JP2002240307A - インクジェット記録ヘッドの製造方法およびその製造方法によるインクジェット記録ヘッド - Google Patents
インクジェット記録ヘッドの製造方法およびその製造方法によるインクジェット記録ヘッドInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インク液流路内の親水性、インク吐出口面の
撥水性の耐久性共に高いインクジェット記録ヘッド及び
その製造方法を提供する。 【解決手段】 基板１ａ上に親水性の液流路１６および
吐出孔１０ａ内壁を備え、かつ、この親水性の吐出孔１
０ａ内壁と通ずるインクの吐出口面１０を撥水性とする
インクジェット記録ヘッドの製造方法であって、後に液
流路１６となる基板１ａ上の固体層２に親水性被膜３を
被覆する第１の工程と、前記親水性被膜３を被覆するよ
うに前記液流路１６の壁となる撥水性硬化性樹脂を設け
る第２の工程と、前記基板１ａ上の固体層２を除去して
親水性の液流路１６および撥水性の吐出口面１０を形成
する工程と、を有することを特徴とするインクジェット
記録ヘッドの製造方法。
撥水性の耐久性共に高いインクジェット記録ヘッド及び
その製造方法を提供する。 【解決手段】 基板１ａ上に親水性の液流路１６および
吐出孔１０ａ内壁を備え、かつ、この親水性の吐出孔１
０ａ内壁と通ずるインクの吐出口面１０を撥水性とする
インクジェット記録ヘッドの製造方法であって、後に液
流路１６となる基板１ａ上の固体層２に親水性被膜３を
被覆する第１の工程と、前記親水性被膜３を被覆するよ
うに前記液流路１６の壁となる撥水性硬化性樹脂を設け
る第２の工程と、前記基板１ａ上の固体層２を除去して
親水性の液流路１６および撥水性の吐出口面１０を形成
する工程と、を有することを特徴とするインクジェット
記録ヘッドの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インクジェット記
録装置に用いられるインクジェット記録ヘッドの製造方
法およびその製造方法によるインクジェット記録ヘッド
に関するものである。
録装置に用いられるインクジェット記録ヘッドの製造方
法およびその製造方法によるインクジェット記録ヘッド
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種のインクジェット記録ヘッドに用
いる吐出口面は撥水性にすぐれ、インクの通過する液流
路は親水性を有することが望ましい。
いる吐出口面は撥水性にすぐれ、インクの通過する液流
路は親水性を有することが望ましい。
【０００３】液流路が撥水性であると、インク充填の際
インク液流路内に気泡を取り残してしまったり、液流路
内に発生した気泡に対して排出操作を行っても排出する
ことが困難であり、ドット抜けや印字乱れなどのトラブ
ルにより適正な記録が不能となる可能性がある。
インク液流路内に気泡を取り残してしまったり、液流路
内に発生した気泡に対して排出操作を行っても排出する
ことが困難であり、ドット抜けや印字乱れなどのトラブ
ルにより適正な記録が不能となる可能性がある。
【０００４】また一方、吐出口面の撥水性が不十分であ
ると、インクの液滴が付着し易くなり、吐出するインク
滴の直進性が損われ、印字乱れなどのトラブルで記録不
能となることがある。
ると、インクの液滴が付着し易くなり、吐出するインク
滴の直進性が損われ、印字乱れなどのトラブルで記録不
能となることがある。
【０００５】これらに対し、液流路の壁を親水性樹脂で
形成し吐出口面を撥水処理する方法が例えば特開平１−
２９０４３８号公報などに開示されている。しかしなが
ら、この先行例では撥水性樹脂を吐出口面に薄く形成し
ているので、撥水性の維持が困難で実用に供し得ない。
これに対し、例えば特開平６−１９１０３６号公報で
は、液流路の壁を撥水性樹脂で形成し液流路内面をアッ
シング処理などで親水化する方法が提案されている。
形成し吐出口面を撥水処理する方法が例えば特開平１−
２９０４３８号公報などに開示されている。しかしなが
ら、この先行例では撥水性樹脂を吐出口面に薄く形成し
ているので、撥水性の維持が困難で実用に供し得ない。
これに対し、例えば特開平６−１９１０３６号公報で
は、液流路の壁を撥水性樹脂で形成し液流路内面をアッ
シング処理などで親水化する方法が提案されている。
【０００６】この特開平６−１９１０３６号公報に示さ
れる方法の概要を、図８を用いて説明する。
れる方法の概要を、図８を用いて説明する。
【０００７】インク吐出方向の安定化を図ると共に、耐
久性を高めるために、図８（１）に示すように、基板１
０１に液流路端部形成溝１０３を設け、図８（２）に示
すように、ここに撥水性硬化性樹脂層１０５を形成す
る。図８（３）に示すように、その上に可溶性樹脂より
なる帯状の固体層１０６を重ね、更にその上に撥水性硬
化性樹脂層１１３を被覆した後、図８（４）に示すよう
に、天板１０７を載置する。そして、図８（５）に示す
ように、活性エネルギー線照射による撥水性硬化性樹脂
層１１３のパターン硬化を行い、図８（６）に示すよう
に、未硬化部分１１３ａを除去して液室１１４の一部を
形成する。次いで、図８（６）の撥水性硬化性樹脂層１
０５の位置に沿って切断して図８（７）に示す吐出口面
１１９を形成し、図８（８）に示すように、前記固体層
１０６を溶出して液流路１１５および吐出孔１１６を形
成する。そして更に、図８（９）に示すように、液流路
１１５、液室１１４を親水化処理して親水性被膜１１７
を形成する。これにより吐出口面１１９を均一材質の撥
水性硬化性樹脂で形成できる。
久性を高めるために、図８（１）に示すように、基板１
０１に液流路端部形成溝１０３を設け、図８（２）に示
すように、ここに撥水性硬化性樹脂層１０５を形成す
る。図８（３）に示すように、その上に可溶性樹脂より
なる帯状の固体層１０６を重ね、更にその上に撥水性硬
化性樹脂層１１３を被覆した後、図８（４）に示すよう
