JP4065681B2 - レーザ放射を用いたシーンの三次元記録用装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、シーンの三次元記録用装置に関する。
さらに詳しく言えば、本発明は、レーザ放射源と、レーザ放射源によって放射されたレーザ・ビームを用いてシーンを走査するために第1および第2回転軸にそって走査する手段と、シーン上にレーザ・ビームによってつくられたスポットのイメージを受ける光電性受光器と、シーンによって後方散乱されたレーザ・ビームを光電性受光器に向けて収束させる手段と、走査手段を去るビームの配向を測定する第1測定手段と、レーザ遠隔測定によって装置とスポット間の距離を測定し、放射レーザ・ビームとシーンによって後方散乱されたレーザ・ビームとを分離するスプリッタ・プレートを含む第2測定手段とからなる三次元記録用装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
このような装置は、文献US5988862Aに記載されている。それは、レーザ・パルス放射源と、2つの直交軸のまわりに回転する2つの検流計ミラーからなる走査手段と、2つの検流計ミラーの位置にもとづいてレーザ・ビームを向けかつその配向を決定するエンコーダとからなる。さらに、それは、パルス放射源によって放射されたビームとシーンによって後方散乱されたビームとを分離するオプチカル・スプリッタを含み、それによってレーザ・パルスの「飛行時間」を測定することによってシーン上のレーザ・ビームによってつくられたスポットと装置との間の距離を測定可能にする。この目的のために、その装置は、レーザ・ビームが放射された時刻を測定する手段と、シーンによって後方散乱されたレーザ・ビームが光電性受光器によって受けられる時刻を測定する手段とを含む。
【0003】
したがって、レーザ放射源によって放射されたパルスは、シーン上にスポットをつくるために2つの検流計ミラーに向けてスプリッタによって部分的に反射される。シーンによって受けられたパルスの一部は、2つの検流計ミラーに向けて後方散乱され、光電性受光器にそのパワーを収束するテレスコープによって受けられる前にスプリッタを通過する。
【0004】
装置が1mから100mまでのような大きな範囲の距離内での測定に適用されたとき、後方散乱レーザ・ビームが装置からスポットを分離する距離の自乗に逆比例するので、光電性受光器によって受けられたレーザ・ビームのパワーの広いダイナミック・レンジから損害を受けることがある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の狙いは、光電性受光器によって受けられた後方散乱レーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジを制限しかつそれを考慮できる装置をつくることによってこの欠点を改善することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
したがって、本発明の主題は、シーンの三次元記録用装置であって、レーザ放射源と、レーザ放射源によって放射されたレーザ・ビームを用いてシーンを走査するために第1および第2回転軸にそって走査する手段と、シーン上にレーザ・ビームによってつくられたスポットのイメージを受ける光電性受光器と、光電性受光器に向かってシーンによって後方散乱されたレーザ・ビームを収束させる手段と、走査手段を去るビームの配向を測定する第1測定手段と、レーザ遠隔測定によって本装置とスポット間の距離を測定する第2測定手段とからなり、前記第2測定手段は放射されたビームとシーンによって後方散乱されたビームとを分離するスプリッタ・プレートを有し、収束手段は発散光学系と組み合わされた収束光学系を有し、収束光学系の焦点距離を増加させて、遠隔対物レンズを形成し、走査手段は、収束手段とシーンとの間で放射レーザ・ビームおよび後方散乱レーザ・ビームの経路に置かれた少なくとも1つのミラーを含む。
【0007】
このようにして、本発明にもとづく装置は、長い焦点距離を有しかつ小型である収束手段を設けることによって、光電性受光器によって受けられた後方散乱レーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジを補償することを可能にする。
【0008】
このことは、スポットが本装置から非常に離れていても、イメージが完全にそれを覆うように、収束手段の焦点距離を増加することが光電性受光器につくられるスポットのイメージのサイズを増加させることができるからである。スポットがより近くなれば、光電性受光器におけるそのイメージのサイズが、あたかもレーザ・ビームのパワーのように、装置からスポットを分離する距離の自乗に逆比例して増加する。
【0009】
このようにして、本装置の小型化を対応して損なわずに、光電性受光器によって受けられたパワーの表面密度が一定に留まるように、これがより近くなれば、測定距離の大範囲によるダイナミック・レンジ効果がサイズの増加によって補償される。
【0010】
本発明にもとづく三次元記録用装置は、1またはそれを越える下記の特徴を有する。
― 前記収束光学系は、スプリッタ・プレートによって生じたビームの波面の変形を補償する球形ミラーを有し、この光学ミラーは放射されたレーザ・ビームおよび後方散乱されたレーザ・ビームに関して軸から外れて配置されている。
― 前記第2測定手段は、レーザ放射源とスプリッタ・プレートとの間に配置され、軸外れ球形ミラーによって生じる放射ビームの波面の変形を補償するプリズム状プレートを有する。
― 前記第2測定手段は、レーザ・ビームが放射された瞬間を測定する手段と、シーンによって後方散乱されたビームが光電性受光器によって受けられた瞬間を測定する手段とをさらに有し、前記のレーザ・ビームが放射された瞬間を測定する手段は、プリズム状プレートによって反射された軸外れレーザ・ビームの一部を受けかつそれを光電性受光器に送る光ファイバを有している。
― 前記収束光学系はスプリッタ・プレートと光電性受光器との間で後方散乱レーザ・ビームの経路に配置された発散レンズを有している。
― 前記スプリッタ・プレートは、シーンによって後方散乱されかつ光電性受光器によって受けられたレーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジを減少する半反射経路を有している。
― 前記光電性受光器は、平衡ホトダイオードを有し、そのホトダイオードが温度補償手段と組み合わされている。
― 前記温度補償手段は、温度プローブと、温度プローブによって測定された温度にもとづいて光電性受光器のバイアス電圧を調節する手段とを有している。
― 前記走査手段は、平面ミラーと、走査手段の第1および第2回転軸の各々のまわりで前記平面ミラー位置を制御する手段とを有している。
