JP2002241793A - 電子部品用洗浄剤 - Google Patents
電子部品用洗浄剤Info
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- JP2002241793A JP2002241793A JP2001044336A JP2001044336A JP2002241793A JP 2002241793 A JP2002241793 A JP 2002241793A JP 2001044336 A JP2001044336 A JP 2001044336A JP 2001044336 A JP2001044336 A JP 2001044336A JP 2002241793 A JP2002241793 A JP 2002241793A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 微細なギャップを有する液晶セル等の電子部
品に残存する液晶等の有機物を除去するための、洗浄性
とリンス性に優れ、電子部品に腐蝕を発生させない洗浄
剤を提供する。 【解決手段】 分子中にＣ１〜Ｃ２０のフッ素化アルキ
ル基および／またはジメチルシロキサン単位を含有する
有機化合物からなる電子部品用洗浄剤。またＡ、１種以
上の疎水性溶剤（Ｂ）および／または１種以上の親水性
溶剤（Ｃ）からなる洗浄剤。またＢが炭素数８〜２０の
炭化水素であり、Ｃが水溶性グリコールエーテル、２−
ピロリドンまたはＮ−アルキル−２−ピロリドンの１種
以上である洗浄剤。さらに水をＡ、Ｂ、Ｃおよび水の合
計重量に基づいて３〜６５％含有する洗浄剤。
品に残存する液晶等の有機物を除去するための、洗浄性
とリンス性に優れ、電子部品に腐蝕を発生させない洗浄
剤を提供する。 【解決手段】 分子中にＣ１〜Ｃ２０のフッ素化アルキ
ル基および／またはジメチルシロキサン単位を含有する
有機化合物からなる電子部品用洗浄剤。またＡ、１種以
上の疎水性溶剤（Ｂ）および／または１種以上の親水性
溶剤（Ｃ）からなる洗浄剤。またＢが炭素数８〜２０の
炭化水素であり、Ｃが水溶性グリコールエーテル、２−
ピロリドンまたはＮ−アルキル−２−ピロリドンの１種
以上である洗浄剤。さらに水をＡ、Ｂ、Ｃおよび水の合
計重量に基づいて３〜６５％含有する洗浄剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品用洗浄
剤、とくに、狭いギャップを有する液晶セルに残存する
液晶を除去するのに好適に用いられる洗浄剤に関する。
剤、とくに、狭いギャップを有する液晶セルに残存する
液晶を除去するのに好適に用いられる洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】これまで液晶セル等の電子部品用の洗浄
剤としては、非イオン系界面活性剤と水からなる水系洗
浄剤（特開平４−３８１００号公報など）、非水溶性溶
剤を用いた非水系洗浄剤（特開平４−２９２６９９号公
報など）、水溶性溶剤と水からなる準水系洗浄剤（特開
平４−１７０５００号公報など）が提案されている。し
かしながら、これらの洗浄剤が洗浄できるたとえば液晶
セル基板間のギャップは１０μｍ程度であり、このギャ
ップが２〜５μｍとなるとこれらの洗浄剤では洗浄不
良、リンス不良となって液晶セルの電極等の金属部が腐
蝕し易くなる。
剤としては、非イオン系界面活性剤と水からなる水系洗
浄剤（特開平４−３８１００号公報など）、非水溶性溶
剤を用いた非水系洗浄剤（特開平４−２９２６９９号公
報など）、水溶性溶剤と水からなる準水系洗浄剤（特開
平４−１７０５００号公報など）が提案されている。し
かしながら、これらの洗浄剤が洗浄できるたとえば液晶
セル基板間のギャップは１０μｍ程度であり、このギャ
ップが２〜５μｍとなるとこれらの洗浄剤では洗浄不
良、リンス不良となって液晶セルの電極等の金属部が腐
蝕し易くなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、狭いギャッ
プを有する液晶セル等の電子部品に残存する液晶等の洗
浄性、リンス性に優れ、かつ洗浄後の液晶セル等の電子
部品に腐蝕が発生しない電子部品用洗浄剤を提供するこ
とを目的とする。
プを有する液晶セル等の電子部品に残存する液晶等の洗
浄性、リンス性に優れ、かつ洗浄後の液晶セル等の電子
部品に腐蝕が発生しない電子部品用洗浄剤を提供するこ
とを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。す
なわち、本発明は、分子中に炭素数１〜２０のフッ素化
アルキル基および／またはジメチルシロキサン単位を含
有する有機化合物（Ａ）からなることを特徴とする電子
部品用洗浄剤である。
を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。す
なわち、本発明は、分子中に炭素数１〜２０のフッ素化
アルキル基および／またはジメチルシロキサン単位を含
有する有機化合物（Ａ）からなることを特徴とする電子
部品用洗浄剤である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明における有機化合物（Ａ）
のうち、分子中にフッ素化アルキル基を含有するもの
（ア）としては、フッ素化アルキル基の炭素数が通常１
〜２０、好ましくは３〜１８であり、水不溶性（２５℃
で１重量％以下）で分子量が通常２００〜５００，００
０（重量平均分子量、以下Ｍｗと略記）の有機フッ素化
合物が挙げられる。フッ素化アルキル基の炭素数が２０
を超えると、たとえば液晶セルのギャップへの洗浄剤の
浸透性が悪くなる。このような有機フッ素化合物の具体
例としては次のものが挙げられる。
のうち、分子中にフッ素化アルキル基を含有するもの
（ア）としては、フッ素化アルキル基の炭素数が通常１
〜２０、好ましくは３〜１８であり、水不溶性（２５℃
で１重量％以下）で分子量が通常２００〜５００，００
０（重量平均分子量、以下Ｍｗと略記）の有機フッ素化
合物が挙げられる。フッ素化アルキル基の炭素数が２０
を超えると、たとえば液晶セルのギャップへの洗浄剤の
浸透性が悪くなる。このような有機フッ素化合物の具体
例としては次のものが挙げられる。
【０００６】（ア１）炭素数１〜２０のフッ素化アルキ
ル基含有のビニル単量体の単独重合体またはフッ素非含
有のビニル単量体との共重合体フッ素化アルキル基を含
有するビニル単量体としては下記一般式（１）および
（２）で表される化合物が挙げられる。 CH2=CR1-COO(X)p-Rf （１） CH2=C(CH2CH2CqF2q+1)-COOCH2CH2CqF2q+1 （２） 一般式（１）において、Ｒfは炭素数１〜２０のフッ素
化アルキル基であり、直鎖状、分岐状いずれでもよく、
また主鎖中に酸素原子を含有しているもの、たとえば-C
F2CF2OCF(CF3)2等でもよい。Ｒ1はＨ、ＣＨ3、Ｃｌまた
はＦであり、Ｘは２価の連結基であり、具体例として
は、-(CH2)n-、-CH2CH(OH)(CH2)n-、-(CH2)nNR2SO2-、-
(CH2)nNR2CO-（但し、ｎは１〜１０の整数、Ｒ2はＨま
たは炭素数１〜６のアルキル基を示す。）、-CH(CH3)
-、-CH(CH2CH3)-、-C(CH3)2-、-CH(CF3)-、-C(CF3)2-、
-C(CF3)CH3-、等が挙げられ、ｐは０または１である。
一般式（２）において、ｑは１〜１４の整数を示す。
ル基含有のビニル単量体の単独重合体またはフッ素非含
有のビニル単量体との共重合体フッ素化アルキル基を含
有するビニル単量体としては下記一般式（１）および
（２）で表される化合物が挙げられる。 CH2=CR1-COO(X)p-Rf （１） CH2=C(CH2CH2CqF2q+1)-COOCH2CH2CqF2q+1 （２） 一般式（１）において、Ｒfは炭素数１〜２０のフッ素
化アルキル基であり、直鎖状、分岐状いずれでもよく、
また主鎖中に酸素原子を含有しているもの、たとえば-C
F2CF2OCF(CF3)2等でもよい。Ｒ1はＨ、ＣＨ3、Ｃｌまた
はＦであり、Ｘは２価の連結基であり、具体例として
は、-(CH2)n-、-CH2CH(OH)(CH2)n-、-(CH2)nNR2SO2-、-
(CH2)nNR2CO-（但し、ｎは１〜１０の整数、Ｒ2はＨま
たは炭素数１〜６のアルキル基を示す。）、-CH(CH3)
-、-CH(CH2CH3)-、-C(CH3)2-、-CH(CF3)-、-C(CF3)2-、
-C(CF3)CH3-、等が挙げられ、ｐは０または１である。
一般式（２）において、ｑは１〜１４の整数を示す。
