JP2002234990A - 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置 - Google Patents

光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置

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JP2002234990A
JP2002234990A JP2001032942A JP2001032942A JP2002234990A JP 2002234990 A JP2002234990 A JP 2002234990A JP 2001032942 A JP2001032942 A JP 2001032942A JP 2001032942 A JP2001032942 A JP 2001032942A JP 2002234990 A JP2002234990 A JP 2002234990A
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resin composition
optical semiconductor
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encapsulation according
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Shinji Komori
慎司 小森
Satoshi Segawa
聡 瀬川
Masahito Akiyama
仁人 秋山
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Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】透明性、耐半田性及び離型性に優れた光半導体
封止用エポキシ樹脂組成物及びその硬化物で封止された
光半導体装置を提供する。 【解決手段】1分子内に2個以上のエポキシ基を有する
エポキシ樹脂(A)、酸無水物硬化剤(B)、硬化促進
剤(C)、無機充填剤(D)、離型剤(E)を必須成分
とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、無
機充填剤(D)がAl23、SiO2、及びCaOを必
須成分とするガラス粉末で、前記ガラス成分の屈折率と
ガラス以外の成分からなる組成物の硬化物の屈折率との
差が、波長500nm以下、波長300nm以上の範囲
で、±0.01以下であることを特徴とする光半導体封
止用エポキシ樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明性、耐半田性
及び離型性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物
及びその硬化物で封止された光半導体装置に関するのも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年、通信情報機器の小型化、集積密度
の向上及び製造プロセスの簡略化をねらい、半導体産業
において従来の実装方法にかわり、表面実装方法の要求
が急速に高まっている。さらにオプトエレクトロニクス
の分野に着目すると、従来の半導体封止樹脂の機能に加
えて、透明性が非常に重要な要因となっている。すなわ
ち、フォトセンサー、LED、発光素子等のオプトデバ
イスにおいては、表面実装におけるIRリフロー等の実
装方式を行っても、透明性が損なわれることなく、その
上、熱衝撃によるパッケージクラックの発生や、チップ
やリードフレームと樹脂間に剥離を生じず、高い信頼性
のある封止用樹脂が求められている。
【0003】光半導体封止用の樹脂としては、これまで
に数多く示されている。例えば、特許第2970214
号公報では、特定構造のエポキシ樹脂を用いることで耐
熱性と透明性が得られることが示されているが、組み合
わせる硬化剤に酸無水物を用いている。確かに、硬化剤
に酸無水物を用いた場合、高い透明性が得られ、可視光
領域でも高い透過率が得られる。しかしながら、酸無水
物硬化剤型のエポキシ樹脂組成物は、酸無水物基が親水
性が高いため、樹脂組成物の吸水率が高くなり、表面実
装型の光半導体パッケージを、IRリフロー等で実装す
ると、熱衝撃によるパッケージクラックやチップやリー
ドフレームと樹脂間に剥離が多発するという問題があ
る。
【0004】上記の問題点を解決するために、充填剤を
添加することが代表的な手法であることは当業者間では
公知のことである。これは、シリカなどの無機質充填材
を、樹脂組成物中に高い比率で充填することで、封止樹
脂組成物の吸水率、線膨張係数を低下させ、高温時の変
形やクラックなどを抑止できるものであるが、このよう
にして得た樹脂組成物は、シリカ粒子と樹脂の界面で起
こる光の反射や屈折の影響により、樹脂硬化物の光透過
性は極端に低いものとなる。樹脂組成物の硬化物中を光
