JP2002257526A - レーザ放射を用いたシーンの三次元記録用装置 - Google Patents
レーザ放射を用いたシーンの三次元記録用装置Info
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Abstract
射源20と、レーザ放射源20によって放射されたレー
ザ・ビームを用いてシーンを走査するために2つの回転
軸16、44にそって走査する手段と、シーン4上にレ
ーザ・ビームによってつくられたスポット52のイメー
ジを受ける光電性受光器46と、シーン4によって後方
散乱されたレーザ・ビームを光電性受光器46に向けて
収束させる手段38、50と、走査手段を去るビームの
配向を測定する第1測定手段と、レーザ遠隔測定によっ
て装置とスポット間の距離を測定する第2測定手段とか
らなる。さらに、収束手段38、50は、発散光学系5
0と組み合わされた収束光学系38を有し、収束光学系
38の焦点距離を増加させて、遠隔対物レンズを形成す
る。走査手段は、収束手段38、50とシーン4との間
で放射および後方散乱レーザ・ビームの経路に置かれた
少なくとも1つのミラーを含む。
Description
録用装置に関する。さらに詳しく言えば、本発明は、レ
ーザ放射源と、レーザ放射源によって放射されたレーザ
・ビームを用いてシーンを走査するために第1および第
2回転軸にそって走査する手段と、シーン上にレーザ・
ビームによってつくられたスポットのイメージを受ける
光電性受光器と、シーンによって後方散乱されたレーザ
・ビームを光電性受光器に向けて収束させる手段と、走
査手段を去るビームの配向を測定する第1測定手段と、
レーザ遠隔測定によって装置とスポット間の距離を測定
し、放射レーザ・ビームとシーンによって後方散乱され
たレーザ・ビームとを分離するスプリッタ・プレートを
含む第2測定手段とからなる三次元記録用装置に関す
る。
62Aに記載されている。それは、レーザ・パルス放射
源と、2つの直交軸のまわりに回転する2つの検流計ミ
ラーからなる走査手段と、2つの検流計ミラーの位置に
もとづいてレーザ・ビームを向けかつその配向を決定す
るエンコーダとからなる。さらに、それは、パルス放射
源によって放射されたビームとシーンによって後方散乱
されたビームとを分離するオプチカル・スプリッタを含
み、それによってレーザ・パルスの「飛行時間」を測定
することによってシーン上のレーザ・ビームによってつ
くられたスポットと装置との間の距離を測定可能にす
る。この目的のために、その装置は、レーザ・ビームが
放射された時刻を測定する手段と、シーンによって後方
散乱されたレーザ・ビームが光電性受光器によって受け
られる時刻を測定する手段とを含む。
れたパルスは、シーン上にスポットをつくるために2つ
の検流計ミラーに向けてスプリッタによって部分的に反
射される。シーンによって受けられたパルスの一部は、
2つの検流計ミラーに向けて後方散乱され、光電性受光
器にそのパワーを収束するテレスコープによって受けら
れる前にスプリッタを通過する。
な範囲の距離内での測定に適用されたとき、後方散乱レ
ーザ・ビームが装置からスポットを分離する距離の自乗
に逆比例するので、光電性受光器によって受けられたレ
ーザ・ビームのパワーの広いダイナミック・レンジから
損害を受けることがある。
性受光器によって受けられた後方散乱レーザ・ビームの
パワーのダイナミック・レンジを制限しかつそれを考慮
できる装置をつくることによってこの欠点を改善するこ
とにある。
題は、シーンの三次元記録用装置であって、レーザ放射
源と、レーザ放射源によって放射されたレーザ・ビーム
を用いてシーンを走査するために第1および第2回転軸
にそって走査する手段と、シーン上にレーザ・ビームに
よってつくられたスポットのイメージを受ける光電性受
光器と、光電性受光器に向かってシーンによって後方散
乱されたレーザ・ビームを収束させる手段と、走査手段
を去るビームの配向を測定する第1測定手段と、レーザ
遠隔測定によって本装置とスポット間の距離を測定する
第2測定手段とからなり、前記第2測定手段は放射され
たビームとシーンによって後方散乱されたビームとを分
離するスプリッタ・プレートを有し、収束手段は発散光
学系と組み合わされた収束光学系を有し、収束光学系の
焦点距離を増加させて、遠隔対物レンズを形成し、走査
手段は、収束手段とシーンとの間で放射レーザ・ビーム
および後方散乱レーザ・ビームの経路に置かれた少なく
とも1つのミラーを含む。
は、長い焦点距離を有しかつ小型である収束手段を設け
ることによって、光電性受光器によって受けられた後方
散乱レーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジを
補償することを可能にする。
離れていても、イメージが完全にそれを覆うように、収
束手段の焦点距離を増加することが光電性受光器につく
られるスポットのイメージのサイズを増加させることが
できるからである。スポットがより近くなれば、光電性
受光器におけるそのイメージのサイズが、あたかもレー
ザ・ビームのパワーのように、装置からスポットを分離
する距離の自乗に逆比例して増加する。
て損なわずに、光電性受光器によって受けられたパワー
の表面密度が一定に留まるように、これがより近くなれ
ば、測定距離の大範囲によるダイナミック・レンジ効果
がサイズの増加によって補償される。
またはそれを越える下記の特徴を有する。 ― 前記収束光学系は、スプリッタ・プレートによって
生じたビームの波面の変形を補償する球形ミラーを有
し、この光学ミラーは放射されたレーザ・ビームおよび
後方散乱されたレーザ・ビームに関して軸から外れて配
置されている。 ― 前記第2測定手段は、レーザ放射源とスプリッタ・
プレートとの間に配置され、軸外れ球形ミラーによって
生じる放射ビームの波面の変形を補償するプリズム状プ
レートを有する。 ― 前記第2測定手段は、レーザ・ビームが放射された
瞬間を測定する手段と、シーンによって後方散乱された
ビームが光電性受光器によって受けられた瞬間を測定す
る手段とをさらに有し、前記のレーザ・ビームが放射さ
れた瞬間を測定する手段は、プリズム状プレートによっ
て反射された軸外れレーザ・ビームの一部を受けかつそ
