JP2002256304A - 複合磁性材料およびその製造方法 - Google Patents
複合磁性材料およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2002256304A JP2002256304A JP2001053954A JP2001053954A JP2002256304A JP 2002256304 A JP2002256304 A JP 2002256304A JP 2001053954 A JP2001053954 A JP 2001053954A JP 2001053954 A JP2001053954 A JP 2001053954A JP 2002256304 A JP2002256304 A JP 2002256304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composite magnetic
- magnetic material
- magnetic particles
- magnetic
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Compounds Of Iron (AREA)
- Magnetic Ceramics (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い磁束密度、電気抵抗率および透磁率を有
する複合磁性材料を提供する。 【解決手段】 複合磁性材料は、互いに焼結された複数
の扁平形状の複合磁性粉末を備える。複合磁性粉末は、
金属磁性粉末と、その金属磁性粉末の表面に直接接合す
る、金属酸化物磁性粉末を含む被覆層とを有する。
する複合磁性材料を提供する。 【解決手段】 複合磁性材料は、互いに焼結された複数
の扁平形状の複合磁性粉末を備える。複合磁性粉末は、
金属磁性粉末と、その金属磁性粉末の表面に直接接合す
る、金属酸化物磁性粉末を含む被覆層とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、複合磁性材料お
よびその製造方法に関し、特に、金属磁性粒子と、金属
酸化物磁性粒子を含む被覆層とを有する複合磁性粒子を
備えた複合磁性材料に関するものである。
よびその製造方法に関し、特に、金属磁性粒子と、金属
酸化物磁性粒子を含む被覆層とを有する複合磁性粒子を
備えた複合磁性材料に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、世界的な環境規制の強化に伴い、各自動車メーカー
では、排気ガスの低公害化、および低燃費化に関する開
発が活発に進められている。そのため、従来のエンジン
の機械的制御機構が電子制御機構に移行しつつあり、こ
れに伴い、制御機構の中枢部品である磁性材料の高性能
化および小型化が要求されている。特に、より精密な制
御を小電力で行なうことができるように、中高周波数領
域での高い磁気特性を有する材料の開発が進められてい
る。
年、世界的な環境規制の強化に伴い、各自動車メーカー
では、排気ガスの低公害化、および低燃費化に関する開
発が活発に進められている。そのため、従来のエンジン
の機械的制御機構が電子制御機構に移行しつつあり、こ
れに伴い、制御機構の中枢部品である磁性材料の高性能
化および小型化が要求されている。特に、より精密な制
御を小電力で行なうことができるように、中高周波数領
域での高い磁気特性を有する材料の開発が進められてい
る。
【０００３】また、コンピュータのハードディスク用モ
ータ等においても、モータの回転数を増加させ記録速度
を向上させるために、中高周波数領域での高い磁気特性
を有する材料が開発されている。
ータ等においても、モータの回転数を増加させ記録速度
を向上させるために、中高周波数領域での高い磁気特性
を有する材料が開発されている。
【０００４】中高周波数領域で高い磁気特性を有するた
めには、材料が、高い飽和磁束密度と、高い透磁率と、
高い電気抵抗率とを併せ持つ必要がある。一般に、金属
磁性材料は、高い飽和磁束密度と透磁率とを有するが、
電気抵抗率が低い（１０-6〜１０-4Ωｃｍ）ため、中高
周波数領域で渦電流損失が大きい。そのため、磁気特性
が劣化し、単体では使用が困難である。
めには、材料が、高い飽和磁束密度と、高い透磁率と、
高い電気抵抗率とを併せ持つ必要がある。一般に、金属
磁性材料は、高い飽和磁束密度と透磁率とを有するが、
電気抵抗率が低い（１０-6〜１０-4Ωｃｍ）ため、中高
周波数領域で渦電流損失が大きい。そのため、磁気特性
が劣化し、単体では使用が困難である。
【０００５】また、金属酸化物磁性材料は金属磁性材料
に比べて電気抵抗率が高い（１〜１０8Ωｃｍ）ため、
中高周波数領域では渦電流損失が小さく、磁気特性の劣
化は少ない。しかしながら、飽和磁束密度が金属磁性材
料の１／３〜１／２であるため、用途に制限がある。
に比べて電気抵抗率が高い（１〜１０8Ωｃｍ）ため、
中高周波数領域では渦電流損失が小さく、磁気特性の劣
化は少ない。しかしながら、飽和磁束密度が金属磁性材
料の１／３〜１／２であるため、用途に制限がある。
【０００６】かかる実情に鑑み、金属磁性材料と金属酸
化物磁性材料とを複合化することにより、両者の欠点を
補うような、高い飽和磁束密度と、高い透磁率と、高い
電気抵抗率とを有する複合磁性材料が提案されている。
化物磁性材料とを複合化することにより、両者の欠点を
補うような、高い飽和磁束密度と、高い透磁率と、高い
電気抵抗率とを有する複合磁性材料が提案されている。
【０００７】たとえば、特開平４−２２６００３号公報
では、軟磁性金属粒子と、高抵抗軟磁性物質とをプラズ
マ活性化焼結した複合軟磁性材料が開示されている。
では、軟磁性金属粒子と、高抵抗軟磁性物質とをプラズ
マ活性化焼結した複合軟磁性材料が開示されている。
【０００８】しかしながら、この公報に記載された複合
磁性材料では、必ずしも透磁率の高い磁性材料を得るこ
とができなかった。
磁性材料では、必ずしも透磁率の高い磁性材料を得るこ
とができなかった。
【０００９】また、この公報に記載された技術のプラズ
マ活性化焼結法ではタイムサイクルが１〜３分／個と長
く、生産性に問題があった。また、設備費用が高く、製
造コストが高くなり経済性の点でも問題があった。
マ活性化焼結法ではタイムサイクルが１〜３分／個と長
く、生産性に問題があった。また、設備費用が高く、製
造コストが高くなり経済性の点でも問題があった。
【００１０】これに対し、特開平６−２６７７２３号公
報では、表層に非磁性金属酸化物を持つ軟磁性金属粒子
間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複合軟磁性材料が
開示されている。軟磁性金属粒子は平均長軸長さを平均
厚さで除したアスペクト比が２以上の偏平状である。こ
のように軟磁性金属粒子の形状を偏平状とすることによ
り、印加される磁界により各軟磁性金属粒子に生じる反
磁界の影響を最小にすることができる。すなわち、軟磁
性金属粒子を異方性化することにより、透磁率を高める
ことができる。
報では、表層に非磁性金属酸化物を持つ軟磁性金属粒子
間に高抵抗軟磁性物質の層が介在する複合軟磁性材料が
開示されている。軟磁性金属粒子は平均長軸長さを平均
厚さで除したアスペクト比が２以上の偏平状である。こ
のように軟磁性金属粒子の形状を偏平状とすることによ
り、印加される磁界により各軟磁性金属粒子に生じる反
