JP2002243904A - 光吸収性反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置 - Google Patents
光吸収性反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶表示装置に用いた際に、反射防止機能と、
液晶表示装置を斜視した際に顕著になるバックライトの
光漏れを低減する機能を合わせ持った液晶表示装置とす
ることのできる反射防止積層体を提供すること。 【解決手段】プラスチック基材上に形成された反射防止
積層体１０において、反射防止積層体が光吸収層３ａを
有し、可視光領域における透過率が６５％〜９５％であ
ること。
液晶表示装置を斜視した際に顕著になるバックライトの
光漏れを低減する機能を合わせ持った液晶表示装置とす
ることのできる反射防止積層体を提供すること。 【解決手段】プラスチック基材上に形成された反射防止
積層体１０において、反射防止積層体が光吸収層３ａを
有し、可視光領域における透過率が６５％〜９５％であ
ること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に用
いられる反射防止積層体に関するものであり、特に、液
晶表示装置のバックライトの光漏れを低減する機能を有
する反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置に
関する。
いられる反射防止積層体に関するものであり、特に、液
晶表示装置のバックライトの光漏れを低減する機能を有
する反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ディスプレイ（表示装置）の
多くは、室内外を問わず外光が入射するような環境下で
使用される。表示装置に入射した外光は表示装置の表面
において正反射され、その反射光が表示装置本来の表示
光と混合して表示画像の品質を低下させ、表示画像を見
にくくしている。
多くは、室内外を問わず外光が入射するような環境下で
使用される。表示装置に入射した外光は表示装置の表面
において正反射され、その反射光が表示装置本来の表示
光と混合して表示画像の品質を低下させ、表示画像を見
にくくしている。
【０００３】そのため、可視光領域の広範囲にわたり反
射防止効果を有する反射防止積層体を表示装置の表面に
設けることが行われている。また、透過型液晶表示装置
は、バックライトによって画像を表示するため、液晶表
示装置のフレームと液晶パネルの間からの光漏れがある
と、表示画像の品質の低下させることになる。
射防止効果を有する反射防止積層体を表示装置の表面に
設けることが行われている。また、透過型液晶表示装置
は、バックライトによって画像を表示するため、液晶表
示装置のフレームと液晶パネルの間からの光漏れがある
と、表示画像の品質の低下させることになる。
【０００４】このバックライトの光漏れを解消するため
に、フレームと液晶パネルの間に光吸収性の接着剤を用
いたり（特開平０９―１５２５８４号公報）、光漏れ部
分にブラックマトリクスを設ける（特開平１０―２５３
９５３号公報）等の方法が用いられている。
に、フレームと液晶パネルの間に光吸収性の接着剤を用
いたり（特開平０９―１５２５８４号公報）、光漏れ部
分にブラックマトリクスを設ける（特開平１０―２５３
９５３号公報）等の方法が用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、表示装置用
の反射防止積層体であって、これを液晶表示装置に用い
た際には、反射防止機能と、液晶表示装置を斜視した際
に顕著になるバックライトの光漏れを低減する機能を合
わせ持った液晶表示装置とすることのできる反射防止積
層体、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することを
課題とする。
の反射防止積層体であって、これを液晶表示装置に用い
た際には、反射防止機能と、液晶表示装置を斜視した際
に顕著になるバックライトの光漏れを低減する機能を合
わせ持った液晶表示装置とすることのできる反射防止積
層体、及びそれを用いた液晶表示装置を提供することを
課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、プラスチック
基材上に形成された反射防止積層体において、該反射防
止積層体が光吸収層を有し、可視光領域における透過率
が６５％〜９５％であることを特徴とする光吸収性反射
防止積層体である。
基材上に形成された反射防止積層体において、該反射防
止積層体が光吸収層を有し、可視光領域における透過率
が６５％〜９５％であることを特徴とする光吸収性反射
防止積層体である。
【０００７】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、前記光吸収層の主成分が、チ
タン、ジルコニウム、或いはハフニウムの窒化物、又は
酸窒化物から選ばれた少なくとも１種であることを特徴
とする光吸収性反射防止積層体である。
反射防止積層体において、前記光吸収層の主成分が、チ