れを光電性受光器に送る光ファイバを有している。 ― 前記収束光学系はスプリッタ・プレートと光電性受
光器との間で後方散乱レーザ・ビームの経路に配置され
た発散レンズを有している。 ― 前記スプリッタ・プレートは、シーンによって後方
散乱されかつ光電性受光器によって受けられたレーザ・
ビームのパワーのダイナミック・レンジを減少する半反
射経路を有している。 ― 前記光電性受光器は、平衡ホトダイオードを有し、
そのホトダイオードが温度補償手段と組み合わされてい
る。 ― 前記温度補償手段は、温度プローブと、温度プロー
ブによって測定された温度にもとづいて光電性受光器の
バイアス電圧を調節する手段とを有している。 ― 前記走査手段は、平面ミラーと、走査手段の第1お
よび第2回転軸の各々のまわりで前記平面ミラー位置を
制御する手段とを有している。 ― 光機械部と電子部とからなり、第1回転軸が相対的
軸受回転軸であり、回転軸のまわりの位置を制御する手
段がステップ・モータによって回転軸のまわりに回転駆
動されかつ光機械部の要素と電子部の要素との間を接続
する電気的接続手段の通路のために軸開口によって穿孔
されたプラットフォームを有している。 ― 前記プラットフォームは、プラットフォームと固定
リングとの間に配置されたビード装着玉軸受手段をかい
して固定リングに配置される。 ― 前記ステップ・モータがその周囲にある固定リング
の下に配置され、プラットフォームによって支持された
コッグド・ベルトをかいして第1軸のまわりにプラット
フォームを回転させるギヤーホイルに連結されている。 ― 前記第2回転軸は仰角回転軸であり、その軸のまわ
りの位置を制御する手段は駆動シャフトを含み、そのシ
ャフトの軸がプラットフォームに関して固定されてミラ
ーを第2軸のまわりに回転駆動する検流計スキャナにミ
ラーを接続する。 ― 前記第1測定手段は、レーザ・ビームの相対方位配
向を測定する環状増分光エンコーダを有する。そのエン
コーダがプラットフォームによって支持されている。 ― 前記光エンコーダは固定リングに固定され、プラッ
トフォームに固定された可動部を設けられている。 ― 前記レーザ放射源によって放射されたレーザ・ビー
ムを自動的に収束するユニットと、レーザ放射源を収束
ユニットに固定する手段とをさらに含む。 ― 前記固定手段は、レーザ放射源を支持しかつネジに
よって自動収束ユニットに固定されたベースプレート
と、自動収束ユニットに関してレーザ放射源の半径方向
調節をするためのネジとを有し、そのネジはベースプレ
ートに設けられた大径の軸穴に係合される。 ― レーザ・ビームを自動的に収束するユニットは、レ
ーザ・ビームの放射軸に置かれた少なくとも1つの発散
レンズと、放射軸に置かれた収束レンズと、収束レンズ
および発散レンズを放射軸にそって相対移動させる手段
とを有している。 ― 前記相対移動手段は、収束レンズを支持するスリー
ブを有し、スリーブのまわりに可撓性膜が固定され、さ
らにスリーブを放射軸にそって移動させるために膜を作
動させる手段とを有している。 ― 前記可撓性膜作動手段は、電流発生器と、コイルと
を有する。コイルは電流発生器によって電流を供給さ
れ、可撓性膜に固定され、放射軸のまわりで磁心の間隙
に配置される。 ― 前記可撓性膜作動手段は、収束レンズの検出された
位置を放射軸にそう収束レンズの所望の位置と比較し、
かつ、この差にもとづいて電流発生器を作動する手段を
含む手段を有している。 ― 前記自動収束ユニットは、放射軸にそう収束レンズ
の位置を検出する光学手段を含む。 ― 前記仰角回転軸のまわりにおける検流計ミラーの位
置を制御する手段を調節する手段と、レーザ・ビームが
支持回転軸のまわりで軸にそって受けられるその軸を調
節する手段とを有している。 ― 前記検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する
手段とおよびレーザ・ビームが軸にそって受けられるそ
の軸を調節する手段が、リングの一部から形成されたク
レードルを有し、各々がリングの軸のまわりで回転する
ようにクレードルが滑る対応するクレードル支持体から
なる。 ― 前記検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する
手段のクレードルの回転軸が、仰角回転軸および支持回
転軸に垂直であり、受け軸の調節手段のクレードル回転
軸が仰角回転軸に垂直であり、かつ、支持軸を含む垂直
面内にあり、クレードルの回転軸がミラーに交差する。 ― 前記光電性受光器によって出力として放出される信
号のダイナミック・レンジを減少する手段をさらに有す
る。 ― 信号のダイナミック・レンジを減少する手段は、プ
ログラム可能利得をもつ電圧減衰器と、電圧減衰器の出
力側に固定利得をもつ増幅ユニットとからなる。 ― 本装置とスポットとの間の距離を測定する前記第2
測定手段は、レーザ・ビームの「飛行時間」を測定する
集積回路からなる。
用装置において実施されるシーンの対象領域を明示する
方法であって、下記の工程からなる。シーンの点群を三
次元記録すること、点群の座標を記憶すること、点群を
モデル化および/または表示すること、さらに下記の工
程を含むことを特徴とする方法。
選択すること、対象領域を画定すること、レーザ・ビー
ムによってシーンにつくられたスポットが対象領域に対
応する選択された副群の点のうち少なくともいくつかに
おいて次々と明示するように、走査手段および放射源ギ
ヤーホイルを制御すること。
よって描かれたシーン4の三次元記録用装置2は、例え
ば、光線に対して透明な窓8が設けられたケーシング6
からなる。
の部分は窓8が置かれ、光学系を含み、装置2の光学部
10を構成する。第2の部分は、第1の部分の下にあ
り、電子系を含む。その必須の要素は、図8および9を
参照して記載され、装置2の電子部12を構成する。
表示、修正、または活性化方法を実行するのに十分なデ
ータを計算し、記憶する設備を含む。特に、電子部12
は、PCIバス、ISAバスのようなデータバスの様々
なフォーマットを有する電子カードを収納できるバック
プレーンからなるオンボード・マイクロコンピュータ・
アーキテクチャを有する。
かつ光学部10および電子部12の様々な要素を制御す
るカードに嵌合された小型マイクロコンピュータ・カー