に、天板１０７を載置する。そして、図８（５）に示す
ように、活性エネルギー線照射による撥水性硬化性樹脂
層１１３のパターン硬化を行い、図８（６）に示すよう
に、未硬化部分１１３ａを除去して液室１１４の一部を
形成する。次いで、図８（６）の撥水性硬化性樹脂層１
０５の位置に沿って切断して図８（７）に示す吐出口面
１１９を形成し、図８（８）に示すように、前記固体層
１０６を溶出して液流路１１５および吐出孔１１６を形
成する。そして更に、図８（９）に示すように、液流路
１１５、液室１１４を親水化処理して親水性被膜１１７
を形成する。これにより吐出口面１１９を均一材質の撥
水性硬化性樹脂で形成できる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、吐出口面１１９の撥水性維持は充分であるが、
親水化処理された内壁の耐久性が低下する。
法では、吐出口面１１９の撥水性維持は充分であるが、
親水化処理された内壁の耐久性が低下する。
【０００９】本発明は、以上のような局面にかんがみて
なされたもので、その目的とする処は、液流路内の親水
性被膜の耐久性および吐出口面の撥水性の耐久性が共に
高いインクジェット記録ヘッドの製造方法およびその製
造方法によるインクジェット記録ヘッドを提供すること
にある。
なされたもので、その目的とする処は、液流路内の親水
性被膜の耐久性および吐出口面の撥水性の耐久性が共に
高いインクジェット記録ヘッドの製造方法およびその製
造方法によるインクジェット記録ヘッドを提供すること
にある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】このため、本発明におい
ては、下記の各項（１）〜（６）のいずれかに示すイン
クジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット
記録ヘッドを提供することにより、前記目的を達成しよ
うとするものである。
ては、下記の各項（１）〜（６）のいずれかに示すイン
クジェット記録ヘッドの製造方法およびインクジェット
記録ヘッドを提供することにより、前記目的を達成しよ
うとするものである。
【００１１】（１）基板上に親水性の液流路および吐出
孔内壁を備え、かつ、この親水性の吐出孔内壁と通ずる
インクの吐出口面を撥水性とするインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法であって、後に液流路となる基板上の固
体層に親水性被膜を被覆する第１の工程と、前記親水性
被膜を被覆するように前記液流路の壁となる撥水性硬化
性樹脂を設ける第２の工程と、前記基板上の固体層を除
去して親水性の液流路および撥水性の吐出口面を形成す
る工程と、を有することを特徴とするインクジェット記
録ヘッドの製造方法。
孔内壁を備え、かつ、この親水性の吐出孔内壁と通ずる
インクの吐出口面を撥水性とするインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法であって、後に液流路となる基板上の固
体層に親水性被膜を被覆する第１の工程と、前記親水性
被膜を被覆するように前記液流路の壁となる撥水性硬化
性樹脂を設ける第２の工程と、前記基板上の固体層を除
去して親水性の液流路および撥水性の吐出口面を形成す
る工程と、を有することを特徴とするインクジェット記
録ヘッドの製造方法。
【００１２】（２）前記親水性被膜をスパッタ、蒸着、
化学蒸着（ＣＶＤ）等の気相成長法で行うことを特徴と
する前記（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製
造方法。
化学蒸着（ＣＶＤ）等の気相成長法で行うことを特徴と
する前記（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製
造方法。
【００１３】（３）前記吐出口面は、前記基板上の端面
で撥水性硬化性樹脂と基板との間で形成され、かつ、前
記基板の端面に沿って形成されることを特徴とする前記
（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
で撥水性硬化性樹脂と基板との間で形成され、かつ、前
記基板の端面に沿って形成されることを特徴とする前記
（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【００１４】（４）前記吐出口面は、前記基板上の端面
に設けられる撥水性硬化性樹脂で形成され、かつ、前記
基板の端面に沿って形成されることを特徴とする前記
（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
に設けられる撥水性硬化性樹脂で形成され、かつ、前記
基板の端面に沿って形成されることを特徴とする前記
（１）項記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【００１５】（５）前記吐出口面は、前記基板の上方に
向けて設けられる撥水性硬化性樹脂に形成されることを
特徴とする前記（１）項記載のインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法。
向けて設けられる撥水性硬化性樹脂に形成されることを
特徴とする前記（１）項記載のインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法。
【００１６】（６）前記（１）項ないし（５）項のいず
れか記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法により
製造されたことを特徴とするインクジェット記録ヘッ
ド。
れか記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法により
製造されたことを特徴とするインクジェット記録ヘッ