タン、ジルコニウム、或いはハフニウムの窒化物、又は
酸窒化物から選ばれた少なくとも１種であることを特徴
とする光吸収性反射防止積層体である。
【０００８】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、前記光吸収層の主成分が、チ
タン、ジルコニウム、ニオブ、或いはタンタルの酸化物
から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする光
吸収性反射防止積層体である。
反射防止積層体において、前記光吸収層の主成分が、チ
タン、ジルコニウム、ニオブ、或いはタンタルの酸化物
から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする光
吸収性反射防止積層体である。
【０００９】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、屈折率が２．０以下の屈折率
層を有することを特徴とする光吸収性反射防止積層体で
ある。
反射防止積層体において、屈折率が２．０以下の屈折率
層を有することを特徴とする光吸収性反射防止積層体で
ある。
【００１０】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、前記屈折率が２．０以下の屈
折率層が、酸化珪素であることを特徴とする光吸収性反
射防止積層体である。
反射防止積層体において、前記屈折率が２．０以下の屈
折率層が、酸化珪素であることを特徴とする光吸収性反
射防止積層体である。
【００１１】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、その上部にフッ素含有有機化
合物層、或いはフッ素含有シリコーン化合物層が形成さ
れていることを特徴とする光吸収性反射防止積層体であ
る。
反射防止積層体において、その上部にフッ素含有有機化
合物層、或いはフッ素含有シリコーン化合物層が形成さ
れていることを特徴とする光吸収性反射防止積層体であ
る。
【００１２】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体において、前記プラスチック基材上にハ
ードコート層が形成されていることを特徴とする光吸収
性反射防止積層体である。
反射防止積層体において、前記プラスチック基材上にハ
ードコート層が形成されていることを特徴とする光吸収
性反射防止積層体である。
【００１３】また、本発明は、上記発明による光吸収性
反射防止積層体を表面に設けたことを特徴とする液晶表
示装置である。
反射防止積層体を表面に設けたことを特徴とする液晶表
示装置である。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。図１は、本発明の光吸収性反射防止積層体
の一実施例の構成を示した断面図である。本発明の光吸
収性反射防止積層体（１０）は、支持層（１）としてプ
ラスチック基材の片面にハードコート層（２）が積層さ
れ、さらに反射防止層（６ａ）として光吸収層（３ａ）
及び低屈折率層（４）の二層が積層され、また反射防止
層（６ａ）の上に防汚層（５）が積層されたものであ
る。
に説明する。図１は、本発明の光吸収性反射防止積層体
の一実施例の構成を示した断面図である。本発明の光吸
収性反射防止積層体（１０）は、支持層（１）としてプ
ラスチック基材の片面にハードコート層（２）が積層さ
れ、さらに反射防止層（６ａ）として光吸収層（３ａ）
及び低屈折率層（４）の二層が積層され、また反射防止
層（６ａ）の上に防汚層（５）が積層されたものであ
る。
【００１５】液晶表示装置のフレームと液晶パネルの間
からの光漏れは、フレーム内部での多重反射光が表面に
出射した斜めの光が多いため、液晶表示装置を斜視した
ときに光漏れが顕著にみられる。この斜めの光は、光吸
収層を斜めに通過するため、画面を垂直に通過するバッ
クライトの直接光に比べ、光吸収層を通過する距離が長
くなり、光の低減率がより高くなる。従って、液晶表示
装置の垂直方向から目視者へ向かう画面部分を表示する
光と比較して、バックライトの光漏れによる光はより多
く吸収され、減衰し表示品質を向上させる事ができる。
からの光漏れは、フレーム内部での多重反射光が表面に
出射した斜めの光が多いため、液晶表示装置を斜視した
ときに光漏れが顕著にみられる。この斜めの光は、光吸
収層を斜めに通過するため、画面を垂直に通過するバッ
クライトの直接光に比べ、光吸収層を通過する距離が長
くなり、光の低減率がより高くなる。従って、液晶表示
装置の垂直方向から目視者へ向かう画面部分を表示する
光と比較して、バックライトの光漏れによる光はより多
く吸収され、減衰し表示品質を向上させる事ができる。
【００１６】この際の光吸収性反射防止積層体の可視光
領域における透過率は、６５％〜９５％であることが好
ましく、特に好ましいのは９５％以下、更に好ましいの
は９１％以下である。透過率が６５％以下では表示品質
が低下し、好ましいのは７０％以上である。
領域における透過率は、６５％〜９５％であることが好
ましく、特に好ましいのは９５％以下、更に好ましいの