ドを含む。電子部12については後述する。
または電子パーソナル・オーガナイザのような外部制御
部材(図示せず)にエサーネット式のリンクによって接
続される。
形プラットフォーム14が、これら2つの部分間にプレ
ート15のような板をかいして配置される。中心で切断
する垂直軸16のまわりにおけるプラットフォーム14
の角度位置は、図3を参照して記載される制御装置によ
って制御される。シーン4が相対方位において装置2に
よって走査されるようにする。
軸穴18が開けられ、光学部10の要素と電子部12の
要素との間の接続をするための電気的接続通路をつく
る。このプラットフォーム14の詳細な実施例が、図3
を参照として記載される。
かつ光学部10の要素のいくつかを支持するように意図
された梁形状のスタンド19; ― スタンド19に固定されたマイクロレーザのような
従来型のレーザ放射源20; ― レーザ放射源20に固定されていてレーザ放射源2
0によって放射されたレーザ・ビームを自動的に収束す
るユニット22; ― 自動収束ユニット22の出力側でレーザ放射源20
によるレーザ・ビームの放射軸26上に置かれ、かつ、
スタンド19に固定されたプリズム状プレート24; ― プリズム状プレート24によって反射された軸外れ
レーザ・ビームの一部を受ける光ファイバ28; ― 光ファイバ28に接続されていて古典的な光電性受
光器29; ― プリズム状プレート24を通って移動しかつトラッ
プに受けられたレーザ・ビームの一部の反射を防止する
ために、プリズム状プレート24から所定の距離をあけ
てスタンド19に固定された従来型の光トラップ30; ― スタンド19に固定されていて、放射軸26上でプ
リズム状プレート24と光トラップ30との間に置か
れ、放射軸26に対して約45°で傾斜された透明スプ
リッタ・プレート32; ― プリズム状プレート24に対面したスプリッタ・プ
レート32の面上に配置されかつ放射軸26上に中心を
置いた半反射パッチ34;パッチ34は、プリズム状プ
レート24を通過したレーザ放射源20によって放射さ
れたレーザ・ビームの一部を反射し、帰路においてスタ
ンド19の縦軸に平行な光学軸36にそってシーン4に
よって後方散乱されたレーザ・ビームの一部を伝送す
る。 ― スタンド19に固定され、光学軸36に関して軸外
れに配置されていて、スプリッタ・プレート32から出
る放射源20によって放射されたレーザ・ビームまたは
シーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを反射
する球形ミラー38;球形ミラー38は収束光学系の一
部を形成する。 ― 軸16に垂直な軸44のまわりで角度位置(後述す
る)に関して制御されて、ゼロ(0)点において軸16
を切断する検流計ミラー42;球形ミラー38によって
反射されたレーザ・ビームをシーン4に向けるためにか
つシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを球
形ミラー38に収束して向けるために、軸44はプラッ
トフォーム14に関して固定される。 ― シーン4によって後方散乱されかつスプリッタ・プ
レート32によって伝送されるレーザ・ビームの戻り経
路にそって光学軸36上に配置された光電性受光器4
6; ― レーザ・ビームが光電性受光器46に到達する前に
シーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを濾過
するためにスプリッタ・プレート32と光電性受光器4
6との間で光学軸36上に配置された従来型の干渉フィ
ルタ48; ― 球形ミラー38と関連して、長い焦点距離を維持し
ながら後方散乱レーザ・ビーム受光路を減少するように
遠隔対物レンズを形成するために、スプリッタ・プレー
ト32と光電性受光器46との間で光学軸36上に配置
された発散レンズ50;発散レンズ50は、収束光学系
に関してならびに光電性受光器46およびフィルタ48
に関して固定した発散光学系の一部を形成する。収束光
学系は、光電性受光器46およびフィルタ48に関して
固定される。発散レンズ50は、光電性受光器46およ
びフィルタ48に関してその結果固定される。
ズム状プレート24、ならびにスプリッタ・プレート3
2および半反射経路34からなる組合せは、軸16、2
6、36が厳密に同一平面になるように、配置される。
源20によって放射されたレーザ・ビームは、レーザ・
ビームが自動収束ユニット22を通過した後に、プリズ
ム状プレート24に到達する。それは、軸26に垂直な
第1面分離表面24aをかいしてプリズム状プレート2
4に入る。
を去り、軸26に傾斜された第2面表面24bを通過す
る。レーザ・ビームの一部は、表面24bによって軸2
6から離れて反射される。
ズム状プレート24の第1面表面24aと光ファイバ2
8の第1端との間において点接触で第1面表面24aに
再び到達する。
に接続される。光電性受光器29は、プリズム状プレー
ト24によって反射されたレーザ・ビームの一部が受け
られた時刻T1を決定する。この時刻T1は、以下レーザ
・ビームの放射時刻という。
を通過した後、それは半反射パッチ34の中心に到達す
る。レーザ・ビームの一部は光学軸36にそって球形ミ
ラー38に向かって反射され、レーザ・ビームの他の部
分はスプリッタ・プレート32を通過してしまった後に
光りトラップ30によって完全に吸収される。
れたレーザ・ビームは、スタンド19上の球形ミラー3
8の軸外れ位置によって予め決定される点Jにおいて球
形ミラー38に到達する。
38から反射された後に、レーザ・ビームが軸16、2
6、36を含む面内に存在する経路に従いそして軸16
および44の交点Oにおいて検流計ミラー42に当たる
ように、球形ミラー38がスタンド19およびプラット
フォーム14に関して定置される。軸44は、レーザ・
ビームが移動する面に対して直交している。好ましく
は、点Oは、検流計ミラー42の反射面の中心に存在す
る。
2によって反射され、次いで窓8を通過した後にシーン
4上に光スポット52をつくる。次に、光線がスプリッ
タ・プレート32および半反射パッチ34からなる組合
せに到達するまで、シーン4上での光線の後方散乱によ
って光線の一部が前述した経路とほぼ同じ経路を逆方向
に従い、そして、光電性受光器46に向かって軸36に