ド。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を複数
の実施例に基づき、それぞれ図面を参照しながら説明す
るが、本発明はこれらのみに限定されるものではなく、
特許請求の範囲内であれば適宜変更できるものである。
の実施例に基づき、それぞれ図面を参照しながら説明す
るが、本発明はこれらのみに限定されるものではなく、
特許請求の範囲内であれば適宜変更できるものである。
【００１８】
【実施例】図７に、本発明に係るエッジシュータ型イン
クジェット記録ヘッドの基本的な構成を斜視図として示
す。
クジェット記録ヘッドの基本的な構成を斜視図として示
す。
【００１９】図７（ａ）は複数本のエッジシュータ型イ
ンクジェット記録ヘッドの作成を示す斜視図、図７
（ｂ）は前記図７（ａ）の結果得られたインクジェット
記録ヘッドの斜視図を示すものである。図７（ａ）にお
いて、基板１と天板５とを接合し、切断線１２で分離す
ることで図７（ｂ）に示すヘッドを複数本作成する。
ンクジェット記録ヘッドの作成を示す斜視図、図７
（ｂ）は前記図７（ａ）の結果得られたインクジェット
記録ヘッドの斜視図を示すものである。図７（ａ）にお
いて、基板１と天板５とを接合し、切断線１２で分離す
ることで図７（ｂ）に示すヘッドを複数本作成する。
【００２０】以下の実施例１、２にはそれぞれこのエッ
ジシュータ型インクジェット記録ヘッドの各実施例を、
実施例３にはサイドシュータ型インクジェット記録ヘッ
ドの実施例を示す。
ジシュータ型インクジェット記録ヘッドの各実施例を、
実施例３にはサイドシュータ型インクジェット記録ヘッ
ドの実施例を示す。
【００２１】図１、図３にはそれぞれ実施例１、実施例
２の図７のＡ−Ａ断面の作成工程を、図２、図４にはそ
れぞれ完成した各インクジェット記録ヘッドの吐出口面
の図を示す。
２の図７のＡ−Ａ断面の作成工程を、図２、図４にはそ
れぞれ完成した各インクジェット記録ヘッドの吐出口面
の図を示す。
【００２２】（実施例１）第１のエッジシュータ型イン
クジェット記録ヘッドの製造方法。
クジェット記録ヘッドの製造方法。
【００２３】まず、蓄熱層、ヒータなどを形成したアル
ミ基板１ａ上の液流路予定部位及び液室予定部位にポジ
レジストの固体層２を２０μｍパターニング等により選
択的に形成する（図１（１））。
ミ基板１ａ上の液流路予定部位及び液室予定部位にポジ
レジストの固体層２を２０μｍパターニング等により選
択的に形成する（図１（１））。
【００２４】さらに、固体層２を被覆するように、親水
性被膜３としてＳｉＯ2を０．２μｍスパッタする。用
いた装置はＭＲＣ社製６０３型スパッタ装置で、２ｋＷ
で成膜した。固体層２の溶解を防ぐため、基板加熱は行
わない（図１（２））。
性被膜３としてＳｉＯ2を０．２μｍスパッタする。用
いた装置はＭＲＣ社製６０３型スパッタ装置で、２ｋＷ
で成膜した。固体層２の溶解を防ぐため、基板加熱は行
わない（図１（２））。
【００２５】なお、親水性被膜３は構成を明確にするた
め実際の大きさより誇張して肉厚く示している（以下同
様）。
め実際の大きさより誇張して肉厚く示している（以下同
様）。
【００２６】次に、親水性被膜３を被覆するように、撥
水性硬化性樹脂を３０μｍ塗布する。
水性硬化性樹脂を３０μｍ塗布する。
【００２７】この撥水性硬化性樹脂としては、特開平１
０−５３６３９号公報に示される撥水性付与活性エネル
ギー線硬化材料の感光性撥水樹脂８ａを用いた（図１
（３））。
０−５３６３９号公報に示される撥水性付与活性エネル
ギー線硬化材料の感光性撥水樹脂８ａを用いた（図１
（３））。
【００２８】次に、マスクＭ１を介して中心部のみ１．
８mm幅残した露光を行う。露光は（株）キヤノン製マス
クアライナー商品名ＭＰＡ６００を用いて露光量４Ｊ／
cm2で実施する（図１（４））。
８mm幅残した露光を行う。露光は（株）キヤノン製マス
クアライナー商品名ＭＰＡ６００を用いて露光量４Ｊ／
cm2で実施する（図１（４））。
【００２９】そして、オーブンで９０℃４５分間加熱し
た後、メチルイソブチルケトンを用いて未露光部を溶出
し、更に１００℃１時間の加熱をし、中央に幅１．８mm
の感光性撥水樹脂８ａ層を得る（図１（５））。
た後、メチルイソブチルケトンを用いて未露光部を溶出
し、更に１００℃１時間の加熱をし、中央に幅１．８mm
の感光性撥水樹脂８ａ層を得る（図１（５））。
【００３０】次に、中央の厚さが０．９７mm、幅２．０
mm、端が厚さ１．０mm、幅１．１mmで耐食処理を施した
アルミ天板５の中央及び両端に、常温硬化性樹脂９をデ
ィスペンサで塗布する（図１（６））。
mm、端が厚さ１．０mm、幅１．１mmで耐食処理を施した
アルミ天板５の中央及び両端に、常温硬化性樹脂９をデ
ィスペンサで塗布する（図１（６））。
【００３１】なお、塗布速度３０mm／ｓｅｃ、シリンジ
Ｇ２３、シリンジ−基板間距離０．１mm、端部塗布圧
０．６kg／cm2、中央塗布圧０．４kg／cm2で実施。常温
硬化性樹脂９としては油化シェルエポキシ（株）製商品
名エピコート８２８重量部１００、富士化成工業（株）
製商品名フジキュアー６０１０重量部５０を混合したも
のを用いた。
Ｇ２３、シリンジ−基板間距離０．１mm、端部塗布圧
０．６kg／cm2、中央塗布圧０．４kg／cm2で実施。常温
硬化性樹脂９としては油化シェルエポキシ（株）製商品
名エピコート８２８重量部１００、富士化成工業（株）
製商品名フジキュアー６０１０重量部５０を混合したも
のを用いた。
【００３２】常温硬化製樹脂９を塗布したアルミ天板５
をアルミ基板１ａと接合する（図１（６））。
をアルミ基板１ａと接合する（図１（６））。
【００３３】この接合時に、感光性撥水樹脂８ａ層の幅
は１．８mm、アルミ天板５中央部の幅は２．０mmのた
め、アルミ天板５に塗った前記常温硬化性樹脂９が感光
性撥水樹脂８ａ層の側面を覆う。この後、１００℃１時
間の硬化を行う（図１（７））。
は１．８mm、アルミ天板５中央部の幅は２．０mmのた
