信号用のパ
ッド92S2は、バンプ76−導体回路68−バイアホ
ール66−スルーホール36−バイアホール66−バン
プ76を介して、ドータボード94の信号用のパッド9
6S2に接続されている。一方、ICチップ90の信号
用のパッド92S1は、バンプ76−バイアホール66
−スルーホール36−バイアホール66−バンプ76を
介して、ドータボード94の信号用のパッド96S1に
接続されている。
The signal pad 92S2 of the IC chip 90 shown in FIG. 8 is connected to the signal of the daughter board 94 via the bump 76, the conductor circuit 68, the via hole 66, the through hole 36, the via hole 66, and the bump 76. Pad 9
6S2. On the other hand, the signal pads 92S1 of the IC chip 90 are connected to the bumps 76 and the via holes 66.
It is connected to the signal pad 96S1 of the daughter board 94 via the through hole 36, the via hole 66, and the bump 76.

【0062】ICチップ90の電源用パッド92P1
は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バ
イアホール46を介してチップコンデンサ20の第1電
極21へ接続されている。一方、ドータボード94の電
源用パッド96P1は、バンプ76−バイアホール66
−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46
を介してチップコンデンサ20の第1電極21へ接続さ
れている。
Power supply pad 92P1 of IC chip 90
Is connected to the first electrode 21 of the chip capacitor 20 via the bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P1 of the daughter board 94 is connected to the bump 76-via hole 66.
-Through hole 36-Conductor circuit 48-Via hole 46
To the first electrode 21 of the chip capacitor 20.

【0063】ICチップ90の電源用パッド92P2
は、バンプ76−バイアホール66−導体回路48−バ
イアホール46を介してチップコンデンサ20の第2電
極22へ接続されている。一方、ドータボード94の電
源用パッド96P2は、バンプ76−バイアホール66
−スルーホール36−導体回路48−バイアホール46
を介してチップコンデンサ20の第2電極22へ接続さ
れている。
Power supply pad 92P2 of IC chip 90
Is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20 via a bump 76-via hole 66-conductor circuit 48-via hole 46. On the other hand, the power supply pad 96P2 of the daughter board 94 is connected to the bump 76 and the via hole 66.
-Through hole 36-Conductor circuit 48-Via hole 46
Is connected to the second electrode 22 of the chip capacitor 20 via the.

【0064】本実施形態のプリント配線板10では、I
Cチップ90の直下にチップコンデンサ20を配置する
ため、ICチップとコンデンサとの距離が短くなり、電
力を瞬時的にICチップ側へ供給することが可能にな
る。即ち、ループインダクタンスを決定するループ長さ
を短縮することができる。
In the printed wiring board 10 of this embodiment, I
Since the chip capacitor 20 is disposed immediately below the C chip 90, the distance between the IC chip and the capacitor is shortened, so that power can be instantaneously supplied to the IC chip. That is, the loop length that determines the loop inductance can be reduced.

【0065】更に、チップコンデンサ20とチップコン
デンサ20との間にスルーホール36を設け、チップコ
ンデンサ20を信号線が通過しない。このため、コンデ
ンサを通過させた際に発生する高誘電体によるインピー
ダンス不連続による反射、及び、高誘電体通過による伝
搬遅延を防ぐことができる。
Further, a through hole 36 is provided between the chip capacitors 20 so that a signal line does not pass through the chip capacitor 20. For this reason, it is possible to prevent reflection due to impedance discontinuity due to the high dielectric substance that occurs when passing through the capacitor, and propagation delay due to passage through the high dielectric substance.

【0066】また、プリント配線板の裏面側に接続され
る外部基板(ドータボード)94とコンデンサ20の第
1端子21,第2端子22とは、ICチップ側の接続層
40に設けられたバイアホール46及びコア基板30に
形成されたスルーホール36を介して接続される。即
ち、心材を備え加工が困難な収容層31に通孔を形成し
てコンデンサの端子と外部基板とを直接接続しないた
め、接続信頼性を高めることができる。
The external board (daughter board) 94 connected to the back side of the printed wiring board and the first terminal 21 and the second terminal 22 of the capacitor 20 are connected to via holes provided in the connection layer 40 on the IC chip side. 46 and through a through hole 36 formed in the core substrate 30. That is, since a through hole is formed in the housing layer 31 having the core material and which is difficult to process, and the terminal of the capacitor is not directly connected to the external substrate, the connection reliability can be improved.

【0067】本実施形態では、図12に示すようにチッ
プコンデンサ20のセラミックから成る誘電体23の表
面には粗化層23aが設けられている。このため、セラ
ミックから成るチップコンデンサ20と樹脂からなる接
着層40との密着性が高く、ヒートサイクル試験を実施
しても界面での接着層40の剥離が発生することがな
い。この粗化層23aは、焼成後に、チップコンデンサ
20の表面を研磨することにより、また、焼成前に、粗
化処理を施すことにより形成できる。
In this embodiment, as shown in FIG. 12, a roughened layer 23a is provided on the surface of a dielectric 23 made of ceramic of a chip capacitor 20. Therefore, the adhesion between the chip capacitor 20 made of ceramic and the adhesive layer 40 made of resin is high, and the adhesive layer 40 does not peel off at the interface even when the heat cycle test is performed. The roughened layer 23a can be formed by polishing the surface of the chip capacitor 20 after firing, or by performing a roughening process before firing.

【0068】また、本実施形態では、図7に示すように
コア基板30のキャビティ31aの側面とチップコンデ
ンサ20との間に樹脂充填材32を介在させてある。こ
こで、樹脂充填材32の熱膨張率を、コア基板30及び
接着層40よりも小さく、即ち、セラミックからなるチ
ップコンデンサ20に近いように設定してある。このた
め、ヒートサイクル試験において、コア基板及び接着層
40とチップコンデンサ20との間に熱膨張率差から内
応力が発生しても、コア基板30及び接着層40にクラ
ック、剥離等が生じ難く、高い信頼性を達成できる。ま
た、マイグレーションの発生を防止することも出来る。
In this embodiment, a resin filler 32 is interposed between the side surface of the cavity 31a of the core substrate 30 and the chip capacitor 20, as shown in FIG. Here, the coefficient of thermal expansion of the resin filler 32 is set to be smaller than that of the core substrate 30 and the adhesive layer 40, that is, close to the chip capacitor 20 made of ceramic. For this reason, in the heat cycle test, even if an internal stress is generated due to a difference in the coefficient of thermal expansion between the core substrate and the adhesive layer 40 and the chip capacitor 20, cracks, peeling, and the like hardly occur on the core substrate and the adhesive layer 40. , Can achieve high reliability. Further, occurrence of migration can be prevented.

