JP2002270482A - 露光工程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置 - Google Patents
露光工程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置Info
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- JP2002270482A JP2002270482A JP2001062154A JP2001062154A JP2002270482A JP 2002270482 A JP2002270482 A JP 2002270482A JP 2001062154 A JP2001062154 A JP 2001062154A JP 2001062154 A JP2001062154 A JP 2001062154A JP 2002270482 A JP2002270482 A JP 2002270482A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 露光工程で処理する品種の処理順序を最適に
自動制御することにより、製造ライン11全体を効率よく
稼動させる露光工程の制御方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも成膜工程、露光工程およびエ
ッチング工程を有する製造ライン11内の情報を取得す
る。取得した情報に基づき製造ライン11内の製造状況を
シミュレーションする。シミュレーションされた製造状
況に基づき露光工程の品種切換計画を作成する。作成さ
れた品種切換計画に基づき露光工程を制御する。露光工
程で処理する品種の処理順序を最適に自動制御でき、製
造ライン11全体を効率よく稼動させる。
自動制御することにより、製造ライン11全体を効率よく
稼動させる露光工程の制御方法を提供する。 【解決手段】 少なくとも成膜工程、露光工程およびエ
ッチング工程を有する製造ライン11内の情報を取得す
る。取得した情報に基づき製造ライン11内の製造状況を
シミュレーションする。シミュレーションされた製造状
況に基づき露光工程の品種切換計画を作成する。作成さ
れた品種切換計画に基づき露光工程を制御する。露光工
程で処理する品種の処理順序を最適に自動制御でき、製
造ライン11全体を効率よく稼動させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、製造ラインの露光
工程で処理する品種の処理順序を最適に制御する露光工
程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置に関
する。
工程で処理する品種の処理順序を最適に制御する露光工
程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば、液晶表示装置の液晶パネ
ルの製造ラインにおいては、基板上に膜を成膜する成膜
工程、基板の膜上に所定パターンのフォトレジストを形
成する露光工程としてのＰＥＰ（Photo Engraving Proc
ess）工程、所定パターンのフォトレジストをマスクと
したエッチング処理によって所定パターンの膜を形成す
るエッチング工程が含まれている。
ルの製造ラインにおいては、基板上に膜を成膜する成膜
工程、基板の膜上に所定パターンのフォトレジストを形
成する露光工程としてのＰＥＰ（Photo Engraving Proc
ess）工程、所定パターンのフォトレジストをマスクと
したエッチング処理によって所定パターンの膜を形成す
るエッチング工程が含まれている。
【０００３】ＰＥＰ工程においては、例えば、特開２０
００−７５４９２号公報に記載されているように、基板
の膜上にフォトレジストを塗布し、所定パターンを有す
るフォトマスクを通じて露光し、さらに現像することに
より、所定パターンのフォトレジストを形成している。
００−７５４９２号公報に記載されているように、基板
の膜上にフォトレジストを塗布し、所定パターンを有す
るフォトマスクを通じて露光し、さらに現像することに
より、所定パターンのフォトレジストを形成している。
【０００４】ところで、多品種混合生産している製造ラ
インでは、同一品種の複数の基板を１組のロットとし、
このロット単位に成膜工程、ＰＥＰ工程およびエッチン
グ工程に順次送り込んで処理している。
インでは、同一品種の複数の基板を１組のロットとし、
このロット単位に成膜工程、ＰＥＰ工程およびエッチン
グ工程に順次送り込んで処理している。
【０００５】そして、ＰＥＰ工程においては、処理する