【０００７】フッ素化アルキル基を含有するビニル単量
体の具体例としては、下記のもの、およびこれらの混合
物等が挙げられる。 CH2=CHCOOCH2CH2C8F17 CH2=C(CH3)COOCH2CH2C8F17 CH2=CHCOOCH2CH2C12F25 CH2=CFCOOCH2CH2C6F13 CH2=C(CH3)COOCH2CH2C20F41 CH2=C(CH3)COO(CH2)6C10F21 CH2=CHCOOCH2(CF2)2H CH2=CFCOOCH2CH(OH)CH2C8F17 CH2=CHCOOCH2CH2N(C3H7)SO2C8F17 CH2=CHCOO(CH2)8N(CH3)COC12F25 CH2=C(CH2CH2C8H17)COOCH2CH2C8F17
体の具体例としては、下記のもの、およびこれらの混合
物等が挙げられる。 CH2=CHCOOCH2CH2C8F17 CH2=C(CH3)COOCH2CH2C8F17 CH2=CHCOOCH2CH2C12F25 CH2=CFCOOCH2CH2C6F13 CH2=C(CH3)COOCH2CH2C20F41 CH2=C(CH3)COO(CH2)6C10F21 CH2=CHCOOCH2(CF2)2H CH2=CFCOOCH2CH(OH)CH2C8F17 CH2=CHCOOCH2CH2N(C3H7)SO2C8F17 CH2=CHCOO(CH2)8N(CH3)COC12F25 CH2=C(CH2CH2C8H17)COOCH2CH2C8F17
【０００８】フッ素非含有のビニル単量体としては、炭
素数２〜２５、たとえばエチレン、プロピレン、ブタジ
エン、クロロプレン、塩化ビニル、スチレン、（メタ）
アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸アミド、アク
リルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリロ
ニトリル、ビニルアセテートおよびこれらの混合物が挙
げられる。これらの（共）重合体は公知のビニル重合方
法で得られ、たとえばラジカル開始剤（アゾ系、パーオ
キシド系、レドックス系など）を用いた溶液重合法、エ
マルション重合法が挙げられる。重合体のＭｗは重合反
応の制御上および洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性
の観点から好ましくは２，０００以上、さらに好ましく
は５，０００〜２００，０００である。
素数２〜２５、たとえばエチレン、プロピレン、ブタジ
エン、クロロプレン、塩化ビニル、スチレン、（メタ）
アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸アミド、アク
リルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリロ
ニトリル、ビニルアセテートおよびこれらの混合物が挙
げられる。これらの（共）重合体は公知のビニル重合方
法で得られ、たとえばラジカル開始剤（アゾ系、パーオ
キシド系、レドックス系など）を用いた溶液重合法、エ
マルション重合法が挙げられる。重合体のＭｗは重合反
応の制御上および洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性
の観点から好ましくは２，０００以上、さらに好ましく
は５，０００〜２００，０００である。
【０００９】（ア２）炭素数１〜２０のフッ素化アルキ
ル基含有のモノオールもしくは多価アルコールとフッ素
化されていてもよいモノカルボン酸もしくは多価カルボ
ン酸との（ポリ）エステル；またはフッ素化されていて
もよいモノオールもしくは多価アルコールと炭素数１〜
２０のフッ素化アルキル基含有のモノカルボン酸もしく
は多価カルボン酸との（ポリ）エステル上記ポリエステ
ル成分の具体例としては下記のもの等が挙げられる。
ル基含有のモノオールもしくは多価アルコールとフッ素
化されていてもよいモノカルボン酸もしくは多価カルボ
ン酸との（ポリ）エステル；またはフッ素化されていて
もよいモノオールもしくは多価アルコールと炭素数１〜
２０のフッ素化アルキル基含有のモノカルボン酸もしく
は多価カルボン酸との（ポリ）エステル上記ポリエステ
ル成分の具体例としては下記のもの等が挙げられる。
【００１０】アルコール成分〔分子量３２〜Ｍｗ５，０
００〕としては、フッ素化アルキル基含有モノオール
〔C8F17CH2CH2OH、C8H17SO2N(C2H5)CH2CH2OHなど〕、フ
ッ素化アルキル基含有多価アルコール〔C8H17SO2N(CH2C
H2OH)2、C8H17SO2N(C3H7)CH2CH(OH)CH2OHなど〕、フッ素
非含有モノオール（炭素数１〜２０、たとえば２−エチ
ルヘキサノール、ステアリルアルコール）、フッ素非含
有多価アルコール〔分子量６２〜Ｍｗ５，０００、たと
えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、ポリプロピレングリコ
ール（分子量２００〜Ｍｗ５，０００）など〕およびこ
れらの混合物が挙げられる。カルボン酸成分としては、
フッ素化アルキル基含有モノカルボン酸〔C7F15COOH、C
8F17SO2N(C2H5)CH2COOHなど〕、フッ素化アルキル基含
有多価カルボン酸〔C 9F19CH2CH2CH(COOH)COOHなど〕、
フッ素非含有モノカルボン酸（炭素数１〜２０、たとえ
ば酢酸、プロピオン酸、オクチル酸、２−エチルヘキサ
ン酸）、フッ素非含有多価カルボン酸（炭素数２〜１
５、たとえばアジピン酸、セバシン酸、フタル酸、マレ
イン酸、トリメリット酸など）、およびこれらの混合物
が挙げられる。上記成分から得られる（ポリ）エステル
の分子量は、洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性の観
点から好ましくは２００〜Ｍｗ２０，０００、さらに好
ましくは３００〜Ｍｗ１０，０００である。
００〕としては、フッ素化アルキル基含有モノオール
〔C8F17CH2CH2OH、C8H17SO2N(C2H5)CH2CH2OHなど〕、フ
ッ素化アルキル基含有多価アルコール〔C8H17SO2N(CH2C
H2OH)2、C8H17SO2N(C3H7)CH2CH(OH)CH2OHなど〕、フッ素
非含有モノオール（炭素数１〜２０、たとえば２−エチ
ルヘキサノール、ステアリルアルコール）、フッ素非含
有多価アルコール〔分子量６２〜Ｍｗ５，０００、たと
えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、ポリプロピレングリコ
ール（分子量２００〜Ｍｗ５，０００）など〕およびこ
れらの混合物が挙げられる。カルボン酸成分としては、
フッ素化アルキル基含有モノカルボン酸〔C7F15COOH、C
8F17SO2N(C2H5)CH2COOHなど〕、フッ素化アルキル基含
有多価カルボン酸〔C 9F19CH2CH2CH(COOH)COOHなど〕、
フッ素非含有モノカルボン酸（炭素数１〜２０、たとえ
ば酢酸、プロピオン酸、オクチル酸、２−エチルヘキサ
ン酸）、フッ素非含有多価カルボン酸（炭素数２〜１
５、たとえばアジピン酸、セバシン酸、フタル酸、マレ
イン酸、トリメリット酸など）、およびこれらの混合物
が挙げられる。上記成分から得られる（ポリ）エステル
の分子量は、洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性の観
点から好ましくは２００〜Ｍｗ２０，０００、さらに好
ましくは３００〜Ｍｗ１０，０００である。
【００１１】（ア３）炭素数１〜２０のフッ素化アルキ
ル基を有するモノオールまたは多価アルコールとモノ−
またはポリイソシアネートとの（ポリ）ウレタンフッ素
化アルキル基を有するモノオールまたは多価アルコール
は、必要に応じてフッ素非含有のモノオール〔前記
（ア）で例示したものに同じ〕または多価アルコール
〔前記（ア）で例示したものに同じ〕を併用してもよ
い。モノイソシアネートとしては、炭素数（ＮＣＯ基の
炭素数を除く、以下同じ）６〜１５、たとえばフェニル
イソシアネート、ナフチルイソシアネートが挙げられ、
ポリイソシアネートとしては炭素数７以上、たとえばヘ
キサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレ
ンポリフェニルポリ（２〜６価）イソシアネートが挙げ
られる。上記成分から得られる（ポリ）ウレタンの分子
量は、洗浄剤の液晶ギャップへの浸透性の観点から好ま
しくは２００〜Ｍｗ２０，０００、さらに好ましくは３
００〜Ｍｗ１０，０００である。