【0069】ひき続き、図7を参照して上述したプリン
ト配線板の製造方法について、図1〜図6を参照して説
明する。コア基板を形成する樹脂層である接続層を形成
し、その片面に金属層からなる回路パターンを形成させ
る。このため、片面に金属膜41を積層した樹脂フィル
ム40αを用意する(図1(A))。この樹脂フィルム
40αとしては、エポキシ、BT、ポリイミド、オレフ
ィン等の熱硬化性樹脂、又は、熱硬化性樹脂と熱可塑性
樹脂との混合物を用いることができる。ここでは、通孔
の形成が容易なように心材を備えないフィルムが望まし
い。この金属膜41をパターンエッチングして所定の回
路パターン42を形成する(図1(B))。次に、樹脂
フィルム40αの下面の回路パターン42にチップコン
デンサ20を導電性接着材34を介して接着する(図1
(C))。これにより、コンデンサ20との電気接続と
コンデンサ20と回路パターン42との密着性が確保さ
れる。導電性接着材34は、半田(Sn/Pb、Sn/
Sb、Sn/Ag、Sn/Ag/Cu)、導電性ペース
ト、あるいは樹脂に金属粒子が含浸されたもの等の導電
性と接着性を兼ね備えるものを用いることができる。導
電性接着剤とコンデンサで生じる空隙は、樹脂によって
充填させたほうがよい。
Subsequently, a method of manufacturing the printed wiring board described above with reference to FIG. 7 will be described with reference to FIGS. A connection layer, which is a resin layer forming the core substrate, is formed, and a circuit pattern made of a metal layer is formed on one surface thereof. Therefore, a resin film 40α having a metal film 41 laminated on one side is prepared (FIG. 1A). As the resin film 40α, a thermosetting resin such as epoxy, BT, polyimide, and olefin, or a mixture of a thermosetting resin and a thermoplastic resin can be used. Here, a film that does not include a core material to facilitate formation of through holes is desirable. This metal film 41 is pattern-etched to form a predetermined circuit pattern 42 (FIG. 1B). Next, the chip capacitor 20 is bonded to the circuit pattern 42 on the lower surface of the resin film 40α via the conductive adhesive 34 (FIG. 1).
(C)). Thereby, the electrical connection with the capacitor 20 and the adhesion between the capacitor 20 and the circuit pattern 42 are ensured. The conductive adhesive 34 is made of solder (Sn / Pb, Sn / Pb).
Sb, Sn / Ag, Sn / Ag / Cu), a conductive paste, or a resin having both conductivity and adhesiveness, such as resin impregnated with metal particles, can be used. It is better to fill the voids generated by the conductive adhesive and the capacitor with a resin.

【0070】一方、チップコンデンサを収容するキャビ
ティ31aを穿設した収容層用積層板31αを用意する
(図1(C))。キャビティ31aは、ザグリにより形
成させる。ザグリ以外にも通孔を形成したプリプレグと
通孔を形成していないプリプレグとの接合、又は、射出
成形によりキャビティを有する積層板を形成できる。こ
の収容層用積層板31αとしては、エポキシ樹脂をガラ
スクロス等の心材に含浸させたプリプレグを積層してな
る積層板を用いることができる。エポキシ以外でも、B
T、フェノール樹脂あるいはガラスクロスなどの強化材
を含有しているもの等、一般的にプリント配線板で使用
されるものを用い得る。なお、ガラスクロスなどの心材
を有しない樹脂基板を用いることもできる。しかし、コ
ア基板をセラミックやAINなどの基板を用いることは
できなかった。該基板は外形加工性が悪く、コンデンサ
を収容することができないことがあり、樹脂で充填させ
ても空隙が生じてしまうためである。樹脂基板は融点が
300℃以下であるため、350℃を越える温度を加え
ると溶解、軟化もくしは炭化してしまう。
On the other hand, an accommodation layer laminate 31α having a cavity 31a for accommodating a chip capacitor is prepared (FIG. 1C). The cavity 31a is formed by a counterbore. A laminate having a cavity can be formed by joining a prepreg having a through hole other than a counterbore and a prepreg having no through hole, or by injection molding. As the accommodation layer laminate 31α, a laminate formed by laminating prepregs in which a core material such as a glass cloth is impregnated with an epoxy resin can be used. Other than epoxy, B
Those generally used in printed wiring boards, such as those containing a reinforcing material such as T, phenolic resin or glass cloth, may be used. Note that a resin substrate having no core material such as a glass cloth can also be used. However, a substrate made of ceramic, AIN, or the like cannot be used as the core substrate. This is because the substrate has poor external formability, and may not be able to accommodate a capacitor, and may cause voids even when filled with resin. Since the melting point of the resin substrate is 300 ° C. or less, if a temperature exceeding 350 ° C. is applied, the resin substrate is melted, softened or carbonized.

【0071】そして、チップコンデンサ20を取り付け
た樹脂フィルム40α、コンデンサ収容部を有するコア
基板用樹脂積層板30α、更に、もう1枚の樹脂フィル
ム40αを積層して、両面からプレスして表面を平坦に
する(図1(D))。本実施形態では、コンデンサ20
を収容した収容層31と接続層40とを、両面に圧力を
加えて張り合わせコア基板30を形成するため、表面が
平坦化される。これにより、後述する工程で、高い信頼
性を備えるように層間樹脂絶縁層60及び導体回路68
を積層することができる。なお、この際に、コンデンサ
20と樹脂フィルム40αとの間の隙間は、樹脂フィル
ム40αからしみ出る樹脂により充填される。ここで、
この隙間が十分に充填し得ない際には、図2(A)に示
すように樹脂フィルム40α側の回路パターン42間
に、コア基板よりも熱膨張率の小さな充填材32αを配
設し、図2(D)に示すように充填することも、また、
図2(C)に示すように、コンデンサ20側に充填材3
2αを配置し、図2(D)に示すように充填することも
可能である。
Then, a resin film 40α on which the chip capacitor 20 is mounted, a resin laminate 30α for a core substrate having a capacitor accommodating portion, and another resin film 40α are laminated, and pressed from both sides to flatten the surface. (FIG. 1D). In the present embodiment, the capacitor 20
The housing layer 31 and the connection layer 40 that housed therein are bonded to each other by applying pressure to both surfaces to form the core substrate 30, so that the surface is flattened. Thereby, in a process described later, the interlayer resin insulating layer 60 and the conductor circuit 68 are provided so as to have high reliability.
Can be laminated. At this time, the gap between the capacitor 20 and the resin film 40α is filled with the resin that seeps out of the resin film 40α. here,
When the gap cannot be sufficiently filled, a filler 32α having a smaller coefficient of thermal expansion than the core substrate is disposed between the circuit patterns 42 on the resin film 40α side as shown in FIG. Filling as shown in FIG. 2 (D)
As shown in FIG. 2 (C), the filler 3
2α can be arranged and filled as shown in FIG. 2 (D).

【0072】その後、加熱して硬化させることで、チッ
プコンデンサ20を収容する収容層31と接続層40と
からなるコア基板30を形成する(図3(A))。な
お、コア基板のキャビティ31a内に、コア基板よりも
熱膨張率の小さな樹脂充填剤32を充填して、気密性を
高めることが好適である。また、ここでは、樹脂フィル
ム40αには、金属層のないものを用いて積層させてい
るが、片面に金属層を配設した樹脂フィルム(RCC)
を用いてもよい。即ち、両面板、片面板、金属膜を有し
ない樹脂板、樹脂フィルムを用いることができる。
Thereafter, by heating and curing, the core substrate 30 including the housing layer 31 for housing the chip capacitor 20 and the connection layer 40 is formed (FIG. 3A). It is preferable that the cavity 31a of the core substrate is filled with a resin filler 32 having a smaller coefficient of thermal expansion than that of the core substrate to improve airtightness. Also, here, the resin film 40α is laminated using a material without a metal layer, but a resin film (RCC) having a metal layer disposed on one side is laminated.
May be used. That is, a double-sided plate, a single-sided plate, a resin plate having no metal film, and a resin film can be used.