は９１％以下である。透過率が６５％以下では表示品質
が低下し、好ましいのは７０％以上である。
【００１７】すなわち、本発明の光吸収性反射防止積層
体を液晶表示装置の表面に設けた際には、反射防止機能
のある液晶表示装置となり、また、液晶表示装置を斜視
したときに顕著にみられる光漏れを低減させる機能のあ
る液晶表示装置となる。
体を液晶表示装置の表面に設けた際には、反射防止機能
のある液晶表示装置となり、また、液晶表示装置を斜視
したときに顕著にみられる光漏れを低減させる機能のあ
る液晶表示装置となる。
【００１８】本発明において用いられる支持層（１）と
してのプラスチック基材は、好ましくはトリアセチルセ
ルロース、ポリエチレンテレフタレートを使用すること
ができるが、平滑で透明性のあるプラスチックフィルム
であれば何ら制限されるものではない。プラスチック基
材の厚さは、７０μｍ〜２００μｍが好ましい。また、
プラスチック基材の表面に酸素プラズマ処理を施したも
のか、或いはプライマー層を設けたものも使用できる。
してのプラスチック基材は、好ましくはトリアセチルセ
ルロース、ポリエチレンテレフタレートを使用すること
ができるが、平滑で透明性のあるプラスチックフィルム
であれば何ら制限されるものではない。プラスチック基
材の厚さは、７０μｍ〜２００μｍが好ましい。また、
プラスチック基材の表面に酸素プラズマ処理を施したも
のか、或いはプライマー層を設けたものも使用できる。
【００１９】本発明におけるハードコート層（２）の形
成材料としては、好ましくは紫外線硬化性アクリル系樹
脂や熱硬化性のポリシロキサン樹脂が使用できるが、透
明性と適度な硬度と機械強度があれば、何ら制限される
ものではない。ハードコート層の屈折率はプラスチック
基材と同等、もしくは近似していることがより好まし
い。ハードコート層の膜厚は通常３μｍ以上あれば十分
な強度が得られるが、透明性、塗工精度、取り扱い性の
点から、５μｍ〜２０μｍとすることがより好ましい。
成材料としては、好ましくは紫外線硬化性アクリル系樹
脂や熱硬化性のポリシロキサン樹脂が使用できるが、透
明性と適度な硬度と機械強度があれば、何ら制限される
ものではない。ハードコート層の屈折率はプラスチック
基材と同等、もしくは近似していることがより好まし
い。ハードコート層の膜厚は通常３μｍ以上あれば十分
な強度が得られるが、透明性、塗工精度、取り扱い性の
点から、５μｍ〜２０μｍとすることがより好ましい。
【００２０】また、ハードコート層には平均粒子径０．
０１μｍ〜３μｍの透明な無機、或いは有機の超微粒子
を混合分散させてもよい。このような超微粒子を使用す
ることにより、一般にアンチグレアと呼ばれる光拡散性
の効果を得ることができる。これらの超微粒子の形成材
料としては、透明であれば特に限定はないが、低屈折率
材料が好ましく、特に、無機の酸化珪素や弗化マグネシ
ウム等が安定性、耐熱性等の点から好ましい。また、ハ
ードコート層の形成方法としては、均一に塗工される限
り、任意の塗布方法によることができる。
０１μｍ〜３μｍの透明な無機、或いは有機の超微粒子
を混合分散させてもよい。このような超微粒子を使用す
ることにより、一般にアンチグレアと呼ばれる光拡散性
の効果を得ることができる。これらの超微粒子の形成材
料としては、透明であれば特に限定はないが、低屈折率
材料が好ましく、特に、無機の酸化珪素や弗化マグネシ
ウム等が安定性、耐熱性等の点から好ましい。また、ハ
ードコート層の形成方法としては、均一に塗工される限
り、任意の塗布方法によることができる。
【００２１】本発明における反射防止層（６ａ）は光吸
収層（３ａ）と低屈折率層（４）より構成されている。
光吸収層（３ａ）の形成材料としては、通常、チタンの
窒化物、或いは酸窒化物を使用するが、ジルコニウム、
ハフニウムの窒化物、或いは酸窒化物も使用できる。ま
た、金、銀、銅などの金属を用いる事もできる。
収層（３ａ）と低屈折率層（４）より構成されている。
光吸収層（３ａ）の形成材料としては、通常、チタンの
窒化物、或いは酸窒化物を使用するが、ジルコニウム、
ハフニウムの窒化物、或いは酸窒化物も使用できる。ま
た、金、銀、銅などの金属を用いる事もできる。
【００２２】上記光吸収性材料を使用することによっ
て、本発明の光吸収性反射防止積層体を液晶表示装置の
表面に用いた際、反射防止機能に加えて、バックライト
の光漏れが防止でき、表示品質の向上を可能にする。
て、本発明の光吸収性反射防止積層体を液晶表示装置の
表面に用いた際、反射防止機能に加えて、バックライト
の光漏れが防止でき、表示品質の向上を可能にする。
【００２３】光吸収層（３ａ）の形成方法としては、真
空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の真空成膜プ
ロセスによることができ、成膜方法は特に限定されるも
のではない。
空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト蒸着
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の真空成膜プ
ロセスによることができ、成膜方法は特に限定されるも
のではない。