磁界の影響を最小にすることができる。すなわち、軟磁
性金属粒子を異方性化することにより、透磁率を高める
ことができる。
【００１１】しかしながら、この公報に記載された複合
磁性材料では、軟磁性金属粒子の表層に非磁性金属酸化
物の層が形成されているため、軟磁性金属粒子と高抵抗
軟磁性物質の層の界面に非磁性金属酸化物の層が介在す
る。そのため、複合磁性材料全体として磁性材料の量が
少なくなるため、飽和磁束密度を向上させることが困難
であるという問題があった。
磁性材料では、軟磁性金属粒子の表層に非磁性金属酸化
物の層が形成されているため、軟磁性金属粒子と高抵抗
軟磁性物質の層の界面に非磁性金属酸化物の層が介在す
る。そのため、複合磁性材料全体として磁性材料の量が
少なくなるため、飽和磁束密度を向上させることが困難
であるという問題があった。
【００１２】また、非磁性物が介在するために磁壁のピ
ンニングが生じ、高い透磁率を得ることが困難であっ
た。
ンニングが生じ、高い透磁率を得ることが困難であっ
た。
【００１３】さらに、この公報に記載の技術では、偏平
状の粒子の作製が困難であり、通常のアトマイズ粒子や
還元粒子と比較して原料コストが高くなるという問題が
あった。
状の粒子の作製が困難であり、通常のアトマイズ粒子や
還元粒子と比較して原料コストが高くなるという問題が
あった。
【００１４】しかも、この方法では、粉末冶金法におい
て粉末が偏平状であるため、流動性が低く成形後の密度
が低いため、飽和磁束密度が低いという問題があった。
て粉末が偏平状であるため、流動性が低く成形後の密度
が低いため、飽和磁束密度が低いという問題があった。
【００１５】そこで、この発明は上述のような問題点を
解決するためになされたものであり、飽和磁束密度、透
磁率および電気抵抗率が高い複合磁性材料を提供するこ
とを目的とする。
解決するためになされたものであり、飽和磁束密度、透
磁率および電気抵抗率が高い複合磁性材料を提供するこ
とを目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】この発明に従った複合磁
性材料は、互いに焼結された複数の偏平形状の複合磁性
粒子を備える。複合磁性粒子は、金属磁性粒子と、その
金属磁性粒子の表面に直接接合する、金属酸化物磁性粒
子を含む被覆層とを有する。
性材料は、互いに焼結された複数の偏平形状の複合磁性
粒子を備える。複合磁性粒子は、金属磁性粒子と、その
金属磁性粒子の表面に直接接合する、金属酸化物磁性粒
子を含む被覆層とを有する。
【００１７】このように構成された複合磁性材料では、
金属磁性粒子が、酸化物磁性粒子を含む被覆層により被
覆されるため、電気抵抗率が高くなる。また、複合磁性
粒子が偏平形状であるため、印加される磁界により複合
磁性粒子に生じる反磁界の影響を少なくすることがで
き、透磁率を向上させることができる。さらに、金属酸
化物磁性粒子を含む被覆層は金属磁性粒子の表面に直接
接合するため、金属磁性粒子と被覆層との間に非磁性材
料を介在させる場合に比べて磁性材料の量が多くなる。
その結果、飽和磁束密度および透磁率をさらに向上させ
ることができる。
金属磁性粒子が、酸化物磁性粒子を含む被覆層により被
覆されるため、電気抵抗率が高くなる。また、複合磁性
粒子が偏平形状であるため、印加される磁界により複合
磁性粒子に生じる反磁界の影響を少なくすることがで
き、透磁率を向上させることができる。さらに、金属酸
化物磁性粒子を含む被覆層は金属磁性粒子の表面に直接
接合するため、金属磁性粒子と被覆層との間に非磁性材
料を介在させる場合に比べて磁性材料の量が多くなる。
その結果、飽和磁束密度および透磁率をさらに向上させ
ることができる。
【００１８】また好ましくは、複数の偏平形状の複合磁
性粒子の各々の断面形状は、長軸と短軸とを有し、長軸
の各々は所定の方向に沿って延びている。なお、複合磁
性粒子の断面形状の長軸とは、複合磁性粒子を楕円体で
近似したときに、楕円体の中心を通り面積が最大となる
楕円断面の長軸をいう。また、短軸とは、上述の楕円の
中心を通る最も短い軸をいう。この場合、長軸の各々は
所定の方向に沿って延びているため、この所定の方向に
沿って磁場を印加することにより、より高い透磁率を得
ることができる。
性粒子の各々の断面形状は、長軸と短軸とを有し、長軸
の各々は所定の方向に沿って延びている。なお、複合磁
性粒子の断面形状の長軸とは、複合磁性粒子を楕円体で
近似したときに、楕円体の中心を通り面積が最大となる
楕円断面の長軸をいう。また、短軸とは、上述の楕円の
中心を通る最も短い軸をいう。この場合、長軸の各々は
所定の方向に沿って延びているため、この所定の方向に
沿って磁場を印加することにより、より高い透磁率を得
ることができる。
【００１９】また好ましくは、長軸の長さを短軸の長さ
で除した値であるアスペクト比が１．５以上である。
で除した値であるアスペクト比が１．５以上である。
【００２０】また好ましくは、金属酸化物磁性粒子の平
均粒径が０．０１μｍ以上５μｍ以下である。金属酸化
物磁性粒子の平均粒径が０．０１μｍ未満では、金属酸
化物磁性粒子の作製が困難となる。また、金属酸化物磁
性粒子の平均粒径が５μｍを超えると被覆層の膜厚を均
一にすることが困難である。また、金属酸化物磁性粒子
の平均粒径は特に０．５μｍ以上２μｍ以下であること
が好ましい。なお、本明細書中、「平均粒径」とは、ふ
るい法によって測定した粒径のヒストグラム中、粒径の
小さい方からの質量の和が総質量の５０％に達する粒子
の粒径、すなわち５０％粒径Ｄ５０をいう。
均粒径が０．０１μｍ以上５μｍ以下である。金属酸化
物磁性粒子の平均粒径が０．０１μｍ未満では、金属酸
化物磁性粒子の作製が困難となる。また、金属酸化物磁
性粒子の平均粒径が５μｍを超えると被覆層の膜厚を均
一にすることが困難である。また、金属酸化物磁性粒子
の平均粒径は特に０．５μｍ以上２μｍ以下であること
が好ましい。なお、本明細書中、「平均粒径」とは、ふ
るい法によって測定した粒径のヒストグラム中、粒径の
小さい方からの質量の和が総質量の５０％に達する粒子
の粒径、すなわち５０％粒径Ｄ５０をいう。
【００２１】また好ましくは、被覆層の厚みが０．０１
μｍ以上２０μｍ以下である。被覆層の厚みが０．０１
μｍ未満であれば、被覆層により絶縁性を得ることが困
難となる。被覆層の厚みが２０μｍを超えると単位体積
中の金属酸化物磁性粒子の体積比率が大きくなり、所定
の飽和磁束密度を得ることが困難である。また、被覆層
の厚みは特に０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好
ましい。
μｍ以上２０μｍ以下である。被覆層の厚みが０．０１
μｍ未満であれば、被覆層により絶縁性を得ることが困
難となる。被覆層の厚みが２０μｍを超えると単位体積
中の金属酸化物磁性粒子の体積比率が大きくなり、所定
の飽和磁束密度を得ることが困難である。また、被覆層
の厚みは特に０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好
ましい。
【００２２】また好ましくは、金属酸化物磁性粒子は、
マグネタイト（Ｆｅ2Ｏ3）、マンガン（Ｍｎ）−亜鉛
（Ｚｎ）フェライト、ニッケル（Ｎｉ）−亜鉛（Ｚｎ）
フェライト、コバルト（Ｃｏ）フェライト、マンガン
（Ｍｎ）フェライト、ニッケル（Ｎｉ）フェライト、銅
（Ｃｕ）フェライト、マグネシウム（Ｍｇ）フェライ
ト、リチウム（Ｌｉ）フェライト、マンガン（Ｍｎ）−