【0073】本実施形態では、コア基板30を形成する
接続層40と収容層31との間に、導電性接着剤34と
接続される回路パターン42を設けてあるため、当該回
路パターン42を介してコンデンサ20へ確実に接続を
取ることができる。また、接続層40と収容層31との
間に、金属層からなる回路パターン42を配設すること
で、コア基板30の反りを防ぐことができる。
In the present embodiment, since the circuit pattern 42 connected to the conductive adhesive 34 is provided between the connection layer 40 forming the core substrate 30 and the encasing layer 31, the circuit pattern 42 is interposed therebetween. Thus, the connection to the capacitor 20 can be reliably obtained. In addition, by arranging the circuit pattern 42 made of a metal layer between the connection layer 40 and the housing layer 31, warpage of the core substrate 30 can be prevented.

【0074】次に、CO2レーザ、YAGレーザ、エキ
シマレーザあるいはUVレーザにより上面側の接続層4
0にバイアホールとなる非貫通孔43を穿設する(図3
(B))。場合によっては、非貫通孔の位置に対応させ
て通孔の穿設されたエリアマスクを載置してレーザでエ
リア加工を行ってもよい。更に、バイアホールの大きさ
や径が異なる物を形成する場合には、混合のレーザによ
って形成させてもよい。
Next, the connection layer 4 on the upper surface side is irradiated with a CO2 laser, a YAG laser, an excimer laser or a UV laser.
In FIG. 3, a non-through hole 43 serving as a via hole is formed (FIG. 3).
(B)). In some cases, an area mask having a through hole may be placed in correspondence with the position of the non-through hole to perform the area processing with a laser. Further, in the case where via holes having different sizes and diameters are formed, they may be formed by a mixed laser.

【0075】また、必要に応じて、バイアホール内のス
ミアを酸素、窒素などの気体プラズマ処理、コロナ処理
などのドライ処理によって、あるいは、過マンガン酸な
どの酸化剤による浸積による処理によって行ってもよ
い。引き続き、接続層40、収容層31及び接続層40
からなるコア基板30に対して、ドリル、又は、レーザ
でスルーホール用の通孔33を50〜500μmで穿設
する(図3(C))。
If necessary, the smear in the via hole is removed by a dry treatment such as a gas plasma treatment with oxygen or nitrogen, a corona treatment, or a treatment by immersion with an oxidizing agent such as permanganic acid. Is also good. Subsequently, the connection layer 40, the accommodation layer 31, and the connection layer 40
A through hole 33 for a through hole is formed in the core substrate 30 of 50 to 500 μm with a drill or a laser (FIG. 3C).

【0076】コア基板30の接続層40の表層、バイア
ホール用非貫通孔43及びスルーホール用貫通孔33内
に金属膜を形成させる。このために、接続層40の表面
にパラジウム触媒を付与してから、無電解めっき液にコ
ア基板30を浸漬し、均一に無電解銅めっき膜44を析
出させる(図4(A))。ここでは、無電解めっきを用
いているが、スパッタにより、銅、ニッケル等の金属層
を形成することも可能である。スパッタはコスト的には
不利であるが、樹脂層との密着性を改善できる利点があ
る。また、場合によってはスパッタで形成した後に、無
電解めっき膜を形成させてもよい。樹脂によっては、触
媒付与が安定しないものには有効であるし、無電解めっ
き膜と形成させた方が電解めっきの析出性が安定するか
らである。金属膜44は、0.1〜3mmの範囲で形成す
ることが望ましい。
A metal film is formed in the surface layer of the connection layer 40 of the core substrate 30, the non-through holes 43 for via holes, and the through holes 33 for through holes. To this end, after applying a palladium catalyst to the surface of the connection layer 40, the core substrate 30 is immersed in an electroless plating solution to uniformly deposit an electroless copper plating film 44 (FIG. 4A). Here, electroless plating is used, but a metal layer of copper, nickel, or the like can be formed by sputtering. Sputtering is disadvantageous in cost, but has the advantage of improving the adhesion to the resin layer. In some cases, the electroless plating film may be formed after the formation by sputtering. This is because, depending on the resin, the catalyst application is not stable, and the formation of an electroless plating film provides more stable deposition of electrolytic plating. It is desirable that the metal film 44 be formed in a range of 0.1 to 3 mm.

【0077】その後、金属膜44の表面に感光性ドライ
フィルムを張り付け、マスクを載置して、露光・現像処
理し、所定パターンのレジスト51を形成する。そし
て、電解めっき液にコア基板30を浸漬し、無電解めっ
き膜44を介して電流を流し電解銅めっき膜45を析出
させる(図4(B))。レジスト50及びレジスト51
を5%のKOH で剥離した後、レジスト51下の無電解め
っき膜44を硫酸と過酸化水素混合液でエッチングして
除去し、接続層40にバイアホール46及び導体回路4
8を、一方、コア基板30の通孔33にスルーホール3
6を形成する(図4(C))。
Thereafter, a photosensitive dry film is stuck on the surface of the metal film 44, a mask is placed, exposure and development are performed, and a resist 51 having a predetermined pattern is formed. Then, the core substrate 30 is immersed in the electrolytic plating solution, and a current is passed through the electroless plating film 44 to deposit the electrolytic copper plating film 45 (FIG. 4B). Resist 50 and resist 51
Is removed with 5% KOH, the electroless plating film 44 under the resist 51 is removed by etching with a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide, and the via hole 46 and the conductive circuit 4 are formed in the connection layer 40.
8 to the through hole 33 of the core substrate 30.
6 (FIG. 4C).

【0078】導体回路48、バイアホール46及びスル
ーホール36の導体層の表面に粗化層を設ける。酸化
(黒化)−還元処理、Cu−Ni−Pからなる合金など
の無電解めっき膜、あるいは、第二銅錯体と有機酸塩か
らなるエッチング液などのエッチング処理によって粗化
層を施す。粗化層はRa(平均粗度高さ)=0.01〜
5μmである。特に望ましいのは、0.5〜3μmの範
囲である。なお、ここでは粗化層を形成しているが、粗
化層を形成せず後述するように直接樹脂を充填、樹脂フ
ィルムを貼り付けることも可能である。
A roughened layer is provided on the surface of the conductor layer of the conductor circuit 48, the via hole 46, and the through hole 36. The roughened layer is formed by an oxidation (blackening) -reduction treatment, an electroless plating film of an alloy made of Cu-Ni-P, or an etching treatment of an etching solution containing a cupric complex and an organic acid salt. The roughened layer has Ra (average roughness height) = 0.01 to
5 μm. Particularly desirable is a range of 0.5 to 3 μm. Although the roughened layer is formed here, it is also possible to directly fill the resin and attach a resin film as described later without forming the roughened layer.

【0079】引き続き、スルーホール36内に樹脂層3
8を充填させる。樹脂層としては、エポキシ樹脂等の樹
脂を主成分として導電性のない樹脂、銅などの金属ペー
ストを含有させた導電性樹脂のどちらでもよい。この場
合は、熱硬化性エポキシ樹脂に、シリカなどの熱膨張率
を整合させるために含有させたものを樹脂充填材として
充填させる。スルーホール36への樹脂38の充填後、
樹脂フィルム60αを貼り付ける(図5(A))。な
お、樹脂フィルムを貼り付ける代わりに、樹脂を塗布す
ることも可能である。樹脂フィルム60αを貼り付けた
後、フォト、レーザにより、絶縁層60αに開口径20
〜250μmであるバイアホール63を形成してから熱
硬化させる(図5(B))。その後、コア基板に触媒付
与し、無電解めっきへ浸積して、層間樹脂絶縁層60の
表面に均一に厚さ0.9μmの無電解めっき膜64を析
出させ、その後、所定のパターンをレジスト70で形成
させる(図5(C))。
Subsequently, the resin layer 3 is formed in the through hole 36.
8 is filled. As the resin layer, either a resin having no conductivity such as a resin such as an epoxy resin as a main component or a conductive resin containing a metal paste such as copper may be used. In this case, the thermosetting epoxy resin is filled with a material such as silica which is included for matching the coefficient of thermal expansion as a resin filler. After filling the through hole 36 with the resin 38,
The resin film 60α is attached (FIG. 5A). Note that a resin may be applied instead of attaching a resin film. After attaching the resin film 60α, the opening diameter 20 is formed in the insulating layer 60α by photo and laser.
A via hole 63 having a thickness of about 250 μm is formed and then thermally cured (FIG. 5B). Thereafter, a catalyst is applied to the core substrate, and the core substrate is immersed in the electroless plating to uniformly deposit an electroless plating film 64 having a thickness of 0.9 μm on the surface of the interlayer resin insulating layer 60. 70 (FIG. 5C).