め、アルミ天板５に塗った前記常温硬化性樹脂９が感光
性撥水樹脂８ａ層の側面を覆う。この後、１００℃１時
間の硬化を行う（図１（７））。
【００３４】ＲＩＥを使用して、ＣＨＦ3１６ｓｃｃ
ｍ、Ｃ2Ｆ6２４ｓｃｃｍ、Ｏ2５ｓｃｃｍ、０．０２Ｔ
ｏｒｒ、９００ＷでＳｉＯ2のドライエッチングを行う
（図１（８））。
ｍ、Ｃ2Ｆ6２４ｓｃｃｍ、Ｏ2５ｓｃｃｍ、０．０２Ｔ
ｏｒｒ、９００ＷでＳｉＯ2のドライエッチングを行う
（図１（８））。
【００３５】次いで、刃幅１．０mmのダイヤモンドバイ
ト１３を使用して中央を分離切断する（図１（９））。
ト１３を使用して中央を分離切断する（図１（９））。
【００３６】以上により１ヘッドに分離される（図１
（１０））。
（１０））。
【００３７】次に、固体層２をエチルセロソルブで除去
し液流路１６、共通液室１１、吐出孔１０ａおよび吐出
口面１０を得る（図１（１１））。
し液流路１６、共通液室１１、吐出孔１０ａおよび吐出
口面１０を得る（図１（１１））。
【００３８】これを図１（１１）の左側より観察すると
図２に示すようになる。なお、親水性被膜３は説明のた
め誇張して肉厚く示しているが、実際には、その厚みは
０．２μｍほどしかないのでほとんど見えず、また、吐
出口面１０の撥水性にもほとんど影響しない。
図２に示すようになる。なお、親水性被膜３は説明のた
め誇張して肉厚く示しているが、実際には、その厚みは
０．２μｍほどしかないのでほとんど見えず、また、吐
出口面１０の撥水性にもほとんど影響しない。
【００３９】このように、吐出口面１０が、感光性撥水
樹脂８ａ層とアルミ基板１ａとの間に形成され、かつ、
アルミ基板１ａの端面に沿って形成されたインクジェッ
ト記録ヘッドが製造できる。また、吐出孔１０ａの内壁
は親水性被膜３を有し、さらに、共通液室１１の内壁も
全て親水性となっている。
樹脂８ａ層とアルミ基板１ａとの間に形成され、かつ、
アルミ基板１ａの端面に沿って形成されたインクジェッ
ト記録ヘッドが製造できる。また、吐出孔１０ａの内壁
は親水性被膜３を有し、さらに、共通液室１１の内壁も
全て親水性となっている。
【００４０】（実施例２）第２のエッジシュータ型イン
クジェット記録ヘッドの製造方法。
クジェット記録ヘッドの製造方法。
【００４１】エッジシュータ型インクジェット記録ヘッ
ドの別の実施例を図３、図４に示す。
ドの別の実施例を図３、図４に示す。
【００４２】前記実施例１では、撥水性硬化性樹脂とし
て感光性撥水樹脂８ａを用いたが、ここでは感光性のな
い撥水樹脂８ｂを用いる。また吐出孔１０ａの下側にも
この感光性のない撥水樹脂８ｂを設ける。
て感光性撥水樹脂８ａを用いたが、ここでは感光性のな
い撥水樹脂８ｂを用いる。また吐出孔１０ａの下側にも
この感光性のない撥水樹脂８ｂを設ける。
【００４３】まず、アルミ基板１ａの中央部に深さ２０
μｍ、幅１．２mmの溝をダイヤモンドバイトで形成する
（図３（１））。
μｍ、幅１．２mmの溝をダイヤモンドバイトで形成する
（図３（１））。
【００４４】次に、感光性のない撥水樹脂８ｂをディス
ペンサで溝に埋め込む（図３（２））。
ペンサで溝に埋め込む（図３（２））。
【００４５】なお、撥水樹脂８ｂは、油化シェルエポキ
シ（株）製商品名エピコート８２８重量部５０、１，３
−ビス（３−グリシドキシプロピル）テトラメチルジシ
ロキサン重量部３０、３−（２−パーフルオロヘキシ
ル）エトキシ−１、２−エポキシプロパン重量部２０、
日本ユニカー（株）製ＮＵＣシランカップリング剤商品
名Ａ−１８７重量部５、旭電化化工業（株）製商品名ア
デカオプトマーＳＰ−１７０重量部１．５を混合したも
のである。
シ（株）製商品名エピコート８２８重量部５０、１，３
−ビス（３−グリシドキシプロピル）テトラメチルジシ
ロキサン重量部３０、３−（２−パーフルオロヘキシ
ル）エトキシ−１、２−エポキシプロパン重量部２０、
日本ユニカー（株）製ＮＵＣシランカップリング剤商品
名Ａ−１８７重量部５、旭電化化工業（株）製商品名ア
デカオプトマーＳＰ−１７０重量部１．５を混合したも
のである。
【００４６】そして、８．３Ｊ／cm2の露光後、１３０
℃１時間の硬化を行った。この後、図に示していない蓄
熱層、ヒータ、配線などを形成する。
℃１時間の硬化を行った。この後、図に示していない蓄
熱層、ヒータ、配線などを形成する。
【００４７】次いで、前記実施例１と同様ポジレジスト
の固体層２を２０μｍパターニングした（図３
（３））。
の固体層２を２０μｍパターニングした（図３
（３））。
【００４８】さらに、実施例１と同じ条件で親水性被膜
３としてＳｉＯ2を０．２μｍスパッタにより成膜した
（図３（４））。
３としてＳｉＯ2を０．２μｍスパッタにより成膜した
（図３（４））。
【００４９】そして、先に使用したものと同じ感光性の
ない撥水樹脂８ｂをディスペンサで塗布する。塗布速度
３０mm／ｓｅｃ、シリンジＧ２３、シリンジ−基板間距
離０．１mm、端部塗布圧０．４kg／cm2で実施。そして
８．３Ｊ／cm2の露光後、１３０℃１時間の硬化を行っ
た（図３（５））。
ない撥水樹脂８ｂをディスペンサで塗布する。塗布速度
３０mm／ｓｅｃ、シリンジＧ２３、シリンジ−基板間距
離０．１mm、端部塗布圧０．４kg／cm2で実施。そして
８．３Ｊ／cm2の露光後、１３０℃１時間の硬化を行っ
た（図３（５））。
【００５０】これ以降の図３（６）〜（１１）に示す製
造方法は、前記実施例１の図１（６）〜（１１）と実質
的に同様であるので説明を省略する。
造方法は、前記実施例１の図１（６）〜（１１）と実質
的に同様であるので説明を省略する。
【００５１】図３（１１）の左側から吐出口面１０を観
察した図が図４である。
察した図が図４である。
【００５２】前記図２と異なるのは、撥水性硬化性樹脂
として感光性のない撥水性樹脂８ｂが用いられているこ
と、および、吐出口面１０の下側にも感光性のない撥水
樹脂８ｂがあることである。
として感光性のない撥水性樹脂８ｂが用いられているこ