線が透過する際、樹脂と充填材との界面において反射・
屈折される光線の量は、界面前後での屈折率の差に比例
する事が知られており、一般的なシリカ粒子の屈折率
は、1.4前後であるのに対し、エポキシ樹脂の硬化体
は、1.5前後であり、充填材種を変えない限り、この
点を解消することは難しい。
【0005】これを解消するために、特開平6−654
73号公報では、シリカ以外の充填材として、Si
2、CaOおよびAl23を主成分とするガラス粒子
を、光半導体封止用樹脂組成物の充填材として用いる技
術が述べられている。この技術によれば、各成分の組成
を変化させることや、金属元素類を添加することで、充
填材の屈折率を容易に変化させることができる。しか
し、本発明者らが光半導体封止用樹脂組成物の充填材と
して、該技術によるガラス充填材を用いたところ、確か
に透明性は高くなるが、光半導体封止用樹脂組成物とし
ては、未だ不十分な透明性である。本発明者らは、透明
性が不十分な点は、ガラス充填材自体の光透過率に帰因
すると類推した。また、耐半田性の試験を行ったとこ
ろ、パッケージクラック等の不良が発生した。前述の通
り該充填材を用いることにより、ある程度の透明な硬化
物を得ることは可能であるが、充填材種やその添加量の
みで耐半田性を得ることは難しい。
【0006】さらに、特開平3−296519号公報で
は、充填剤の屈折率に対して、充填剤以外の成分の屈折
率が、ある一定の範囲とする技術が述べられている。こ
の技術によれば、充填剤の屈折率の温度依存性と充填剤
以外の成分の屈折率の温度依存性の相違に着目し、充填
材と充填材以外の成分の屈折率を整合させている。しか
し、この技術によっても光半導体封止用樹脂組成物とし
ては、未だ不十分な透明性である。本発明者らは、屈折
率の温度依存性ではなく、波長依存性に帰因すると類推
した。
【0007】光半導体封止用材料は、可視光を透過する
ことが必須であるが、同時に金型からの離型性も重要な
項目である。離型性を良くするために、成形する毎にフ
ッ素系やシリコーン系などの離型剤を金型に直接噴霧す
る場合があるが、その場合連続成形の生産効率を下げる
ことになる。そこで、これまでに封止材料中に離型剤を
予め添加混合する検討が行われている。従来公知の離型
剤を添加した場合、離型剤の種類によっては、その添加
量を増やすと離型性は向上するが、樹脂硬化物に曇りが
生じ、光透過率が低下する。添加量を減らすと離型性が
悪くなり、金型からパッケージが離型する際に、パッケ
ージにクラックが生じたり、リードフレームの曲がりが
光半導体装置の変形が発生する。すなわち、透明性と離
型性の面で両方の特性を満たす樹脂組成物は未だ開発が
なされていない。
【0008】特許2781279号公報には、特定構造
の化合物を離型剤として、光半導体封止用の材料に予め
添加することが記載されているが、本発明者らが光半導
体封止用の材料に添加したところ、金型からの離型性は
優れるが、樹脂硬化物に曇りが生じ、光半導体封止用樹
脂組成物としては未だ不十分な透明性である。本発明者
らは、この曇りの原因は、離型剤が結晶化して、樹脂硬
化物中に分散しているために透明性が低下していると推
察した。
【0009】また、特開平6−228281号公報に
は、ある種の界面活性剤を樹脂組成物に添加すること
で、光学ムラのない樹脂組成物を得る技術が述べられて
いるが、このような界面活性剤は、物によっては離型性
を向上する目的で使用している離型剤の成分を樹脂に相
溶させ、その離形性を著しく低下させることがある。こ
のように透明性、離型性並びに流動性をも両立させる封
止用エポキシ樹脂組成物を得ることは、かなり難しいの
が現状である。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明性、耐
半田性及び離型性に優れた光半導体封止用エポキシ樹脂
組成物及びその硬化物で封止された光半導体装置を提供
することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、特定の無機充
填剤及び内部離型剤を用い、吸水率を低減し、かつ高い
光透過率とすることにより透明性、耐半田性及び離型性
に優れた樹脂組成物を用いることにより、上記目標を達
成するに至った。
【0012】すなわち、1分子内に2個以上のエポキシ
基を有するエポキシ樹脂(A)、酸無水物硬化剤
(B)、硬化促進剤(C)、無機充填剤(D)、離型剤
(E)を必須成分とする光半導体封止用エポキシ樹脂組
成物において、無機充填剤(D)がAl23、Si
2、及びCaOを必須成分とするガラス粉末で、前記
ガラス成分の屈折率とガラス以外の成分からなる組成物
の硬化物の屈折率との差が、波長500nm以下、波長
300nm以上の範囲で、±0.01以下であることを
特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物、及びそ
の硬化物で封止された光半導体装置である。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明に用いる、1分子内に2個