【0080】電解めっき液に浸漬し、無電解めっき膜6
4を介して電流を流してレジスト70の非形成部に電解
銅めっき膜65を形成する(図6(A))。レジスト7
0を剥離除去した後、めっきレジスト下の無電解めっき
膜64を溶解除去し、無電解めっき膜64及び電解銅め
っき膜65からなるの導体回路68及びバイアホール6
6を得る(図6(B))。
Immersion in the electrolytic plating solution, and the electroless plating film 6
An electrolytic copper plating film 65 is formed on the portion where the resist 70 is not formed by passing a current through the substrate 4 (FIG. 6A). Resist 7
Then, the electroless plating film 64 under the plating resist is dissolved and removed, and the conductor circuit 68 including the electroless plating film 64 and the electrolytic copper plating film 65 and the via hole 6 are removed.
6 is obtained (FIG. 6B).

【0081】第2銅錯体と有機酸とを含有するエッチン
グ液により、導体回路68及びバイアホール66の表面
に粗化面(図示せず)を形成した。さらにその表面にSn
置換を行ってもよい。
A roughened surface (not shown) was formed on the surfaces of the conductor circuit 68 and the via hole 66 by using an etching solution containing a second copper complex and an organic acid. In addition, Sn on the surface
Substitutions may be made.

【0082】上述したプリント配線板にはんだバンプを
形成する。基板の両面に、ソルダーレジスト組成物を塗
布し、乾燥処理を行った後、円パターン(マスクパター
ン)が描画されたフォトマスクフィルム(図示せず)を
密着させて載置し、紫外線で露光し、現像処理する。そ
してさらに、加熱処理し、はんだパッド部分(バイアホ
ールとそのランド部分を含む)の開口部72aを有する
ソルダーレジスト層(厚み20μm)72を形成する(図
6(C))。
A solder bump is formed on the above-mentioned printed wiring board. After applying a solder resist composition to both sides of the substrate and performing a drying process, a photomask film (not shown) on which a circular pattern (mask pattern) is drawn is placed in close contact with the substrate, and is exposed to ultraviolet light. And developing. Further, a heat treatment is further performed to form a solder resist layer (thickness: 20 μm) 72 having an opening 72a in a solder pad portion (including a via hole and its land portion) (FIG. 6C).

【0083】そして、ソルダーレジスト層72の開口部
72aに、半田ペーストを充填する(図示せず)。その
後、開口部72aに充填された半田を 200℃でリフロー
することにより、半田バンプ(半田体)76を形成する
(図7参照)。なお、耐食性を向上させるため、開口部
72aにNi、Au、Ag、Pdなどの金属層をめっ
き、スパッタにより形成することも可能である。
Then, the solder paste is filled into the openings 72a of the solder resist layer 72 (not shown). Thereafter, the solder filled in the opening 72a is reflowed at 200 ° C. to form a solder bump (solder body) 76 (see FIG. 7). In order to improve corrosion resistance, a metal layer such as Ni, Au, Ag, or Pd may be formed in the opening 72a by plating or sputtering.

【0084】次に、該プリント配線板へのICチップの
載置及び、ドータボードへの取り付けについて、図8を
参照して説明する。完成したプリント配線板10の半田
バンプ76にICチップ90の半田パッド92S1、9
2S2、92P1、92P2が対応するように、ICチ
ップ90を載置し、リフローを行うことで、ICチップ
90の取り付けを行う。同様に、プリント配線板10の
半田バンプ76にドータボード94のパッド96S1、
96S2、96P1、96P2をリフローすることで、
ドータボード94へプリント配線板10を取り付ける。
Next, mounting of the IC chip on the printed wiring board and mounting on the daughter board will be described with reference to FIG. Solder pads 92S1, 9 of IC chip 90 are applied to solder bumps 76 of completed printed wiring board 10.
The IC chip 90 is mounted so that the 2S2, 92P1, and 92P2 correspond to each other, and the IC chip 90 is attached by performing reflow. Similarly, the pads 96S1 of the daughter board 94 are attached to the solder bumps 76 of the printed wiring board 10,
By reflowing 96S2, 96P1, 96P2,
The printed wiring board 10 is attached to the daughter board 94.

【0085】引き続き、本発明の第1実施形態の第1改
変例に係るプリント配線板について、図9を参照して説
明する。第1改変例のプリント配線板は、上述した第1
実施形態とほぼ同様である。但し、この第1改変例のプ
リント配線板では、導電性ピン84が配設され、該導電
性ピン84を介してドータボードとの接続を取るように
形成されている。また、図1(A)を参照して上述した
実施形態では、片面に金属膜41を積層した樹脂フィル
ム40αいたが、この第1改変例では、両面に金属膜を
積層した樹脂フィルムを用いてICチップ90側の層間
樹脂絶縁層60を製造してある。即ち、上面の金属膜を
パターンエッチングして回路パターン42を形成してあ
る。更に、該回路パターン42の開口42aをコンフォ
マルマスクとして用い、レーザにより非貫通孔43を穿
設しバイアホール46を形成してある。
Next, a printed wiring board according to a first modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the first modified example is the first modified example described above.
This is almost the same as the embodiment. However, in the printed wiring board of the first modified example, the conductive pins 84 are provided, and are formed so as to be connected to the daughter board via the conductive pins 84. In the embodiment described above with reference to FIG. 1A, the resin film 40α in which the metal film 41 is laminated on one side is used. However, in the first modified example, the resin film in which the metal film is laminated on both sides is used. The interlayer resin insulation layer 60 on the IC chip 90 side is manufactured. That is, the circuit pattern 42 is formed by pattern-etching the metal film on the upper surface. Further, using the opening 42a of the circuit pattern 42 as a conformal mask, a non-through hole 43 is formed by laser to form a via hole 46.

【0086】図12(B)に第1改変例に係るチップコ
ンデンサ20の断面を示す。第1実施形態では、コンデ
ンサの表面に粗化処理を施し、樹脂との密着性を高めた
が、改変例では、この代わりに、ポリイミド膜23bを
形成しておくことで、表面濡れ性を改善してある。ポリ
イミド膜の代わりに、コンデンサの表面にシランカップ
リング処理を施すことも可能である。
FIG. 12B shows a cross section of a chip capacitor 20 according to a first modification. In the first embodiment, the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment to improve the adhesiveness with the resin, but in a modified example, a polyimide film 23b is formed instead to improve the surface wettability. I have. Instead of the polyimide film, the surface of the capacitor may be subjected to a silane coupling treatment.