【００２４】本発明における低屈折率層（４）は、屈折
率が２．０以下の屈折率を有するものであって、形成材
料としては酸化珪素を用いることができる。また、フッ
化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等
の無機化合物を使用することができる。また、有機珪素
系樹脂、多官能基を含むアクリル系、ウレタン系、ポリ
エステル系、メラミン系等の有機樹脂も使用できる。
率が２．０以下の屈折率を有するものであって、形成材
料としては酸化珪素を用いることができる。また、フッ
化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム等
の無機化合物を使用することができる。また、有機珪素
系樹脂、多官能基を含むアクリル系、ウレタン系、ポリ
エステル系、メラミン系等の有機樹脂も使用できる。
【００２５】低屈折率層（４）の形成方法としては、無
機化合物層を形成する場合、光吸収層と同様に真空成膜
プロセスによることができる。また、有機樹脂層を形成
する場合にはグラビアコートやスクリーンコート等のウ
ェットコートと、熱乾燥法、熱硬化法、紫外線照射硬化
法、電子線照射硬化法等を組み合わせた成膜プロセスに
よることができ、各々の有機樹脂の塗布性や硬化性等の
特性に最適な方法が適宜選択される。この他のいかなる
成膜方法であっても構わない。また、紫外線硬化法、電
子線照射硬化法等による場合、真空中に有機樹脂を加熱
気化により、あるいは超音波によりミスト化して導入
し、プラスチック基材近傍で照射することにより低屈折
率層を形成することも可能である。
機化合物層を形成する場合、光吸収層と同様に真空成膜
プロセスによることができる。また、有機樹脂層を形成
する場合にはグラビアコートやスクリーンコート等のウ
ェットコートと、熱乾燥法、熱硬化法、紫外線照射硬化
法、電子線照射硬化法等を組み合わせた成膜プロセスに
よることができ、各々の有機樹脂の塗布性や硬化性等の
特性に最適な方法が適宜選択される。この他のいかなる
成膜方法であっても構わない。また、紫外線硬化法、電
子線照射硬化法等による場合、真空中に有機樹脂を加熱
気化により、あるいは超音波によりミスト化して導入
し、プラスチック基材近傍で照射することにより低屈折
率層を形成することも可能である。
【００２６】本発明における防汚層（５）の形成材料と
しては、付与する撥水性、或いは撥油性の程度等に応じ
て種々の有機化合物を使用することができるが、特に、
高い撥水性と撥油性とを示す好ましい形成材料として、
フッ素含有有機化合物をあげることができる。このう
ち、撥水性を示すものとしては、例えば、フルオロカー
ボンやパーフルオロシラン、またはこれらの高分子化合
物等をあげることができる。また、指紋拭き取り性等の
向上のためには、メチル基等の撥油性基を有する高分子
化合物が好適である。
しては、付与する撥水性、或いは撥油性の程度等に応じ
て種々の有機化合物を使用することができるが、特に、
高い撥水性と撥油性とを示す好ましい形成材料として、
フッ素含有有機化合物をあげることができる。このう
ち、撥水性を示すものとしては、例えば、フルオロカー
ボンやパーフルオロシラン、またはこれらの高分子化合
物等をあげることができる。また、指紋拭き取り性等の
向上のためには、メチル基等の撥油性基を有する高分子
化合物が好適である。
【００２７】防汚層（５）の形成方法としては、その形
成材料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法
等の真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリ
ーンコート法、ディップコート法等のウェットプロセス
の各種コーティング法を用いることができる。防汚層の
厚さは、通常、５０ｎｍ以下、更には１０ｎｍ以下にす
ることが好ましい。
成材料に応じて真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法
等の真空成膜プロセスや、マイクログラビア法、スクリ
ーンコート法、ディップコート法等のウェットプロセス
の各種コーティング法を用いることができる。防汚層の
厚さは、通常、５０ｎｍ以下、更には１０ｎｍ以下にす
ることが好ましい。
【００２８】図２は、本発明の光吸収性反射防止積層体
の他の例の構成を示した断面図である。図２に示すよう
に、本発明の光吸収性反射防止積層体（２０）は、支持
層（１）としてプラスチック基材の片面にハードコート
層（２）が積層され、さらに反射防止層（６ｂ）として
光吸収層（３ｂ）及び低屈折率層（４）が交互に四層積
層され、また反射防止層（６ｂ）の上に防汚層（５）が
積層されたものである。
の他の例の構成を示した断面図である。図２に示すよう
に、本発明の光吸収性反射防止積層体（２０）は、支持
層（１）としてプラスチック基材の片面にハードコート
層（２）が積層され、さらに反射防止層（６ｂ）として
光吸収層（３ｂ）及び低屈折率層（４）が交互に四層積
層され、また反射防止層（６ｂ）の上に防汚層（５）が
積層されたものである。
【００２９】本発明における反射防止層（６ｂ）は光吸