と、および、吐出口面１０の下側にも感光性のない撥水
樹脂８ｂがあることである。
【００５３】このようにして、吐出口面１０が撥水性硬
化性樹脂で形成され、かつ、アルミ基板１ａの端面に沿
って形成されたインクジェット記録ヘッドが製造でき
る。吐出口面１０の周囲を全て同じ樹脂で構成すること
で、濡れ性が同じとなり、吐出安定性が増す効果が得ら
れる。
化性樹脂で形成され、かつ、アルミ基板１ａの端面に沿
って形成されたインクジェット記録ヘッドが製造でき
る。吐出口面１０の周囲を全て同じ樹脂で構成すること
で、濡れ性が同じとなり、吐出安定性が増す効果が得ら
れる。
【００５４】（実施例３）サイドシュータ型インクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。
ット記録ヘッドの製造方法。
【００５５】実施例３を図５、６に示す。
【００５６】まず、前記実施例１、実施例２におけるア
ルミ基板１ａの代わりに、配線、ヒータ、蓄熱層を作り
込んだシリコン基板１ｂを用いる（図５（１））。
ルミ基板１ａの代わりに、配線、ヒータ、蓄熱層を作り
込んだシリコン基板１ｂを用いる（図５（１））。
【００５７】次に、特開平６−８４３７号公報に示す多
段露光法を用いて、以下のようにパターニングする。
段露光法を用いて、以下のようにパターニングする。
【００５８】ポジ型フォトレジスト商品名ＡＺ−４９０
３（ヘキスト社製）を膜厚４０μｍとなるようにスピン
コートし、オーブン中で９０℃４０分のプリベークを行
って固体層２を形成する。この固体層２上にノズルパタ
ーンのマスクＭ２を介してキヤノン（株）製マスクアラ
イナー商品名ＰＬＡ−５０１により８００ｍＪ／cm2の
露光量でパターン露光した（図５（２））。
３（ヘキスト社製）を膜厚４０μｍとなるようにスピン
コートし、オーブン中で９０℃４０分のプリベークを行
って固体層２を形成する。この固体層２上にノズルパタ
ーンのマスクＭ２を介してキヤノン（株）製マスクアラ
イナー商品名ＰＬＡ−５０１により８００ｍＪ／cm2の
露光量でパターン露光した（図５（２））。
【００５９】０．７５ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液
を用いて現像し、次いでイオン交換水でリンス処理を施
し真空オーブン中で５０℃３０分間のポストベークを行
い、２０μｍまで現像された固体層２を得た（図５
（３））。
を用いて現像し、次いでイオン交換水でリンス処理を施
し真空オーブン中で５０℃３０分間のポストベークを行
い、２０μｍまで現像された固体層２を得た（図５
（３））。
【００６０】次に別のマスクＭ３を用いてこの固体層２
上にアライメントを行って再度８００ｍＪ／cm2の露光
量でパターン露光した（図５（４））。
上にアライメントを行って再度８００ｍＪ／cm2の露光
量でパターン露光した（図５（４））。
【００６１】０．７５ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液
を用いて現像し、次いでイオン交換水でリンス処理を施
し真空オーブン中で７０℃３０分間のポストベークを行
い、固体層２を得た（図５（５））。
を用いて現像し、次いでイオン交換水でリンス処理を施
し真空オーブン中で７０℃３０分間のポストベークを行
い、固体層２を得た（図５（５））。
【００６２】次に、前記実施例１、２と同じ条件でＳｉ
Ｏ2の親水性被膜３を形成した（図５（６））。
Ｏ2の親水性被膜３を形成した（図５（６））。
【００６３】さらに、前記実施例２において用いたもの
と同じ感光性のない撥水樹脂８ｂを、３０μｍ塗布す
る。そして８．３Ｊ／cm2の露光後１３０℃１時間の硬
化を行った（図５（７））。
と同じ感光性のない撥水樹脂８ｂを、３０μｍ塗布す
る。そして８．３Ｊ／cm2の露光後１３０℃１時間の硬
化を行った（図５（７））。
【００６４】そして、前記実施例１、２と同様、ＲＩＥ
でＳｉＯ2膜のドライエッチングを行う（図５
（８））。
でＳｉＯ2膜のドライエッチングを行う（図５
（８））。
【００６５】これによって、レジストの最も凸状となっ
ている部分の表面のＳｉＯ2膜がエッチングされる（図
５（９））。
ている部分の表面のＳｉＯ2膜がエッチングされる（図
５（９））。
【００６６】次に、シリコン基板１ｂの裏面より異方性
エッチングによりインク供給口１３を形成する（図５
（１０））。
エッチングによりインク供給口１３を形成する（図５
（１０））。
【００６７】そして、３．０ｗｔ％の水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、固体層２を溶解し液流路１６、吐出
孔１０ａおよび吐出口面１０を得た（図５（１１））。
水溶液中に浸漬し、固体層２を溶解し液流路１６、吐出
孔１０ａおよび吐出口面１０を得た（図５（１１））。
【００６８】これを上面より視た図が図６である。
【００６９】このようにして、吐出口面１０がシリコン
基板１ｂの上方の撥水性硬化性樹脂に形成されたインク
ジェット記録ヘッドが製造できる。そしてこれは、吐出
孔１０ａの内壁のみが親水性被膜３で覆われたサイドシ
ュータ型インクジェット記録ヘッドとなる。
基板１ｂの上方の撥水性硬化性樹脂に形成されたインク
ジェット記録ヘッドが製造できる。そしてこれは、吐出
孔１０ａの内壁のみが親水性被膜３で覆われたサイドシ
ュータ型インクジェット記録ヘッドとなる。
【００７０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
比較的簡単な製作工程で液流路および吐出孔内壁の親水
性被膜が形成でき、しかも吐出口面も撥水性硬化性樹脂
によって形成されるので、吐出孔内壁の親水性被膜及び
吐出口面の撥水性硬化性樹脂共に、耐久性が格段と優れ
たインクジェット記録ヘッドを得ることができる。
比較的簡単な製作工程で液流路および吐出孔内壁の親水
性被膜が形成でき、しかも吐出口面も撥水性硬化性樹脂