【0087】また、第1改変例では、導電性ペースト2
6の上に、無電解銅めっき膜28a及び電解銅めっき膜
28bからなる複合金属膜28を形成されている。複合
金属膜28の厚みは、0.1〜10μmが望ましく、1
〜5μmが最適である。複合金属膜の代わりに、1層の
金属膜を形成することも可能である。
In the first modification, the conductive paste 2
6, a composite metal film 28 composed of an electroless copper plating film 28a and an electrolytic copper plating film 28b is formed. The thickness of the composite metal film 28 is desirably 0.1 to 10 μm.
55 μm is optimal. Instead of a composite metal film, it is also possible to form a single-layer metal film.

【0088】第1改変例では、コンデンサ20の電極2
1,22の導電性ペースト26上に金属層28を設けて
あるため、電極21、22でのマイグレーションの発生
を防止することができ、また、接続抵抗を更に低減する
ことができる。メタライズからなる電極21、22は、
表面に凹凸があり、導電性接着剤34で直接接続を取っ
ても、完全に密着することができないが、導電性ペース
ト26を塗布し、更に、金属層28を設けることで凹凸
を完全に無くすことができ、密着性を高め、接続抵抗を
下げることができる。
In the first modification, the electrode 2 of the capacitor 20
Since the metal layer 28 is provided on the conductive pastes 1 and 22, the occurrence of migration at the electrodes 21 and 22 can be prevented, and the connection resistance can be further reduced. The electrodes 21 and 22 made of metallized
Even if the surface has irregularities and the direct connection is made with the conductive adhesive 34, it cannot be completely adhered. However, by applying the conductive paste 26 and further providing the metal layer 28, the irregularities are completely eliminated. This improves the adhesion and lowers the connection resistance.

【0089】また、上述した第1実施形態では、コア基
板30に収容されるチップコンデンサ20のみを備えて
いたが、第1改変例では、表面及び裏面に大容量のチッ
プコンデンサ86が実装されている。
Further, in the above-described first embodiment, only the chip capacitor 20 housed in the core substrate 30 is provided, but in the first modified example, a large-capacity chip capacitor 86 is mounted on the front and back surfaces. I have.

【0090】ICチップは、瞬時的に大電力を消費して
複雑な演算処理を行う。ここで、ICチップ側に大電力
を供給するために、本実施形態では、プリント配線板に
電源用のチップコンデンサ20及びチップコンデンサ8
6を備えてある。このチップコンデンサによる効果につ
いて、図13を参照して説明する。
The IC chip instantaneously consumes large power and performs complicated arithmetic processing. Here, in order to supply a large power to the IC chip side, in the present embodiment, the chip capacitor 20 and the chip capacitor 8 for power supply are mounted on the printed wiring board.
6 is provided. The effect of this chip capacitor will be described with reference to FIG.

【0091】図13は、縦軸にICチップへ供給される
電圧を、横軸に時間を取ってある。ここで、二点鎖線C
は、電源用コンデンサを備えないプリント配線板の電圧
変動を示している。電源用コンデンサを備えない場合に
は、大きく電圧が減衰する。破線Aは、表面にチップコ
ンデンサを実装したプリント配線板の電圧変動を示して
いる。上記二点鎖線Cと比較して電圧は大きく落ち込ま
ないが、ループ長さが長くなるので、律速の電源供給が
十分に行えていない。即ち、電力の供給開始時に電圧が
降下している。また、二点鎖線Bは、図7を参照して上
述したチップコンデンサを内蔵するプリント配線板の電
圧降下を示している。ループ長さは短縮できているが、
コア基板30に容量の大きなチップコンデンサを収容す
ることができないため、電圧が変動している。ここで、
実線Eは、図9を参照して上述したコア基板内のチップ
コンデンサ20を、また表面に大容量のチップコンデン
サ86を実装する第1改変例のプリント配線板の電圧変
動を示している。ICチップの近傍にチップコンデンサ
20を、また、大容量(及び相対的に大きなインダクタ
ンス)のチップコンデンサ86を備えることで、電圧変
動を最小に押さえている。
FIG. 13 shows the voltage supplied to the IC chip on the vertical axis and the time on the horizontal axis. Here, the two-dot chain line C
Indicates voltage fluctuation of a printed wiring board without a power supply capacitor. When the power supply capacitor is not provided, the voltage greatly decreases. A broken line A indicates a voltage fluctuation of a printed wiring board having a chip capacitor mounted on the surface. Although the voltage does not drop much as compared with the two-dot chain line C, the rate-limiting power supply cannot be performed sufficiently because the loop length is long. That is, the voltage drops at the start of power supply. The two-dot chain line B indicates the voltage drop of the printed wiring board incorporating the chip capacitor described above with reference to FIG. Although the loop length has been shortened,
Since a large-capacity chip capacitor cannot be accommodated in the core substrate 30, the voltage fluctuates. here,
A solid line E indicates a voltage variation of the printed wiring board of the first modification in which the chip capacitor 20 in the core substrate described above with reference to FIG. 9 and the large-capacity chip capacitor 86 are mounted on the surface. By providing the chip capacitor 20 near the IC chip and the chip capacitor 86 having a large capacity (and a relatively large inductance), voltage fluctuation is minimized.

【0092】引き続き、本発明の第1実施形態の第2改
変例に係るプリント配線板について、図10を参照して
説明する。第2改変例のプリント配線板は、上述した第
1実施形態とほぼ同様である。但し、この第2改変例の
プリント配線板では、チップコンデンサ20の第1電極
21と第2電極22とが、ICチップ90の電源用パッ
ド92P1、92P2とバンプ76を介して直接接続さ
れている。この第2改変例では、ICチップとチップコ
ンデンサとの距離を更に短縮させることができる。
Next, a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the second modified example is almost the same as the above-described first embodiment. However, in the printed wiring board of the second modification, the first electrode 21 and the second electrode 22 of the chip capacitor 20 are directly connected to the power supply pads 92P1 and 92P2 of the IC chip 90 via the bumps 76. . In the second modification, the distance between the IC chip and the chip capacitor can be further reduced.

【0093】次に、本発明の第1実施形態の第3改変例
に係るプリント配線板について、図11を参照して説明
する。第3改変例のプリント配線板は、上述した第1実
施形態とほぼ同様である。但し、この第3改変例のプリ
ント配線板では、収容層31と接続層40との間に設け
られた回路パターン42により、コンデンサ20の第1
電極21及び第2電極22とスルーホール36とが直接
接続されている。この第3改変例では、コンデンサ20
の第1電極21及び第2電極22と、ドータボードとの
配線長を短縮させることができる。
Next, a printed wiring board according to a third modification of the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The printed wiring board of the third modified example is substantially the same as the above-described first embodiment. However, in the printed wiring board of the third modification, the first pattern of the capacitor 20 is formed by the circuit pattern 42 provided between the housing layer 31 and the connection layer 40.
The electrode 21 and the second electrode 22 are directly connected to the through hole 36. In this third modification, the capacitor 20
The wiring length between the first electrode 21 and the second electrode 22 and the daughter board can be reduced.