収層（３ｂ）と低屈折率層（４）が交互に四層積層され
ることにより構成されている。光吸収層（３ｂ）の形成
材料としては、通常、チタンの酸化物が用いられる。チ
タンの酸化物、すなわちＴｉＯＸ において、Ｘの値を
１以上２未満に調整する事により、光吸収性反射防止積
層体（２０）の透過率を任意に調整することができる。
また、ジルコニウム、ニオブ、或いはタンタルの酸化物
なども同様に酸化数を調整する事により使用することが
できる。また、光吸収層（３ｂ）の形成方法としては、
図１に示す光吸収層（３ａ）と同様に真空成膜プロセス
によることができる。
収層（３ｂ）と低屈折率層（４）が交互に四層積層され
ることにより構成されている。光吸収層（３ｂ）の形成
材料としては、通常、チタンの酸化物が用いられる。チ
タンの酸化物、すなわちＴｉＯＸ において、Ｘの値を
１以上２未満に調整する事により、光吸収性反射防止積
層体（２０）の透過率を任意に調整することができる。
また、ジルコニウム、ニオブ、或いはタンタルの酸化物
なども同様に酸化数を調整する事により使用することが
できる。また、光吸収層（３ｂ）の形成方法としては、
図１に示す光吸収層（３ａ）と同様に真空成膜プロセス
によることができる。
【００３０】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について詳細
に説明する。 ＜実施例１＞支持層（１）としてＴＡＣフィルム（８０
μｍ厚、屈折率ｎ＝１．４９）を使用し、ハードコート
層（２）として多官能性アクリル樹脂（屈折率ｎ＝１．
５２）をグラビアコート及び紫外線照射硬化法を用い
て、５μｍ厚で成膜した。この上に光吸収層（３ａ）と
して窒化チタン膜を窒素ガスを導入してチタンターゲッ
トをスパッタする反応性スパッタリング法で成膜した
後、低屈折率層（４）として酸化珪素膜を真空蒸着法に
より成膜し、更にその上に防汚性層（５）としてパーフ
ルオロエーテルシランカップリング剤（ｎ＝１．４０、
ｎｄ＝７［ｎｍ］）を真空蒸着法により成膜した。
に説明する。 ＜実施例１＞支持層（１）としてＴＡＣフィルム（８０
μｍ厚、屈折率ｎ＝１．４９）を使用し、ハードコート
層（２）として多官能性アクリル樹脂（屈折率ｎ＝１．
５２）をグラビアコート及び紫外線照射硬化法を用い
て、５μｍ厚で成膜した。この上に光吸収層（３ａ）と
して窒化チタン膜を窒素ガスを導入してチタンターゲッ
トをスパッタする反応性スパッタリング法で成膜した
後、低屈折率層（４）として酸化珪素膜を真空蒸着法に
より成膜し、更にその上に防汚性層（５）としてパーフ
ルオロエーテルシランカップリング剤（ｎ＝１．４０、
ｎｄ＝７［ｎｍ］）を真空蒸着法により成膜した。
【００３１】反射防止層（６ａ）の各層の屈折率ｎ、吸
光率ｋ、幾何学的膜厚ｄ及び光学膜厚ｎｄを以下に示
す。 ・１層目：ＴｉＮ（ｎ＝１．７５、ｋ＝０．８６［４５
０ｎｍ］、ｎ＝１．２６、ｋ＝１．２６［５５０ｎ
ｍ］、ｎ＝１．１５、ｋ＝１．６５［６５０ｎｍ］、ｄ
＝９［ｎｍ］） ・２層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１２０
［ｎｍ］）
光率ｋ、幾何学的膜厚ｄ及び光学膜厚ｎｄを以下に示
す。 ・１層目：ＴｉＮ（ｎ＝１．７５、ｋ＝０．８６［４５
０ｎｍ］、ｎ＝１．２６、ｋ＝１．２６［５５０ｎ
ｍ］、ｎ＝１．１５、ｋ＝１．６５［６５０ｎｍ］、ｄ
＝９［ｎｍ］） ・２層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１２０
［ｎｍ］）
【００３２】各層の光学膜厚は、光学式の膜厚モニター
により監視し、目的光量値に達した時に成膜を止め所定
の光学膜厚を得た。得られた光吸収性反射防止積層体の
分光反射率曲線を図３に示し、分光透過率曲線を図４に
示した。平均反射率は波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲で０．４６％、平均透過率は同範囲で８０．９％であ
った。
により監視し、目的光量値に達した時に成膜を止め所定
の光学膜厚を得た。得られた光吸収性反射防止積層体の
分光反射率曲線を図３に示し、分光透過率曲線を図４に
示した。平均反射率は波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲で０．４６％、平均透過率は同範囲で８０．９％であ
った。
【００３３】得られた光吸収性反射防止積層体を偏光板
上に張り合わせ、それを用いて液晶表示装置を製作し
た。画面を斜視したところ、バックライトの光漏れは確
認できなかった。表示品質はコントラストがよく、優れ
た視認性が得られた。また、得られた光吸収性反射防止
積層体の表面に指紋を付着させ、ティッシュペーパーで
拭ったところ、指紋は容易に拭取れた。また、純水の接
触角は１１０°であった。
上に張り合わせ、それを用いて液晶表示装置を製作し
た。画面を斜視したところ、バックライトの光漏れは確
認できなかった。表示品質はコントラストがよく、優れ
た視認性が得られた。また、得られた光吸収性反射防止
積層体の表面に指紋を付着させ、ティッシュペーパーで
拭ったところ、指紋は容易に拭取れた。また、純水の接