以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)は、1分
子内に2個以上のエポキシ基を有していれば、何ら制限
されるものではないが、透明性の観点から着色の少ない
エポキシ樹脂を用いることがより好ましい。その具体的
事例は、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹
脂、水素化添加ビスフェノールA型エポキシ樹脂、トリ
グリシジルイソシアヌレートのなどの多官能複素環式エ
ポキシ樹脂、ポリ(エポキシ化シクロヘキセンオキサイ
ド)などの多官能脂環式エポキシ樹脂等が上げられる
が、特にこれらに限定されるものではなく、単独もしく
は2種以上用いても何ら差し支えない。
【0014】樹脂組成物の硬化物の耐半田性、透明性に
ついて着目すると、エポキシ樹脂は1分子内に3個以上
のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であることがより好
ましく、ビスフェノール型のエポキシ樹脂やトリグリシ
ジルイソシアヌレートのなどの多官能複素環式エポキシ
樹脂が好ましく、これらを組み合わせた場合、硬化物の
耐熱性が高くなり、また透明性が向上し、より好まし
い。
【0015】さらに、トリグリシジルイソシアヌレート
などの多官能のエポキシ樹脂を単独で用いる場合、硬化
物は脆くなる場合がある。これらを改善するには、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂に代表されるビスフェノー
ル型のエポキシ樹脂を併用することがより好ましい。ビ
スフェノール型エポキシ樹脂としては、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、
ビスフェノールS型エポキシ樹脂などが例示することが
できる。樹脂組成物の溶融粘度を考慮すると、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂を用いた場合、溶融粘度が低く
なり、低溶融粘度の樹脂組成物は成形時に流動ムラが発
生しない点でより好ましい。一方、色調安定性に着目す
ると、ビスフェノールA型エポキシ樹脂が色調安定性に
優れた分子構造を有しており、より好ましい。これら両
者の特長を兼ね備えたものとして、一般式(1)で表さ
れるエポキシ樹脂を用いれば、低溶融粘度で、色調安定
性に優れるのでより好ましい。さらにnは1以上、5以
下の場合、ハンドリング性、成形性の点でより好まし
い。
【0016】
【化6】 (但し、式中、RはC(CH32またはCH2の両者を
表し、それぞれ少なくとも1個以上有する。nは1以
上、5以下である。)
【0017】さらに透明性に着目すると、波長300n
m以下の短波長域に吸収のある芳香環を分子内に有さな
い脂肪族や複素環式のエポキシ樹脂がより好ましい。こ
こで言う複素環式とは2種以上の原子で形成された環を
有する化合物のことである。中でも、トリグリシジルイ
ソシアヌレートなどが例示できるが、多官能であるトリ
グリシジルイソシアヌレートが硬化物の耐熱性が高くな
り、より好ましい。前述のとおり、トリグリシジルイソ
シアヌレートなどの多官能のエポキシ樹脂を単独で用い
ると、硬化物が脆くなる場合があり、ビスフェノール型
のエポキシ樹脂とトリグリシジルイソシアヌレートなど
の多官能エポキシ樹脂を組み合わせて用いることがより
好ましい。
【0018】本発明に用いる酸無水物硬化剤(B)とし
ては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリッ
ト酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチ
ル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは3−メチル−
ヘキサヒドロ無水フタル酸と4−メチル−ヘキサヒドロ
無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、
無水ナジック酸、無水メチルナジック酸などが例示され
るが、特にこれらに限定されるものではなく、単独もし
くは2種以上用いても差し支えない。ヘキサヒドロ無水
フタル酸と4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸との少
なくとも1つを用いると、透明性の観点で、より好まし
い。さらに、ヘキサヒドロ無水フタル酸と4−メチルヘ
キサヒドロ無水フタル酸の両者を必須すると、より好ま
しい。
【0019】本発明に用いる硬化促進剤(C)として
は、通常、エポキシ樹脂のアニオン硬化に用いられるも
のは、すべて使用可能であるが、例示するならば、イミ
ダゾール類、3級アミン、4級アンモニウム塩、1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7などの
双環式アミジン類とその誘導体、ホスフィン類、ホスホ
ニウム塩類などが一般的であるが、硬化性がよく、着色