そってこの組合せを通過する。
ッタ・プレート32を通過したレーザ・ビームは、発散
レンズ50を通過し、次いで干渉フィルタ48を通過す
る。光電性受光器46は、シーンによって後方散乱され
たレーザ・ビームが受けられる時刻T2を決定する。時
刻T1およびT2にもとづいて点Oからスポット52を分
離する距離の計算は、それ自体公知であると認められ
る。
そって球形ミラー38に放射されたレーザ・ビームを向
けることである。しかし、それはシーン4によって後方
散乱されかつ光電性受光器46によって受けられたレー
ザ・ビームにおける一部のパワーのダイナミック・レン
ジを修正する機能をも有している。これは、スポット5
2が装置2に接近しているときに、シーン4によって後
方散乱されたレーザ・ビームのパワーが高くなるが、し
かし、スプリッタ・プレート32を通過するレーザ・ビ
ームの直径が半反射パッチ34の直径よりも小さいから
である。
タ・プレート32は一般に完全反射中央阻止要素を設け
られている。この場合、その阻止要素はスポット52か
らの距離が測定されることを防止する効果を有してい
る。
に半反射パッチ34のようなパッチが設けられている場
合には、スプリッタ・プレート32を通過するレーザ・
ビームが半反射パッチ34をかいして完全に通過し、ま
た、このレーザ・ビームの減衰部分が光電性受光器46
に到達する。
る場合には、シーン4によって後方散乱されたレーザ・
ビームのパワーが距離の自乗に逆変化するので、それは
低くなるが、しかし、スプリッタ・プレート32を通過
するレーザ・ビームが大きくなり、そして、予め定めら
れた距離を超えると、それは半反射パッチ34のものよ
りも大きくなる。
が、半反射パッチ34の周囲においてスプリッタ・プレ
ート32によって光電性受光器46に完全に伝送され
る。この完全に伝送された部分が大きくなればなるほ
ど、ますますスポット52が装置2から離れ、したがっ
て、後方散乱レーザ・ビームのパワーがますます低くな
る。
0は、278Wのピーク・パワーを有するマイクロレー
ザである。球形ミラー38は、装置2の受光直径が40
mmになるような直径を有する。半反射パッチ34は、
6mmの直径と0.5の反射パワーとを有する。最後
に、後方散乱係数を表す光電性受光器46の受光面のア
ルベドは、0.01である。
得られた。
する距離を与える。
れた穴においてシーン4によって後方散乱されたレーザ
・ビームのパワーを装置2に与える。このパワーは、第
1列に与えられた距離に反比例する。
リッタ・プレート32を完全に通過した後方散乱レーザ
・ビームの一部の光電性受光器46に受けられたパワー
を与える。
過した後方散乱レーザ・ビームの一部が光電性受光器4
6に受けられたパワーを与える。最後に、第5列は、前
記2つの列の合計、すなわち、光電性受光器46によっ
て受けられた合計電力を与える。
距離に反比例して変化するが、光電性受光器46によっ
て受けられたレーザ・ビームのパワーのダイナミック・
レンジが3未満の係数であり、すなわち、それは1mか
ら90mまで変わる距離に対して0.08μWから0.
23μWまで変わる。
ー38との組合せに関しては、これは、図2に示すよう
に、シーン4に向けてレーザ放射源20によって放射さ
れたレーザ・ビームの外側経路において軸外れ球形ミラ
ー38によって誘導される収差を、補償する機能を有す
る。
パルスを放射するとき、このパルスの移動方向に垂直な
面内で波面の横断面20pが円形になるからである。し
かし、プリズム状プレート24がパルス波面の収差歪み
を誘導するので、その横断面20pはプリズム状プレー
ト24とスプリッタ・プレート32との間で楕円にな
る。
差を誘導しないので、スプリッタ・プレート32と球形
ミラー38との間のレーザ・パルス波面の横断面32p
aがまだ楕円である。
に置かれた球形ミラー38は、パルスが球形ミラー38
から反射されるとき、レーザ・パルス波面の収差歪みを
誘導する。したがって、この波面の横断面38paは、
球形ミラー38と検流計ミラー42との間で再び円形に
なる。
ス波面の収差歪みを誘導しないので、それはシーン4に
到達して円形スポット52をつくる。軸外れ球形ミラー
38の機能の1つは、光電性受光器46に向かうシーン
4によって後方散乱レーザ・パルスの戻り経路におい
て、レーザ・パルスがそれを通過するとき、図3に示す
ように、スプリッタ・プレート32によって誘導された
収差を補償することである。
れたレーザ・パルスが、レーザ・パルスの移動方向に垂
直な面内の断面4pがシーン4と検流計ミラー42との
間で円形となる波面を有するからである。
面42pはそれが球形ミラー38に到達するまで円形で
ある。上述したように、レーザ・パルスの入射方向に関
して軸外れに置かれた球形ミラー38は、レーザ・パル
スが球形ミラー38から反射された後でかつレーザ・パ
ルスがスプリッタ・プレート32に到達する前に、レー
ザ・パルス波面の断面38prが楕円になるように、レ
ーザ・パルス波面に収差を誘導する。
ート32を通過するとき、スプリッタ・プレート32が
収差を誘導する。これは、このレーザ・パルスの波面の
断面32prが発散レンズ50に到達する前に、再び円
形になるように球形ミラー38の収差によって補償され
る。
は、パルス波面のいかなる収差歪みをも誘導しない。こ
れは、光電性受光器46におけるスポット52のイメー
ジが正しく円形である結果を有するからである。
をレーザ放射源20に固定する手段が、図4に示されて
いる。自動収束ユニット22は、垂直軸16のまわりに
軸対称である。それは、軸16に中心を置く2つの固定
発散レンズ60、62と、軸16に中心を置くがこの軸
にそって可動な収束レンズ64からなる。
管状装着体66内に置かれる。この第1管状装着体66
の小断面の第1部分68は、その自由端において発散レ
ンズ60を支持する。装着体66の第1円筒形部分68
は、截頭円錐形の遷移領域71をかいして大断面の第2
部分70に接続される。
着される。フランジを形成する第3部分72は、円筒形
第2部分70に第1部分68から第2部分の反対端で固
定される。
部分を包囲する端穴76を有するブッシュ74に嵌合さ
れ、また、収束レンズ64を支持するスリーブ78がブ
ッシュ74内で滑るように嵌合される。