マグネシウム（Ｍｇ）フェライト、銅（Ｃｕ）−亜鉛
（Ｚｎ）フェライトおよびマンガン（Ｍｇ）−亜鉛（Ｚ
ｎ）フェライトからなる群より選ばれた少なくとも１種
を含む。
マグネタイト（Ｆｅ2Ｏ3）、マンガン（Ｍｎ）−亜鉛
（Ｚｎ）フェライト、ニッケル（Ｎｉ）−亜鉛（Ｚｎ）
フェライト、コバルト（Ｃｏ）フェライト、マンガン
（Ｍｎ）フェライト、ニッケル（Ｎｉ）フェライト、銅
（Ｃｕ）フェライト、マグネシウム（Ｍｇ）フェライ
ト、リチウム（Ｌｉ）フェライト、マンガン（Ｍｎ）−
マグネシウム（Ｍｇ）フェライト、銅（Ｃｕ）−亜鉛
（Ｚｎ）フェライトおよびマンガン（Ｍｇ）−亜鉛（Ｚ
ｎ）フェライトからなる群より選ばれた少なくとも１種
を含む。
【００２３】金属酸化物磁性粒子は、軟磁性を有し、か
つ電気抵抗率が１０-3Ωｃｍ以上であれば特に制限はな
い。上述のように、各種の軟磁性フェライトまたは窒化
鉄を用いることができる。特に、飽和磁束密度の高いマ
ンガン−亜鉛フェライトまたはニッケル−亜鉛フェライ
トが好ましい。これらの１種または２種以上を用いても
よい。
つ電気抵抗率が１０-3Ωｃｍ以上であれば特に制限はな
い。上述のように、各種の軟磁性フェライトまたは窒化
鉄を用いることができる。特に、飽和磁束密度の高いマ
ンガン−亜鉛フェライトまたはニッケル−亜鉛フェライ
トが好ましい。これらの１種または２種以上を用いても
よい。
【００２４】好ましくは、金属磁性粒子の平均粒径は５
μｍ以上２００μｍ以下である。金属磁性粒子の平均粒
径が５μｍ未満では、金属が酸化しやすいため磁気特性
が劣化しやすい。金属磁性粒子の平均粒径が２００μｍ
を超えると、成形時の圧縮性が低下するため、成形体の
密度が低下し取扱いが困難となる。
μｍ以上２００μｍ以下である。金属磁性粒子の平均粒
径が５μｍ未満では、金属が酸化しやすいため磁気特性
が劣化しやすい。金属磁性粒子の平均粒径が２００μｍ
を超えると、成形時の圧縮性が低下するため、成形体の
密度が低下し取扱いが困難となる。
【００２５】好ましくは、金属磁性粒子は、鉄（Ｆ
ｅ）、鉄（Ｆｅ）−シリコン（Ｓｉ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−窒素（Ｎ）系合金、鉄（Ｆｅ）−ニッケル（Ｎ
ｉ）系合金、鉄（Ｆｅ）−炭素（Ｃ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−ホウ素（Ｂ）系合金、鉄（Ｆｅ）−コバルト（Ｃ
ｏ）系合金、鉄（Ｆｅ）−リン（Ｐ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−ニッケル（Ｎｉ）−コバルト（Ｃｏ）系合金およ
び鉄（Ｆｅ）-アルミニウム（Ａｌ）-シリコン（Ｓｉ）
系合金からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
これらの１種または２種以上を用いてもよい。金属磁性
粒子の材料は軟磁性金属であれば、金属単体でも合金で
もよく特に制限はない。
ｅ）、鉄（Ｆｅ）−シリコン（Ｓｉ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−窒素（Ｎ）系合金、鉄（Ｆｅ）−ニッケル（Ｎ
ｉ）系合金、鉄（Ｆｅ）−炭素（Ｃ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−ホウ素（Ｂ）系合金、鉄（Ｆｅ）−コバルト（Ｃ
ｏ）系合金、鉄（Ｆｅ）−リン（Ｐ）系合金、鉄（Ｆ
ｅ）−ニッケル（Ｎｉ）−コバルト（Ｃｏ）系合金およ
び鉄（Ｆｅ）-アルミニウム（Ａｌ）-シリコン（Ｓｉ）
系合金からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
これらの１種または２種以上を用いてもよい。金属磁性
粒子の材料は軟磁性金属であれば、金属単体でも合金で
もよく特に制限はない。
【００２６】また好ましくは、この発明に従った複合磁
性材料は、飽和磁束密度Ｂｓが１５ｋＧ以上であり、電
気抵抗率ρが１０-3Ωｃｍ以上１０2Ωｃｍ以下であ
る。
性材料は、飽和磁束密度Ｂｓが１５ｋＧ以上であり、電
気抵抗率ρが１０-3Ωｃｍ以上１０2Ωｃｍ以下であ
る。
【００２７】この発明に従った複合磁性材料の製造方法
は、以下の工程を備える。 （１） 金属磁性粒子と、金属酸化物磁性粒子とを混合
することにより、金属磁性粒子と、その金属磁性粒子の
表面に直接接合する、金属酸化物磁性粒子を含む被覆層
とを有する複合磁性粒子を形成する工程。
は、以下の工程を備える。 （１） 金属磁性粒子と、金属酸化物磁性粒子とを混合
することにより、金属磁性粒子と、その金属磁性粒子の
表面に直接接合する、金属酸化物磁性粒子を含む被覆層
とを有する複合磁性粒子を形成する工程。
【００２８】（２） 複合磁性粒子を成形して成形体を
形成する工程。 （３） 成形体を温度６００℃以上９００℃以下で焼結
して焼結体を形成する工程。
形成する工程。 （３） 成形体を温度６００℃以上９００℃以下で焼結
して焼結体を形成する工程。
【００２９】（４） 焼結体を熱間加工することによ
り、複合磁性粒子を偏平形状とする工程。
り、複合磁性粒子を偏平形状とする工程。
【００３０】このような工程を備えた複合磁性材料の製
造方法に従えば、まず金属磁性粒子は、金属酸化物磁性
粒子を含む高抵抗の被覆層により被覆される。その結
果、複合磁性粒子の電気抵抗率を向上させることができ
る。また、金属磁性粒子の表面に直接接合するように金
属酸化物磁性粒子を含む被覆層が形成されるため、被覆
層と金属磁性粒子との間に非磁性層が介在した場合に比
べて磁性体の量を多くすることができる。そのため、飽
和磁束密度を向上させることができる。さらに、焼結体
を形成した後、熱間加工により複合磁性粒子を偏平形状
とする。その結果、予め偏平形状とされた粒子を成形す
る場合に比べて、成形が容易となる。また、成形体の密
度を向上させることができるため、複合磁性材料の飽和
磁束密度を向上させることができる。
造方法に従えば、まず金属磁性粒子は、金属酸化物磁性
粒子を含む高抵抗の被覆層により被覆される。その結
果、複合磁性粒子の電気抵抗率を向上させることができ
る。また、金属磁性粒子の表面に直接接合するように金
属酸化物磁性粒子を含む被覆層が形成されるため、被覆
層と金属磁性粒子との間に非磁性層が介在した場合に比
べて磁性体の量を多くすることができる。そのため、飽
和磁束密度を向上させることができる。さらに、焼結体
を形成した後、熱間加工により複合磁性粒子を偏平形状
とする。その結果、予め偏平形状とされた粒子を成形す
る場合に比べて、成形が容易となる。また、成形体の密
度を向上させることができるため、複合磁性材料の飽和
磁束密度を向上させることができる。
【００３１】さらに、複合磁性粒子が偏平形状であるた
め、印加される磁界により複合磁性粒子に生じる反磁界
の影響を最小にすることができ、透磁率を向上させるこ
とができる。
め、印加される磁界により複合磁性粒子に生じる反磁界
の影響を最小にすることができ、透磁率を向上させるこ
とができる。
【００３２】焼結体の形成する温度を６００℃以上９０
０℃以下としたのは、温度が６００℃未満では、焼結が
十分に進行しないからである。また、温度が９００℃を
超えると金属磁性粒子と金属酸化物磁性粒子とが反応す
ることにより飽和磁束密度、透磁率および電気抵抗率を
高く保てないためである。
０℃以下としたのは、温度が６００℃未満では、焼結が
十分に進行しないからである。また、温度が９００℃を