【0094】引き続き、本発明の第2実施形態に係るプ
リント配線板の構成について図14を参照して説明す
る。この第2実施形態のプリント配線板の構成は、上述
した第1実施形態とほぼ同様である。但し、コア基板3
0への収容されるチップコンデンサ20が異なる。図1
4は、チップコンデンサの平面図を示している。図14
(A)は、多数個取り用の裁断前のチップコンデンサを
示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示している。上述し
た第1実施形態のプリント配線板では、図14(B)に
平面図を示すようにチップコンデンサの側縁に第1電極
21及び第2電極22を配設してある。図14(C)
は、第2実施形態の多数個取り用の裁断前のチップコン
デンサを示し、図中で一点鎖線は、裁断線を示してい
る。第2実施形態のプリント配線板では、図14(D)
に平面図を示すようにチップコンデンサの側縁の内側に
第1電極21及び第2電極22を配設してある。なお、
電極には、第1実施形態と同様に導電性ペースト、或い
は、第1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペースト
及び複合金属層が形成されている。
Next, the configuration of the printed wiring board according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the printed wiring board of the second embodiment is substantially the same as that of the above-described first embodiment. However, the core substrate 3
The chip capacitors 20 housed to 0 are different. Figure 1
4 shows a plan view of the chip capacitor. FIG.
(A) shows a chip capacitor for multi-piece cutting before cutting, and a dashed line in the drawing shows a cutting line. In the printed wiring board of the first embodiment described above, the first electrode 21 and the second electrode 22 are provided on the side edges of the chip capacitor as shown in the plan view of FIG. FIG. 14 (C)
Shows a chip capacitor for multi-cavity before cutting according to the second embodiment, and a dashed line in the drawing indicates a cutting line. In the printed wiring board of the second embodiment, FIG.
As shown in the plan view, a first electrode 21 and a second electrode 22 are provided inside the side edge of the chip capacitor. In addition,
A conductive paste is formed on the electrode as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0095】この第2実施形態のプリント配線板では、
外縁の内側に電極の形成されたチップコンデンサ20を
用いるため、容量の大きなチップコンデンサを用いるこ
とができる。
In the printed wiring board of the second embodiment,
Since the chip capacitor 20 having the electrode formed inside the outer edge is used, a large-capacity chip capacitor can be used.

【0096】引き続き、第2実施形態の第1改変例に係
るプリント配線板図15を参照して説明する。図15
は、第1改変例に係るプリント配線板のコア基板に収容
されるチップコンデンサ20の平面図を示している。上
述した第1実施形態では、複数個の小容量のチップコン
デンサをコア基板に収容したが、第1改変例では、大容
量の大判のチップコンデンサ20をコア基板に収容して
ある。ここで、チップコンデンサ20は、第1電極21
と第2電極22と、誘電体23と、第1電極21へ接続
された第1導電膜24と、第2電極22側に接続された
第2導電膜25と、第1導電膜24及び第2導電膜25
へ接続されていないチップコンデンサの上下面の接続用
の電極27とから成る。この電極27を介してICチッ
プ側とドータボード側とが接続されている。
Next, a printed wiring board according to a first modification of the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG.
Shows a plan view of the chip capacitor 20 housed in the core substrate of the printed wiring board according to the first modification. In the above-described first embodiment, a plurality of small-capacity chip capacitors are housed in the core substrate. In the first modification, a large-capacity large-format chip capacitor 20 is housed in the core substrate. Here, the chip capacitor 20 is connected to the first electrode 21.
, The second electrode 22, the dielectric 23, the first conductive film 24 connected to the first electrode 21, the second conductive film 25 connected to the second electrode 22, the first conductive film 24 and the first conductive film 24. 2 conductive film 25
And the connection electrodes 27 on the upper and lower surfaces of the chip capacitor not connected to the chip capacitor. The IC chip side and the daughter board side are connected via the electrodes 27.

【0097】この第1改変例のプリント配線板では、大
判のチップコンデンサ20を用いるため、容量の大きな
チップコンデンサを用いることができる。また、大判の
チップコンデンサ20を用いるため、ヒートサイクルを
繰り返してもプリント配線板に反りが発生することがな
い。なお、電極には、第1実施形態と同様に導電性ペー
スト、或いは、第1実施形態の第1改変例と同様に導電
性ペースト及び複合金属層が形成されている。
In the printed wiring board of the first modified example, since the large-sized chip capacitor 20 is used, a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated. Note that a conductive paste is formed on the electrode as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0098】図16を参照して第2改変例に係るプリン
ト配線板について説明する。図16(A)は、多数個取
り用の裁断前のチップコンデンサを示し、図中で一点鎖
線は、通常の裁断線を示し、図16(B)は、チップコ
ンデンサの平面図を示している。図16(B)に示すよ
うに、この第2改変例では、多数個取り用のチップコン
デンサを複数個(図中の例では3枚)連結させて大判で
用いている。
A printed wiring board according to a second modification will be described with reference to FIG. FIG. 16A shows a chip capacitor before cutting for multi-cavity production, in which a dashed line indicates a normal cutting line, and FIG. 16B shows a plan view of the chip capacitor. . As shown in FIG. 16B, in the second modification, a plurality of (three in the example in the figure) multi-chip chip capacitors are connected and used in a large format.

【0099】この第2改変例では、大判のチップコンデ
ンサ20を用いるため、容量の大きなチップコンデンサ
を用いることができる。また、大判のチップコンデンサ
20を用いるため、ヒートサイクルを繰り返してもプリ
ント配線板に反りが発生することがない。なお、電極に
は、第1実施形態と同様に導電性ペースト、或いは、第
1実施形態の第1改変例と同様に導電性ペースト及び複
合金属層が形成されている。
In the second modification, a large-sized chip capacitor 20 is used, so that a large-capacity chip capacitor can be used. Further, since the large chip capacitor 20 is used, the printed wiring board does not warp even if the heat cycle is repeated. Note that a conductive paste is formed on the electrode as in the first embodiment, or a conductive paste and a composite metal layer are formed as in the first modification of the first embodiment.

【0100】上述した第2実施形態では、チップコンデ
ンサをプリント配線板に内蔵させたが、チップコンデン
サの代わりに、セラミック板に導電体膜を設けてなる板
状のコンデンサを用いることも可能である。
In the above-described second embodiment, the chip capacitor is built in the printed wiring board. However, instead of the chip capacitor, it is also possible to use a plate-like capacitor in which a conductor film is provided on a ceramic plate. .

【0101】ここで、第1実施形態のプリント配線板に
ついて、コア基板内に埋め込んだチップコンデンサ20
のインダクタンスと、プリント配線板の裏面(ドータボ
ード側の面)に実装したチップコンデンサのインダクタ
ンスとを測定した値を示す。 コンデンサ単体の場合 埋め込み形 137pH 裏面実装形 287pH コンデンサを8個並列に接続した場合 埋め込み形 60pH 裏面実装形 72pH 以上のように、コンデンサを単体で用いても、容量を増
大させるため並列に接続した場合にも、チップコンデン
サを内蔵することでインダクタンスを低減できる。
Here, with respect to the printed wiring board of the first embodiment, the chip capacitor 20 embedded in the core substrate is used.
And the inductance of the chip capacitor mounted on the back surface of the printed wiring board (the surface on the daughter board side) are shown. In case of single capacitor Embedded type 137pH Backside mounted type 287pH When 8 capacitors are connected in parallel Embedded type 60pH Backside mounted type 72pH As shown above, when using a single capacitor, it is connected in parallel to increase the capacity In addition, the inductance can be reduced by incorporating a chip capacitor.

【0102】次に、信頼性試験を行った結果について説
明する。ここでは、第1実施形態のプリント配線板にお
いて、1個のチップコンデンサの静電容量の変化率を測
定した。 静電容量変化率 (測定周波数100Hz) (測定周波数1kHz) Steam 168時間: 0.3% 0.4% HAST 100時間: -0.9% -0.9% TS 1000cycles: 1.1% 1.3%
Next, the result of the reliability test will be described. Here, the rate of change of the capacitance of one chip capacitor in the printed wiring board of the first embodiment was measured. Capacitance change rate (measuring frequency 100Hz) (measuring frequency 1kHz) Steam 168 hours: 0.3% 0.4% HAST 100 hours: -0.9% -0.9% TS 1000cycles: 1.1% 1.3%

【0103】Steam試験は、蒸気に当て湿度100%に
保った。また、HAST試験では、相対湿度100%、
印加電圧1.3V、温度121℃で100時間放置し
た。TS試験では、−125℃で30分、55℃で30
分放置する試験を1000回線り返した。
In the Steam test, the humidity was set to 100% by applying steam. In the HAST test, the relative humidity was 100%,
It was left at an applied voltage of 1.3 V and a temperature of 121 ° C. for 100 hours. In the TS test, 30 minutes at -125 ° C and 30 minutes at 55 ° C
The test of standing for 1000 minutes was repeated 1000 times.