がないものであれば、何ら限定されるものではなく、単
独でも2種以上用いても差し支えない。イミダゾール
類、イミダゾール塩類、双環式アミジン類、双環式アミ
ジン類のカルボン酸塩、ホスフィン類及びホスホニウム
塩類は、硬化性、透明性の観点で、より好ましい。
【0020】中でもイミダゾール類が好ましく、特に、
2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイ
ミダゾールは、少量の添加量でもエポキシ樹脂に対して
高い活性を示す。光半導体の封止の際は、180℃とい
った高温で成形すると着色するおそれがあるので、15
0℃程度の比較的低い硬化温度で成形すると良い。
【0021】本発明に用いる無機充填剤(D)は、Al
23、SiO2、及びCaOを必須成分とするガラス粉
末であり、ガラス成分の屈折率とガラス以外の成分から
なる樹脂組成物の硬化物の屈折率との差が、波長500
nm以下、波長300nm以上の範囲で±0.01以下
である。屈折率差が±0.01を越えると、無機充填剤
の表面で光の散乱損失が生じ、透明性を下げる。一方、
ガラス成分とガラス以外の成分からなる樹脂組成物の屈
折率は波長によって変化することは当業者間では公知で
ある。前述の特開平3−296519号公報に記載の技
術のように、ナトリウムD線を用いた波長589nmで
屈折率を±0.01以下としても、ガラス成分の波長に
対する屈折率の変化、すなわち屈折率の波長依存性は小
さいが、ガラス以外の成分からなる樹脂組成物のそれは
大きい。ガラスの屈折率としては、前記3成分の成分比
を調整することで、屈折率を変化させることができ、例
えば、Al23:SiO2:CaO=15〜20重量パ
ーセント:55〜60重量パーセント:20〜25重量
パーセントとし、それぞれの合計が100となるように
調整すると屈折率が1.56近傍の値となる。また、ガ
ラスには消泡剤などの添加剤が添加されていても良い。
【0022】ここで、ガラス成分とガラス以外の成分か
らなる樹脂組成物の屈折率について、それぞれの波長に
対する影響を示すと、Al23:SiO2:CaO=1
5重量パーセント:55重量パーセント:25重量パー
セントを主成分とするガラスは、波長589nmで1.
554、波長550nmで1.556、波長450nm
で1.563であるのに対し、ガラス以外の成分からな
る樹脂組成物は波長589nmで1.554、波長55
0nmで1.558、波長450nmで1.570とよ
り低波長での屈折率が高くなる。よって、ガラス成分と
ガラス以外の成分からなる樹脂組成物の屈折率を589
nmで±0.01以下に合わせても、波長350nmや
400nmでは、±0.01以上となって透明性が低下
する。樹脂組成物の光の散乱損失は波長800nmとい
った長波長に比べて、低波長の400nmや500nm
で散乱損失が大きくなる。さらに波長350nmといっ
た紫外光領域では特に散乱損失が大きい。従って、より
低波長側で光の損失を少なくすると、長波長では散乱損
失の影響が少なく、大幅な透明性の低下が少なくなる。
【0023】さらに、高い透明性を得るためには、無機
充填剤が球状であり、平均粒径が5μm以上、100μ
m以下であることがより好ましい。形状を球状とするこ
とにより、比表面積が最小になり、光の散乱損失が小さ
く抑えることができる。また、平均粒径が5μm未満の
場合、ガラス粉末が凝集して透明性を低下する。一方、
平均粒径が100μmを越える場合、成形時の成形不良
が生じる。成形不良とは金型のゲート部で樹脂詰まりが
おこり、未充填となることなどである。ここで無機充填
剤の粒径測定には、公知の方法を用いればよいが、レー
ザー光散乱法で粒子の体積粒径分布を測定し、粒子の真
密度の値を用いて重量粒径分布に換算する方法を用いる
のが好適である。
【0024】さらに、樹脂組成物の高い透明性を得るた
めにガラス粉末の波長400nmの光透過率が80%以
上であることが好ましい。光透過率の測定は、分光光度
計等の光透過率を測定できる装置であれば何ら制限され
るものではない。分光光度計としては島津自記分光光度
計UV−3100(積分球装置設置型)で測定すること
が簡便でより好ましい。測定サンプルは、ガラスの塊状
のものを用いれば良く、例えば、10×30×1mmの
直方体の板を作り、表面を平滑にして1mmの厚みで測
定すればよい。ガラスの波長400nmの光透過率が8
0%未満の場合、エポキシ樹脂組成物に配合しても高い
透明性を得ることができない恐れがある。ガラスの波長
400nmの光透過率が80%以上となるガラスとして
は、ガラスの製造工程中に脱泡する工程を加えること
や、ガラスの溶融時に空気や窒素などのガスを吹き込ん
でバブリングすることで、ガラス内部の気泡が減らすこ
とができ、光透過率が80%以上となるガラスを得るこ
とができる。
【0025】無機充填剤の配合量は、全エポキシ樹脂組
成物中に5重量パーセント以上、70重量パーセント以
下であることがより好ましい。配合量が、5重量パーセ
ント未満の場合、吸水率の低減効果が僅かであり、耐半