ル基を有するモノオールまたは多価アルコールとモノ−
またはポリイソシアネートとの（ポリ）ウレタンフッ素
化アルキル基を有するモノオールまたは多価アルコール
は、必要に応じてフッ素非含有のモノオール〔前記
（ア）で例示したものに同じ〕または多価アルコール
〔前記（ア）で例示したものに同じ〕を併用してもよ
い。モノイソシアネートとしては、炭素数（ＮＣＯ基の
炭素数を除く、以下同じ）６〜１５、たとえばフェニル
イソシアネート、ナフチルイソシアネートが挙げられ、
ポリイソシアネートとしては炭素数７以上、たとえばヘ
キサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネ
ート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメチレ
ンポリフェニルポリ（２〜６価）イソシアネートが挙げ
られる。上記成分から得られる（ポリ）ウレタンの分子
量は、洗浄剤の液晶ギャップへの浸透性の観点から好ま
しくは２００〜Ｍｗ２０，０００、さらに好ましくは３
００〜Ｍｗ１０，０００である。
【００１２】（ア４）炭素数１〜２０のフッ素化アルキ
ル基を有するエポキシ化合物の単独重合体または該エポ
キシ化合物とフッ素非含有エポキシ化合物との共重合体
炭素数１〜２０のフッ素化アルキル基を有するエポキシ
化合物としては、下記のもの等が挙げられる。 フッ素非含有エポキシ化合物としては、プロピレンオキ
シド、エピクロルヒドリンなどが挙げられる。上記成分
から得られる（共）重合体の分子量は、重合反応の制御
上および洗浄剤の液晶ギャップへの浸透性の観点から好
ましくはＭｗ５００〜２００，０００、さらに好ましく
はＭｗ１，０００〜５０，０００である。
ル基を有するエポキシ化合物の単独重合体または該エポ
キシ化合物とフッ素非含有エポキシ化合物との共重合体
炭素数１〜２０のフッ素化アルキル基を有するエポキシ
化合物としては、下記のもの等が挙げられる。 フッ素非含有エポキシ化合物としては、プロピレンオキ
シド、エピクロルヒドリンなどが挙げられる。上記成分
から得られる（共）重合体の分子量は、重合反応の制御
上および洗浄剤の液晶ギャップへの浸透性の観点から好
ましくはＭｗ５００〜２００，０００、さらに好ましく
はＭｗ１，０００〜５０，０００である。
【００１３】本発明における有機化合物（Ａ）のうち、
分子中にジメチルシロキサン単位を含有するシリコーン
化合物（イ）としては、下記の一般式で表されるものが
挙げられる。 （イ１）ジメチルポリシロキサン Si(CH3)3O-Xs-Si(CH3)2CH3 （３） （イ２）アルキルアラルキル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)R3-O]t-Si(CH3)2CH3 （４） （イ３）アルコール変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4OH)-O]t-Si(CH3)2CH3 （５） および／または HO-R4-Xs-Si(CH3)2R4OH （６） （イ４）アミノ変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4NH2)-O]t-Si(CH3)2CH3 （７） （イ６）カルボキシル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4COOH)-O]t-Si(CH3)2CH3 （９） （イ７）フッ素変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4CF3)-O]t-Si(CH3)2CH3 （１０） （イ８）ポリエーテル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-〔Si(CH3)[R5O(C2H4O)a-(C3H6O)bR6]-O〕u-Si(CH3)2CH3 （１１） （イ９）アルキルアラルキルポリエーテル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)R3-O]t-〔Si(CH3)[R5O(C2H4O)a-(C3H6O)bR6]-O〕u-Si( CH3)2CH3 （１２） ［式中、Ｘは-Si(CH3)2-O-、；Ｒ3は炭素数２〜２０の
アルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基、Ｒ4
は炭素数１〜２０のアルキレン基、Ｒ5は炭素数３〜４
のアルキレン基、Ｒ6はＨまたは炭素数１〜４のアルキ
ル基；sは２０〜１００の整数、ｔは１〜２０の整数、
ｕは１〜２０の整数、ａとｂとは１０≦ａ＋ｂ≦６０か
つ０／１０≦ｂ／ａ≦８／２を満足する整数を表す。］
分子中にジメチルシロキサン単位を含有するシリコーン
化合物（イ）としては、下記の一般式で表されるものが
挙げられる。 （イ１）ジメチルポリシロキサン Si(CH3)3O-Xs-Si(CH3)2CH3 （３） （イ２）アルキルアラルキル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)R3-O]t-Si(CH3)2CH3 （４） （イ３）アルコール変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4OH)-O]t-Si(CH3)2CH3 （５） および／または HO-R4-Xs-Si(CH3)2R4OH （６） （イ４）アミノ変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4NH2)-O]t-Si(CH3)2CH3 （７） （イ６）カルボキシル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4COOH)-O]t-Si(CH3)2CH3 （９） （イ７）フッ素変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)(R4CF3)-O]t-Si(CH3)2CH3 （１０） （イ８）ポリエーテル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-〔Si(CH3)[R5O(C2H4O)a-(C3H6O)bR6]-O〕u-Si(CH3)2CH3 （１１） （イ９）アルキルアラルキルポリエーテル変性シリコーン Si(CH3)3O-Xs-[Si(CH3)R3-O]t-〔Si(CH3)[R5O(C2H4O)a-(C3H6O)bR6]-O〕u-Si( CH3)2CH3 （１２） ［式中、Ｘは-Si(CH3)2-O-、；Ｒ3は炭素数２〜２０の
アルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基、Ｒ4
は炭素数１〜２０のアルキレン基、Ｒ5は炭素数３〜４
のアルキレン基、Ｒ6はＨまたは炭素数１〜４のアルキ
ル基；sは２０〜１００の整数、ｔは１〜２０の整数、
ｕは１〜２０の整数、ａとｂとは１０≦ａ＋ｂ≦６０か
つ０／１０≦ｂ／ａ≦８／２を満足する整数を表す。］
【００１４】上記シリコーン化合物のうち、洗浄性の観
点から好ましいのは、（イ２）、（イ４）、およびとく
に好ましいのは（イ３）、（イ７）、（イ８）および
（イ９）である。
点から好ましいのは、（イ２）、（イ４）、およびとく
に好ましいのは（イ３）、（イ７）、（イ８）および
（イ９）である。
【００１５】本発明における（Ａ）として、上記（ア）
と（イ）はそれぞれ単独で用いてもよいし、また併用し
て用いてもよい。（ア）と（イ）を併用して用いる場合
の重量比（ア）／（イ）は通常１／１，０００〜１／
１、洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性とリンス性の
観点から好ましくは１０／１，０００〜５００／１，０
００、さらに好ましくは１００／１，０００〜３００／
１，０００である。
と（イ）はそれぞれ単独で用いてもよいし、また併用し
て用いてもよい。（ア）と（イ）を併用して用いる場合
の重量比（ア）／（イ）は通常１／１，０００〜１／
１、洗浄剤の液晶セルギャップへの浸透性とリンス性の
観点から好ましくは１０／１，０００〜５００／１，０
００、さらに好ましくは１００／１，０００〜３００／
１，０００である。
【００１６】本発明における（Ａ）は通常、溶剤に溶解
して用いられる。溶剤としては疎水性溶剤（Ｂ）および
親水性溶剤（Ｃ）が挙げられる。
して用いられる。溶剤としては疎水性溶剤（Ｂ）および
親水性溶剤（Ｃ）が挙げられる。
【００１７】本発明における疎水性溶剤（Ｂ）として