― 光機械部と電子部とからなり、第1回転軸が相対的軸受回転軸であり、回転軸のまわりの位置を制御する手段がステップ・モータによって回転軸のまわりに回転駆動されかつ光機械部の要素と電子部の要素との間を接続する電気的接続手段の通路のために軸開口によって穿孔されたプラットフォームを有している。
― 前記プラットフォームは、プラットフォームと固定リングとの間に配置されたビード装着玉軸受手段をかいして固定リングに配置される。
― 前記ステップ・モータがその周囲にある固定リングの下に配置され、プラットフォームによって支持されたコッグド・ベルトをかいして第1軸のまわりにプラットフォームを回転させるギヤーホイルに連結されている。
― 前記第2回転軸は仰角回転軸であり、その軸のまわりの位置を制御する手段は駆動シャフトを含み、そのシャフトの軸がプラットフォームに関して固定されてミラーを第2軸のまわりに回転駆動する検流計スキャナにミラーを接続する。
― 前記第1測定手段は、レーザ・ビームの相対方位配向を測定する環状増分光エンコーダを有する。そのエンコーダがプラットフォームによって支持されている。
― 前記光エンコーダは固定リングに固定され、プラットフォームに固定された可動部を設けられている。
― 前記レーザ放射源によって放射されたレーザ・ビームを自動的に収束するユニットと、レーザ放射源を収束ユニットに固定する手段とをさらに含む。
― 前記固定手段は、レーザ放射源を支持しかつネジによって自動収束ユニットに固定されたベースプレートと、自動収束ユニットに関してレーザ放射源の半径方向調節をするためのネジとを有し、そのネジはベースプレートに設けられた大径の軸穴に係合される。
― レーザ・ビームを自動的に収束するユニットは、レーザ・ビームの放射軸に置かれた少なくとも1つの発散レンズと、放射軸に置かれた収束レンズと、収束レンズおよび発散レンズを放射軸にそって相対移動させる手段とを有している。
― 前記相対移動手段は、収束レンズを支持するスリーブを有し、スリーブのまわりに可撓性膜が固定され、さらにスリーブを放射軸にそって移動させるために膜を作動させる手段とを有している。
― 前記可撓性膜作動手段は、電流発生器と、コイルとを有する。コイルは電流発生器によって電流を供給され、可撓性膜に固定され、放射軸のまわりで磁心の間隙に配置される。
― 前記可撓性膜作動手段は、収束レンズの検出された位置を放射軸にそう収束レンズの所望の位置と比較し、かつ、この差にもとづいて電流発生器を作動する手段を含む手段を有している。
― 前記自動収束ユニットは、放射軸にそう収束レンズの位置を検出する光学手段を含む。
― 前記仰角回転軸のまわりにおける検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する手段と、レーザ・ビームが支持回転軸のまわりで軸にそって受けられるその軸を調節する手段とを有している。
― 前記検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する手段とおよびレーザ・ビームが軸にそって受けられるその軸を調節する手段が、リングの一部から形成されたクレードルを有し、各々がリングの軸のまわりで回転するようにクレードルが滑る対応するクレードル支持体からなる。
― 前記検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する手段のクレードルの回転軸が、仰角回転軸および支持回転軸に垂直であり、受け軸の調節手段のクレードル回転軸が仰角回転軸に垂直であり、かつ、支持軸を含む垂直面内にあり、クレードルの回転軸がミラーに交差する。
― 前記光電性受光器によって出力として放出される信号のダイナミック・レンジを減少する手段をさらに有する。
― 信号のダイナミック・レンジを減少する手段は、プログラム可能利得をもつ電圧減衰器と、電圧減衰器の出力側に固定利得をもつ増幅ユニットとからなる。
― 本装置とスポットとの間の距離を測定する前記第2測定手段は、レーザ・ビームの「飛行時間」を測定する集積回路からなる。
【0011】
本発明の主題は、また、上述の三次元記録用装置において実施されるシーンの対象領域を明示する方法であって、下記の工程からなる。
シーンの点群を三次元記録すること、
点群の座標を記憶すること、
点群をモデル化および/または表示すること、
さらに下記の工程を含むことを特徴とする方法。
【0012】
点群において少なくとも1つの点の副群を選択すること、
対象領域を画定すること、
レーザ・ビームによってシーンにつくられたスポットが対象領域に対応する選択された副群の点のうち少なくともいくつかにおいて次々と明示するように、走査手段および放射源ギヤーホイルを制御すること。
【0013】
【発明の実施の形態】
図1に示すように、固有の部品によって描かれたシーン4の三次元記録用装置2は、例えば、光線に対して透明な窓8が設けられたケーシング6からなる。
【0014】
ケーシング6は2つの部分からなる。
第1の部分は窓8が置かれ、光学系を含み、装置2の光学部10を構成する。
第2の部分は、第1の部分の下にあり、電子系を含む。その必須の要素は、図8および9を参照して記載され、装置2の電子部12を構成する。
【0015】
電子部12は、光学部10の慣用の記録、表示、修正、または活性化方法を実行するのに十分なデータを計算し、記憶する設備を含む。
特に、電子部12は、PCIバス、ISAバスのようなデータバスの様々なフォーマットを有する電子カードを収納できるバックプレーンからなるオンボード・マイクロコンピュータ・アーキテクチャを有する。
【0016】
それは、静止ハード・ディスクに嵌合されかつ光学部10および電子部12の様々な要素を制御するカードに嵌合された小型マイクロコンピュータ・カードを含む。電子部12については後述する。
【0017】
さらに、電子部12は、携帯コンピュータまたは電子パーソナル・オーガナイザのような外部制御部材(図示せず)にエサーネット(登録商標)式のリンクによって接続される。
【0018】
装置2の光学系用支持体を形成する水平円形プラットフォーム14が、これら2つの部分間にプレート15のような板をかいして配置される。中心で切断する垂直軸16のまわりにおけるプラットフォーム14の角度位置は、図3を参照して記載される制御装置によって制御される。シーン4が相対方位において装置2によって走査されるようにする。
【0019】
プラットフォーム14には軸16の中心に軸穴18が開けられ、光学部10の要素と電子部12の要素との間の接続をするための電気的接続通路をつくる。このプラットフォーム14の詳細な実施例が、図3を参照として記載される。
【0020】
光学部10は、下記のものからなる。
― プレートによってプラットフォーム14に固定されかつ光学部10の要素のいくつかを支持するように意図された梁形状のスタンド19;
― スタンド19に固定されたマイクロレーザのような従来型のレーザ放射源20;
― レーザ放射源20に固定されていてレーザ放射源20によって放射されたレーザ・ビームを自動的に収束するユニット22;