田性が向上しない場合がある。一方、70重量パーセン
トを超える場合、成形時の成形不良が生じる場合があ
る。
【0026】本発明で用いる離型剤(E)は、一般式
(2)で表される化合物である。
【化7】 (但し、式中、kの値が30〜70であり、mの値は1
〜5であり、nの値は15〜45である。R1、R2は水
素原子もしくは一価のアルキル基であり、少なくとも一
方が一価のアルキル基である。)
【0027】一般式(2)で表される化合物は、1分子
内にエポキシ樹脂に相溶する性質と相溶しない性質の両
者の性質を有しているため、従来の離型剤とは異なり、
透明性と離型性を両立することができる。さらに、相溶
する性質を有する構造である、ポリエーテル構造は非結
晶の構造を有しており、エポキシ樹脂組成物と混合して
も、樹脂硬化物中で離型剤が結晶化することがない。
【0028】離型剤(E)は、全エポキシ樹脂組成物中
に0.01重量パーセント以上、5重量パーセント以下
の割合で配合されていることが、より好ましく、0.0
1重量パーセントを下まわるとパッケージの離型性が悪
く、また、5重量パーセントを越えると樹脂硬化物に曇
りが生じ、透明性が低下する。非晶性の面で、一般式
(2)中のR1、R2の少なくも一つはメチル基であるこ
とがより好ましい。離型剤(E)は当業者間では公知の
技術によって合成することができる。
【0029】本発明で高い透明性と耐半田性を得るため
に重要な点は、エポキシ樹脂組成物の硬化物の吸水率と
光透過率である。本発明者らは耐半田性は樹脂組成物の
硬化物の吸水率に大きく起因することを見出した。すな
わち、試験方法として、試験片の大きさは直径50m
m、厚み3mmの円板状の試験片を、85℃、湿度85
%に設定した高温高湿槽に168時間投入した。そし
て、吸湿処理前後の硬化物の重量変化率から算出した吸
水率が2.0%以下であれば、耐半田性の試験で剥離や
クラックといった不良が発生しないことが判明した。吸
水率が2.0%を越えると、樹脂自体の膨潤や界面の劣
化から、耐半田性の試験で剥離が生じたり、クラックが
発生する。
【0030】また、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化
物の光透過率は、光半導体装置の光学特性に大きく帰因
することを見出した。すなわち、光透過率の測定は、エ
ポキシ樹脂組成物の硬化物を10×30×1mmの板状
にし、表面を平滑にして1mmの厚みで測定する。測定
装置としては島津自記分光光度計UV−3100(積分
球装置設置型)を用いれば良く、波長400nmの光透
過率を測定する。光透過率が80%以上であれば、光半
導体装置の光学特性で良好な結果が得られることが判明
した。光透過率が80%より低いと、光半導体装置の光
学特性が低下し好ましくない。
【0031】本発明の光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物には、上記成分以外に、必要に応じて、従来公知の他
のエポキシ樹脂、酸化防止剤、離型剤、カップリング
剤、充填剤等の当業者にて公知の添加剤、副資材を組み
合わせることは何らさしつかえない。
【0032】本発明の光半導体封止用エポキシ樹脂組成
物は、上記の各成分を適宜配合するが、例えば、エポキ
シ樹脂と硬化剤の当量比、すなわち、エポキシ樹脂のエ
ポキシ基と酸無水物硬化剤の酸無水物基のモル比を、
0.8〜1.4、より好ましくは1.0〜1.2とし、
エポキシ樹脂および硬化剤の総重量を100重量部とし
た時、硬化促進剤の添加量は0.5〜2重量部が好まし
い。成分(A)、(B)、(C)の合計が樹脂組成物に
25重量パーセントから94.99重量パーセントの範
囲で含まれていることがより好ましい。
【0033】本発明の樹脂組成物は、(A)〜(E)成
分、及びその他の添加剤を、ミキサー等を用いて混合
後、加熱ニーダや加熱ロール、押し出し機等を用いて加
熱混練し、続いて冷却、粉砕することで得られる。ま
た、(A)、(B)成分を予め反応釜等で加熱混合し、
Bステージ状態の樹脂組成物を得た後に、冷却、粉砕し
て、さらに残りの成分やその他の添加剤と共に、ミキサ
ー等を用いて混合し、加熱ニーダや加熱ロール、押し出
し機等を用いて加熱混練し、続いて、冷却、粉砕するこ
とで得られる。
【0034】このようにして得られた光半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物を用いての封止は、一般的な方法でで
きるが、例えば、トランスファー成形法等により、光半
導体素子を封止して、エポキシ樹脂組成物の硬化物で封
止された光半導体装置を得ることができる。
【0035】
【実施例】以下に、本発明について更に詳細に説明する
ため実施例を示すが、これらに本発明が限定されるもの
ではない。
【0036】(実施例1〜8、比較例1〜6)(A)〜
(E)成分に相当する成分、及び各種添加剤等を、表
1、2に示した配合割合で、混合し、2本ロールを用い
て、50〜90℃で5分間混練し、得られた混練物シー
トを、冷却後粉砕して、樹脂組成物を得た。この樹脂組