は、２０℃における水に対する溶解度が３％未満であ
る、炭化水素（Ｂ１）、エステル（Ｂ２）、ケトン（Ｂ
３）、エーテル（Ｂ４）、アミン（Ｂ５）、アミド（Ｂ
６）、アルコール（Ｂ７）、グリコールエーテル（Ｂ
８）などが挙げられる。
は、２０℃における水に対する溶解度が３％未満であ
る、炭化水素（Ｂ１）、エステル（Ｂ２）、ケトン（Ｂ
３）、エーテル（Ｂ４）、アミン（Ｂ５）、アミド（Ｂ
６）、アルコール（Ｂ７）、グリコールエーテル（Ｂ
８）などが挙げられる。
【００１８】炭化水素（Ｂ１）としては、炭素数８〜２
０の鎖状または環状炭化水素が挙げられる。鎖状炭化水
素としては、飽和炭化水素、例えばオクタン、ノナン、
デカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘ
キサデカン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、
イソウンデカン、イソドデカン、イソトリデカン、イソ
テトラデカン、イソペンタデカン、イソヘキサデカン
等；不飽和炭化水素、例えばオクテン、ノネン、デセ
ン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセ
ン、ペンタデセン、ヘキサデセンなどが挙げられる。環
状炭化水素としては、脂環式炭化水素、例えばイソプロ
ピルシクロヘキサン、テトラリン、リモネンなど；芳香
族炭化水素、例えばアルキル（炭素数２〜１４）ベンゼ
ン、ジアルキル（炭素数合計２〜１４）ベンゼンなどが
挙げられる。これらのうち好ましいのは、鎖状炭化水素
では炭素数８〜１５の飽和および不飽和炭化水素であ
り、環状炭化水素では脂環式炭化水素（とくにリモネン
など）である。
０の鎖状または環状炭化水素が挙げられる。鎖状炭化水
素としては、飽和炭化水素、例えばオクタン、ノナン、
デカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘ
キサデカン、イソオクタン、イソノナン、イソデカン、
イソウンデカン、イソドデカン、イソトリデカン、イソ
テトラデカン、イソペンタデカン、イソヘキサデカン
等；不飽和炭化水素、例えばオクテン、ノネン、デセ
ン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセ
ン、ペンタデセン、ヘキサデセンなどが挙げられる。環
状炭化水素としては、脂環式炭化水素、例えばイソプロ
ピルシクロヘキサン、テトラリン、リモネンなど；芳香
族炭化水素、例えばアルキル（炭素数２〜１４）ベンゼ
ン、ジアルキル（炭素数合計２〜１４）ベンゼンなどが
挙げられる。これらのうち好ましいのは、鎖状炭化水素
では炭素数８〜１５の飽和および不飽和炭化水素であ
り、環状炭化水素では脂環式炭化水素（とくにリモネン
など）である。
【００１９】エステル（Ｂ２）としては、炭素数４〜２
０の、モノ−およびジ−カルボン酸エステル、ラクトン
類が挙げられる。モノカルボン酸エステルとしては、例
えばメチルシクロヘキシル酢酸、２−エチルへキシル酢
酸、メトキシブチル酢酸、エトキシエチル酢酸、ブトキ
シエトキシエチル酢酸、３−メトキシ−３−メチルブチ
ル酢酸、１，６−ジアセトキシヘキサン、オクチル酸メ
チル、ラウリン酸メチル、ステアリン酸メチル、安息香
酸メチルなどが挙げられる。ジカルボン酸エステルとし
ては、例えばコハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、ア
ジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチルなどが挙げられ
る。ラクトン類としては、例えばγ−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カ
プロラクトン、γ−カプリロラクトン、γ−ラウロラク
トン、γ−パルミトラクトン、γ−ステアロラクトン、
クロトラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラク
トンなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは、モ
ノ−およびジ−カルボン酸エステル、更に好ましいのは
ジカルボン酸エステル、特にアジピン酸ジメチル、アジ
ピン酸ジエチルが好ましい。
０の、モノ−およびジ−カルボン酸エステル、ラクトン
類が挙げられる。モノカルボン酸エステルとしては、例
えばメチルシクロヘキシル酢酸、２−エチルへキシル酢
酸、メトキシブチル酢酸、エトキシエチル酢酸、ブトキ
シエトキシエチル酢酸、３−メトキシ−３−メチルブチ
ル酢酸、１，６−ジアセトキシヘキサン、オクチル酸メ
チル、ラウリン酸メチル、ステアリン酸メチル、安息香
酸メチルなどが挙げられる。ジカルボン酸エステルとし
ては、例えばコハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル、ア
ジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチルなどが挙げられ
る。ラクトン類としては、例えばγ−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カ
プロラクトン、γ−カプリロラクトン、γ−ラウロラク
トン、γ−パルミトラクトン、γ−ステアロラクトン、
クロトラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラク
トンなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは、モ
ノ−およびジ−カルボン酸エステル、更に好ましいのは
ジカルボン酸エステル、特にアジピン酸ジメチル、アジ
ピン酸ジエチルが好ましい。
【００２０】ケトン（Ｂ３）としては、炭素数８〜２０
の鎖状または環含有ケトンが挙げられる。鎖状ケトンと
しては、例えばエチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｎ−
ブチルケトン、ジ−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｎ−オク
チルケトン、メチルヘプテノン等が挙げられる。環含有
ケトンとしては、脂環式ケトン、例えばジシクロヘキシ
ルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、バレロ
フェノンジヘキシル−ｎ−ヘキシル−シクロペンテン−
２−オン、１−１−メチル−４−イソプロペニル−６−
シクロヘキセン−２−オン、２−tert−ブチル−シクロ
ヘキサノンなど；芳香族ケトン、例えばジベンジルフェ
ノンなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは鎖状
ケトン、特にジ−ｎ−ヘキシルケトンおよびジ−ｎ−オ
クチルケトンである。
の鎖状または環含有ケトンが挙げられる。鎖状ケトンと
しては、例えばエチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｎ−
ブチルケトン、ジ−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｎ−オク
チルケトン、メチルヘプテノン等が挙げられる。環含有
ケトンとしては、脂環式ケトン、例えばジシクロヘキシ
ルケトン、アセトフェノン、プロピオフェノン、バレロ
フェノンジヘキシル−ｎ−ヘキシル−シクロペンテン−
２−オン、１−１−メチル−４−イソプロペニル−６−
シクロヘキセン−２−オン、２−tert−ブチル−シクロ
ヘキサノンなど；芳香族ケトン、例えばジベンジルフェ
ノンなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは鎖状
ケトン、特にジ−ｎ−ヘキシルケトンおよびジ−ｎ−オ
クチルケトンである。
【００２１】エーテル（Ｂ４）としては、炭素数１０〜
２０の鎖状または環含有エーテルが挙げられる。鎖状エ
ーテルとしては、ｎ−アミルエーテル、ｎ−ヘキシルエ
ーテル、ｎ−オクチルエーテル、メチル−ｎ−デシルエ
ーテル、エチル−ｎ−デシルエーテル、エチル−ｎ−テ
トラデシルエーテル、ｎ−ブチルドデシルエーテルなど
が挙げられる。環状エーテルとしては、脂環式エーテ
ル、例えばジシクロヘキシルエーテル、ｎ−ブチルフェ
ニルエーテル等；芳香（脂肪）族エーテル、例えばｎ−
ヘキシルベンジルエーテル、ｐ−クレジルメチルエーテ
ルなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは鎖状エ
ーテル、特にｎ−ヘキシルエーテルおよびｎ−オクチル
エーテルである。
２０の鎖状または環含有エーテルが挙げられる。鎖状エ
ーテルとしては、ｎ−アミルエーテル、ｎ−ヘキシルエ
ーテル、ｎ−オクチルエーテル、メチル−ｎ−デシルエ
ーテル、エチル−ｎ−デシルエーテル、エチル−ｎ−テ
トラデシルエーテル、ｎ−ブチルドデシルエーテルなど
が挙げられる。環状エーテルとしては、脂環式エーテ
ル、例えばジシクロヘキシルエーテル、ｎ−ブチルフェ
ニルエーテル等；芳香（脂肪）族エーテル、例えばｎ−
ヘキシルベンジルエーテル、ｐ−クレジルメチルエーテ
ルなどが挙げられる。これらの中で好ましいのは鎖状エ
ーテル、特にｎ−ヘキシルエーテルおよびｎ−オクチル
エーテルである。
【００２２】アミン（Ｂ５）としては、炭素数８〜２０
の非環状または環含有アミンが挙げられる。非環状アミ
ンとしては、トリプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルア
ミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミンなどが挙げられる。環
含有アミンとしては、脂環式アミン、例えばジエチルシ
クロヘキシルアミン；芳香族アミン、例えばジエチルベ
ンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ｎ
−ジブチルアニリンなどが挙げられる。これらの中では
非環状アミン化合物が好ましく、特に好ましいのはトリ
−ｎ−ブチルアミンおよびトリ−ｎ−ヘキシルアミンで
ある。
の非環状または環含有アミンが挙げられる。非環状アミ
ンとしては、トリプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルア
ミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミンなどが挙げられる。環
含有アミンとしては、脂環式アミン、例えばジエチルシ
クロヘキシルアミン；芳香族アミン、例えばジエチルベ
ンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ｎ
−ジブチルアニリンなどが挙げられる。これらの中では
非環状アミン化合物が好ましく、特に好ましいのはトリ
−ｎ−ブチルアミンおよびトリ−ｎ−ヘキシルアミンで
ある。
【００２３】アミド（Ｂ６）としては、炭素数６〜１６
の鎖状または環含有アミドが挙げられる。鎖状アミドと
しては、例えばヘキサンアミド、２−エチルヘキサンア
ミド、ｎ−デカンアミドなど；環含有アミドとしては、
脂環式アミド、例えばシクロヘキサンアミド、４−メチ
ルシクロヘキサンアミド、４−ブチルシクロヘキサンア
ミドなど；芳香族アミド、例えばアセトアニリドなどが
挙げられる。これらの中では鎖状アミドが好ましく、特
に好ましいのはヘキサンアミドおよび２−エチルヘキサ
ンアミドである。
の鎖状または環含有アミドが挙げられる。鎖状アミドと
しては、例えばヘキサンアミド、２−エチルヘキサンア
ミド、ｎ−デカンアミドなど；環含有アミドとしては、
脂環式アミド、例えばシクロヘキサンアミド、４−メチ
ルシクロヘキサンアミド、４−ブチルシクロヘキサンア
ミドなど；芳香族アミド、例えばアセトアニリドなどが
挙げられる。これらの中では鎖状アミドが好ましく、特
に好ましいのはヘキサンアミドおよび２−エチルヘキサ
ンアミドである。
【００２４】アルコール（Ｂ７）としては、炭素数６〜
１４の鎖状または環含有アルコールが挙げられる。鎖状
アルコールとしては、例えばｎ−ヘキサノール、ｎ−オ
クタノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−
テトラデカノールなどが挙げられる。環状アルコールと
しては、脂環式アルコール、例えばアルキル（炭素数１
〜８）シクロペンタノール、シクロヘキサノール、アル
キル（炭素数１〜８）シクロヘキサノールなど；芳香脂
肪族アルコール例えばベンジルアルコール、アルキル
（炭素数１〜８）置換ベンジルアルコール、シンナミル
アルコール、アルキル（炭素数１〜６）置換シンナミル
アルコールなどが挙げられる。これらの中では鎖状アル
コールが好ましく、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノー
ル、ｎ−デカノールが更に好ましい。
１４の鎖状または環含有アルコールが挙げられる。鎖状
アルコールとしては、例えばｎ−ヘキサノール、ｎ−オ
クタノール、ｎ−デカノール、ｎ−ドデカノール、ｎ−
テトラデカノールなどが挙げられる。環状アルコールと
しては、脂環式アルコール、例えばアルキル（炭素数１
〜８）シクロペンタノール、シクロヘキサノール、アル
キル（炭素数１〜８）シクロヘキサノールなど；芳香脂
肪族アルコール例えばベンジルアルコール、アルキル
（炭素数１〜８）置換ベンジルアルコール、シンナミル
アルコール、アルキル（炭素数１〜６）置換シンナミル
アルコールなどが挙げられる。これらの中では鎖状アル
コールが好ましく、ｎ−ヘキサノール、ｎ−オクタノー
ル、ｎ−デカノールが更に好ましい。
【００２５】グリコールエーテル（Ｂ８）としては、ア
ルキル基の炭素数が１〜８またはそれ以上のカルビトー
ル類、例えばジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキ
シルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルモノ−
ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ
−ヘキシルエーテルアセテートなど；セロソルブ類、例
えばエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルモノ−ｎ−ヘキシル
エーテルなど；その他のグリコールエーテル、例えばト
リエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノモノ−ｎ−ヘキシルエーテルアセテート
などが挙げられる。
ルキル基の炭素数が１〜８またはそれ以上のカルビトー
ル類、例えばジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシル
エーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキ
シルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルモノ−
ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ
−ヘキシルエーテルアセテートなど；セロソルブ類、例
えばエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、
エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルモノ−ｎ−ヘキシル
エーテルなど；その他のグリコールエーテル、例えばト
リエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノモノ−ｎ−ヘキシルエーテルアセテート
などが挙げられる。
【００２６】（Ｂ１）〜（Ｂ８）は、１種または２種以
上の併用の何れでもよい。（Ｂ１）〜（Ｂ８）のうち好
ましいのは、洗浄性とリンス性の観点から（Ｂ１）、
（Ｂ２）、（Ｂ８）、更に好ましいのは（Ｂ１）および
（Ｂ８）である。
上の併用の何れでもよい。（Ｂ１）〜（Ｂ８）のうち好
ましいのは、洗浄性とリンス性の観点から（Ｂ１）、
（Ｂ２）、（Ｂ８）、更に好ましいのは（Ｂ１）および
（Ｂ８）である。
【００２７】上記の疎水性溶剤（Ｂ）の沸点は、通常１
４０℃〜３２０℃であり、好ましくは１６０〜２７０℃
である。
４０℃〜３２０℃であり、好ましくは１６０〜２７０℃
である。
【００２８】本発明における親水性溶剤（Ｃ）として
は、２０℃における水に対する溶解度が３％以上である
化合物で、水溶性グリコールエーテル（Ｃ１）、水溶性
アミド（Ｃ２）などが挙げられる。
は、２０℃における水に対する溶解度が３％以上である
化合物で、水溶性グリコールエーテル（Ｃ１）、水溶性
アミド（Ｃ２）などが挙げられる。
【００２９】水溶性グリコールエーテル（Ｃ１）として
は、アルキル基の炭素数が１〜５のカルビトール、例え
ばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど；アル