超えると金属磁性粒子と金属酸化物磁性粒子とが反応す
ることにより飽和磁束密度、透磁率および電気抵抗率を
高く保てないためである。
【００３３】また好ましくは、熱間加工を行なう温度
は、焼結体を形成する温度以上である。この場合、熱間
加工が高温で行なわれるため、焼結体をより容易に加工
することができる。
は、焼結体を形成する温度以上である。この場合、熱間
加工が高温で行なわれるため、焼結体をより容易に加工
することができる。
【００３４】また好ましくは、熱間加工は温度６００℃
以上１２００℃以下で行なわれる。さらに好ましくは、
熱間加工は熱間鍛造または熱間押出である。熱間鍛造の
場合、鍛造により力が加えられた方向と直交する方向に
複合磁性粒子が偏平するため、その偏平方向に磁束を印
加することが好ましい。熱間押出の場合、押出方向と平
行な方向に複合磁性粒子が偏平するため、その偏平方向
に磁束を印加することが好ましい。
以上１２００℃以下で行なわれる。さらに好ましくは、
熱間加工は熱間鍛造または熱間押出である。熱間鍛造の
場合、鍛造により力が加えられた方向と直交する方向に
複合磁性粒子が偏平するため、その偏平方向に磁束を印
加することが好ましい。熱間押出の場合、押出方向と平
行な方向に複合磁性粒子が偏平するため、その偏平方向
に磁束を印加することが好ましい。
【００３５】金属磁性粒子への金属酸化物磁性粒子の配
合比率は、質量比で１％以上３０％以下とすることが望
ましい。すなわち、金属酸化物磁性粒子の質量／金属磁
性粒子の質量が１％以上３０％以下となることが望まし
い。配合比率が１％未満では、電気抵抗率が低下するた
め交流磁気特性の低下を招く。また、配合比率が３０％
を超えると、金属酸化物磁性材料の割合が多くなり、飽
和磁束密度の低下が生じる。より好ましくは、金属磁性
粒子への金属酸化物磁性粒子の配合比率は質量比で３％
以上１０％以下であることが望ましい。
合比率は、質量比で１％以上３０％以下とすることが望
ましい。すなわち、金属酸化物磁性粒子の質量／金属磁
性粒子の質量が１％以上３０％以下となることが望まし
い。配合比率が１％未満では、電気抵抗率が低下するた
め交流磁気特性の低下を招く。また、配合比率が３０％
を超えると、金属酸化物磁性材料の割合が多くなり、飽
和磁束密度の低下が生じる。より好ましくは、金属磁性
粒子への金属酸化物磁性粒子の配合比率は質量比で３％
以上１０％以下であることが望ましい。
【００３６】焼結温度は、好ましくは７５０℃以上８０
０℃以下である。また、金属磁性粒子と金属酸化物磁性
粒子とを混合する方法に特に制限はなく、たとえばメカ
ニカルアロイング法、ボールミル、振動ボールミル、遊
星ボールミル、メカノフュージョン、共沈法、化学気相
蒸着法（ＣＶＤ法）、物理気相蒸着法（ＰＶＤ法）、め
っき法、スパッタリング法、蒸着法、ゾル−ゲル法など
のいずれを使用することも可能である。
０℃以下である。また、金属磁性粒子と金属酸化物磁性
粒子とを混合する方法に特に制限はなく、たとえばメカ
ニカルアロイング法、ボールミル、振動ボールミル、遊
星ボールミル、メカノフュージョン、共沈法、化学気相
蒸着法（ＣＶＤ法）、物理気相蒸着法（ＰＶＤ法）、め
っき法、スパッタリング法、蒸着法、ゾル−ゲル法など
のいずれを使用することも可能である。
【００３７】この発明に従った複合磁性材料は、高い飽
和磁束密度と、高い透磁率と、高い電気抵抗率とを併せ
持つため、チョークコイル、スイッチング電源素子およ
び磁気ヘッドなどの電子部品、各種モータ部品、自動車
用ソレノイド、各種磁気センサ、各種電磁弁等に用いら
れる。
和磁束密度と、高い透磁率と、高い電気抵抗率とを併せ
持つため、チョークコイル、スイッチング電源素子およ
び磁気ヘッドなどの電子部品、各種モータ部品、自動車
用ソレノイド、各種磁気センサ、各種電磁弁等に用いら
れる。
【００３８】また製造方法では、熱間加工された後に磁
気焼鈍されることがより好ましい。温度７００℃以上で
磁気焼鈍されることがより好ましい。
気焼鈍されることがより好ましい。温度７００℃以上で
磁気焼鈍されることがより好ましい。
【００３９】さらに、原料として用いる金属磁性粒子の
平均粒径が２００μｍ以上であれば好ましい。
平均粒径が２００μｍ以上であれば好ましい。
【００４０】
【実施例】（実施例１）金属磁性粉末として、鉄粉末を
用意した。鉄粉末の純度は９９．９９％以上であり、平
均粒径は１５０μｍ以下であった。金属酸化物磁性粉末
として、マンガン−亜鉛フェライトを用意した。マンガ
ン−亜鉛フェライト粉末中には、ＭｎＯ、ＺｎＯおよび
Ｆｅ2Ｏ3が含まれ、これらの質量比はＭｎＯ：ＺｎＯ：
Ｆｅ2Ｏ3が２１．０７：８．２７：７０．７０である。
マンガン−亜鉛フェライト粉末の平均粒径は１．０５μ
ｍであった。
用意した。鉄粉末の純度は９９．９９％以上であり、平
均粒径は１５０μｍ以下であった。金属酸化物磁性粉末
として、マンガン−亜鉛フェライトを用意した。マンガ
ン−亜鉛フェライト粉末中には、ＭｎＯ、ＺｎＯおよび
Ｆｅ2Ｏ3が含まれ、これらの質量比はＭｎＯ：ＺｎＯ：
Ｆｅ2Ｏ3が２１．０７：８．２７：７０．７０である。
マンガン−亜鉛フェライト粉末の平均粒径は１．０５μ
ｍであった。
【００４１】質量比で鉄粉末が９０％、マンガン−亜鉛
フェライトが１０％となるようにこれらを配合して振動
ミルにより混合することにより混合粉末を形成した。混
合が完全に行なわれ状態では、鉄粉末の表面にマンガン
−亜鉛フェライト粉末の被覆層が直接接合した。これに
より複合磁性粒子を形成した。
フェライトが１０％となるようにこれらを配合して振動
ミルにより混合することにより混合粉末を形成した。混
合が完全に行なわれ状態では、鉄粉末の表面にマンガン
−亜鉛フェライト粉末の被覆層が直接接合した。これに
より複合磁性粒子を形成した。
【００４２】次に、複合磁性粒子を直径φが３５ｍｍ、
高さｔが８ｍｍとなるように円柱形状に成形した。なお
成形の際の圧力を７．８４×１０2ＭＰａとした。これ
により成形体を形成した。
高さｔが８ｍｍとなるように円柱形状に成形した。なお
成形の際の圧力を７．８４×１０2ＭＰａとした。これ
により成形体を形成した。
【００４３】成形体を温度８００℃で窒素雰囲気に１時
間保つことにより成形体を焼結して焼結体を形成した。
間保つことにより成形体を焼結して焼結体を形成した。
【００４４】次に、焼結体を温度１０００℃で面圧７．
８４×１０2ＭＰａで熱間鍛造した。これにより複合磁
性粒子を偏平形状とした。最後に窒素雰囲気中、温度８
５０℃で４時間磁気焼鈍を行ない、複合磁性材料を得
た。また、複合磁性材料を構成する偏平形状の複合磁性
粒子のアスペクト比を測定したところ、平均アスペクト
比は２．１であった。
８４×１０2ＭＰａで熱間鍛造した。これにより複合磁
性粒子を偏平形状とした。最後に窒素雰囲気中、温度８
５０℃で４時間磁気焼鈍を行ない、複合磁性材料を得
た。また、複合磁性材料を構成する偏平形状の複合磁性
粒子のアスペクト比を測定したところ、平均アスペクト
比は２．１であった。
【００４５】複合磁性材料について飽和磁束密度Ｂｓ、
電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢ、
透磁率を測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１６ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは３０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７０、透磁率は１８００であっ