― 自動収束ユニット22の出力側でレーザ放射源20によるレーザ・ビームの放射軸26上に置かれ、かつ、スタンド19に固定されたプリズム状プレート24;
― プリズム状プレート24によって反射された軸外れレーザ・ビームの一部を受ける光ファイバ28;
― 光ファイバ28に接続されていて古典的な光電性受光器29;
― プリズム状プレート24を通って移動しかつトラップに受けられたレーザ・ビームの一部の反射を防止するために、プリズム状プレート24から所定の距離をあけてスタンド19に固定された従来型の光トラップ30;
― スタンド19に固定されていて、放射軸26上でプリズム状プレート24と光トラップ30との間に置かれ、放射軸26に対して約45°で傾斜された透明スプリッタ・プレート32;
― プリズム状プレート24に対面したスプリッタ・プレート32の面上に配置されかつ放射軸26上に中心を置いた半反射パッチ34;パッチ34は、プリズム状プレート24を通過したレーザ放射源20によって放射されたレーザ・ビームの一部を反射し、帰路においてスタンド19の縦軸に平行な光学軸36にそってシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームの一部を伝送する。
― スタンド19に固定され、光学軸36に関して軸外れに配置されていて、スプリッタ・プレート32から出る放射源20によって放射されたレーザ・ビームまたはシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを反射する球形ミラー38;球形ミラー38は収束光学系の一部を形成する。
― 軸16に垂直な軸44のまわりで角度位置(後述する)に関して制御されて、ゼロ(0)点において軸16を切断する検流計ミラー42;球形ミラー38によって反射されたレーザ・ビームをシーン4に向けるためにかつシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを球形ミラー38に収束して向けるために、軸44はプラットフォーム14に関して固定される。
― シーン4によって後方散乱されかつスプリッタ・プレート32によって伝送されるレーザ・ビームの戻り経路にそって光学軸36上に配置された光電性受光器46;
― レーザ・ビームが光電性受光器46に到達する前にシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームを濾過するためにスプリッタ・プレート32と光電性受光器46との間で光学軸36上に配置された従来型の干渉フィルタ48;
― 球形ミラー38と関連して、長い焦点距離を維持しながら後方散乱レーザ・ビーム受光路を減少するように遠隔対物レンズを形成するために、スプリッタ・プレート32と光電性受光器46との間で光学軸36上に配置された発散レンズ50;発散レンズ50は、収束光学系に関してならびに光電性受光器46およびフィルタ48に関して固定した発散光学系の一部を形成する。収束光学系は、光電性受光器46およびフィルタ48に関して固定される。発散レンズ50は、光電性受光器46およびフィルタ48に関してその結果固定される。
【0021】
レーザ放射源20、自動収束系22、プリズム状プレート24、ならびにスプリッタ・プレート32および半反射経路34からなる組合せは、軸16、26、36が厳密に同一平面になるように、配置される。
【0022】
このようにして、軸26にそうレーザ放射源20によって放射されたレーザ・ビームは、レーザ・ビームが自動収束ユニット22を通過した後に、プリズム状プレート24に到達する。それは、軸26に垂直な第1面分離表面24aをかいしてプリズム状プレート24に入る。
【0023】
レーザ・ビームはプリズム状プレート24を去り、軸26に傾斜された第2面表面24bを通過する。レーザ・ビームの一部は、表面24bによって軸26から離れて反射される。
【0024】
レーザ・ビームの反射された一部は、プリズム状プレート24の第1面表面24aと光ファイバ28の第1端との間において点接触で第1面表面24aに再び到達する。
【0025】
光ファイバ28の他端は光電性受光器29に接続される。光電性受光器29は、プリズム状プレート24によって反射されたレーザ・ビームの一部が受けられた時刻T1を決定する。この時刻T1は、以下レーザ・ビームの放射時刻という。
【0026】
レーザ・ビームがプリズム状プレート24を通過した後、それは半反射パッチ34の中心に到達する。
レーザ・ビームの一部は光学軸36にそって球形ミラー38に向かって反射され、レーザ・ビームの他の部分はスプリッタ・プレート32を通過してしまった後に光りトラップ30によって完全に吸収される。
【0027】
スプリッタ・プレート32によって反射されたレーザ・ビームは、スタンド19上の球形ミラー38の軸外れ位置によって予め決定される点Jにおいて球形ミラー38に到達する。
【0028】
レーザ・ビームが点Jにおいて球形ミラー38から反射された後に、レーザ・ビームが軸16、26、36を含む面内に存在する経路に従いそして軸16および44の交点Oにおいて検流計ミラー42に当たるように、球形ミラー38がスタンド19およびプラットフォーム14に関して定置される。軸44は、レーザ・ビームが移動する面に対して直交している。好ましくは、点Oは、検流計ミラー42の反射面の中心に存在する。
【0029】
次に、レーザ・ビームは、検流計ミラー42によって反射され、次いで窓8を通過した後にシーン4上に光スポット52をつくる。
次に、光線がスプリッタ・プレート32および半反射パッチ34からなる組合せに到達するまで、シーン4上での光線の後方散乱によって光線の一部が前述した経路とほぼ同じ経路を逆方向に従い、そして、光電性受光器46に向かって軸36にそってこの組合せを通過する。
【0030】
光電性受光器46に到達する前に、スプリッタ・プレート32を通過したレーザ・ビームは、発散レンズ50を通過し、次いで干渉フィルタ48を通過する。光電性受光器46は、シーンによって後方散乱されたレーザ・ビームが受けられる時刻T2を決定する。時刻T1およびT2にもとづいて点Oからスポット52を分離する距離の計算は、それ自体公知であると認められる。
【0031】
半反射パッチ34の機能は、光学軸36にそって球形ミラー38に放射されたレーザ・ビームを向けることである。しかし、それはシーン4によって後方散乱されかつ光電性受光器46によって受けられたレーザ・ビームにおける一部のパワーのダイナミック・レンジを修正する機能をも有している。これは、スポット52が装置2に接近しているときに、シーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームのパワーが高くなるが、しかし、スプリッタ・プレート32を通過するレーザ・ビームの直径が半反射パッチ34の直径よりも小さいからである。
【0032】
実際には、従来装置においては、スプリッタ・プレート32は一般に完全反射中央阻止要素を設けられている。この場合、その阻止要素はスポット52からの距離が測定されることを防止する効果を有している。