触角は１１０°であった。
【００３４】＜実施例２＞支持層（１）としてＴＡＣフ
ィルム（８０μｍ厚、屈折率ｎ＝１．４９）を使用し、
ハードコート層（２）として多官能性アクリル樹脂（屈
折率ｎ＝１．５２）をグラビアコート及び紫外線照射硬
化法を用いて、５μｍ厚で成膜した。この上に光吸収層
（３ｂ）と低屈折率層（４）を交互に四層成膜した。光
吸収層（３ｂ）は、酸化チタン膜を酸素ガスを導入して
圧力を９．０×１０−３Ｐａ程度に調整した真空蒸着法
で成膜し、低屈折率層（４）は酸化珪素膜を真空蒸着法
により成膜した。更にその上に防汚性層（５）としてパ
ーフルオロエーテルシランカップリング剤（ｎ＝１．４
０、ｎｄ＝７［ｎｍ］）を真空蒸着法により成膜した。
ィルム（８０μｍ厚、屈折率ｎ＝１．４９）を使用し、
ハードコート層（２）として多官能性アクリル樹脂（屈
折率ｎ＝１．５２）をグラビアコート及び紫外線照射硬
化法を用いて、５μｍ厚で成膜した。この上に光吸収層
（３ｂ）と低屈折率層（４）を交互に四層成膜した。光
吸収層（３ｂ）は、酸化チタン膜を酸素ガスを導入して
圧力を９．０×１０−３Ｐａ程度に調整した真空蒸着法
で成膜し、低屈折率層（４）は酸化珪素膜を真空蒸着法
により成膜した。更にその上に防汚性層（５）としてパ
ーフルオロエーテルシランカップリング剤（ｎ＝１．４
０、ｎｄ＝７［ｎｍ］）を真空蒸着法により成膜した。
【００３５】反射防止層（６ｂ）の各層の屈折率ｎ、吸
光率ｋ、幾何学的膜厚ｄ及び光学膜厚ｎｄを以下に示
す。 ・１層目：ＴｉＯＸ （ｎ＝２．３４、ｋ＝０．０４
［５００ｎｍ］、ｎ＝２．３０、ｋ＝０．０４［５５０
ｎｍ］、ｎ＝２．２５、ｋ＝０．０６［６５０ｎｍ］、
ｄ＝２２［ｎｍ］） ・２層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝４８［ｎ
ｍ］） ・３層目：ＴｉＯＸ （ｎ＝２．３４、ｋ＝０．０４
［５００ｎｍ］、ｎ＝２．３０、ｋ＝０．０４［５５０
ｎｍ］、ｎ＝２．２５、ｋ＝０．０６［６５０ｎｍ］、
ｄ＝４０［ｎｍ］） ・４層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１３０
［ｎｍ］）
光率ｋ、幾何学的膜厚ｄ及び光学膜厚ｎｄを以下に示
す。 ・１層目：ＴｉＯＸ （ｎ＝２．３４、ｋ＝０．０４
［５００ｎｍ］、ｎ＝２．３０、ｋ＝０．０４［５５０
ｎｍ］、ｎ＝２．２５、ｋ＝０．０６［６５０ｎｍ］、
ｄ＝２２［ｎｍ］） ・２層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝４８［ｎ
ｍ］） ・３層目：ＴｉＯＸ （ｎ＝２．３４、ｋ＝０．０４
［５００ｎｍ］、ｎ＝２．３０、ｋ＝０．０４［５５０
ｎｍ］、ｎ＝２．２５、ｋ＝０．０６［６５０ｎｍ］、
ｄ＝４０［ｎｍ］） ・４層目：ＳｉＯ２ （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１３０
［ｎｍ］）
【００３６】各層の光学膜厚は、光学式の膜厚モニター
により監視し、目的光量値に達した時に成膜を止め所定
の光学膜厚を得た。得られた光吸収性反射防止積層体の
分光反射率曲線を図５に示し、分光透過率曲線を図６に
示した。平均反射率は波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲で０．４６％、平均透過率は同範囲で９１．５％であ
った。
により監視し、目的光量値に達した時に成膜を止め所定
の光学膜厚を得た。得られた光吸収性反射防止積層体の
分光反射率曲線を図５に示し、分光透過率曲線を図６に
示した。平均反射率は波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範
囲で０．４６％、平均透過率は同範囲で９１．５％であ
った。
【００３７】得られた光吸収性反射防止積層体を偏光板
上に張り合わせ、それを用いて液晶表示装置を製作し
た。画面を斜視したところ、バックライトの光漏れは確
認できなかった。表示品質はコントラストがよく、優れ
た視認性が得られた。また、得られた光吸収性反射防止
積層体の表面に指紋を付着させ、ティッシュペーパーで
拭ったところ、指紋は容易に拭取れた。また、純水の接
触角は１１２°であった。
上に張り合わせ、それを用いて液晶表示装置を製作し
た。画面を斜視したところ、バックライトの光漏れは確
認できなかった。表示品質はコントラストがよく、優れ
た視認性が得られた。また、得られた光吸収性反射防止
積層体の表面に指紋を付着させ、ティッシュペーパーで
拭ったところ、指紋は容易に拭取れた。また、純水の接
触角は１１２°であった。
【００３８】
【発明の効果】本発明は、プラスチック基材上に形成さ
れた反射防止積層体が光吸収層を有し、可視光領域にお
ける透過率が６５％〜９５％の光吸収性反射防止積層体
であるので、これを液晶表示装置に用いた際には、反射
防止機能と、液晶表示装置を斜視した際に顕著になるバ
ックライトの光漏れを低減する機能を合わせ持った、表
示品質が向上した液晶表示装置とすることのできる反射
防止積層体となる。
れた反射防止積層体が光吸収層を有し、可視光領域にお