品種毎にフォトマスクの切り換えが必要になり、このフ
ォトマスクの切換作業には時間がかかるため、フォトマ
スクの切換頻度ができるだけ少なくなるように、例えば
ＰＥＰ工程での仕掛かり状況やＰＥＰ工程に送り込まれ
ているロット数が最も多い品種などから、ＰＥＰ工程を
監視する現場作業者の判断により、処理する品種の処理
順序を決定して処理させている。
品種毎にフォトマスクの切り換えが必要になり、このフ
ォトマスクの切換作業には時間がかかるため、フォトマ
スクの切換頻度ができるだけ少なくなるように、例えば
ＰＥＰ工程での仕掛かり状況やＰＥＰ工程に送り込まれ
ているロット数が最も多い品種などから、ＰＥＰ工程を
監視する現場作業者の判断により、処理する品種の処理
順序を決定して処理させている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、ＰＥＰ工程で処理する品種の処理順序を、成膜
工程やエッチング工程などの他の工程での製造状況に関
係なく、ＰＥＰ工程を監視する現場作業者の判断によっ
て決定していたのでは、ＰＥＰ工程より後の他の工程に
おいて、あるいはＰＥＰ工程において、ある品種のロッ
ドが極端に増加して溜まったり、逆に減少してロット待
ちになるなど、製造ラインで製造するバランスに片寄り
が発生し、製造ライン全体の効率が低下する問題があ
る。
ように、ＰＥＰ工程で処理する品種の処理順序を、成膜
工程やエッチング工程などの他の工程での製造状況に関
係なく、ＰＥＰ工程を監視する現場作業者の判断によっ
て決定していたのでは、ＰＥＰ工程より後の他の工程に
おいて、あるいはＰＥＰ工程において、ある品種のロッ
ドが極端に増加して溜まったり、逆に減少してロット待
ちになるなど、製造ラインで製造するバランスに片寄り
が発生し、製造ライン全体の効率が低下する問題があ
る。
【０００７】また、現場作業者がＰＥＰ工程を常に監視
して作業する必要がある。
して作業する必要がある。
【０００８】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に自動
制御することにより、製造ライン全体を効率よく稼動さ
せることができる露光工程の制御方法、露光工程の制御
装置および製造装置を提供することを目的とする。
ので、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に自動
制御することにより、製造ライン全体を効率よく稼動さ
せることができる露光工程の制御方法、露光工程の制御
装置および製造装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも成
膜工程、露光工程およびエッチング工程を有する製造ラ
イン内の情報を取得し、取得した情報に基づき製造ライ
ン内の製造状況をシミュレーションし、シミュレーショ
ンされた製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を作
成し、作成された品種切換計画に基づき露光工程を制御
するものである。
膜工程、露光工程およびエッチング工程を有する製造ラ
イン内の情報を取得し、取得した情報に基づき製造ライ
ン内の製造状況をシミュレーションし、シミュレーショ
ンされた製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を作
成し、作成された品種切換計画に基づき露光工程を制御
するものである。
【００１０】そして、少なくとも成膜工程、露光工程お
よびエッチング工程を有する製造ライン内の情報を取得
し、製造ライン内の製造状況をシミュレーションし、露
光工程の品種切換計画を作成し、露光工程を制御するこ
とにより、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に
自動制御し、それによって製造ライン全体を効率よく稼
動させる。
よびエッチング工程を有する製造ライン内の情報を取得
し、製造ライン内の製造状況をシミュレーションし、露
光工程の品種切換計画を作成し、露光工程を制御するこ
とにより、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に
自動制御し、それによって製造ライン全体を効率よく稼
動させる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００１２】図１に露光工程の制御装置および製造装置
の構成図を示し、液晶表示装置の液晶パネルの製造ライ
ン11においては、基板上に膜を成膜する成膜工程、基板