【0104】上記信頼性試験において、チップコンデン
サを内蔵するプリント配線板においても、既存のコンデ
ンサ表面実装形と同等の信頼性が達成できていることが
分かった。また、上述したように、TS試験において、
セラミックから成るコンデンサ20と、樹脂からなるコ
ア基板30及び接着層40との熱膨張率の違いから、内
部応力が発生しても、チップコンデンサ20と接着層4
0との間で剥離、コア基板30及び接着層40にクラッ
クが発生せず、長期に渡り高い信頼性を達成できること
が判明した。
In the above reliability test, it was found that the same reliability as that of the existing capacitor surface mount type was achieved also in the printed wiring board having a built-in chip capacitor. As described above, in the TS test,
Due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the capacitor 20 made of ceramic and the core substrate 30 made of resin and the adhesive layer 40, even if internal stress is generated, the chip capacitor 20 and the adhesive layer 4
It has been found that no peeling occurs between 0 and no cracks occur in the core substrate 30 and the adhesive layer 40, and high reliability can be achieved for a long period of time.

【0105】[0105]

【発明の効果】本願発明の構造により、インダクタンス
を起因とする電気特性の低下することはない。また、コ
ンデンサのメタライズからなる電極の表面に導電性ペー
ストが塗布されてるため、メタライズからなり表面の抵
抗の高い電極の電気接続性を改善することができる。ま
た、メタライズからなる電極は、表面に凹凸があり、導
電性接着剤で直接接続を取っても、完全に密着すること
ができないが、導電性ペーストにより凹凸を無くすこと
ができ、密着性を高め、接続抵抗を下げることができ
る。また、メタライズからなる電極が、周囲の樹脂層と
導電性ペーストを介して接触するため、電極と樹脂層と
の熱膨張差による応力の発生を抑え、樹脂層のクラック
や剥離が無くなる。また、コンデンサを銅によって被覆
されている場合にも、マイグレーションの発生を防止す
ることができる。
According to the structure of the present invention, the electric characteristics caused by the inductance do not decrease. In addition, since the conductive paste is applied to the surface of the metallized electrode of the capacitor, the electrical connectivity of the metallized electrode having a high surface resistance can be improved. The metallized electrode has irregularities on the surface and cannot be completely adhered even if it is directly connected with a conductive adhesive.However, the irregularity can be eliminated by the conductive paste to improve the adhesion. , Connection resistance can be reduced. In addition, since the metallized electrode is in contact with the surrounding resin layer via the conductive paste, the generation of stress due to the difference in thermal expansion between the electrode and the resin layer is suppressed, and cracks and peeling of the resin layer are eliminated. Also, even when the capacitor is covered with copper, the occurrence of migration can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 5 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第1実施形態に係るプリント配線板の
製造工程図である。
FIG. 6 is a manufacturing process diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図7】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図で
ある。
FIG. 7 is a cross-sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.

【図8】第1実施形態に係るプリント配線板の断面図で
ある。
FIG. 8 is a sectional view of the printed wiring board according to the first embodiment.

【図9】第1実施形態の第1改変例に係るプリント配線
板の断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a first modification of the first embodiment.

【図10】第1実施形態の第2改変例に係るプリント配
線板の断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a printed wiring board according to a second modification of the first embodiment.

【図11】第1実施形態の第3改変例に係るプリント配
線板の断面図である。
FIG. 11 is a sectional view of a printed wiring board according to a third modification of the first embodiment.

【図12】(A)は、第1実施形態のチップコンデンサ
の断面図であり、(B)は、第1実施形態の第1改変例
のチップコンデンサの断面図である。
FIG. 12A is a cross-sectional view of a chip capacitor according to the first embodiment, and FIG. 12B is a cross-sectional view of a chip capacitor according to a first modification of the first embodiment.

【図13】ICチップへの供給電圧と時間との変化を示
すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing changes in supply voltage to an IC chip and time.

【図14】(A)、(B)、(C)、(D)は、第2実
施形態のプリント配線板のチップコンデンサの平面図で
ある。
FIGS. 14A, 14B, 14C, and 14D are plan views of a chip capacitor of a printed wiring board according to a second embodiment.

【図15】第2実施形態に係るプリント配線板のチップ
コンデンサの平面図である。
FIG. 15 is a plan view of a chip capacitor of a printed wiring board according to a second embodiment.

【図16】第2実施形態の改変例に係るプリント配線板
のチップコンデンサの平面図である。
FIG. 16 is a plan view of a chip capacitor of a printed wiring board according to a modification of the second embodiment.

【図17】(A)及び(B)は、従来技術に係るプリン
ト配線板のループインダクタンスの説明図である。
FIGS. 17A and 17B are explanatory diagrams of a loop inductance of a printed wiring board according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 プリント配線板 20 チップコンデンサ 21 第1電極 22 第2電極 23 誘電体 23a 粗化面 23b ポイリミド膜 26 導電性ペースト 28a 無電解銅めっき膜 28b 電解銅めっき膜 28 複合金属膜 25 収容層 30 コア基板 31 収容層 31a キャビティ 34 導電性接着剤 36 スルーホール 40 接続層 42 回路パターン 43 非貫通孔 46 バイアホール 60 層間樹脂絶縁層 66 バイアホール 68 導体回路 84 導電性ピン 90 ICチップ 94 ドータボード DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printed wiring board 20 Chip capacitor 21 1st electrode 22 2nd electrode 23 Dielectric 23a Roughened surface 23b Polyimide film 26 Conductive paste 28a Electroless copper plating film 28b Electrolytic copper plating film 28 Composite metal film 25 Housing layer 30 Core substrate 31 Housing Layer 31a Cavity 34 Conductive Adhesive 36 Through Hole 40 Connection Layer 42 Circuit Pattern 43 Non-through Hole 46 Via Hole 60 Interlayer Resin Insulating Layer 66 Via Hole 68 Conductor Circuit 84 Conductive Pin 90 IC Chip 94 Daughter Board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 N H01L 23/12 B Fターム(参考) 5E314 AA24 AA27 BB06 FF05 FF08 FF21 GG05 GG19 5E319 AC02 BB20 CC03 CC70 CD29 GG11 5E336 AA04 AA08 AA12 AA16 BB03 BB16 BC26 BC34 CC37 CC53 CC55 GG11 GG16 5E346 AA02 AA12 CC04 CC08 CC09 CC13 CC32 CC37 CC39 CC41 CC42 FF07 FF10 FF15 GG15 HH07 HH11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 N H01L 23/12 BF Term (Reference) 5E314 AA24 AA27 BB06 FF05 FF08 FF21 GG05 GG19 5E319 AC02 BB20 CC03 CC70 CD29 GG11 5E336 AA04 AA08 AA12 AA16 BB03 BB16 BC26 BC34 CC37 CC53 CC55 GG11 GG16 5E346 AA02 AA12 CC04 CC08 CC09 CC13 CC32 CC37 CC39 CC41 CC42 FF07 FF10 HFF15 GG15 H