た。
電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢ、
透磁率を測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１６ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは３０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７０、透磁率は１８００であっ
た。
【００４６】比較品として、金属磁性粉末にリン酸（Ｈ
3ＰＯ3）皮膜が形成された複合磁性粒子を形成した。こ
の複合磁性粒子を成形して得た複合磁性材料について飽
和磁束密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウ
エル硬さＨＲＢ、透磁率を測定したところ、飽和磁束密
度Ｂｓは１５ｋＧ、電気抵抗率ρは２０００μΩｃｍ、
Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢは１０、透磁率は
６００であった。
3ＰＯ3）皮膜が形成された複合磁性粒子を形成した。こ
の複合磁性粒子を成形して得た複合磁性材料について飽
和磁束密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウ
エル硬さＨＲＢ、透磁率を測定したところ、飽和磁束密
度Ｂｓは１５ｋＧ、電気抵抗率ρは２０００μΩｃｍ、
Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢは１０、透磁率は
６００であった。
【００４７】これより、本発明品では、従来品と比較し
て飽和磁束密度、電気抵抗率、Ｂスケールのロックウエ
ル硬さＨＲＢおよび透磁率のいずれもが向上しているこ
とがわかる。
て飽和磁束密度、電気抵抗率、Ｂスケールのロックウエ
ル硬さＨＲＢおよび透磁率のいずれもが向上しているこ
とがわかる。
【００４８】（実施例２）実施例２では、金属磁性粉末
として、質量比でコバルトを５０％、炭素を０．００５
％含み、残部が鉄である鉄−コバルト粉末を用意した。
この鉄−コバルト粉末の平均粒径は１５０μｍ以下であ
った。この鉄−コバルト粉末と、実施の形態１で用いた
マンガン−亜鉛フェライトとを質量比で９０：１０とな
るように配合して実施例１と同様の方法により混合し
た。その後実施例１と同様に成形、焼結、熱間鍛造およ
び磁気焼鈍を施して複合磁性材料を得た。また、複合磁
性材料を構成する偏平形状の複合磁性粒子のアスペクト
比を測定したところ、平均アスペクト比は１．７であっ
た。
として、質量比でコバルトを５０％、炭素を０．００５
％含み、残部が鉄である鉄−コバルト粉末を用意した。
この鉄−コバルト粉末の平均粒径は１５０μｍ以下であ
った。この鉄−コバルト粉末と、実施の形態１で用いた
マンガン−亜鉛フェライトとを質量比で９０：１０とな
るように配合して実施例１と同様の方法により混合し
た。その後実施例１と同様に成形、焼結、熱間鍛造およ
び磁気焼鈍を施して複合磁性材料を得た。また、複合磁
性材料を構成する偏平形状の複合磁性粒子のアスペクト
比を測定したところ、平均アスペクト比は１．７であっ
た。
【００４９】この複合磁性材料について、飽和磁束密度
Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨ
ＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１７ｋＧ、
電気抵抗率ρは２０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロック
ウエル硬さＨＲＢは１０５であった。また、複合磁性材
料を構成する偏平形状の複合磁性粒子のアスペクト比を
測定したところ、平均アスペクト比は１．７であった。
Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨ
ＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１７ｋＧ、
電気抵抗率ρは２０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロック
ウエル硬さＨＲＢは１０５であった。また、複合磁性材
料を構成する偏平形状の複合磁性粒子のアスペクト比を
測定したところ、平均アスペクト比は１．７であった。
【００５０】（実施例３）実施例３では、実施例１と同
様の金属磁性粉末および金属酸化物磁性粉末を混合して
複合磁性粒子を形成した後、実施例１と同様の工程に従
い成形および焼結を施すことにより焼結体を得た。この
焼結体を温度１０００℃で押出比１０の条件で熱間押出
して押出材を得た。最後にこの押出材を窒素中、温度８
５０℃で４時間磁気焼鈍を施して複合磁性材料を得た。
様の金属磁性粉末および金属酸化物磁性粉末を混合して
複合磁性粒子を形成した後、実施例１と同様の工程に従
い成形および焼結を施すことにより焼結体を得た。この
焼結体を温度１０００℃で押出比１０の条件で熱間押出
して押出材を得た。最後にこの押出材を窒素中、温度８
５０℃で４時間磁気焼鈍を施して複合磁性材料を得た。
【００５１】得られた複合磁性材料について偏平形状の
複合磁性粒子のアスペクト比を測定したところ、平均ア
スペクト比は３．２であった。
複合磁性粒子のアスペクト比を測定したところ、平均ア
スペクト比は３．２であった。
【００５２】得られた複合磁性材料について、飽和磁束
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１８ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７５であった。
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１８ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７５であった。
【００５３】（実施例４）実施例４では、実施例２と同
様の工程に従い金属磁性粉末と金属酸化物磁性粉末とを
混合して複合磁性粒子を形成した。この複合磁性粒子を
実施例２と同様の工程に従い成形および焼結して焼結体
を形成した後、温度１０００℃、押出比１０の条件で熱
間押出して押出材を得た。その後窒素中、温度８５０℃
で４時間磁気焼鈍を施すことにより複合磁性材料を得
た。
様の工程に従い金属磁性粉末と金属酸化物磁性粉末とを
混合して複合磁性粒子を形成した。この複合磁性粒子を
実施例２と同様の工程に従い成形および焼結して焼結体
を形成した後、温度１０００℃、押出比１０の条件で熱
間押出して押出材を得た。その後窒素中、温度８５０℃
で４時間磁気焼鈍を施すことにより複合磁性材料を得
た。
【００５４】得られた複合磁性材料について偏平形状の
複合磁性粒子のアスペクト比を測定したところ、平均ア
スペクト比は２．４であった。
複合磁性粒子のアスペクト比を測定したところ、平均ア
スペクト比は２．４であった。
【００５５】さらに複合磁性材料の飽和磁束密度Ｂｓ、
電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢを
測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９ｋＧ、電気抵
抗率ρは２０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロックウエル
硬さＨＲＢは１１０であった。
電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さＨＲＢを
測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９ｋＧ、電気抵
抗率ρは２０００μΩｃｍ、Ｂスケールのロックウエル
硬さＨＲＢは１１０であった。
【００５６】（実施例５）実施例５では、実施例１にお
いて金属磁性粉末として用いる鉄粉末の平均粒径を２０
０μｍ以上とした。それ以外の点については実施例１と
同様の工程に従い複合磁性材料を形成した。
いて金属磁性粉末として用いる鉄粉末の平均粒径を２０
０μｍ以上とした。それ以外の点については実施例１と
同様の工程に従い複合磁性材料を形成した。
【００５７】得られた複合磁性材料について飽和磁束密
度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さ
ＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７２であった。
度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さ
ＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは７２であった。
【００５８】また、得られた複合磁性材料において、偏
平形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は２．０であ
った。
平形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は２．０であ
った。
【００５９】（実施例６）実施例６では、実施例２で金
属磁性粉末として用いた鉄−コバルト粉末の平均粒径を
２００μｍ以上とした。その他の点について実施例２と
同様の工程に従い複合磁性材料を得た。
属磁性粉末として用いた鉄−コバルト粉末の平均粒径を
２００μｍ以上とした。その他の点について実施例２と
同様の工程に従い複合磁性材料を得た。
【００６０】得られた複合磁性材料について飽和磁束密
度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さ
ＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは２０ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１２００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは１１５であった。
度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬さ
ＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは２０ｋ
Ｇ、電気抵抗率ρは１２００μΩｃｍ、Ｂスケールのロ
ックウエル硬さＨＲＢは１１５であった。
【００６１】また偏平形状の複合磁性粒子の平均アスペ
クト比は１．７であった。 （実施例７）実施例７では、実施例３において金属磁性
粉末として用いる鉄粉末の平均粒径を２００μｍ以上と
した。その他の点については実施例３と同様の工程に従
い複合磁性材料を得た。
クト比は１．７であった。 （実施例７）実施例７では、実施例３において金属磁性
粉末として用いる鉄粉末の平均粒径を２００μｍ以上と
した。その他の点については実施例３と同様の工程に従
い複合磁性材料を得た。
【００６２】得られた複合磁性材料について、飽和磁束
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９．
５ｋＧ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケール
のロックウエル硬さＨＲＢは７２であった。また、偏平
形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は２．６であっ
た。
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは１９．
５ｋＧ、電気抵抗率ρは１５００μΩｃｍ、Ｂスケール
のロックウエル硬さＨＲＢは７２であった。また、偏平
形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は２．６であっ
た。
【００６３】（実施例８）実施例８では、実施例４にお
いて金属磁性粉末として用いた鉄−コバルト粉末の平均
粒径を２００μｍ以上とした。その他の点については、
実施例４の工程と同様の工程に従い複合磁性材料を得
た。
いて金属磁性粉末として用いた鉄−コバルト粉末の平均
粒径を２００μｍ以上とした。その他の点については、
実施例４の工程と同様の工程に従い複合磁性材料を得
た。
【００６４】得られた複合磁性材料について、飽和磁束
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは２０．
５ｋＧ、電気抵抗率ρは１２００μΩｃｍ、Ｂスケール
のロックウエル硬さＨＲＢは１１５であった。また、偏
平形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は１．９であ
った。
密度Ｂｓ、電気抵抗率ρ、Ｂスケールのロックウエル硬
さＨＲＢを測定したところ、飽和磁束密度Ｂｓは２０．
５ｋＧ、電気抵抗率ρは１２００μΩｃｍ、Ｂスケール
のロックウエル硬さＨＲＢは１１５であった。また、偏
平形状の複合磁性粒子の平均アスペクト比は１．９であ
った。
【００６５】今回開示された実施例はすべての点で例示
であって制限的なものではないと考えられるべきであ
る。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の
範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味およ
び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
であって制限的なものではないと考えられるべきであ
る。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の
範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味およ
び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【００６６】
【発明の効果】この発明に従えば、高い飽和磁束密度、
透磁率および電気抵抗率を有する複合磁性材料を得るこ
とができる。
透磁率および電気抵抗率を有する複合磁性材料を得るこ
とができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G002 AA03 AA06 AB01 AE02 AE05 4G018 AA01 AA21 AA25 AB08 AC22 AC23 4K018 AA24 AA26 AA30 AA36 AB01 AC01 FA01 KA44 5E041 AC05 BC01 CA03 CA04 HB03 HB07 HB14 NN03 NN13 NN18