の膜上に所定パターンのフォトレジストを形成する露光
工程としてのＰＥＰ（PhotoEngraving Process）工程、
所定パターンのフォトレジストをマスクとしたエッチン
グ処理によって所定パターンの膜を形成するエッチング
工程が含まれている。ＰＥＰ工程においては、基板の膜
上にフォトレジストを塗布し、所定パターンを有するフ
ォトマスクを通じて露光し、さらに現像することによ
り、所定パターンのフォトレジストを形成している。
の構成図を示し、液晶表示装置の液晶パネルの製造ライ
ン11においては、基板上に膜を成膜する成膜工程、基板
の膜上に所定パターンのフォトレジストを形成する露光
工程としてのＰＥＰ（PhotoEngraving Process）工程、
所定パターンのフォトレジストをマスクとしたエッチン
グ処理によって所定パターンの膜を形成するエッチング
工程が含まれている。ＰＥＰ工程においては、基板の膜
上にフォトレジストを塗布し、所定パターンを有するフ
ォトマスクを通じて露光し、さらに現像することによ
り、所定パターンのフォトレジストを形成している。
【００１３】各工程では、成膜工程を実行する成膜装置
12、ＰＥＰ工程を実行する露光装置としてのＰＥＰ装置
13、およびエッチング工程を実行するエッチング装置14
をそれぞれ複数台ずつ備えている。ＰＥＰ装置13は、品
種切換計画に基づきＰＥＰ工程を制御する露光制御手段
の機能を有している。
12、ＰＥＰ工程を実行する露光装置としてのＰＥＰ装置
13、およびエッチング工程を実行するエッチング装置14
をそれぞれ複数台ずつ備えている。ＰＥＰ装置13は、品
種切換計画に基づきＰＥＰ工程を制御する露光制御手段
の機能を有している。
【００１４】製造ライン11では、多品種混合生産してお
り、同一品種の複数の基板を１組のロットとし、搬送制
御手段15によって制御される搬送手段16により、ロット
単位に成膜工程、ＰＥＰ工程およびエッチング工程に順
次搬送されるとともに各工程内の任意の各装置に搬送さ
れる。
り、同一品種の複数の基板を１組のロットとし、搬送制
御手段15によって制御される搬送手段16により、ロット
単位に成膜工程、ＰＥＰ工程およびエッチング工程に順
次搬送されるとともに各工程内の任意の各装置に搬送さ
れる。
【００１５】製造ライン11は制御手段としてのＣＩＭ
（Computer Integrated Manufacturing：コンピュータ
統合生産方式）システム17によって統合的に制御され
る。このＣＩＭシステム17には、製造ライン11の成膜装
置12、ＰＥＰ装置13、エッチング装置14および搬送制御
手段15が接続されている。そして、ＣＩＭシステム17
は、製造ライン11内の情報として、各工程での装置状
況、仕掛かり状況、投入計画、流品ルートおよび各工程
で使用可能な装置などの情報を取得する取得手段の機能
を有している。
（Computer Integrated Manufacturing：コンピュータ
統合生産方式）システム17によって統合的に制御され
る。このＣＩＭシステム17には、製造ライン11の成膜装
置12、ＰＥＰ装置13、エッチング装置14および搬送制御
手段15が接続されている。そして、ＣＩＭシステム17
は、製造ライン11内の情報として、各工程での装置状
況、仕掛かり状況、投入計画、流品ルートおよび各工程
で使用可能な装置などの情報を取得する取得手段の機能
を有している。
【００１６】ＣＩＭシステム17には、シミュレーション
手段としてシミュレーションソフトを実行するシミュレ
ーション用コンピュータ18が接続されている。そして、
ＣＩＭシステム17で取得された製造ライン11内の情報が
シミュレーション用コンピュータ18に送られ、シミュレ
ーション用コンピュータ18で製造ライン11全体を考慮し
た今後の製造状況をシミュレーションし、シミュレーシ
ョン用コンピュータ18からシミュレーション結果がＣＩ
Ｍシステム17に送られる。ＣＩＭシステム17は、シミュ
レーション用コンピュータ18から送られてくるシミュレ
ーション結果の製造状況に基づきＰＥＰ工程の品種切換
計画を作成する品種切換計画作成手段の機能を有してい
る。この品種切換計画は、図２に示すように、例えば、
ＰＥＰ装置13が２台ある場合に、各ＰＥＰ装置13毎に処
理する品種毎のロットの処理順序を定めたものである。
手段としてシミュレーションソフトを実行するシミュレ
ーション用コンピュータ18が接続されている。そして、
ＣＩＭシステム17で取得された製造ライン11内の情報が
シミュレーション用コンピュータ18に送られ、シミュレ
ーション用コンピュータ18で製造ライン11全体を考慮し
た今後の製造状況をシミュレーションし、シミュレーシ