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コア基板に樹脂絶縁層と導体回路とを積
層してなるプリント配線板であって、 前記コア基板は、少なくとも1層以上である絶縁樹脂層
で形成された接続層とザグリ部にコンデンサを収納した
収容層とからなり、 前記コンデンサのメタライズからなる電極の表面には、
導電性ペーストが塗布されていることを特徴とするプリ
ント配線板。
1. A printed wiring board comprising a resin insulating layer and a conductive circuit laminated on a core substrate, wherein the core substrate comprises a connection layer formed of at least one insulating resin layer and a counterbore portion. And a housing layer that houses the capacitor, and the surface of the electrode formed by metallizing the capacitor,
A printed wiring board to which a conductive paste is applied.
【請求項2】 前記コンデンサの電極の導電性ペースト
上に金属層を設けたことを特徴とする請求項1のプリン
ト配線板。
2. The printed wiring board according to claim 1, wherein a metal layer is provided on the conductive paste of the electrodes of the capacitor.
【請求項3】 前記コンデンサの表面に、粗化処理を施
したことを特徴とする請求項1又は請求項2のプリント
配線板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a roughening treatment.
【請求項4】 前記コンデンサの表面に、表面の濡れ性
改善処理を施したことを特徴とする請求項1又は請求項
2のプリント配線板。
4. The printed wiring board according to claim 1, wherein the surface of the capacitor is subjected to a surface wettability improving treatment.
【請求項5】 前記収容層は、心材に樹脂を含浸させた
樹脂基板からなり、前記接続層は心材を有しない樹脂基
板からなることを特徴とする請求項1〜請求項4のいず
れか1のプリント配線板。
5. The container according to claim 1, wherein the housing layer is formed of a resin substrate having a core material impregnated with a resin, and the connection layer is formed of a resin substrate having no core material. Printed wiring board.
【請求項6】 前記接続層と前記コンデンサとは、導電
性接着剤を介して接続されていることを特徴とする請求
項1〜請求項5のいずれか1に記載のプリント配線板。
6. The printed wiring board according to claim 1, wherein the connection layer and the capacitor are connected via a conductive adhesive.
【請求項7】 前記コア基板において、接続層と収容層
の間に、前記導電性接着剤へ接続される回路が設けられ
ていることを特徴とする請求項6に記載のプリント配線
板。
7. The printed wiring board according to claim 6, wherein a circuit connected to the conductive adhesive is provided between the connection layer and the housing layer on the core substrate.
【請求項8】 プリント配線板の表面側に配設されるI
Cチップと前記コンデンサの端子とは、前記接続層に設
けられたバイアホールを介して接続され、 プリント配線板の裏面側に配設される外部基板と前記コ
ンデンサの端子とは、前記バイアホール及びコア基板に
形成されたスルーホールを介して接続されることを特徴
とする請求項6に記載のプリント配線板。
8. An I disposed on a front side of a printed wiring board.
The C chip and the terminals of the capacitor are connected via via holes provided in the connection layer, and the external substrate disposed on the back side of the printed wiring board and the terminals of the capacitor are connected to the via holes and The printed wiring board according to claim 6, wherein the printed wiring board is connected through a through hole formed in the core substrate.
【請求項9】 前記コンデンサを複数個収容し、コンデ
ンサ間にICチップと外部基板との接続用配線を配設し
たことを特徴とする請求項1〜請求項8の内1に記載の
プリント配線板。
9. The printed wiring according to claim 1, wherein a plurality of the capacitors are accommodated, and a wiring for connecting an IC chip and an external substrate is provided between the capacitors. Board.
【請求項10】 前記プリント配線板の表面にコンデン
サを実装したことを特徴とする請求項1〜請求項9の内
1に記載のプリント配線板。
10. The printed wiring board according to claim 1, wherein a capacitor is mounted on a surface of the printed wiring board.
【請求項11】 前記表面のチップコンデンサの静電容
量は、内層のチップコンデンサの静電容量以上であるこ
とを特徴とする請求項10に記載のプリント配線板。
11. The printed wiring board according to claim 10, wherein the capacitance of the chip capacitor on the surface is equal to or larger than the capacitance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項12】 前記表面のチップコンデンサのインダ
クタンスは、内層のチップコンデンサのインダクタンス
以上であることを特徴とする請求項10に記載のプリン
ト配線板。
12. The printed wiring board according to claim 10, wherein the inductance of the chip capacitor on the front surface is equal to or greater than the inductance of the chip capacitor in the inner layer.
【請求項13】 前記コア基板のザグリ部と前記チップ
コンデンサとの間に、コア基板よりも熱膨張率の小さい
樹脂を充填したことを特徴とする請求項1〜請求項12
のいずれか1に記載のプリント配線板。
13. A resin having a smaller coefficient of thermal expansion than the core substrate is filled between the counterbore portion of the core substrate and the chip capacitor.
The printed wiring board according to any one of the above.
【請求項14】 前記コンデンサとして、外縁の内側に
電極が形成されたチップコンデンサを用いたことを特徴
とする請求項1〜請求項13の内1に記載のプリント配
線板。
14. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having an electrode formed inside an outer edge is used as the capacitor.
【請求項15】 前記コンデンサとして、マトリクス状
に電極を形成されたチップコンデンサを用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項14の内1に記載のプリント
配線板
15. The printed wiring board according to claim 1, wherein a chip capacitor having electrodes formed in a matrix is used as said capacitor.
【請求項16】 前記コンデンサとして、多数個取り用
のチップコンデンサを複数個連結させて用いたことを特
徴とする請求項1〜請求項15の内1に記載のプリント
配線板。
16. The printed wiring board according to claim 1, wherein a plurality of chip capacitors for multi-cavity are connected and used as said capacitor.
【請求項17】 少なくとも以下(a)〜(c)の工程
を備えることを特徴とするプリント配線板の製造方法: (a)片面あるいは両面に回路パターンを形成した樹脂
板に、接着材料を介して前記回路パターンにメタライズ
電極の上に導電性ペーストを塗布したコンデンサを接続
する工程; (b)前記樹脂板に、前記コンデンサを収容するキャビ
ティを形成した樹脂基板を貼り付け、コア基板を形成す
る工程; (c)前記樹脂板に前記コンデンサの電極へ至る開口を
設けてバイアホールを形成する工程。
17. A method for producing a printed wiring board, comprising at least the following steps (a) to (c): (a) a resin board having a circuit pattern formed on one or both sides thereof, via an adhesive material; Connecting a capacitor having a conductive paste applied on a metallized electrode to the circuit pattern; (b) attaching a resin substrate having a cavity for accommodating the capacitor to the resin plate to form a core substrate. (C) forming a via hole in the resin plate by providing an opening to an electrode of the capacitor.
【請求項18】 前記(c)工程の貼り付けの際、基板
の両面から圧力をかけることを特徴とする請求項17に
記載のプリント配線板の製造方法。
18. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 17, wherein pressure is applied to both sides of the substrate during the attaching in the step (c).
【請求項19】 前記(c)工程の前後に、前記樹脂板
に前記樹脂基板を貼り付けてなる前記コア基板に、通孔
を穿設してスルーホールとする工程を経ることを特徴と
する請求項17又は請求項18に記載のプリント配線板
の製造方法。
19. The method according to claim 19, wherein before and after the step (c), a through hole is formed in the core substrate obtained by attaching the resin substrate to the resin plate to form a through hole. A method for manufacturing a printed wiring board according to claim 17.
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