【0033】
それに反して、スプリッタ・プレート32に半反射パッチ34のようなパッチが設けられている場合には、スプリッタ・プレート32を通過するレーザ・ビームが半反射パッチ34をかいして完全に通過し、また、このレーザ・ビームの減衰部分が光電性受光器46に到達する。
【0034】
一方、スポット52が装置2から離れている場合には、シーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームのパワーが距離の自乗に逆変化するので、それは低くなるが、しかし、スプリッタ・プレート32を通過するレーザ・ビームが大きくなり、そして、予め定められた距離を超えると、それは半反射パッチ34のものよりも大きくなる。
【0035】
この場合、レーザ・ビームのあるパワーが、半反射パッチ34の周囲においてスプリッタ・プレート32によって光電性受光器46に完全に伝送される。この完全に伝送された部分が大きくなればなるほど、ますますスポット52が装置2から離れ、したがって、後方散乱レーザ・ビームのパワーがますます低くなる。
【0036】
格別の一実施例によれば、レーザ放射源20は、278Wのピーク・パワーを有するマイクロレーザである。球形ミラー38は、装置2の受光直径が40mmになるような直径を有する。半反射パッチ34は、6mmの直径と0.5の反射パワーとを有する。最後に、後方散乱係数を表す光電性受光器46の受光面のアルベドは、0.01である。
【0037】
この特別な場合、下記の表1に示す結果が得られた。
【0038】
【表1】
この表1において、第1列は装置2からスポットを分離する距離を与える。
【0039】
第2列は、40mm光直径によって画定された穴においてシーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームのパワーを装置2に与える。このパワーは、第1列に与えられた距離に反比例する。
【0040】
第3列は、半反射パッチ34の周囲でスプリッタ・プレート32を完全に通過した後方散乱レーザ・ビームの一部の光電性受光器46に受けられたパワーを与える。
【0041】
第4列は、半反射パッチ34を部分的に通過した後方散乱レーザ・ビームの一部が光電性受光器46に受けられたパワーを与える。
最後に、第5列は、前記2つの列の合計、すなわち、光電性受光器46によって受けられた合計電力を与える。
【0042】
装置2の後方散乱パワーがスポット52の距離に反比例して変化するが、光電性受光器46によって受けられたレーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジが3未満の係数であり、すなわち、それは1mから90mまで変わる距離に対して0.08μWから0.23μWまで変わる。
【0043】
プリズム状プレート24と軸外れ球形ミラー38との組合せに関しては、これは、図2に示すように、シーン4に向けてレーザ放射源20によって放射されたレーザ・ビームの外側経路において軸外れ球形ミラー38によって誘導される収差を、補償する機能を有する。
【0044】
このことは、レーザ放射源20がレーザ・パルスを放射するとき、このパルスの移動方向に垂直な面内で波面の横断面20pが円形になるからである。しかし、プリズム状プレート24がパルス波面の収差歪みを誘導するので、その横断面20pはプリズム状プレート24とスプリッタ・プレート32との間で楕円になる。
【0045】
スプリッタ・プレート32からの反射が収差を誘導しないので、スプリッタ・プレート32と球形ミラー38との間のレーザ・パルス波面の横断面32paがまだ楕円である。
【0046】
レーザ・パルスの入射方向に関して軸外れに置かれた球形ミラー38は、パルスが球形ミラー38から反射されるとき、レーザ・パルス波面の収差歪みを誘導する。したがって、この波面の横断面38paは、球形ミラー38と検流計ミラー42との間で再び円形になる。
【0047】
最後に、検流計ミラー42がレーザ・パルス波面の収差歪みを誘導しないので、それはシーン4に到達して円形スポット52をつくる。
軸外れ球形ミラー38の機能の1つは、光電性受光器46に向かうシーン4によって後方散乱レーザ・パルスの戻り経路において、レーザ・パルスがそれを通過するとき、図3に示すように、スプリッタ・プレート32によって誘導された収差を補償することである。
【0048】
このことは、シーン4によって後方散乱されたレーザ・パルスが、レーザ・パルスの移動方向に垂直な面内の断面4pがシーン4と検流計ミラー42との間で円形となる波面を有するからである。
【0049】
検流計ミラー42からの反射の後、この断面42pはそれが球形ミラー38に到達するまで円形である。
上述したように、レーザ・パルスの入射方向に関して軸外れに置かれた球形ミラー38は、レーザ・パルスが球形ミラー38から反射された後でかつレーザ・パルスがスプリッタ・プレート32に到達する前に、レーザ・パルス波面の断面38prが楕円になるように、レーザ・パルス波面に収差を誘導する。
【0050】
再び、レーザ・パルスがスプリッタ・プレート32を通過するとき、スプリッタ・プレート32が収差を誘導する。これは、このレーザ・パルスの波面の断面32prが発散レンズ50に到達する前に、再び円形になるように球形ミラー38の収差によって補償される。
【0051】
発散レンズ50および干渉フィルタ48は、パルス波面のいかなる収差歪みをも誘導しない。これは、光電性受光器46におけるスポット52のイメージが正しく円形である結果を有するからである。
【0052】
装置2の自動収束ユニット22およびそれをレーザ放射源20に固定する手段が、図4に示されている。
自動収束ユニット22は、垂直軸16のまわりに軸対称である。それは、軸16に中心を置く2つの固定発散レンズ60、62と、軸16に中心を置くがこの軸にそって可動な収束レンズ64からなる。
【0053】
2つの固定発散レンズ60、62は、第1管状装着体66内に置かれる。
この第1管状装着体66の小断面の第1部分68は、その自由端において発散レンズ60を支持する。装着体66の第1円筒形部分68は、截頭円錐形の遷移領域71をかいして大断面の第2部分70に接続される。
【0054】
発散レンズ62は、この第2部分70に装着される。
フランジを形成する第3部分72は、円筒形第2部分70に第1部分68から第2部分の反対端で固定される。
【0055】
装着体66は、装着体66の小断面の第1部分を包囲する端穴76を有するブッシュ74に嵌合され、また、収束レンズ64を支持するスリーブ78がブッシュ74内で滑るように嵌合される。
【0056】
ブッシュ74は、大径の穴をさらに有している。その断面は、装着体66の大断面第2部分70のそれに対応する。
最後に、端穴76から反対側にブッシュ74は外ネジ84を含むラジアル・カラー82を有する。
【0057】
内ネジ88を有するリング86は、カラー82に係合する。