ョン用コンピュータ18からシミュレーション結果がＣＩ
Ｍシステム17に送られる。ＣＩＭシステム17は、シミュ
レーション用コンピュータ18から送られてくるシミュレ
ーション結果の製造状況に基づきＰＥＰ工程の品種切換
計画を作成する品種切換計画作成手段の機能を有してい
る。この品種切換計画は、図２に示すように、例えば、
ＰＥＰ装置13が２台ある場合に、各ＰＥＰ装置13毎に処
理する品種毎のロットの処理順序を定めたものである。
【００１７】そして、ＰＥＰ工程で処理する品種の処理
順序を最適化する自動制御について説明する。
順序を最適化する自動制御について説明する。
【００１８】ＣＩＭシステム17で取得された製造ライン
11の情報をシミュレーションソフトの入力情報のフォー
マットに合わせてテキストファイルのデータを作成し、
シミュレーション用コンピュータ18に送る。
11の情報をシミュレーションソフトの入力情報のフォー
マットに合わせてテキストファイルのデータを作成し、
シミュレーション用コンピュータ18に送る。
【００１９】シミュレーション用コンピュータ18では、
ＣＩＭシステム17から送られてくる製造ライン11の情報
のテキストファイルのデータをシミュレーション条件と
して読み込み、製造ライン11全体を考慮した今後の製造
状況をシミュレーションするとともに、シミュレーショ
ン結果である製造状況のテキストファイルのデータをＣ
ＩＭシステム17に送る。
ＣＩＭシステム17から送られてくる製造ライン11の情報
のテキストファイルのデータをシミュレーション条件と
して読み込み、製造ライン11全体を考慮した今後の製造
状況をシミュレーションするとともに、シミュレーショ
ン結果である製造状況のテキストファイルのデータをＣ
ＩＭシステム17に送る。
【００２０】ＣＩＭシステム17では、シミュレーション
用コンピュータ18から送られてくるシミュレーション結
果である製造状況のテキストファイルのデータに基づき
ＰＥＰ工程の品種切換計画を作成し、ＣＩＭシステム17
内の記憶部に書き込み、書き込んだ品種切換計画に基づ
きＰＥＰ工程を実行させる。つまり、図２に示すような
品種切換計画に基づく処理順序で、ＰＥＰ工程の各ＰＥ
Ｐ装置13で対応する品種のロットを処理するように、搬
送制御手段16を制御して各ＰＥＰ装置13に対応する品種
のロットを送り込むとともに、各ＰＥＰ装置13でＰＥＰ
処理を実行する。
用コンピュータ18から送られてくるシミュレーション結
果である製造状況のテキストファイルのデータに基づき
ＰＥＰ工程の品種切換計画を作成し、ＣＩＭシステム17
内の記憶部に書き込み、書き込んだ品種切換計画に基づ
きＰＥＰ工程を実行させる。つまり、図２に示すような
品種切換計画に基づく処理順序で、ＰＥＰ工程の各ＰＥ
Ｐ装置13で対応する品種のロットを処理するように、搬
送制御手段16を制御して各ＰＥＰ装置13に対応する品種
のロットを送り込むとともに、各ＰＥＰ装置13でＰＥＰ
処理を実行する。
【００２１】各ＰＥＰ装置では、品種切換計画に基づく
処理順序で送り込まれるロットを処理するとともに、品
種の切換時にフォトマスクを切り換える。
処理順序で送り込まれるロットを処理するとともに、品
種の切換時にフォトマスクを切り換える。
【００２２】そして、図３に成膜工程、ＰＥＰ工程およ
びエッチング工程の仕掛かり数の状況を示す。図３の横
軸には各工程に仕掛かり状況にある品種１〜３を成膜１
〜３、ＰＥＰ１〜３およびエッチング１〜３として示
し、縦軸は仕掛かり数を示す。
びエッチング工程の仕掛かり数の状況を示す。図３の横
軸には各工程に仕掛かり状況にある品種１〜３を成膜１
〜３、ＰＥＰ１〜３およびエッチング１〜３として示
し、縦軸は仕掛かり数を示す。
【００２３】従来のようにＰＥＰ工程のＰＥＰ１〜３だ
けを考慮した場合、次のエッチング工程でのエッチング
２の仕掛かりが多いにもかかわらず、ＰＥＰ２の仕掛か
り数が多いことからＰＥＰ２の処理を優先して設定する
可能性が高く、次のエッチング工程でのエッチング２の
仕掛かりがさらに増加し、製造ライン11内のバランスが
片寄ることになる。
けを考慮した場合、次のエッチング工程でのエッチング
２の仕掛かりが多いにもかかわらず、ＰＥＰ２の仕掛か
り数が多いことからＰＥＰ２の処理を優先して設定する
可能性が高く、次のエッチング工程でのエッチング２の
仕掛かりがさらに増加し、製造ライン11内のバランスが
片寄ることになる。
【００２４】それに対して、製造ライン11内の情報から
シミュレーションにより製造ライン11全体を考慮して品
種切換計画を作成した場合、次のエッチング工程でのエ
ッチング２の仕掛かりが多く、エッチング３の仕掛かり