いる。その断面は、装着体66の大断面第2部分70の
それに対応する。最後に、端穴76から反対側にブッシ
ュ74は外ネジ84を含むラジアル・カラー82を有す
る。
82に係合する。リング86はカラー82とフランジ7
2との間に入れられ、発散レンズ60、62を支持する
装着体66の軸方向位置を調節できる。
互いに120°に配置され、フランジ72につくられた
軸穴92内に置かれる。これらのネジ90はリング86
内に延び、ブッシュ74のカラー82につくられた蓋付
き穴88に係合される。
体66のフランジ72の面には、レーザ放射源20を固
定する軸方向凹部94がある。凹部94よりも小径のベ
ースプレート96が、装着体66と同軸の凹部94に嵌
合され、また、レーザ放射源20が互いに120°に配
置された3つのネジ98によってベースプレート96に
固定される。ベースプレート96は、互いに120°に
配置された3つの平頭ネジ100によって凹部94の底
に固定され、ベースプレート96につくられた大径の軸
方向穴102に配置されて、装置2の放射軸16に関し
てベースプレート96の、したがってレーザ放射源20
の半径方向位置を調節する。
る。凹部94は、レーザ放射源20のラジアル調節用ネ
ジ106が3本置かれた周囲リム104によって境界を
付けられる。
は、それぞれ例えば、ローレット付き頭部108と、ベ
ースプレート96の横面110に接触する端部とを有す
る。ブッシュ74は、それが例えば、押し嵌めされる磁
心112によって包囲される。
シュ74および装着体66、78と同軸であり、装着体
66、78は発散レンズ60、62および収束レンズ6
0をそれぞれ支持する。
に一方の面をかいして接触する。環状溝114は、カラ
ー82から反対側にある磁心112の面につくられる。
環状溝は、コイル118が置かれる中央突起116を画
定する。コイル118は、膜120に一端をかいして固
定されたスカート122によって膜120を作動する。
2にその周囲を固定され、スリーブ78が係合されかつ
固定された円形穴によってその中央に穴開けされる。こ
のようにして、コイル118を流れる電流は、コイル1
18を軸16にそって動かし、可撓性膜120をかいし
て軸16にそってスリーブ78を動かす。
を供給され、その出力が比較器126の出力に接続され
る。比較器126は、PDS型ホトダイオード128
(収束レンズ64を支持するスリーブ78の自由端が置
かれる経路において光放射ダイオード130から来る光
線によって照射される)によって発生された信号と、シ
ーン4を照射するスポット52の距離に対応した信号と
を比較する。
交軸16、44のまわりで位置を制御する手段に連結さ
れた検流計ミラー42からなる。垂直軸16のまわりで
検流計ミラー42の位置を制御する手段は、シーン4の
相対方位走査を許し、かつ、減速機202に連結された
ステップ・モータ200からなる。これらは、固定リン
グ204の下でその周囲に配置される。減速機202
は、固定リング204を通過するギヤーホイル206の
垂直軸まわりの回転を制御する。
に接着されたコッグド・ベルト210によって垂直軸1
6まわりで回転するように、可動リング208を駆動す
る。可動リング208は、その周囲につくられた溝21
3に置かれたビード上で薄い玉軸受212によって固定
リング204に関して回転する。
が、これら垂直プレートに固定された装着プレート22
3と共に可動リング208に配置される。図1を参照し
て記載したプラットフォーム14は、装着プレート22
3と、可動リング208とからなる。
転移動は、固定リング216によって固定リング204
に固定された光エンコーダ214によって測定される。
光エンコーダ214は、従来型の角度増分エンコーダで
ある。
可動リング208に固定された円筒形リム220が、光
エンコーダ214の軸方向通路218に挿入される。光
エンコーダ214は、鎖錠ネジ(図示せず)によって装
着プレート223のリム220に鎖錠された可動部分2
22を従来通りに設けられている。これは、プラットフ
ォーム14の相対方位回転が増分を測定されるようにす
る。
を制御する手段は、検流計ミラー42を従来型の検流計
スキャナ226に接続する伝達腕224からなる。伝達
腕224は、第1調節手段228によってプレート15
に固定されて、回転軸44を調節し、軸44まわりの回
転を検流計ミラー42に伝達し、この回転が検流計スキ
ャナ226によって制御される。
照して以下に詳細に記載される。このようにして、検流
計ミラー42は、検流計スキャナ226によって水平軸
44のまわりでかつモータ200によって垂直軸16ま
わりで制御される。
するために第2調節手段229によってプレート15に
固定される。これら第2調節手段は、図7を参照して下
記に詳細に記載される。
ングの一部分から形成されたクレードル230からな
る。垂直リングの中心は、検流計ミラー42の中心にあ
る点Oにおいて垂直軸16に定置される。クレードル2
30は、同一直径で、軸16および軸44に垂直で、プ
レート15に平行で、点Oを通るクレードル支持体23
2上を回転自在に滑る。クレードル支持体232は、プ
レート15に固定されている。
されたスリーブ233の内側で軸のまわりに自由回転す
るように装着される。クレードル支持体232において
水平軸223まわりのクレードル230の回転は、検流
計ミラー42、スリーブ233、伝達腕224、検流計
スキャナ226からなる集合体の同一軸まわりの回転を
生じる。この集合体は、クレードル230に装着され
る。
ングの一部分によって形成されたクレードル234から
なる。水平リングの中心は、垂直軸16に定置される。
クレードル234は、軸44に垂直な軸のまわりにかつ
垂直軸16を含む面内で同一半径のクレードル支持体2
36上で回転自在に滑る。クレードル支持体236は、
プレート15に固定される。
が、装着体19、したがって光学軸36を同じ軸のまわ
りに回転させる。このようにして、調節手段228およ
び229が、例えば、検流計ミラー42を回転させるよ
うに意図された伝達腕224に検流計ミラー42を不正
確に装着したような構造上の欠陥を補償することによっ
て、光学軸36および検流計ミラー42の回転軸44を
調節する。
走査できる。図8において、光電性受光器46は、光電