ける透過率が６５％〜９５％の光吸収性反射防止積層体
であるので、これを液晶表示装置に用いた際には、反射
防止機能と、液晶表示装置を斜視した際に顕著になるバ
ックライトの光漏れを低減する機能を合わせ持った、表
示品質が向上した液晶表示装置とすることのできる反射
防止積層体となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光吸収性反射防止積層体の一実施例の
構成を示した断面図である。
構成を示した断面図である。
【図２】本発明の光吸収性反射防止積層体の他の例の構
成を示した断面図である。
成を示した断面図である。
【図３】実施例１における光吸収性反射防止積層体の分
光反射率曲線の説明図である。
光反射率曲線の説明図である。
【図４】実施例１における光吸収性反射防止積層体の分
光透過率曲線の説明図である。
光透過率曲線の説明図である。
【図５】実施例２における光吸収性反射防止積層体の分
光反射率曲線の説明図である。
光反射率曲線の説明図である。
【図６】実施例２における光吸収性反射防止積層体の分
光透過率曲線の説明図である。
光透過率曲線の説明図である。
１…支持層 ２…ハードコート層 ３ａ，３ｂ…光吸収層 ４…低屈折率層 ５…防汚層 ６ａ、６ｂ…反射防止層 １０、２０…本発明の光吸収性反射防止積層体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 吉田 八寿彦 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 (72)発明者 宇山 晴夫 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 CA05 CA14 CA19 2H091 FA34X FA37X FB06 FD06 GA16 KA01 LA03 LA16 2K009 AA07 AA15 BB24 BB28 CC03 CC06 CC24 CC26 CC34 CC35 CC42 DD02 EE05 4F100 AA12B AA17B AA20C AA21B AA27B AJ06A AK01A AK17D AK25E AK42A AK52D BA05 BA07 BA10A BA10D CC00E EH46E EH66 GB41 JB14E JD14B JK12E JL06D JN01B JN06 JN06B JN18C YY00C
Claims (8)
- 【請求項１】プラスチック基材上に形成された反射防止
積層体において、該反射防止積層体が光吸収層を有し、
可視光領域における透過率が６５％〜９５％であること
を特徴とする光吸収性反射防止積層体。 - 【請求項２】前記光吸収層の主成分が、チタン、ジルコ
ニウム、或いはハフニウムの窒化物、又は酸窒化物から
選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする請求項
１記載の光吸収性反射防止積層体。 - 【請求項３】前記光吸収層の主成分が、チタン、ジルコ
ニウム、ニオブ、或いはタンタルの酸化物から選ばれる
少なくとも１種であることを特徴とする請求項１記載の
光吸収性反射防止積層体。 - 【請求項４】請求項１〜３のいずれか１項に記載の光吸
収性反射防止積層体において、屈折率が２．０以下の屈
折率層を有することを特徴とする光吸収性反射防止積層
体。 - 【請求項５】前記屈折率が２．０以下の屈折率層が、酸
化珪素であることを特徴とする請求項４記載の光吸収性
反射防止積層体。 - 【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の光吸
収性反射防止積層体において、その上部にフッ素含有有
機化合物層、或いはフッ素含有シリコーン化合物層が形
成されていることを特徴とする光吸収性反射防止積層
体。 - 【請求項７】前記プラスチック基材上にハードコート層
が形成されていることを特徴とする請求項１〜６のいず
れか１項に記載の光吸収性反射防止積層体。 - 【請求項８】請求項１〜７のいずれか１項に記載の光吸
収性反射防止積層体を表面に設けたことを特徴とする液
晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001042946A JP2002243904A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 光吸収性反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001042946A JP2002243904A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 光吸収性反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002243904A true JP2002243904A (ja) | 2002-08-28 |
Family