リング86はカラー82とフランジ72との間に入れられ、発散レンズ60、62を支持する装着体66の軸方向位置を調節できる。
【0058】
装着体66を鎖錠する3本のネジ90が、互いに120°に配置され、フランジ72につくられた軸穴92内に置かれる。これらのネジ90はリング86内に延び、ブッシュ74のカラー82につくられた蓋付き穴88に係合される。
【0059】
ネジ付きリング86から反対側にある装着体66のフランジ72の面には、レーザ放射源20を固定する軸方向凹部94がある。
凹部94よりも小径のベースプレート96が、装着体66と同軸の凹部94に嵌合され、また、レーザ放射源20が互いに120°に配置された3つのネジ98によってベースプレート96に固定される。ベースプレート96は、互いに120°に配置された3つの平頭ネジ100によって凹部94の底に固定され、ベースプレート96につくられた大径の軸方向穴102に配置されて、装置2の放射軸16に関してベースプレート96の、したがってレーザ放射源20の半径方向位置を調節する。
【0060】
ネジ100は、フランジ72にねじ込まれる。
凹部94は、レーザ放射源20のラジアル調節用ネジ106が3本置かれた周囲リム104によって境界を付けられる。
【0061】
互いに120°に配置されたネジ106は、それぞれ例えば、ローレット付き頭部108と、ベースプレート96の横面110に接触する端部とを有する。
ブッシュ74は、それが例えば、押し嵌めされる磁心112によって包囲される。
【0062】
磁心112は、円筒形の外形を有し、ブッシュ74および装着体66、78と同軸であり、装着体66、78は発散レンズ60、62および収束レンズ60をそれぞれ支持する。
【0063】
磁心112は、ブッシュ74のカラー82に一方の面をかいして接触する。
環状溝114は、カラー82から反対側にある磁心112の面につくられる。環状溝は、コイル118が置かれる中央突起116を画定する。コイル118は、膜120に一端をかいして固定されたスカート122によって膜120を作動する。
【0064】
可撓性膜120は、慣用の仕方で磁心112にその周囲を固定され、スリーブ78が係合されかつ固定された円形穴によってその中央に穴開けされる。
このようにして、コイル118を流れる電流は、コイル118を軸16にそって動かし、可撓性膜120をかいして軸16にそってスリーブ78を動かす。
【0065】
コイル118は発電機124によって電流を供給され、その出力が比較器126の出力に接続される。比較器126は、PDS型ホトダイオード128(収束レンズ64を支持するスリーブ78の自由端が置かれる経路において光放射ダイオード130から来る光線によって照射される)によって発生された信号と、シーン4を照射するスポット52の距離に対応した信号とを比較する。
【0066】
図5に示す走査出力は、点Oで交差する直交軸16、44のまわりで位置を制御する手段に連結された検流計ミラー42からなる。
垂直軸16のまわりで検流計ミラー42の位置を制御する手段は、シーン4の相対方位走査を許し、かつ、減速機202に連結されたステップ・モータ200からなる。これらは、固定リング204の下でその周囲に配置される。減速機202は、固定リング204を通過するギヤーホイル206の垂直軸まわりの回転を制御する。
【0067】
ギヤーホイル206は、可動リング208に接着されたコッグド・ベルト210によって垂直軸16まわりで回転するように、可動リング208を駆動する。可動リング208は、その周囲につくられた溝213に置かれたビード上で薄い玉軸受212によって固定リング204に関して回転する。
【0068】
プレート15のような2枚の垂直プレートが、これら垂直プレートに固定された装着プレート223と共に可動リング208に配置される。
図1を参照して記載したプラットフォーム14は、装着プレート223と、可動リング208とからなる。
【0069】
プラットフォーム14の軸16まわりの回転移動は、固定リング216によって固定リング204に固定された光エンコーダ214によって測定される。光エンコーダ214は、従来型の角度増分エンコーダである。
【0070】
装着プレート223の軸穴18を画定し、可動リング208に固定された円筒形リム220が、光エンコーダ214の軸方向通路218に挿入される。
光エンコーダ214は、鎖錠ネジ(図示せず)によって装着プレート223のリム220に鎖錠された可動部分222を従来通りに設けられている。これは、プラットフォーム14の相対方位回転が増分を測定されるようにする。
【0071】
水平軸44まわりのミラー42の位置を制御する手段は、検流計ミラー42を従来型の検流計スキャナ226に接続する伝達腕224からなる。伝達腕224は、第1調節手段228によってプレート15に固定されて、回転軸44を調節し、軸44まわりの回転を検流計ミラー42に伝達し、この回転が検流計スキャナ226によって制御される。
【0072】
これら調節用第1手段228は、図6を参照して以下に詳細に記載される。
このようにして、検流計ミラー42は、検流計スキャナ226によって水平軸44のまわりでかつモータ200によって垂直軸16まわりで制御される。
【0073】
さらに、装着体19が、光学軸36を調節するために第2調節手段229によってプレート15に固定される。
これら第2調節手段は、図7を参照して下記に詳細に記載される。
【0074】
図6に示す第1調節手段228は、垂直リングの一部分から形成されたクレードル230からなる。垂直リングの中心は、検流計ミラー42の中心にある点Oにおいて垂直軸16に定置される。クレードル230は、同一直径で、軸16および軸44に垂直で、プレート15に平行で、点Oを通るクレードル支持体232上を回転自在に滑る。クレードル支持体232は、プレート15に固定されている。
【0075】
伝達腕224は、クレードル230に固定されたスリーブ233の内側で軸のまわりに自由回転するように装着される。
クレードル支持体232において水平軸223まわりのクレードル230の回転は、検流計ミラー42、スリーブ233、伝達腕224、検流計スキャナ226からなる集合体の同一軸まわりの回転を生じる。この集合体は、クレードル230に装着される。
【0076】
図7に示す第2調節手段229は、水平リングの一部分によって形成されたクレードル234からなる。水平リングの中心は、垂直軸16に定置される。
クレードル234は、軸44に垂直な軸のまわりにかつ垂直軸16を含む面内で同一半径のクレードル支持体236上で回転自在に滑る。クレードル支持体236は、プレート15に固定される。
【0077】
この軸まわりのクレードル234の回転が、装着体19、したがって光学軸36を同じ軸のまわりに回転させる。
このようにして、調節手段228および229が、例えば、検流計ミラー42を回転させるように意図された伝達腕224に検流計ミラー42を不正確に装着したような構造上の欠陥を補償することによって、光学軸36および検流計ミラー42の回転軸44を調節する。