性受光器46によって出力として送られる信号のダイナ
ミック・レンジを減少する手段300に連結される。手
段300は、図1において電子部12に組み込まれる。
ーザ・ビームのパワーに直接関係する強さの電流を出力
として送る電子雪崩ホトダイオードを含む。ダイナミッ
ク・レンジを減少する手段300は、電圧が電子雪崩ホ
トダイオードによって入力として送られる電流の強さに
比例する電気信号を出力として送るトランスインピーダ
ンス増幅器302からなる。この電気信号は、プログラ
ム手段306に従来の仕方で連結されたプログラム可能
電圧減衰器304に伝送される。
0は、減衰器304の出力側に直列に接続された2つの
固定利得増幅器308を含む。増幅器308の数は、2
から異なってもよい。
送られた電気信号は、従来型のインピーダンス整合回路
310に供給する。例えば、このインピーダンス整合回
路310は、各50Ωの2つの抵抗312からなる。
て出力として送られる電気信号は、レーザ・ビームの
「飛行時間」を測定する手段314に供給する。これら
の手段は集積回路に組み込まれる。これらの測定手段3
14は、従来型のものである。例えば、Atomic
Power Commissariatによるフランス
特許第94/11847に記載された形式のものでもよ
い。それらは、インピーダンス整合回路310によって
それらに伝送される信号のパワーの数値をプログラム可
能手段へ送るように特に設計されている。
46によって受けられているときはいつでも、電圧が一
定である信号を減衰器304によって出力として送るた
めに、プログラム可能手段306が「飛行時間」測定手
段314によって送られる数値に反比例した数値に減衰
器304の利得を決定しかつ調節する。
6がホトダイオード46付近に配置される。プローブ3
16によって測定された温度に対応する電圧が、この温
度の数値を、データバス322をかいしてコンピュータ
320に伝送するために、従来型のアナログーデジタル
変換器318に伝送される。
して増倍係数を増倍デジタルーアナログ変換器324に
伝送し、数値設定点値をデジタルーアナログ変換器32
6に伝送する。
よびホトダイオード46の特性にもとづいて決まるが、
プローブ316によって測定された温度から独立してい
る。一方、変換器326に送られた数値設定点値はプロ
ーブ316によって測定された温度によって決まり、所
定の温度において、ホトダイオード46の予め定められ
た値に対応する。この利得値は、例えば、コンピュータ
320によって便利に接触できるデータ表によって供給
される。
力およびデジタル入力を有する。それは、その基準入力
にプローブ316によって測定された温度に対応する電
圧を受け、また、デジタル入力に増倍係数を受ける。
よって測定された温度に対応する電圧によって増倍され
た増倍係数の積に等しい出力として送る。総和増幅器3
28が、入力としてこの修正電圧を受け、また、デジタ
ルーアナログ変換器326によって出力として送られ、
かつ、コンピュータ320によって送られた数値設定点
値に直接もとづく設定値を受ける。
点電圧の合計に等しい制御電圧を出力として送る。この
電圧は、温度変動から独立してホトダイオード46の一
定利得を維持することを可能にする。
圧にもとづいてホトダイオード46のバイアス電圧を調
節するために、制御電圧が従来型のホトダイオード46
に供給するための手段330に加えられる。
上述した装置の電子部12において実施される。第1工
程においては、シーン4の点群の三次元記録が起こる。
が、電子部12に記憶される。これらの座標は、検流計
ミラー42の中心Oとスポット52との間の距離と、走
査手段の出力におけるレーザ・ビームの相対方位配向を
測定する角度と、この同じレーザ・ビームの仰角配向を
測定する角度とを含む。
よび/または表示される。続く工程においては、副群が
このモデル化および/または表示された点群から選択さ
れる。この副群は、前記群において少なくとも1つの点
からなり、前記対象領域を画定する。
4、42、200、202、204、206、210、
212、224、226およびレーザ放射源20が、レ
ーザ・ビームによってシーン4上につくられたスポット
52が対象領域に対応する選択された副群の点の少なく
ともいくつかの点において引き続いて特定する。
点群からなる。上述した例において図示した本発明は、
小型化を維持しながら、収束手段の長い焦点距離によっ
てスポット52と装置2との間の距離の自乗に反比例す
る後方散乱レーザ・ビームのパワーによるダイナミック
・レンジ効果を補償することによって、広い距離にわた
って延びる測定を行うことができる三次元記録用装置を
つくりだすことを可能にすることは、明らかである。
つ後方散乱されたレーザ・ビームに関して軸外れに置か
れた球形ミラーによって、それがスプリッタ・プレート
32によって生じるビーム波面の歪みを補償するので、
光電性受光器46におけるスポット52のイメージが円
形になることである。
20とスプリッタ・プレート32との間に配置されたプ
リズム状プレート24によって、レーザ放射源20とシ
ーン4との間でレーザ・ビームの出力経路において球形
ミラー38によって生じるビーム波面の歪みを補償する
ことである。
プレート32に置かれた半反射パッチによって、スポッ
ト52が三次元記録用装置に非常に接近しているときで
さえも、測定をすることを可能にすることである。
って後方散乱されたレーザ・ビームの大ダイナミック・
レンジを補償することである。このダイナミック・レン
ジは、光電性受光器46によって出力として送られた信
号のダイナミック・レンジを減少する手段を用いて、シ
ーン4の散乱屈折率楕円にもとづいて決まる。
て穿孔されたプラットフォームを含む走査手段を用い
て、装置の電子部と光学部間の電気的接続通路を許しな
がら、360°に及ぶ範囲にわたる相対方位走査を許す
ことである。
42の位置を調節する手段と、レーザ・ビームが受けら
れる軸の調節手段とを用いて、面内のシーン4を走査す
ること、したがってシーン4上に記録された点の群の歪
みを回避することを可能にすることである。
20によって放射されたレーザ・ビームを収束するため
の自動収束ユニットを用いて、目標上の測定の良好な空
間解像度を与えることである。
ザ・ビームによってシーン4上の対象領域を装置2によ