によって形成されるので、吐出孔内壁の親水性被膜及び
吐出口面の撥水性硬化性樹脂共に、耐久性が格段と優れ
たインクジェット記録ヘッドを得ることができる。
【図１】 実施例１のエッジシュータ型インクジェット
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
【図２】 図１の結果得られたインクジェット記録ヘッ
ドの吐出口面の図
ドの吐出口面の図
【図３】 実施例２のエッジシュータ型インクジェット
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
【図４】 図３の結果得られたインクジェット記録ヘッ
ドの吐出口面の図
ドの吐出口面の図
【図５】 実施例３のサイドシュータ型インクジェット
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
記録ヘッドの工程説明図（１）〜（１１）
【図６】 図５の結果得られたインクジェット記録ヘッ
ドの吐出口面の図
ドの吐出口面の図
【図７】 エッジシュータ型インクジェット記録ヘッド
の斜視図、（ａ）は複数本のエッジシュータ型インクジ
ェット記録ヘッドの作成を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）
の結果得られたインクジェット記録ヘッドの斜視図
の斜視図、（ａ）は複数本のエッジシュータ型インクジ
ェット記録ヘッドの作成を示す斜視図、（ｂ）は（ａ）
の結果得られたインクジェット記録ヘッドの斜視図
【図８】 従来のエッジシュータ型インクジェット記録
ヘッドの工程説明図（１）〜（９）
ヘッドの工程説明図（１）〜（９）
１ａ アルミ基板 １ｂ シリコン基板 ２ 固体層（ポジレジスト） ３ 親水性被膜 ５ アルミ天板 ８ａ 感光性撥水樹脂 ８ｂ （感光性のない）撥水樹脂 ９ 硬化性樹脂 １０ 吐出口面 １０ａ 吐出孔 １１ 共通液室 １２ 切断線 １３ インク供給口 １５ 蓋 １６ 液流路 １０１ 基板 １０３ 液流路端部形成溝 １０５ 撥水性硬化性樹脂層 １０６ 固体層 １０７ 天板 １１３ 撥水性硬化性樹脂層 １１４ 液室 １１５ 液流路 １１６ 吐出孔 １１７ 親水層 １１９ 吐出口面
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に親水性の液流路および吐出孔内
壁を備え、かつ、この親水性の吐出孔内壁と通ずるイン
クの吐出口面を撥水性とするインクジェット記録ヘッド
の製造方法であって、後に液流路となる基板上の固体層
に親水性被膜を被覆する第１の工程と、前記親水性被膜
を被覆するように前記液流路の壁となる撥水性硬化性樹
脂を設ける第２の工程と、前記基板上の固体層を除去し
て親水性の液流路および撥水性の吐出口面を形成する工
程と、を有することを特徴とするインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項２】 前記親水性被膜をスパッタ、蒸着、化学
蒸着（ＣＶＤ）等の気相成長法で行うことを特徴とする
請求項１記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記吐出口面は、前記基板上の端面で撥
水性硬化性樹脂と基板との間で形成され、かつ、前記基
板の端面に沿って形成されることを特徴とする請求項１
記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 前記吐出口面は、前記基板上の端面に設
けられる撥水性硬化性樹脂で形成され、かつ、前記基板
の端面に沿って形成されることを特徴とする請求項１記
載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】 前記吐出口面は、前記基板の上方に向け
て設けられる撥水性硬化性樹脂に形成されることを特徴
とする請求項１記載のインクジェット記録ヘッドの製造
方法。 - 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれか記載のイン
クジェット記録ヘッドの製造方法により製造されたこと
を特徴とするインクジェット記録ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047082A JP4669138B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| US10/079,898 US6811715B2 (en) | 2001-02-22 | 2002-02-22 | Method for producing ink jet recording head, and ink jet recording head produced by such method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001047082A JP4669138B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002240307A true JP2002240307A (ja) | 2002-08-28 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2001047082A Expired - Fee Related JP4669138B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
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|---|---|
| US (1) | US6811715B2 (ja) |