Claims (13)
- 【請求項１】 互いに焼結された複数の偏平形状の複合
磁性粒子を備え、 前記複合磁性粒子は、金属磁性粒子と、その金属磁性粒
子の表面に直接接合する金属酸化物磁性粒子を含む被覆
層とを有する、複合磁性材料。 - 【請求項２】 複数の前記偏平形状の複合磁性粒子の各
々の断面形状は、長軸と短軸とを有し、前記長軸の各々
は所定の方向に沿って延びている、請求項１に記載の複
合磁性材料。 - 【請求項３】 前記長軸の長さを前記短軸の長さで除し
た値であるアスペクト比の平均値が１．５以上である、
請求項２に記載の複合磁性材料。 - 【請求項４】 前記金属酸化物磁性粒子の平均粒径が
０．０１μｍ以上５μｍ以下である、請求項１から３の
いずれか１項に記載の複合磁性材料。 - 【請求項５】 前記被覆層の厚みが０．０１μｍ以上２
０μｍ以下である、請求項１から４のいずれか１項に記
載の複合磁性材料。 - 【請求項６】 前記金属酸化物磁性粒子は、マグネタイ
ト、マンガン−亜鉛フェライト、ニッケル−亜鉛フェラ
イト、コバルトフェライト、マンガンフェライト、ニッ
ケルフェライト、銅フェライト、マグネシウムフェライ
ト、リチウムフェライト、マンガン−マグネシウムフェ
ライト、銅−亜鉛フェライトおよびマンガン−亜鉛フェ
ライトからなる群より選ばれた少なくとも１種を含む、
請求項１から５のいずれか１項に記載の複合磁性材料。 - 【請求項７】 前記金属磁性粒子の平均粒径は５μｍ以
上２００μｍ以下である、請求項１から６のいずれか１
項に記載の複合磁性材料。 - 【請求項８】 前記金属磁性粒子は、鉄、鉄−シリコン
系合金、鉄−窒素系合金、鉄−ニッケル系合金、鉄−炭
素系合金、鉄−ホウ素系合金、鉄−コバルト系合金、鉄
−リン系合金、鉄−ニッケル−コバルト系合金および鉄
−アルミニウム−シリコン系合金からなる群より選ばれ
た少なくとも１種を含む、請求項１から７のいずれか１
項に記載の複合磁性材料。 - 【請求項９】 飽和磁束密度Ｂｓが１５ｋＧ以上であ
り、電気抵抗率ρが１０-3Ωｃｍ以上１０2Ωｃｍ以下
である、請求項１から８のいずれか１項に記載の複合磁
性材料。 - 【請求項１０】 金属磁性粒子と、金属酸化物磁性粒子
とを混合することにより、金属磁性粒子と、その金属磁
性粒子の表面に直接接合する、金属酸化物磁性粒子を含
む被覆層とを有する複合磁性粒子を形成する工程と、 前記複合磁性粒子を成形して成形体を形成する工程と、 前記成形体を温度６００℃以上９００℃以下で焼結して
焼結体を形成する工程と、 前記焼結体を熱間加工することにより、前記複合磁性粒
子を偏平形状とする工程とを備えた、複合磁性材料の製
造方法。 - 【請求項１１】 前記熱間加工を行なう温度は、前記焼
結体を形成する温度以上である、請求項１０に記載の複
合磁性材料の製造方法。 - 【請求項１２】 前記熱間加工は、温度６００℃以上１
２００℃以下で行なわれる、請求項１０または１１に記
載の複合磁性材料の製造方法。 - 【請求項１３】 前記熱間加工は熱間鍛造または熱間押
出である、請求項１０から１２のいずれか１項に記載の
複合磁性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001053954A JP2002256304A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 複合磁性材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001053954A JP2002256304A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 複合磁性材料およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002256304A true JP2002256304A (ja) | 2002-09-11 |
Family
ID=18914363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001053954A Withdrawn JP2002256304A (ja) | 2001-02-28 | 2001-02-28 | 複合磁性材料およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002256304A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006131462A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合焼結磁性材料の製造方法 |
| EP2045822A2 (en) | 2007-10-01 | 2009-04-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetite-coated iron powder |
| JP2011214026A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Doshisha | 磁性ナノコンポジット及びその製造方法 |
| JP2015065363A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-09 | 東光株式会社 | 金属磁性材料、電子部品 |
| WO2015159981A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| JP2015207616A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| JP2015207617A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| CN105801098A (zh) * | 2016-04-19 | 2016-07-27 | 福建省德化县创捷窑具有限公司 | 经济、环保型堇青石-莫来石窑具复合材料及其制作方法 |
| JP2016157753A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 圧粉磁心およびその製造方法 |
| KR20180055257A (ko) * | 2016-11-16 | 2018-05-25 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 철계 분말 및 이의 제조방법 |
| US10090088B2 (en) | 2015-09-14 | 2018-10-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Soft magnetic material, rotating electric machine, motor, and generator |
| RU2817713C1 (ru) * | 2023-02-23 | 2024-04-18 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Альтаир-Спб" | Способ изготовления литий-цинк-марганцевой ферритовой керамики |