成物を、低圧トランスファー成形機を用いて、金型温度
150℃、注入圧力6.86×106Pa、硬化時間2
分の条件で、各試験で用いる試験片を作製した。但し、
流動性及び耐半田性の評価においては下記に示す成形条
件で行った。評価方法は以下の通り。結果は表1、2に
まとめて示す。
【0037】(吸水率の評価)直径50mm、厚み3m
mの円板状の試験片を作製し、85℃、湿度85%に設
定した高温高湿槽に放置し、168時間後の重量変化率
を吸水率として測定した。
【0038】(光透過率の測定)10×30×1mmの
試験片を作製し、分光光度計(島津製作所製自記分光光
度計UV−3100)を用いて、1mm厚さで400n
mの光透過率を測定した。
【0039】(流動性の評価)成形前の樹脂組成物を、
EMMI−I−66に準じたスパイラルフロー測定用の
金型を用い、成形温度150℃、注入圧力6.86×1
6Pa、硬化時間5分の条件で測定した。この際、充
填長さが60cm以上得られたものを流動性○、そうで
ないものを×とした。
【0040】(ガラス転移温度の測定)10×5×5m
mの試験片を作製し、熱膨張計(セイコー電子社TM
A120)を用い、5℃/minの昇温速度で昇温して
測定し、試験片の伸び率が急激に変化する温度とした。
【0041】(離型性の評価)表面実装用パッケージ
(12ピン、4×5mm、厚み1.2mm、チップサイ
ズは1.5mm×2.0mm、リードフレームは42ア
ロイ製)を、金型温度175℃、注入圧力6.86x1
6Pa、硬化時間2分でトランスファー成形した。評
価はパッケージがイジェクトピンによって金型から離型
する場合を○、パッケージの変形やクラックが発生する
場合を×とした。
【0042】(耐半田性の評価)表面実装用パッケージ
(12ピン、4×5mm、厚み1.2mm、チップサイ
ズは1.5mm×2.0mm、リードフレームは42ア
ロイ製)を、金型温度175℃、注入圧力6.86x1
6Pa、硬化時間2分でトランスファー成形し、15
0℃、2時間後硬化させた。得られた光半導体パッケー
ジを、85℃、相対湿度60%の環境下で、168時間
放置し、その後240℃のIRリフロー処理を行った。
処理したパッケージを顕微鏡及び超音波探傷装置でクラ
ック、チップと樹脂との剥離の有無を見た。
【0043】
【表1】
【0044】表1中、注1:油化シェルエポキシ製ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量475)、
注2:日本化薬製オルソクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(エポキシ当量215)、 注3:三井化学製
ビスフェノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量950、
一般式(1)で表されるエポキシ樹脂で、R=C(CH
32が70%、CH2が30%含み、n=4)、 注
4:日産化学製トリグリシジルイソシアヌレート(エポ
キシ当量101)、 注5:ダイセル化学製脂肪族環状
エポキシ樹脂(エポキシ当量132)、 注6:新日本
理化製ヘキサヒドロ無水フタル酸とメチルヘキサヒドロ
無水フタル酸との混合物(酸無水物当量164)、 注
7:新日本理化製テトラヒドロ無水フタル酸(酸無水物
当量152)、 注8:サンアプロ製ジアザビシクロウ
ンデセン、 注9:四国化成製イミダゾール類、 注1
0:住友化学製フェノール系酸化防止剤、 注11:住
友化学製りん系酸化防止剤 注12:日本ユニカー製シ
ラン系カップリング剤、 注13:一般式(2)で表さ
れる離型剤である化合物A、k=48、m=2、n=2
1、R1=H、R2=CH3、k=48に相当するアルコ
ールとプロピレンオキサイドおよびエチレンオキサイド
を付加させて合成した。 注14:一般式(2)で表さ
れる離型剤である化合物B、k=54、m=4、n=1
8、R1=H、R2=CH3CH2CH2、k=54に相当
するアルコールを用い注13と同様にして合成した。
注15:離型剤、注16:波長450nmにおける屈折
率1.578に調整した球状ガラス(組成比Al23
SiO2:CaO:シリコーン系消泡剤=18:56:
23:3の調整品)、 注17:波長450nmにおけ
る屈折率1.572に調整した球状ガラス(組成比Al
23:SiO2:CaO:シリコーン系消泡剤=14:
60:24:2の調整品)、 注18:波長450nm
における屈折率1.580に調整した球状ガラス(組成
比Al23:SiO2:CaO:シリコーン系消泡剤=
18:57:23:2の調整品)、 注19:篩を用い
て、平均粒径を調整した。 注20:試験片形状35×
15×1mm、注21:無機充填剤の屈折率より、充填
材以外の成分の屈折率を引いた値、注22:試験片35
×15×1mmを用い、アッベ屈折率計で測定した。
注23:試験片35×15×1mmを用い、アッベ屈折
率計で測定した。
【0045】
【表2】
【0046】表2中、注1:油化シェルエポキシ製ビス
フェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量475)、
注2:日本化薬製オルソクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂(エポキシ当量215)、 注3:三井化学製
ビスフェノール型エポキシ樹脂(エポキシ当量950、
一般式(1)で表されるエポキシ樹脂で、R=C(CH
32が70%、CH2が30%含み、n=4)、 注
4:日産化学製トリグリシジルイソシアヌレート(エポ
キシ当量101)、 注5:ダイセル化学製脂肪族環状
エポキシ樹脂(エポキシ当量132)、 注6:新日本
理化製ヘキサヒドロ無水フタル酸とメチルヘキサヒドロ
無水フタル酸との混合物(酸無水物当量164)、 注
7:水酸基当量103、軟化点95℃のフェノールノボ
ラック樹脂、注8:サンアプロ製ジアザビシクロウンデ
セン、 注9:四国化成製イミダゾール類、 注10:
住友化学製フェノール系酸化防止剤、 注11:住友化
学製りん系酸化防止剤 注12:日本ユニカー製シラン
系カップリング剤、 注13:一般式(2)で表される
離型剤である化合物A、k=48、m=2、n=21、
1=H、R2=CH3、 注14:一般式(2)で表さ
れる離型剤である化合物B、k=54、m=4、n=1
8、R1=H、R2=CH3CH2CH2、 注15:離型
剤、注16:波長450nmにおける屈折率1.578
に調整した球状ガラス(組成比Al23:SiO2:C
aO:シリコーン系消泡剤=18:56:23:3の調
整品)、 注17:波長450nmにおける屈折率1.
542に調整した球状ガラス(組成比Al23:SiO
2:CaO:シリコーン系消泡剤=19:58:21:
2の調整品)、 注18:波長450nm屈折率1.4
42の破砕状結晶シリカ、 注19:篩を用いて、平均
粒径を調整した。 注20:試験片形状35×15×1
mm、 注21:無機充填剤の屈折率より、充填材以外
の成分の屈折率を引いた値、 注22:試験片35×1
5×1mmを用い、アッベ屈折率計で測定した。 注2
3:試験片35×15×1mmを用い、アッベ屈折率計
で測定した。 注24:金型のゲート詰まりが発生し、
成形不良となった。
【0047】表の結果から明らかなように、本発明の樹
脂組成物は透明性、離型性に優れ、良好な耐半田性を有
していることがわかる。
【0048】
【発明の効果】本発明の製造方法によって得られた光半
導体封止用エポキシ樹脂組成物は、透明性、耐半田性及
び離型性に優れており、高い信頼性を有したオプトデバ
イスを提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/29 (C08L 63/00 Z 23/31 71:02) //(C08L 63/00 H01L 23/30 F 71:02) Fターム(参考) 4J002 CD021 CD051 CD061 CD071 CD141 CH012 DL008 EL136 EL146 EU007 EU117 EW017 EW177 FD018 FD146 FD157 GQ03 4J036 AB17 AD08 DA02 DA05 DB15 DC38 DC40 FA05 FA06 FB12 JA07 4M109 AA01 EA03 EB02 EB09 EB12 EC05 EC11

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】1分子内に2個以上のエポキシ基を有する
    エポキシ樹脂(A)、酸無水物硬化剤(B)、硬化促進
    剤(C)、無機充填剤(D)、離型剤(E)を必須成分
    とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、無
    機充填剤(D)がAl23、SiO2、及びCaOを必
    須成分とするガラス粉末で、前記ガラス成分の屈折率と
    ガラス以外の成分からなる組成物の硬化物の屈折率との
    差が、波長500nm以下、波長300nm以上の範囲
    で、±0.01以下であることを特徴とする光半導体封
    止用エポキシ樹脂組成物。
  2. 【請求項2】1分子内に2個以上のエポキシ基を有する
    エポキシ樹脂(A)が、ビスフェノール型エポキシ樹脂
    及び複素環式エポキシ樹脂からなる群より少なくとも1
    つ選ばれてなることを特徴とする請求項1記載の光半導
    体封止用エポキシ樹脂組成物。
  3. 【請求項3】ビスフェノール型エポキシ樹脂が、一般式
    (1)で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする
    請求項2記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 (但し、式中、RはC(CH32またはCH2の両者を
    表し、それぞれ少なくとも1個以上有する。nは1以
    上、5以下である。)
  4. 【請求項4】複素環式エポキシ樹脂が、トリグリシジル