| JP (1) | JP4669138B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007290359A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-11-08 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド基体、その基体を用いた液体吐出ヘッド及びそれらの製造方法 |
| JP2007307888A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-29 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置及び画像形成装置 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1968815B (zh) * | 2004-06-28 | 2013-05-01 | 佳能株式会社 | 排液头制造方法，和使用该方法得到的排液头 |
| JP4761498B2 (ja) * | 2004-06-28 | 2011-08-31 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂組成物、ならびにこれを用いた段差パターンの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 |
| TWI289511B (en) * | 2004-11-22 | 2007-11-11 | Canon Kk | Method of manufacturing liquid discharge head, and liquid discharge head |
| JP4614383B2 (ja) * | 2004-12-09 | 2011-01-19 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法、及びインクジェット記録ヘッド |
| US8438729B2 (en) * | 2006-03-09 | 2013-05-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing liquid discharge head |
| JP4942218B2 (ja) * | 2008-12-16 | 2012-05-30 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06191037A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-12 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、それを用いた液体噴射記録装置および該ヘッドの製造方法 |
| JPH06191033A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-12 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
| JPH09201968A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-05 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58224758A (ja) * | 1982-06-25 | 1983-12-27 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド |
| JPH0645242B2 (ja) | 1984-12-28 | 1994-06-15 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
| EP0490668B1 (en) * | 1990-12-12 | 1996-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording |
| JP3103404B2 (ja) * | 1991-10-22 | 2000-10-30 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
| US5724784A (en) * | 1992-03-27 | 1998-03-10 | National Gypsum Company | Shaft wall and horizontal metal stud therefor |
| JP3061944B2 (ja) * | 1992-06-24 | 2000-07-10 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法及び記録装置 |
| ATE173197T1 (de) * | 1992-08-31 | 1998-11-15 | Canon Kk | Tintenstrahlkopfherstellungsverfahren mittels bearbeitung durch ionen und tintenstrahlkopf |
| JPH06191036A (ja) | 1992-12-28 | 1994-07-12 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び同ヘッドを備えた記録装置 |
| JP3478669B2 (ja) | 1995-06-13 | 2003-12-15 | キヤノン株式会社 | 溶剤易溶性のフッ素含有エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた表面処理方法 |
| DE69616241T2 (de) * | 1995-06-13 | 2002-06-27 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | In lösungsmittel hochlösliches fluor enthaltende epoxidharzzusammensetzung |