キル基の炭素数が１〜４のカルビトールアセテート、例
えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
トなど；アルキル基の炭素数が１〜３のセロソルブ、例
えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなど；アルキル基の炭素
数が１〜２のセロソルブアセテート、例えばエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテートなど；その他のグ
リコールエーテル、例えばプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエー
テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、３−メチル
−３−メトキシ−１−ブタノールなど；その他のグリコ
ールエーテルアセテート、例えばプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メ
トキシ−１−ブタノールアセテートなどが挙げられる。
これらのうちで好ましいのは、カルビトールおよびカル
ビトールアセテート、更に好ましいのはカルビトール、
特に好ましいのはジエチレングリコールモノブチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジ
エチレングリコールジエチルエーテルである。
は、アルキル基の炭素数が１〜５のカルビトール、例え
ばジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど；アル
キル基の炭素数が１〜４のカルビトールアセテート、例
えばジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
トなど；アルキル基の炭素数が１〜３のセロソルブ、例
えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなど；アルキル基の炭素
数が１〜２のセロソルブアセテート、例えばエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテートなど；その他のグ
リコールエーテル、例えばプロピレングリコールモノメ
チルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエー
テル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、３−メチル
−３−メトキシ−１−ブタノールなど；その他のグリコ
ールエーテルアセテート、例えばプロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メチル−３−メ
トキシ−１−ブタノールアセテートなどが挙げられる。
これらのうちで好ましいのは、カルビトールおよびカル
ビトールアセテート、更に好ましいのはカルビトール、
特に好ましいのはジエチレングリコールモノブチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジ
エチレングリコールジエチルエーテルである。
【００３０】水溶性アミド（Ｃ２）としては、例えば２
−ピロリドン、Ｎ−アルキル（炭素数１〜６）−２−ピ
ロリドンが挙げられる。これらのうち好ましいのは、２
−ピロリドンおよびアルキル基の炭素数が１〜３のも
の、たとえばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル
−２−ピロリドン、Ｎ−プロピル−２−ピロリドン、Ｎ
−イソプロピル−２−ピロリドン、さらに好ましいのは
２−ピロリドンおよびＮ−メチル−２−ピロリドンであ
る。
−ピロリドン、Ｎ−アルキル（炭素数１〜６）−２−ピ
ロリドンが挙げられる。これらのうち好ましいのは、２
−ピロリドンおよびアルキル基の炭素数が１〜３のも
の、たとえばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル
−２−ピロリドン、Ｎ−プロピル−２−ピロリドン、Ｎ
−イソプロピル−２−ピロリドン、さらに好ましいのは
２−ピロリドンおよびＮ−メチル−２−ピロリドンであ
る。
【００３１】（Ｃ１）および（Ｃ２）は、それぞれ１種
または２種以上の併用でもよいし、（Ｃ１）と（Ｃ２）
を混合して用いてもよい。
または２種以上の併用でもよいし、（Ｃ１）と（Ｃ２）
を混合して用いてもよい。
【００３２】本発明における溶剤としては、上記１種以
上の（Ｂ）と１種以上の（Ｃ）のそれぞれを単独使用し
てもよいし、１種以上の（Ｂ）と１種以上の（Ｃ）を併
用してもよい。これらのうち好ましいのは、炭素数８〜
２０の炭化水素である上記（Ｂ１）と、上記（Ｃ１）お
よび／または（Ｃ２）との併用である。（Ｂ）と（Ｃ）
を併用する場合の重量比は通常５／９５〜９５／５、好
ましくは１０／９０〜９０／１０である。
上の（Ｂ）と１種以上の（Ｃ）のそれぞれを単独使用し
てもよいし、１種以上の（Ｂ）と１種以上の（Ｃ）を併
用してもよい。これらのうち好ましいのは、炭素数８〜
２０の炭化水素である上記（Ｂ１）と、上記（Ｃ１）お
よび／または（Ｃ２）との併用である。（Ｂ）と（Ｃ）
を併用する場合の重量比は通常５／９５〜９５／５、好
ましくは１０／９０〜９０／１０である。
【００３３】本発明の洗浄剤には、更に水を加えること
ができる。水の含有量は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）およ
び水の合計重量に基づいて、通常０〜９９％、好ましく
は３〜６５％、更に好ましくは５〜２５％である。
ができる。水の含有量は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）およ
び水の合計重量に基づいて、通常０〜９９％、好ましく
は３〜６５％、更に好ましくは５〜２５％である。
【００３４】また、本発明の洗浄剤には、さらに前記
（Ａ）を除く非イオン界面活性剤を加えることができ
る。非イオン界面活性剤としては、エーテル型（アルキ
ルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキルチ
オエーテル型など）；エステル型（アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型、グリセリン脂肪酸
エステル型など）；アルキレンオキシド（炭素数２〜
３、特に炭素数２）付加型（アミン、アミドなどの含窒
素化合物のアルキレンオキシド付加物；エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドを重付加させたプルロニックま
たはテトロニック型およびポリエチレンイミン型などが
挙げられる。これらの中では、分子中に炭素数４〜２４
の炭化水素基を疎水基として有するものが好ましく、エ
ーテル型およびエステル型が更に好ましく、アルキルエ
ーテル型非イオン界面活性剤が特に好ましい。界面活性
剤のＨＬＢは通常１．５〜１８、好ましくは３〜１６で
ある。界面活性剤の含有量は、（Ａ）、（Ｂ）および
（Ｃ）の合計重量に基づいて、通常０〜５０％、好まし
くは０〜３０％、特に好ましくは０〜１０％である。
（Ａ）を除く非イオン界面活性剤を加えることができ
る。非イオン界面活性剤としては、エーテル型（アルキ
ルエーテル型、アルキルアリルエーテル型、アルキルチ
オエーテル型など）；エステル型（アルキルエステル
型、ソルビタンアルキルエステル型、グリセリン脂肪酸
エステル型など）；アルキレンオキシド（炭素数２〜
３、特に炭素数２）付加型（アミン、アミドなどの含窒
素化合物のアルキレンオキシド付加物；エチレンオキシ
ドとプロピレンオキシドを重付加させたプルロニックま
たはテトロニック型およびポリエチレンイミン型などが
挙げられる。これらの中では、分子中に炭素数４〜２４
の炭化水素基を疎水基として有するものが好ましく、エ
ーテル型およびエステル型が更に好ましく、アルキルエ
ーテル型非イオン界面活性剤が特に好ましい。界面活性
剤のＨＬＢは通常１．５〜１８、好ましくは３〜１６で
ある。界面活性剤の含有量は、（Ａ）、（Ｂ）および
（Ｃ）の合計重量に基づいて、通常０〜５０％、好まし
くは０〜３０％、特に好ましくは０〜１０％である。
【００３５】また、本発明においては、必要により防錆
剤、抗酸化剤、金属イオン封鎖剤（ヒドロキシカルボン
酸およびその塩、ポリアミン酢酸およびその塩、水溶性
ポリカルボン酸およびその塩など）、ビルダー（トリポ
リリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナ
トリウムなど）などのその他の添加剤をさらに加えるこ
とができる。これらの添加剤の使用量は（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および水の合計重量に基づいて通常２０
％以下、好ましくは０〜１０％である。
剤、抗酸化剤、金属イオン封鎖剤（ヒドロキシカルボン
酸およびその塩、ポリアミン酢酸およびその塩、水溶性
ポリカルボン酸およびその塩など）、ビルダー（トリポ
リリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ケイ酸ナ
トリウムなど）などのその他の添加剤をさらに加えるこ
とができる。これらの添加剤の使用量は（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および水の合計重量に基づいて通常２０
％以下、好ましくは０〜１０％である。
【００３６】本発明の洗浄剤は、上記の成分をそれぞれ
適当量配合することにより製造することができる。
（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に基づいて、有
機化合物（Ａ）の含有量は通常０．００１〜６０％、好
ましくは０．０１〜３０％、更に好ましくは０．１〜１
５％、疎水性溶剤（Ｂ）の含有量は通常０〜９０％、好
ましくは１０〜８０％、更に好ましくは１５〜７０％で
ある。親水性溶剤（Ｃ）の含有量は通常０〜８０％、好
ましくは１０〜６０％、更に好ましくは１５〜４０％で
ある。
適当量配合することにより製造することができる。
（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の合計重量に基づいて、有
機化合物（Ａ）の含有量は通常０．００１〜６０％、好
ましくは０．０１〜３０％、更に好ましくは０．１〜１
５％、疎水性溶剤（Ｂ）の含有量は通常０〜９０％、好
ましくは１０〜８０％、更に好ましくは１５〜７０％で
ある。親水性溶剤（Ｃ）の含有量は通常０〜８０％、好
ましくは１０〜６０％、更に好ましくは１５〜４０％で
ある。
【００３７】本発明の洗浄剤の２５℃における粘度は、
通常２〜３０ｍｍ2／ｓ、好ましくは３〜１５ｍｍ2／
ｓ、更に好ましくは４〜１０ｍｍ2／ｓである。粘度は
オストワルド、ウベローデなどの粘度計にて測定でき
る。
通常２〜３０ｍｍ2／ｓ、好ましくは３〜１５ｍｍ2／
ｓ、更に好ましくは４〜１０ｍｍ2／ｓである。粘度は
オストワルド、ウベローデなどの粘度計にて測定でき
る。
【００３８】本発明の洗浄剤が適用できる電子部品は特
に限定はなく、液晶セル、プリント基盤、サーマルヘッ
ド等が挙げられる。また、洗浄の対象となる有機物とし
ては液晶ではＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶などい
ずれもが対象であり、その他電子部品に付着した洗浄除
去すべき有機物が挙げられる。本発明の洗浄剤はこれら
のうち、とくに、狭いギャップを有する液晶セルに残存
する液晶を洗浄除去するのに好適に用いることができ
る。例えば液晶セルは上下２枚のガラス基板の周縁部を
シール材で張り合わせて作られた空のセルの中に、上記
の液晶が封入された電子部品であるが、空セルの中に液
晶を封入する方法としては、真空にした注入室で開口部
を液晶に浸漬し、その後、大気圧に戻すことによってセ
ル中に液晶を導き、開口部を閉じることで液晶セルが作
成される。この際に上下のガラス基板がシールされた外
側のわずかなギャップに液晶が入り込むことは避けられ
ず、洗浄によって取り除かなければならない。液晶など
の残渣が残っていると、ガラス基板上の電極の絶縁不良
が起こる。
に限定はなく、液晶セル、プリント基盤、サーマルヘッ
ド等が挙げられる。また、洗浄の対象となる有機物とし
ては液晶ではＴＦＴ液晶、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶などい
ずれもが対象であり、その他電子部品に付着した洗浄除
去すべき有機物が挙げられる。本発明の洗浄剤はこれら
のうち、とくに、狭いギャップを有する液晶セルに残存
する液晶を洗浄除去するのに好適に用いることができ
る。例えば液晶セルは上下２枚のガラス基板の周縁部を
シール材で張り合わせて作られた空のセルの中に、上記
の液晶が封入された電子部品であるが、空セルの中に液
晶を封入する方法としては、真空にした注入室で開口部
を液晶に浸漬し、その後、大気圧に戻すことによってセ
ル中に液晶を導き、開口部を閉じることで液晶セルが作
成される。この際に上下のガラス基板がシールされた外
側のわずかなギャップに液晶が入り込むことは避けられ
ず、洗浄によって取り除かなければならない。液晶など
の残渣が残っていると、ガラス基板上の電極の絶縁不良
が起こる。
【００３９】本発明の洗浄剤を用いて例えば狭いギャッ
プの液晶残渣を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シ
ャワー洗浄、揺動による洗浄方法が適用でき、複数の方
法を組み合わせることもできる。洗浄温度は、通常１０
〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時
間は通常３〜６０分、好ましくは５〜３０分である。水
によるリンス温度は、通常１０〜９０℃、好ましくは１
５〜７０℃である。リンス後に液晶セルは、６０〜１５
０℃で５〜１２０分間程度加熱乾燥されて後に、清浄な
液晶セル電子部品となる。
プの液晶残渣を洗浄する方法としては、超音波洗浄、シ
ャワー洗浄、揺動による洗浄方法が適用でき、複数の方
法を組み合わせることもできる。洗浄温度は、通常１０
〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時
間は通常３〜６０分、好ましくは５〜３０分である。水
によるリンス温度は、通常１０〜９０℃、好ましくは１
５〜７０℃である。リンス後に液晶セルは、６０〜１５
０℃で５〜１２０分間程度加熱乾燥されて後に、清浄な
液晶セル電子部品となる。
【００４０】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部および％は重量部および重量％を示す。は
じめに、実施例および比較例で用いた洗浄剤成分の組
成、洗浄試験、並びに腐蝕試験方法を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部および％は重量部および重量％を示す。は
じめに、実施例および比較例で用いた洗浄剤成分の組
成、洗浄試験、並びに腐蝕試験方法を示す。
【００４１】１．洗浄剤成分の組成 Ａ−１：ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯＣ2Ｈ4Ｃ8Ｆ17 ３５部、ポ
リオキシエチレングリコール（数平均分子量４００）２
５部、アゾビスイソブチロニトリル２部、ラウリルメル
カプタン０．５部を用いて酢酸エチル４０部中で重合
し、重合終了後溶媒の酢酸エチルを除いて得られた、Ｍ
ｗ１８，０００の粘ちゅうなフッ素系有機化合物 Ｂ１−１：トリデカン Ｂ１−２：テトラデセン−１ Ｂ１−３：リモネン Ｂ８−１：ヘキシルカルビトール Ｃ１−１：ブチルカルビトール Ｃ１−２：ジエチレングリコールジエチルエーテル Ｃ１−３：３−メチル３−メトキシ−１−ブタノール Ｃ１−４：３−メチル３−メトキシ−１−ブタノールア
セテート Ｃ２−１：Ｎ−メチルピロリドン ノニオン１：高級アルコール（炭素数１６〜１８混合
物）のエチレンオキシド９モル付加物（非イオン界面活
性剤） アニオン１：ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム（陰
イオン界面活性剤）
リオキシエチレングリコール（数平均分子量４００）２
５部、アゾビスイソブチロニトリル２部、ラウリルメル
カプタン０．５部を用いて酢酸エチル４０部中で重合
し、重合終了後溶媒の酢酸エチルを除いて得られた、Ｍ
ｗ１８，０００の粘ちゅうなフッ素系有機化合物 Ｂ１−１：トリデカン Ｂ１−２：テトラデセン−１ Ｂ１−３：リモネン Ｂ８−１：ヘキシルカルビトール Ｃ１−１：ブチルカルビトール Ｃ１−２：ジエチレングリコールジエチルエーテル Ｃ１−３：３−メチル３−メトキシ−１−ブタノール Ｃ１−４：３−メチル３−メトキシ−１−ブタノールア
セテート Ｃ２−１：Ｎ−メチルピロリドン ノニオン１：高級アルコール（炭素数１６〜１８混合