-
2001
- 2001-02-28 JP JP2001053954A patent/JP2002256304A/ja not_active Withdrawn
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006131462A (ja) * | 2004-11-08 | 2006-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 複合焼結磁性材料の製造方法 |
| JP4613586B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2011-01-19 | パナソニック株式会社 | 複合焼結磁性材料の製造方法 |
| EP2045822A2 (en) | 2007-10-01 | 2009-04-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetite-coated iron powder |
| JP2011214026A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Doshisha | 磁性ナノコンポジット及びその製造方法 |
| JP2015065363A (ja) * | 2013-09-26 | 2015-04-09 | 東光株式会社 | 金属磁性材料、電子部品 |
| WO2015159981A1 (ja) * | 2014-04-18 | 2015-10-22 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| JP2015207616A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| JP2015207617A (ja) * | 2014-04-18 | 2015-11-19 | 東光株式会社 | 金属磁性材料及び電子部品 |
| US10622126B2 (en) | 2014-04-18 | 2020-04-14 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Metal magnetic material and electronic component |
| CN106233400A (zh) * | 2014-04-18 | 2016-12-14 | 东光株式会社 | 金属磁性材料及电子部件 |
| JP2016157753A (ja) * | 2015-02-24 | 2016-09-01 | 株式会社豊田中央研究所 | 圧粉磁心およびその製造方法 |
| US10090088B2 (en) | 2015-09-14 | 2018-10-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Soft magnetic material, rotating electric machine, motor, and generator |
| CN105801098A (zh) * | 2016-04-19 | 2016-07-27 | 福建省德化县创捷窑具有限公司 | 经济、环保型堇青石-莫来石窑具复合材料及其制作方法 |
| KR20180055257A (ko) * | 2016-11-16 | 2018-05-25 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 철계 분말 및 이의 제조방법 |
| KR102647523B1 (ko) * | 2016-11-16 | 2024-03-13 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 철계 분말 및 이의 제조방법 |
| RU2817713C1 (ru) * | 2023-02-23 | 2024-04-18 | Общество С Ограниченной Ответственностью "Альтаир-Спб" | Способ изготовления литий-цинк-марганцевой ферритовой керамики |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2482291B1 (en) | Magnetic powder material and low-loss composite magnetic material containing same | |
| JP6075605B2 (ja) | 軟磁性体及びその製造方法 | |
| JP2008028162A (ja) | 軟磁性材料の製造方法、軟磁性材料、および圧粉磁心 | |
| CN106663513B (zh) | 磁芯、磁芯的制造方法以及线圈部件 | |
| KR20130079422A (ko) | 철족계 연자성 분말재 | |
| EP1600987A2 (en) | Soft magnetic material, powder metallurgy soft magnetic material and manufacturing methods therefor | |
| JP4136936B2 (ja) | 複合磁性材料の製造方法 | |
| WO2005072894A1 (ja) | 軟磁性材料および圧粉磁心 | |
| WO2006033295A1 (ja) | 圧粉成形体の製造方法および圧粉成形体 | |
| JP6476989B2 (ja) | 圧粉磁心の製造方法 | |
| JP2002256304A (ja) | 複合磁性材料およびその製造方法 | |
| CN110997187B (zh) | 压粉铁心的制造方法以及电磁部件的制造方法 | |
| JPH04226003A (ja) | 複合軟磁性材料および複合軟磁性材料用コート粒子 | |
| JP2009185312A (ja) | 複合軟磁性材料、それを用いた圧粉磁心、およびそれらの製造方法 | |
| JP4968519B2 (ja) | 永久磁石およびその製造方法 | |
| JP2015088529A (ja) | 圧粉磁心、磁心用粉末およびそれらの製造方法 | |
| JP2009295613A (ja) | 圧粉磁心の製造方法 | |
| JP2007324210A (ja) | 軟磁性材料および圧粉磁心 | |
| JP4613586B2 (ja) | 複合焼結磁性材料の製造方法 | |
| US7601229B2 (en) | Process for producing soft magnetism material, soft magnetism material and powder magnetic core | |
| JPWO2002080202A1 (ja) | 複合磁性材料 | |
| JP2005167097A (ja) | 磁気部品の製造方法及びその磁気部品 | |
| JP2010185126A (ja) | 複合軟磁性材料とその製造方法 | |
| JP2005136358A (ja) | 磁芯及び軟磁性鉄基粉末 | |
| JP2004156102A (ja) | 高密度および高抵抗を有する複合軟磁性焼結材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080513 |