って特定することを可能にする方法を用いることであ
る。この対象領域はオペレータによって必ずしもアクセ
スできなくてもよく、容易に実行できる。
なされる切断のトレースを特定するために適用される。
る。
動中のレーザ・ビーム波面のレーザ・ビーム移動方向に
おける投影を概略的に示す。
動中のレーザ・ビーム波面のレーザ・ビーム移動方向に
おける投影を概略的に示す。
ある。
ある。
節手段の概略上面図である。
レンジを減少する電子手段のブロック線図を示す。
を制御する手段のブロック線図を示す。
Claims (29)
- 【請求項1】シーン(4)の三次元記録用装置であっ
て、レーザ放射源(20)と、前記レーザ放射源(2
0)によって放射されたレーザ・ビームを用いて前記シ
ーン(4)を走査するために第1および第2回転軸(1
6、44)にそって走査する手段(14、42、20
0、204、206、210、212、224、22
6)と、前記シーン(4)上にレーザ・ビームによって
つくられたスポット(52)のイメージを受ける光電性
受光器(46)と、前記光電性受光器(46)に向かっ
て前記シーン(4)によって後方散乱されたレーザ・ビ
ームを収束させる手段(38、50)と、前記走査手段
(14、42、200、204、206、210、21
2、224、226)を去るビームの配向を測定する第
1測定手段(214、226)と、レーザ遠隔測定によ
って前記装置と前記スポット間の距離を測定する第2測
定手段(24、28、32、34、48、314)とか
らなり、前記第2測定手段は放射されたビームと前記シ
ーン(4)によって後方散乱されたビームとを分離する
スプリッタ・プレート(32)を有し、前記収束手段
(38、50)は発散光学系(50)と組み合わされた
収束光学系(38)を有し、前記収束光学系の焦点距離
を増加させて、遠隔対物レンズを形成し、前記走査手段
(14、42、200、204、206、210、21
2、224、226)は、前記収束手段(38、50)
と前記シーン(4)との間で放射レーザ・ビームおよび
後方散乱レーザ・ビームの経路に置かれた少なくとも1
つのミラーを含むことを特徴とした装置。 - 【請求項2】前記収束光学系(38)は、前記スプリッ
タ・プレート(32)によって生じたビームの波面の変
形を補償する球形ミラーを有し、この光学ミラーは放射
されたレーザ・ビームおよび後方散乱されたレーザ・ビ
ームに関して軸から外れて配置されている、請求項1に
記載の装置。 - 【請求項3】前記第2測定手段は、前記レーザ放射源
(20)と前記スプリッタ・プレート(32)との間に
配置され、前記軸外れ球形ミラー(39)によって生じ
る放射ビームの波面の変形を補償するプリズム状プレー
ト(24)を有する、請求項1または2に記載の装置。 - 【請求項4】前記第2測定手段は、レーザ・ビームが放
射された瞬間を測定する手段(24、28、314)
と、シーン(4)によって後方散乱されたビームが前記
光電性受光器(46)によって受けられた瞬間を測定す
る手段(48、314)とをさらに有し、前記のレーザ
・ビームが放射された瞬間を測定する手段は、前記プリ
ズム状プレート(24)によって反射された軸外れレー
ザ・ビームの一部を受けかつそれを光電性受光器(2
9)に送る光ファイバ(28)を有している、請求項3
に記載の装置。 - 【請求項5】前記発散光学系(50)は前記スプリッタ
・プレート(32)と前記光電性受光器(46)との間
で後方散乱レーザ・ビームの経路に配置された発散レン
ズを有している、請求項1―4のうち任意の一項に記載
の装置。 - 【請求項6】前記スプリッタ・プレート(32)は、シ
ーン(4)によって後方散乱されかつ前記光電性受光器
(46)によって受けられたレーザ・ビームのパワーの
ダイナミック・レンジを減少する半反射経路(34)を
有している、請求項1―5のうち任意の一項に記載の装
置。 - 【請求項7】前記光電性受光器(46)は、平衡ホトダ
イオードを有し、該ホトダイオードが温度補償手段(3
30)と組み合わされている、請求項1―6のうち任意
の一項に記載の装置。 - 【請求項8】前記温度補償手段(330)は、温度プロ
ーブ(316)と、該温度プローブ(316)によって
測定された温度にもとづいて前記光電性受光器(46)
のバイアス電圧を調節する手段とを有している、請求項
7に記載の装置。 - 【請求項9】前記走査手段(14、42、200、20
4、206、210、212、224、226)は、平
面ミラー(42)と、前記走査手段の第1および第2回
転軸(16、44)の各々のまわりで前記平面ミラー位
置を制御する手段(14、200、202、206、2
24、226)とを有している、請求項1―8のうち任
意の一項に記載の装置。 - 【請求項10】光機械部(10)と電子部(12)とか
らなり、前記第1回転軸(16)が相対的軸受回転軸で
あり、該軸のまわりの位置を制御する手段(14、20
0、202、206)がステップ・モータ(200)に
よって前記軸のまわりに回転駆動されかつ前記光機械部
(10)の要素と前記電子部(12)の要素との間を接
続する電気的接続手段(18a)の通路のために軸開口
(18)によって穿孔されたプラットフォーム(14)
を有している、請求項9に記載の装置。 - 【請求項11】前記プラットフォーム(14)は、該プ
ラットフォーム(14)と固定リング(204)との間
に配置されたビード装着玉軸受手段(212)をかいし
て固定リング(204)に配置された、請求項10に記
載の装置。 - 【請求項12】前記ステップ・モータ(200)がその
周囲にある固定リング(204)の下に配置され、前記
プラットフォーム(14)によって支持されたコッグド
・ベルト(210)をかいして前記第1軸(16)のま
わりに該プラットフォーム(14)を回転させるギヤー
ホイル(206)に連結されている、請求項11に記載
の装置。 - 【請求項13】前記第2回転軸(44)は仰角回転軸で
あり、該軸のまわりの位置を制御する手段(224、2
26)は駆動シャフト(224)を含み、該シャフトの
軸が前記プラットフォーム(14)に関して固定されて
前記ミラー(42)を前記第2軸(44)のまわりに回
転駆動する検流計スキャナ(226)に前記ミラー(4
2)を接続する、請求項9―12のうち任意の一項に記