物）のエチレンオキシド９モル付加物（非イオン界面活
性剤） アニオン１：ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム（陰
イオン界面活性剤）
【００４２】２．粘度測定 ウベローデ粘度計を用いて２５℃で測定した。 ３．洗浄試験方法 液晶セル（ギャップ４μｍ）５枚を１組としてギャップ
に液晶（ＴＦＴ液晶）を封入し、室温で３０分静置す
る。調製した各々の洗浄剤で２５℃、１０分間超音波洗
浄を行い、２５℃の純水で３分間リンスし、さらに同条
件にてリンスを２回繰り返した。次いで、１２０℃の循
風乾燥機中で１０分間乾燥する。洗浄後と、リンス後の
液晶セルを偏光顕微鏡で観察し、洗浄性、リンス性を次
の４段階で評価した。
に液晶（ＴＦＴ液晶）を封入し、室温で３０分静置す
る。調製した各々の洗浄剤で２５℃、１０分間超音波洗
浄を行い、２５℃の純水で３分間リンスし、さらに同条
件にてリンスを２回繰り返した。次いで、１２０℃の循
風乾燥機中で１０分間乾燥する。洗浄後と、リンス後の
液晶セルを偏光顕微鏡で観察し、洗浄性、リンス性を次
の４段階で評価した。
【００４３】４．腐蝕試験 洗浄、リンス後乾燥させた液晶セルを４０℃で９０％Ｒ
Ｈの環境下に３０日間保存した後、液晶セルの配線部分
を顕微鏡で観察し、次の４段階で評価した。
Ｈの環境下に３０日間保存した後、液晶セルの配線部分
を顕微鏡で観察し、次の４段階で評価した。
【００４４】実施例１〜８、比較例１〜４ 表１に洗浄剤の処方と性能評価結果を示す。
【００４５】
【表１】
【００４６】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、狭いギャップに残存
する液晶等の有機物に対して優れた洗浄力を有してお
り、特に洗浄後のリンス性に優れている。したがって、
本発明の洗浄剤を使用することにより洗浄不良やリンス
不良に由来する腐蝕が液晶セル等の電子部品に発生せ
ず、極めて信頼性の高い電子部品が製造できる。
する液晶等の有機物に対して優れた洗浄力を有してお
り、特に洗浄後のリンス性に優れている。したがって、
本発明の洗浄剤を使用することにより洗浄不良やリンス
不良に由来する腐蝕が液晶セル等の電子部品に発生せ
ず、極めて信頼性の高い電子部品が製造できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ１１Ｄ 17/00 Ｃ１１Ｄ 17/00 Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７Ａ
Claims (4)
- 【請求項１】 分子中に炭素数１〜２０のフッ素化アル
キル基および／またはジメチルシロキサン単位を含有す
る有機化合物（Ａ）からなることを特徴とする電子部品
用洗浄剤。 - 【請求項２】 さらに、１種以上の疎水性溶剤（Ｂ）お
よび／または１種以上の親水性溶剤（Ｃ）からなる請求
項１記載の洗浄剤。 - 【請求項３】 （Ｂ）が炭素数８〜２０の炭化水素であ
り、（Ｃ）が水溶性グリコールエーテル、２−ピロリド
ンおよびＮ−アルキル−２−ピロリドンからなる群から
選ばれる１種以上である請求項２記載の洗浄剤。 - 【請求項４】 さらに、水を（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）お
よび水の合計重量に基づいて３〜６５％含有する請求項
１〜３いずれか記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001044336A JP2002241793A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 電子部品用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001044336A JP2002241793A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 電子部品用洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002241793A true JP2002241793A (ja) | 2002-08-28 |
Family
ID=18906349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001044336A Pending JP2002241793A (ja) | 2001-02-20 | 2001-02-20 | 電子部品用洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002241793A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006282832A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokuyama Corp | 洗浄剤 |
| JP2008163321A (ja) * | 2006-12-07 | 2008-07-17 | Ogino:Kk | 汚れ除去液および汚れ除去方法 |
| JP2010189635A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-09-02 | Kaken Tec Kk | 洗浄剤組成物用原液、洗浄剤組成物、および洗浄方法 |
| JP2011068858A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-04-07 | Tosoh Corp | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 |
| WO2013065432A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 洗浄液組成物 |
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| KR20170095726A (ko) * | 2016-02-15 | 2017-08-23 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| JP2017160404A (ja) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 株式会社リコー | 洗浄液、インクと洗浄液のセット、洗浄方法、インクジェット記録装置、及びインクジェット記録方法 |
| WO2018056197A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | ライオン株式会社 | 液体洗浄剤 |
-
2001
- 2001-02-20 JP JP2001044336A patent/JP2002241793A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US9725677B2 (en) | 2013-04-25 | 2017-08-08 | Jx Nippon Oil & Energy Corporation | Cleaner composition |
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| US10622204B2 (en) | 2016-02-15 | 2020-04-14 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| JP2017160404A (ja) * | 2016-03-11 | 2017-09-14 | 株式会社リコー | 洗浄液、インクと洗浄液のセット、洗浄方法、インクジェット記録装置、及びインクジェット記録方法 |
| WO2018056197A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2018-03-29 | ライオン株式会社 | 液体洗浄剤 |
| CN109715775A (zh) * | 2016-09-23 | 2019-05-03 | 狮王株式会社 | 液体洗涤剂 |
| JPWO2018056197A1 (ja) * | 2016-09-23 | 2019-07-04 | ライオン株式会社 | 液体洗浄剤 |
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