ID=18905186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001042946A Pending JP2002243904A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 光吸収性反射防止積層体、及びそれを用いた液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002243904A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022014570A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
| JPWO2022014571A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | ||
| WO2022014573A1 (ja) * | 2020-07-13 | 2022-01-20 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
| CN115812033B (en) * | 2020-07-13 | 2024-10-15 | 日东电工株式会社 | Optical film with antifouling layer |
Citations (7)
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| JPH10187056A (ja) * | 1996-12-19 | 1998-07-14 | Sony Corp | 表示装置用フィルター、表示装置及び表示装置用前面板 |
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| JPH11258407A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-24 | Oike Ind Co Ltd | 反射防止フイルム |
| JP2000290044A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 低反射ガラス板およびそれを用いた車両用低反射合わせガラス板 |
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-
2001
- 2001-02-20 JP JP2001042946A patent/JP2002243904A/ja active Pending
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| JP7185102B2 (ja) | 2020-07-13 | 2022-12-06 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
| JP7186331B2 (ja) | 2020-07-13 | 2022-12-08 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
| KR20230003643A (ko) * | 2020-07-13 | 2023-01-06 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
| KR20230011433A (ko) * | 2020-07-13 | 2023-01-20 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
| CN115803187A (zh) * | 2020-07-13 | 2023-03-14 | 日东电工株式会社 | 带防污层的光学薄膜 |
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| KR102517501B1 (ko) | 2020-07-13 | 2023-04-03 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
| KR102521712B1 (ko) | 2020-07-13 | 2023-04-13 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
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| KR102548030B1 (ko) | 2020-07-13 | 2023-06-26 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 방오층이 형성된 광학 필름 |
| TWI820451B (zh) * | 2020-07-13 | 2023-11-01 | 日商日東電工股份有限公司 | 附防污層之光學膜 |
| CN115812033B (en) * | 2020-07-13 | 2024-10-15 | 日东电工株式会社 | Optical film with antifouling layer |
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