【0078】
このようにして、走査手段が面内で厳密に走査できる。
図8において、光電性受光器46は、光電性受光器46によって出力として送られる信号のダイナミック・レンジを減少する手段300に連結される。手段300は、図1において電子部12に組み込まれる。
【0079】
このことは、光電性受光器46が受けるレーザ・ビームのパワーに直接関係する強さの電流を出力として送る電子雪崩ホトダイオードを含む。
ダイナミック・レンジを減少する手段300は、電圧が電子雪崩ホトダイオードによって入力として送られる電流の強さに比例する電気信号を出力として送るトランスインピーダンス増幅器302からなる。この電気信号は、プログラム手段306に従来の仕方で連結されたプログラム可能電圧減衰器304に伝送される。
【0080】
ダイナミック・レンジを減少する手段300は、減衰器304の出力側に直列に接続された2つの固定利得増幅器308を含む。増幅器308の数は、2から異なってもよい。
【0081】
固定利得増幅器308によって出力として送られた電気信号は、従来型のインピーダンス整合回路310に供給する。例えば、このインピーダンス整合回路310は、各50Ωの2つの抵抗312からなる。
【0082】
このインピーダンス整合回路310によって出力として送られる電気信号は、レーザ・ビームの「飛行時間」を測定する手段314に供給する。これらの手段は集積回路に組み込まれる。これらの測定手段314は、従来型のものである。例えば、Atomic Power Commissariatによるフランス特許第94/11847に記載された形式のものでもよい。それらは、インピーダンス整合回路310によってそれらに伝送される信号のパワーの数値をプログラム可能手段へ送るように特に設計されている。
【0083】
レーザ・ビームのパワーがホトダイオード46によって受けられているときはいつでも、電圧が一定である信号を減衰器304によって出力として送るために、プログラム可能手段306が「飛行時間」測定手段314によって送られる数値に反比例した数値に減衰器304の利得を決定しかつ調節する。
【0084】
図9において、従来型の温度プローブ316がホトダイオード46付近に配置される。プローブ316によって測定された温度に対応する電圧が、この温度の数値を、データバス322をかいしてコンピュータ320に伝送するために、従来型のアナログーデジタル変換器318に伝送される。
【0085】
コンピュータ320は、バス322をかいして増倍係数を増倍デジタルーアナログ変換器324に伝送し、数値設定点値をデジタルーアナログ変換器326に伝送する。
【0086】
増倍係数は、温度プローブ316の特性およびホトダイオード46の特性にもとづいて決まるが、プローブ316によって測定された温度から独立している。一方、変換器326に送られた数値設定点値はプローブ316によって測定された温度によって決まり、所定の温度において、ホトダイオード46の予め定められた値に対応する。この利得値は、例えば、コンピュータ320によって便利に接触できるデータ表によって供給される。
【0087】
増倍デジタルーアナログ変換器は、基準入力およびデジタル入力を有する。それは、その基準入力にプローブ316によって測定された温度に対応する電圧を受け、また、デジタル入力に増倍係数を受ける。
【0088】
それは、修正電圧の値がプローブ316によって測定された温度に対応する電圧によって増倍された増倍係数の積に等しい出力として送る。
総和増幅器328が、入力としてこの修正電圧を受け、また、デジタルーアナログ変換器326によって出力として送られ、かつ、コンピュータ320によって送られた数値設定点値に直接もとづく設定値を受ける。
【0089】
この総計増幅器328は、修正電圧と設定点電圧の合計に等しい制御電圧を出力として送る。この電圧は、温度変動から独立してホトダイオード46の一定利得を維持することを可能にする。
【0090】
総和増幅器328によって送られた制御電圧にもとづいてホトダイオード46のバイアス電圧を調節するために、制御電圧が従来型のホトダイオード46に供給するための手段330に加えられる。
【0091】
シーン4上の対象領域を指定する方法は、上述した装置の電子部12において実施される。
第1工程においては、シーン4の点群の三次元記録が起こる。
【0092】
続く工程においては、記録点群の球座標が、電子部12に記憶される。これらの座標は、検流計ミラー42の中心Oとスポット52との間の距離と、走査手段の出力におけるレーザ・ビームの相対方位配向を測定する角度と、この同じレーザ・ビームの仰角配向を測定する角度とを含む。
【0093】
第3の工程においては、点群がモデル化および/または表示される。続く工程においては、副群がこのモデル化および/または表示された点群から選択される。この副群は、前記群において少なくとも1つの点からなり、対象領域を画定する。
【0094】
最後に、最終工程においては、走査手段14、42、200、202、204、206、210、212、224、226およびレーザ放射源20が、レーザ・ビームによってシーン4上につくられたスポット52が対象領域に対応する選択された副群の点の少なくともいくつかの点において引き続いて特定する。
【0095】
この対象領域は、必ずしも連続していない点群からなる。
上述した例において図示した本発明は、小型化を維持しながら、収束手段の長い焦点距離によってスポット52と装置2との間の距離の自乗に反比例する後方散乱レーザ・ビームのパワーによるダイナミック・レンジ効果を補償することによって、広い距離にわたって延びる測定を行うことができる三次元記録用装置をつくりだすことを可能にすることは、明らかである。
【0096】
上述した装置の第2の利点は、放射されかつ後方散乱されたレーザ・ビームに関して軸外れに置かれた球形ミラーによって、それがスプリッタ・プレート32によって生じるビーム波面の歪みを補償するので、光電性受光器46におけるスポット52のイメージが円形になることである。
【0097】
上述した装置の別の利点は、レーザ放射源20とスプリッタ・プレート32との間に配置されたプリズム状プレート24によって、レーザ放射源20とシーン4との間でレーザ・ビームの出力経路において球形ミラー38によって生じるビーム波面の歪みを補償することである。
【0098】
上述した装置の別の利点は、スプリッタ・プレート32に置かれた半反射パッチによって、スポット52が三次元記録用装置に非常に接近しているときでさえも、測定をすることを可能にすることである。
【0099】
上述した装置の別の利点は、シーン4によって後方散乱されたレーザ・ビームの大ダイナミック・レンジを補償することである。このダイナミック・レンジは、光電性受光器46によって出力として送られた信号のダイナミック・レンジを減少する手段を用いて、シーン4の散乱屈折率楕円にもとづいて決まる。
【0100】