が少ないことがシミュレーションによって反映されるの
で、ＰＥＰ２は処理せず、ＰＥＰ３の処理を優先し、製
造ライン11内のバランスをとることができる。
シミュレーションにより製造ライン11全体を考慮して品
種切換計画を作成した場合、次のエッチング工程でのエ
ッチング２の仕掛かりが多く、エッチング３の仕掛かり
が少ないことがシミュレーションによって反映されるの
で、ＰＥＰ２は処理せず、ＰＥＰ３の処理を優先し、製
造ライン11内のバランスをとることができる。
【００２５】このように、少なくとも成膜工程、露光工
程およびエッチング工程を有する製造ライン11内の情報
を取得し、取得した情報に基づき製造ライン11内の今後
の製造状況をシミュレーションし、シミュレーションさ
れた今後の製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を
作成し、作成された品種切換計画に基づき露光工程を制
御するので、露光工程で処理する品種の処理順序を最適
に自動制御でき、それによって製造ライン11全体を効率
よく稼動させることができる。
程およびエッチング工程を有する製造ライン11内の情報
を取得し、取得した情報に基づき製造ライン11内の今後
の製造状況をシミュレーションし、シミュレーションさ
れた今後の製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を
作成し、作成された品種切換計画に基づき露光工程を制
御するので、露光工程で処理する品種の処理順序を最適
に自動制御でき、それによって製造ライン11全体を効率
よく稼動させることができる。
【００２６】また、現場作業者がＰＥＰ工程を常に監視
して設定操作する必要がなくなり、省力化できる。
して設定操作する必要がなくなり、省力化できる。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、少なくとも成膜工程、
露光工程およびエッチング工程を有する製造ライン内の
情報を取得し、取得した情報に基づき製造ライン内の製
造状況をシミュレーションし、シミュレーションされた
製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を作成し、作
成された品種切換計画に基づき露光工程を制御するの
で、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に自動制
御でき、それによって製造ライン全体を効率よく稼動さ
せることができる。
露光工程およびエッチング工程を有する製造ライン内の
情報を取得し、取得した情報に基づき製造ライン内の製
造状況をシミュレーションし、シミュレーションされた
製造状況に基づき露光工程の品種切換計画を作成し、作
成された品種切換計画に基づき露光工程を制御するの
で、露光工程で処理する品種の処理順序を最適に自動制
御でき、それによって製造ライン全体を効率よく稼動さ
せることができる。
【図１】本発明の一実施の形態を示す露光工程の制御装
置および製造装置の構成図である。
置および製造装置の構成図である。
【図２】同上品種切換計画の内容を示す説明図である。
【図３】同上成膜工程、露光工程およびエッチング工程
の仕掛かり数の状況の説明図である。
の仕掛かり数の状況の説明図である。
11 製造ライン 13 露光制御手段の機能を有する露光装置としてのＰ
ＥＰ装置 17 取得手段および品種切換計画作成手段の機能を有
する制御手段としてのＣＩＭシステム 18 シミュレーション手段としてのシミュレーション
用コンピュータ
ＥＰ装置 17 取得手段および品種切換計画作成手段の機能を有
する制御手段としてのＣＩＭシステム 18 シミュレーション手段としてのシミュレーション
用コンピュータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 増田 一義 神奈川県川崎市幸区堀川町66番２ 東芝エ ンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 BA10 JA00 LA12 5F046 AA17 AA28 DA30
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも成膜工程、露光工程およびエ
ッチング工程を有する製造ライン内の情報を取得し、 取得した情報に基づき製造ライン内の製造状況をシミュ
レーションし、 シミュレーションされた製造状況に基づき露光工程の品
種切換計画を作成し、作成された品種切換計画に基づき
露光工程を制御することを特徴とする露光工程の制御方