    イソシアヌレートであることを特徴とする請求項2記載
    の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  5. 【請求項5】1分子内に2個以上のエポキシ基を有する
    エポキシ樹脂(A)が、一般式(1)で表されるエポキ
    シ樹脂、及びトリグリシジルイソシアヌレートを必須と
    することを特徴とする請求項1記載の光半導体封止用エ
    ポキシ樹脂組成物。 【化2】 (但し、式中、RはC(CH32またはCH2の両者を
    表し、それぞれ少なくとも1個以上有する。nは1以
    上、5以下である。)
  6. 【請求項6】酸無水物硬化剤(B)が、ヘキサヒドロ無
    水フタル酸及び4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸か
    らなる群より少なくとも1つ選ばれてなることを特徴と
    する請求項1記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成
    物。
  7. 【請求項7】硬化促進剤(C)が、イミダゾール類、イ
    ミダゾール塩類、双環式アミジン類、双環式アミジン類
    のカルボン酸類、ホスフィン類及びホスホニウム塩類か
    らなる群より少なくとも1つ選ばれるてなることを特徴
    とする請求項1記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成
    物。
  8. 【請求項8】硬化促進剤(C)が、イミダゾール類であ
    ることを特徴とする請求項7記載の光半導体封止用エポ
    キシ樹脂組成物。
  9. 【請求項9】無機充填剤(D)が、5μm以上、100
    μm以下の平均粒径を有し、全エポキシ樹脂組成物中に
    5重量パーセント以上、70重量パーセント以下の割合
    で配合されてなることを特徴とする請求項1記載の光半
    導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  10. 【請求項10】無機充填剤(D)が、波長400nmの
    光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項9
    記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  11. 【請求項11】離型剤(E)が、一般式(2)で表され
    る化合物であることを特徴とする請求項1記載の光半導
    体封止用エポキシ樹脂組成物。 【化3】 (但し、式中、kの値は、40〜60であり、mの値は
    1〜5であり、nの値は15〜45である。R1、R2
    水素原子もしくは一価のアルキル基であり、少なくとも
    一方が一価のアルキル基である。)
  12. 【請求項12】離型剤(E)が、全エポキシ樹脂組成物
    中に0.01重量パーセント以上、5重量パーセント以
    下の割合で配合されてなることを特徴とする請求項11
    記載の光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
  13. 【請求項13】1分子内に2個以上のエポキシ基を有す
    るエポキシ樹脂(A)が、一般式(1)で表されるエポ
    キシ樹脂、及びトリグリシジルイソシアヌレートであっ
    て、酸無水物硬化剤(B)が、ヘキサヒドロ無水フタル
    酸と4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸であって、硬
    化促進剤(C)が、イミダゾール類であって、離型剤
    (E)が、一般式(2)で表される化合物であることを
    特徴とする請求項1記載の光半導体封止用エポキシ樹脂
    組成物。 【化4】 (但し、式中、RはC(CH32またはCH2の両者を
    表し、それぞれ少なくとも1個以上有する。nは1以
    上、5以下である。) 【化5】 (但し、式中、kの値は40〜60であり、mの値は1
    〜5であり、nの値は15〜45である。R1、R2は水
    素原子もしくは一価のアルキル基であり、少なくとも一
    方が一価のアルキル基である。)
  14. 【請求項14】請求項1〜13のいずれかに記載の光半
    導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物で封止された光
    半導体装置。
  15. 【請求項15】光半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬
    化物が、2.0パーセント以下の吸水率、及び80パー
    セント以上の波長400nmの光透過率を有することを
    特徴とする請求項14記載の光半導体装置。
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