上述した装置の別の利点は、軸開口によって穿孔されたプラットフォームを含む走査手段を用いて、装置の電子部と光学部間の電気的接続通路を許しながら、360°に及ぶ範囲にわたる相対方位走査を許すことである。
【0101】
上述した装置の別の利点は、検流計ミラー42の位置を調節する手段と、レーザ・ビームが受けられる軸の調節手段とを用いて、面内のシーン4を走査すること、したがってシーン4上に記録された点の群の歪みを回避することを可能にすることである。
【0102】
上述した装置の別の利点は、レーザ放射源20によって放射されたレーザ・ビームを収束するための自動収束ユニットを用いて、目標上の測定の良好な空間解像度を与えることである。
【0103】
最後に、上述した装置の別の利点は、レーザ・ビームによってシーン4上の対象領域を装置2によって特定することを可能にする方法を用いることである。この対象領域はオペレータによって必ずしもアクセスできなくてもよく、容易に実行できる。
【0104】
例えば、この方法は、パイプ加工のさいになされる切断のトレースを特定するために適用される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にもとづく装置の全体構造の概略図である。
【図2】図1に示す装置においてレーザ・ビーム外方移動中のレーザ・ビーム波面のレーザ・ビーム移動方向における投影を概略的に示す。
【図3】図1に示す装置においてレーザ・ビーム内方移動中のレーザ・ビーム波面のレーザ・ビーム移動方向における投影を概略的に示す。
【図4】図1に示す装置用自動収束ユニットの概略図である。
【図5】図1に示す走査手段の概略部分図である。
【図6】図3に示す走査手段の第1調節手段の概略図である。
【図7】図5の方向Iにそった走査手段における第2調節手段の概略上面図である。
【図8】図1に示す装置のための、信号ダイナミック・レンジを減少する電子手段のブロック線図を示す。
【図9】図1に示す装置のための、光電性受光器の温度を制御する手段のブロック線図を示す。
Claims (29)
- シーン(4)の三次元記録用装置であって、レーザ放射源(20)と、前記レーザ放射源(20)によって放射されたレーザ・ビームを用いて前記シーン(4)を走査するために第1および第2回転軸(16、44)にそって走査する手段(14、42、200、204、206、210、212、224、226)と、前記シーン(4)上にレーザ・ビームによってつくられたスポット(52)のイメージを受ける光電性受光器(46)と、前記光電性受光器(46)に向かって前記シーン(4)によって後方散乱されたレーザ・ビームを収束させる手段(38、50)と、前記走査手段(14、42、200、204、206、210、212、224、226)を去るビームの配向を測定する第1測定手段(214、226)と、レーザ遠隔測定によって前記装置と前記スポット間の距離を測定する第2測定手段(24、28、32、34、48、314)とからなり、前記第2測定手段は放射されたビームと前記シーン(4)によって後方散乱されたビームとを分離するスプリッタ・プレート(32)を有し、
前記収束手段(38、50)は、発散光学系(50)と組み合わされた収束光学系(38)を有し、前記発散光学系(50)と組み合わされた収束光学系(38)は、前記収束光学系単独によって与えられる焦点距離より長い焦点距離を与える遠隔対物光学系を形成し、
前記走査手段(14、42、200、204、206、210、212、224、226)は、前記収束手段(38、50)と前記シーン(4)との間で放射レーザ・ビームおよび後方散乱レーザ・ビームの経路に置かれた少なくとも1つのミラーを含むことを特徴とした装置。 - 前記収束光学系(38)は、前記スプリッタ・プレート(32)によって生じたビームの波面の変形を補償する球形ミラーを有し、この光学ミラーは放射されたレーザ・ビームおよび後方散乱されたレーザ・ビームに関して軸から外れて配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記第2測定手段は、前記レーザ放射源(20)と前記スプリッタ・プレート(32)との間に配置され、前記軸外れ球形ミラー(39)によって生じる放射ビームの波面の変形を補償するプリズム状プレート(24)を有する、請求項2に記載の装置。
- 前記第2測定手段は、レーザ・ビームが放射された瞬間を測定する手段(24、28、314)と、シーン(4)によって後方散乱されたビームが前記光電性受光器(46)によって受けられた瞬間を測定する手段(48、314)とをさらに有し、前記のレーザ・ビームが放射された瞬間を測定する手段は、前記プリズム状プレート(24)によって反射された軸外れレーザ・ビームの一部を受けかつそれを光電性受光器(29)に送る光ファイバ(28)を有している、請求項3に記載の装置。
- 前記発散光学系(50)は前記スプリッタ・プレート(32)と前記光電性受光器(46)との間で後方散乱レーザ・ビームの経路に配置された発散レンズを有している、請求項1―4のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記スプリッタ・プレート(32)は、シーン(4)によって後方散乱されかつ前記光電性受光器(46)によって受けられたレーザ・ビームのパワーのダイナミック・レンジを減少する半反射パッチ(34)を有している、請求項1―5のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記光電性受光器(46)は、電子雪崩ホトダイオードを有し、該ホトダイオードが温度補償手段(330)と組み合わされている、請求項1―6のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記温度補償手段(330)は、温度プローブ(316)と、該温度プローブ(316)によって測定された温度にもとづいて前記光電性受光器(46)のバイアス電圧を調節する手段とを有している、請求項7に記載の装置。
- 前記走査手段(14、42、200、204、206、210、212、224、226)は、平面ミラー(42)と、前記走査手段の第1および第2回転軸(16、44)の各々のまわりで前記平面ミラー位置を制御する手段(14、200、202、206、224、226)とを有している、請求項1―8のうち任意の一項に記載の装置。
- 光機械部(10)と電子部(12)とからなり、前記第1回転軸(16)が相対的軸受回転軸であり、該軸のまわりの位置を制御する手段(14、200、202、206)がステップ・モータ(200)によって前記軸のまわりに回転駆動されかつ前記光機械部(10)の要素と前記電子部(12)の要素との間を接続する電気的接続手段(18a)の通路のために軸開口(18)によって穿孔されたプラットフォーム(14)を有している、請求項9に記載の装置。
- 前記プラットフォーム(14)は、該プラットフォーム(14)と固定リング(204)との間に配置されたビード装着玉軸受手段(212)をかいして固定リング(204)に配置された、請求項10に記載の装置。