載の装置。 - 【請求項14】前記第1測定手段(214、226)
は、レーザ・ビームの相対方位配向を測定する環状増分
光エンコーダ(214)を有し、該エンコーダが前記プ
ラットフォーム(14)によって支持されている、請求
項10―13のうち任意の一項に記載の装置。 - 【請求項15】前記光エンコーダ(214)は前記固定
リング(204)に固定され、前記プラットフォーム
(14)に固定された可動部(222)を設けられてい
る、請求項14に記載の装置。 - 【請求項16】前記レーザ放射源(20)によって放射
されたレーザ・ビームを自動的に収束するユニット(2
2)と、前記レーザ放射源(20)を前記ユニット(2
2)に固定する手段(96、98、100、108)と
をさらに含む、請求項1―15のうち任意の一項に記載
の装置。 - 【請求項17】前記固定手段(96、98、100、1
08)は、前記レーザ放射源(20)を支持しかつネジ
(100)によって前記自動収束ユニット(22)に固
定されたベースプレート(96)と、前記自動収束ユニ
ット(22)に関して前記レーザ放射源(20)の半径
方向調節をするためのネジ(106)とを有し、前記ネ
ジ(100)は前記ベースプレート(96)に設けられ
た大径の軸穴(102)に係合される、請求項16に記
載の装置。 - 【請求項18】レーザ・ビームを自動的に収束するユニ
ット(22)は、レーザ・ビームの放射軸(26)に置
かれた少なくとも1つの発散レンズ(60、62)と、
前記放射軸(26)に置かれた収束レンズ(64)と、
該収束レンズ(64)および前記発散レンズ(60、6
2)を前記放射軸(26)にそって相対移動させる手段
(78、118、120、122、124、126、1
28、130)とを有している、請求項16および17
に記載の装置。 - 【請求項19】前記相対移動手段(78、118、12
0、122、124、126、128、130)は、前
記収束レンズ(64)を支持するスリーブ(78)を有
し、該スリーブのまわりに可撓性膜(120)が固定さ
れ、さらに前記スリーブ(78)を前記放射軸(26)
にそって移動させるために前記膜(120)を作動させ
る手段(118、124、126、128、130)と
を有している、請求項18に記載の装置。 - 【請求項20】前記可撓性膜作動手段(118、12
4、126、128、130)は、電流発生器(12
4)と、コイル(118)とを有し、該コイル(11
8)は前記電流発生器(124)によって電流を供給さ
れ、前記可撓性膜(120)に固定され、前記放射軸
(26)のまわりで磁心(112)の間隙に配置され
る、請求項19に記載の装置。 - 【請求項21】前記可撓性膜作動手段(118、12
4、126、128、130)は、前記収束レンズ(6
4)の検出された位置を前記放射軸(26)にそう前記
収束レンズ(64)の所望の位置と比較し、かつ、この
差にもとづいて前記電流発生器(124)を作動する手
段を含む手段(126)を有している、請求項19また
は20に記載の装置。 - 【請求項22】前記自動収束ユニット(22)は、前記
放射軸(26)にそう前記収束レンズ(64)の位置を
検出する光学手段(128、130)を含む、請求項1
6―21のうち任意の一項に記載の装置。 - 【請求項23】前記仰角回転軸(44)のまわりにおけ
る前記検流計ミラー(24)の位置を制御する手段を調
節する手段(228)と、レーザ・ビームが前記支持回
転軸(16)のまわりで軸(36)にそって受けられる
その軸(36)を調節する手段(229)とを有してい
る、請求項9―22のうち任意の一項に記載の装置。 - 【請求項24】前記検流計ミラー(24)の位置を制御
する手段を調節する手段(228)とおよびレーザ・ビ
ームが軸(36)にそって受けられるその軸(36)を
調節する手段(229)が、リングの一部から形成され
たクレードル(230、234)を有し、各々が前記リ
ングの軸のまわりで回転するように前記クレードルが滑
る対応するクレードル支持体(232、236)からな
る、請求項23に記載の装置。 - 【請求項25】前記検流計ミラーの位置を制御する手段
を調節する手段(228)の前記クレードル(230)
の回転軸が、前記仰角回転軸(44)および前記支持回
転軸(16)に垂直であり、前記受け軸(36)の調節
手段(229)のクレードル(234)回転軸が前記仰
角回転軸(44)に垂直であり、かつ、前記支持軸(1
6)を含む垂直面内にあり、前記クレードル(230、
234)の回転軸が前記ミラー(42)に交差する、請
求項24に記載の装置。 - 【請求項26】前記光電性受光器(46)によって出力
として放出される信号のダイナミック・レンジを減少す
る手段(300)をさらに有する、請求項1―25のう
ち任意の一項に記載の装置。 - 【請求項27】信号のダイナミック・レンジを減少する
前記手段(300)は、プログラム可能利得をもった電
圧減衰器(304)と、該電圧減衰器(304)の出力
側に固定利得をもつ増幅ユニット(308)とからな
る、請求項26に記載の装置。 - 【請求項28】本装置とスポットとの間の距離を測定す
る前記第2測定手段(24、28、32、34、48、
314)は、レーザ・ビームの「飛行時間」を測定する
集積回路(314)からなる、請求項1―27のうち任
意の一項に記載の装置。 - 【請求項29】請求項1―28のうち任意の一項に記載
の三次元記録用装置において実施されるシーン(4)の
対象領域を明示する方法であって、下記の工程からな
り、 シーン(4)の点の群を三次元記録すること、 前記点群の座標を記憶(12)すること、 前記点群をモデル化および/または表示すること、 さらに下記の工程を含むことを特徴とする方法。前記点
群において少なくとも1つの点の副群を選択すること、 前記対象領域を画定すること、 レーザ・ビームによってシーン(4)につくられたスポ
ットが前記対象領域に対応する選択された副群の点のう
ち少なくともいくつかにおいて次々と明示するように、
走査手段(14、42、200、202、204、20
6、210、212、224、226)および放射源
(20)を制御すること。
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