| US6561623B1 (en) * | 1995-08-31 | 2003-05-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing ink jet recording head and ink jet recording head produced by same |
| EP0786347B1 (en) * | 1995-12-26 | 2003-05-14 | Canon Kabushiki Kaisha | A method for manufacturing a liquid jet recording head, a liquid jet recording head manufactured by such method, and a liquid jet recording apparatus having such head mounted thereon |
| JP3595641B2 (ja) * | 1996-02-29 | 2004-12-02 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法及びインクジェット記録ヘッド |
| US6084612A (en) * | 1996-07-31 | 2000-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head, liquid ejection head cartridge, printing apparatus, printing system and fabrication process of liquid ejection head |
| US6110544A (en) * | 1997-06-26 | 2000-08-29 | General Electric Company | Protective coating by high rate arc plasma deposition |
| US6331259B1 (en) * | 1997-12-05 | 2001-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording heads |
| US6241335B1 (en) * | 1997-12-24 | 2001-06-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing ink jet recording head and ink jet recording head produced by the method |
| US6472125B1 (en) * | 1999-11-30 | 2002-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing ink jet recording head and ink jet recording head manufactured by such method of manufacture |
| US6508538B2 (en) * | 2000-10-02 | 2003-01-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head, head cartridge and ejection apparatus with plural, independent liquid supply means |
-
2001
- 2001-02-22 JP JP2001047082A patent/JP4669138B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-02-22 US US10/079,898 patent/US6811715B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06191033A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-12 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置 |
| JPH06191037A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-12 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド、それを用いた液体噴射記録装置および該ヘッドの製造方法 |
| JPH09201968A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-05 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘッド及びその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007290359A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-11-08 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド基体、その基体を用いた液体吐出ヘッド及びそれらの製造方法 |
| JP2007307888A (ja) * | 2006-04-18 | 2007-11-29 | Ricoh Co Ltd | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置及び画像形成装置 |
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