法。 - 【請求項２】 少なくとも成膜工程、露光工程およびエ
ッチング工程を有する製造ライン内の情報を取得する取
得手段と、 この取得手段で取得された情報に基づき製造ライン内の
製造状況をシミュレーションするシミュレーション手段
と、 このシミュレーション手段でシミュレーションされた製
造状況に基づき露光工程の品種切換計画を作成する品種
切換計画作成手段と、 この品種切換計画作成手段で作成された品種切換計画に
基づき露光工程を制御する露光制御手段とを具備してい
ることを特徴とする露光工程の制御装置。 - 【請求項３】 少なくとも成膜工程、露光工程およびエ
ッチング工程を有する製造ラインのなかで、露光工程を
処理する露光装置と、 前記製造ライン内の情報に基づき製造ライン内の製造状
況をシミュレーションするシミュレーション手段と、 前記製造ラインを制御し、製造ライン内の情報を前記シ
ミュレーション手段に与えるとともに、このシミュレー
ション手段でシミュレーションされた製造状況に基づき
露光工程の品種切換計画を作成し、この品種切換計画を
前記露光装置に与える制御手段とを具備していることを
特徴とする製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001062154A JP2002270482A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 露光工程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001062154A JP2002270482A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 露光工程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002270482A true JP2002270482A (ja) | 2002-09-20 |
Family
ID=18921341
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001062154A Withdrawn JP2002270482A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | 露光工程の制御方法、露光工程の制御装置および製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002270482A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008042193A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィシステム、制御システム、およびデバイス製造方法 |
| JP2021073510A (ja) * | 2016-09-02 | 2021-05-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 処理装置をモニタするための方法及びシステム |
-
2001
- 2001-03-06 JP JP2001062154A patent/JP2002270482A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008042193A (ja) * | 2006-08-02 | 2008-02-21 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィシステム、制御システム、およびデバイス製造方法 |
| JP2021073510A (ja) * | 2016-09-02 | 2021-05-13 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 処理装置をモニタするための方法及びシステム |
| JP7212079B2 (ja) | 2016-09-02 | 2023-01-24 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 処理装置をモニタするための方法及びシステム |
| US11733610B2 (en) | 2016-09-02 | 2023-08-22 | Asml Netherlands B.V. | Method and system to monitor a process apparatus |
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