- 前記ステップ・モータ(200)がその周囲にある固定リング(204)の下に配置され、前記プラットフォーム(14)によって支持されたコッグド・ベルト(210)をかいして前記第1軸(16)のまわりに該プラットフォーム(14)を回転させるギヤーホイル(206)に連結されている、請求項11に記載の装置。
- 前記第2回転軸(44)は仰角回転軸であり、該軸のまわりの位置を制御する手段(224、226)は駆動シャフト(224)を含み、該シャフトの軸が前記プラットフォーム(14)に関して固定されて前記ミラー(42)を前記第2軸(44)のまわりに回転駆動する検流計スキャナ(226)に前記ミラー(42)を接続する、請求項9―12のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記第1測定手段(214、226)は、レーザ・ビームの相対方位配向を測定する環状増分光エンコーダ(214)を有し、該エンコーダが前記プラットフォーム(14)によって支持されている、請求項10―13のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記光エンコーダ(214)は前記固定リング(204)に固定され、前記プラットフォーム(14)に固定された可動部(222)を設けられている、請求項14に記載の装置。
- 前記レーザ放射源(20)によって放射されたレーザ・ビームを自動的に収束するユニット(22)と、前記レーザ放射源(20)を前記ユニット(22)に固定する手段(96、98、100、108)とをさらに含む、請求項1―15のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記固定手段(96、98、100、108)は、前記レーザ放射源(20)を支持しかつネジ(100)によって前記自動収束ユニット(22)に固定されたベースプレート(96)と、前記自動収束ユニット(22)に関して前記レーザ放射源(20)の半径方向調節をするためのネジ(106)とを有し、前記ネジ(100)は前記ベースプレート(96)に設けられた大径の軸穴(102)に係合される、請求項16に記載の装置。
- レーザ・ビームを自動的に収束するユニット(22)は、レーザ・ビームの放射軸(26)に置かれた少なくとも1つの発散レンズ(60、62)と、前記放射軸(26)に置かれた収束レンズ(64)と、該収束レンズ(64)および前記発散レンズ(60、62)を前記放射軸(26)にそって相対移動させる手段(78、118、120、122、124、126、128、130)とを有している、請求項16および17に記載の装置。
- 前記相対移動手段(78、118、120、122、124、126、128、130)は、前記収束レンズ(64)を支持するスリーブ(78)を有し、該スリーブのまわりに可撓性膜(120)が固定され、さらに前記スリーブ(78)を前記放射軸(26)にそって移動させるために前記膜(120)を作動させる手段(118、124、126、128、130)とを有している、請求項18に記載の装置。
- 前記可撓性膜作動手段(118、124、126、128、130)は、電流発生器(124)と、コイル(118)とを有し、該コイル(118)は前記電流発生器(124)によって電流を供給され、前記可撓性膜(120)に固定され、前記放射軸(26)のまわりで磁心(112)の間隙に配置される、請求項19に記載の装置。
- 前記可撓性膜作動手段(118、124、126、128、130)は、前記収束レンズ(64)の検出された位置を前記放射軸(26)にそう前記収束レンズ(64)の所望の位置と比較し、かつ、この差にもとづいて前記電流発生器(124)を作動する手段を含む手段(126)を有している、請求項19または20に記載の装置。
- 前記自動収束ユニット(22)は、前記放射軸(26)にそう前記収束レンズ(64)の位置を検出する光学手段(128、130)を含む、請求項16―21のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記仰角回転軸(44)のまわりにおける前記検流計ミラー(24)の位置を制御する手段を調節する手段(228)と、レーザ・ビームが前記支持回転軸(16)のまわりで軸(36)にそって受けられるその軸(36)を調節する手段(229)とを有している、請求項9―22のうち任意の一項に記載の装置。
- 前記検流計ミラー(24)の位置を制御する手段を調節する手段(228)とおよびレーザ・ビームが軸(36)にそって受けられるその軸(36)を調節する手段(229)が、リングの一部から形成されたクレードル(230、234)を有し、各々が前記リングの軸のまわりで回転するように前記クレードルが滑る対応するクレードル支持体(232、236)からなる、請求項23に記載の装置。
- 前記検流計ミラーの位置を制御する手段を調節する手段(228)の前記クレードル(230)の回転軸が、前記仰角回転軸(44)および前記支持回転軸(16)に垂直であり、前記受け軸(36)の調節手段(229)のクレードル(234)回転軸が前記仰角回転軸(44)に垂直であり、かつ、前記支持軸(16)を含む垂直面内にあり、前記クレードル(230、234)の回転軸が前記ミラー(42)に交差する、請求項24に記載の装置。
- 前記光電性受光器(46)によって出力として放出される信号のダイナミック・レンジを減少する手段(300)をさらに有する、請求項1―25のうち任意の一項に記載の装置。
- 信号のダイナミック・レンジを減少する前記手段(300)は、プログラム可能利得をもった電圧減衰器(304)と、該電圧減衰器(304)の出力側に固定利得をもつ増幅ユニット(308)とからなる、請求項26に記載の装置。
- 本装置とスポットとの間の距離を測定する前記第2測定手段(24、28、32、34、48、314)は、レーザ・ビームの「飛行時間」を測定する集積回路(314)からなる、請求項1―27のうち任意の一項に記載の装置。
- 請求項1―28のうち任意の一項に記載の三次元記録用装置において実施されるシーン(4)の対象領域を明示する方法であって、
前記方法は、
シーン(4)の点の群を三次元記録する工程と、
前記点群の座標を記憶(12)する工程と、
前記点群をモデル化および/または表示する工程と
を含み、
前記方法は、
さらに下記の続く工程、すなわち、
前記点群において少なくとも1つの点の副群を選択する工程と、
ここで、前記副群は対象領域を画定するものであり、
レーザ・ビームによってシーン(4)につくられたスポットが前記対象領域に対応する選択された副群の点のうち少なくともいくつかにおいて次々と明示するように、走査手段(14、42、200、202、204、206、210、212、224、226)および放射源(20)を制御する工程と
を含む
ことを特徴とする方法。
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