JP2002228359A - ハニカム構造体の乾燥方法 - Google Patents
ハニカム構造体の乾燥方法Info
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/32—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action
- F26B3/34—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by development of heat within the materials or objects to be dried, e.g. by fermentation or other microbiological action by using electrical effects
- F26B3/347—Electromagnetic heating, e.g. induction heating or heating using microwave energy
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- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
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Abstract
(57)【要約】
【課題】薄壁のハニカム構造体を乾燥しても、乾燥時に
リブよれ等の欠陥の発生しないハニカム構造体の乾燥方
法を提供する。 【解決手段】蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、誘電
乾燥装置中でハニカム構造体を移動させて誘電乾燥する
乾燥方法において、ハニカム構造体１の周囲を、一定の
間隔をあけてシート５により覆い、その状態で誘電乾燥
する。
リブよれ等の欠陥の発生しないハニカム構造体の乾燥方
法を提供する。 【解決手段】蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、誘電
乾燥装置中でハニカム構造体を移動させて誘電乾燥する
乾燥方法において、ハニカム構造体１の周囲を、一定の
間隔をあけてシート５により覆い、その状態で誘電乾燥
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、蒸気を誘電乾燥装
置に流した状態で、誘電乾燥装置中でハニカム構造体を
移動させて誘電乾燥するハニカム構造体の乾燥方法に関
するものである。
置に流した状態で、誘電乾燥装置中でハニカム構造体を
移動させて誘電乾燥するハニカム構造体の乾燥方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、水分を含む坏土から成形したハニ
カム構造体を乾燥する際、誘電乾燥装置を用いた誘電乾
燥を行っていた。具体的には、キャリヤ上にハニカム構
造体の端部を下にしてセットし、周囲の外壁の切れを防
止するために蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、キャ
リヤを移動させることで、誘電乾燥装置中でハニカム構
造体を移動させて誘電乾燥を実施していた。
カム構造体を乾燥する際、誘電乾燥装置を用いた誘電乾
燥を行っていた。具体的には、キャリヤ上にハニカム構
造体の端部を下にしてセットし、周囲の外壁の切れを防
止するために蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、キャ
リヤを移動させることで、誘電乾燥装置中でハニカム構
造体を移動させて誘電乾燥を実施していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の誘電乾
燥を利用したハニカム構造体の乾燥方法は、従来作製さ
れてきたある程度リブの厚さの厚いハニカム構造体、ま
たサイズ（外径、長さ）の小さいものを欠陥なく乾燥さ
せるためには十分な技術であった。しかしながら、近年
要望の高いリブの厚さが例えば２ミル以下の薄壁ハニカ
ム構造体を乾燥させた場合、図２および図３にその一例
を示すように、ハニカム構造体の端部においてリブ真っ
直ぐに形成できないいわゆるリブよれの欠陥が多発して
いた。このようにリブよれによる欠陥があると構造体と
しての強度が低下し製品として成り立たないため、リブ
よれの発生を防止する技術の開発が望まれていた。
燥を利用したハニカム構造体の乾燥方法は、従来作製さ
れてきたある程度リブの厚さの厚いハニカム構造体、ま
たサイズ（外径、長さ）の小さいものを欠陥なく乾燥さ
せるためには十分な技術であった。しかしながら、近年
要望の高いリブの厚さが例えば２ミル以下の薄壁ハニカ
ム構造体を乾燥させた場合、図２および図３にその一例
を示すように、ハニカム構造体の端部においてリブ真っ
直ぐに形成できないいわゆるリブよれの欠陥が多発して
いた。このようにリブよれによる欠陥があると構造体と
しての強度が低下し製品として成り立たないため、リブ
よれの発生を防止する技術の開発が望まれていた。
【０００４】本発明の目的は上述した課題を解消して、
薄壁のハニカム構造体を乾燥しても、乾燥時にリブよれ
等の欠陥の発生しないハニカム構造体の乾燥方法を提供
しようとするものである。
薄壁のハニカム構造体を乾燥しても、乾燥時にリブよれ
等の欠陥の発生しないハニカム構造体の乾燥方法を提供
しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のハニカム構造体
の乾燥方法は、蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、誘
電乾燥装置中でハニカム構造体を移動させて誘電乾燥す
る乾燥方法において、ハニカム構造体の周囲を、一定の
間隔をあけてシートにより覆い、その状態で誘電乾燥す
ることを特徴とするものである。
の乾燥方法は、蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、誘
電乾燥装置中でハニカム構造体を移動させて誘電乾燥す
る乾燥方法において、ハニカム構造体の周囲を、一定の
間隔をあけてシートにより覆い、その状態で誘電乾燥す
ることを特徴とするものである。
【０００６】本発明では、誘電乾燥時に、ハニカム構造
体の周囲を、一定の間隔をあけてシートにより覆うこと
で、ハニカム構造体の外壁周辺の湿度を高くできるとと
もに、誘電乾燥装置内を流れる風が直接外壁にあたるこ
とがない。そのため、外壁の乾燥を遅らせることがで
き、ハニカム構造体の外壁と内部との乾燥速度をほぼ同
じにすることで乾燥のバランスをとることができるた
め、乾燥時のセルよれ等の欠陥発生を防止することがで
きる。
体の周囲を、一定の間隔をあけてシートにより覆うこと
で、ハニカム構造体の外壁周辺の湿度を高くできるとと
もに、誘電乾燥装置内を流れる風が直接外壁にあたるこ
とがない。そのため、外壁の乾燥を遅らせることがで
き、ハニカム構造体の外壁と内部との乾燥速度をほぼ同
じにすることで乾燥のバランスをとることができるた
め、乾燥時のセルよれ等の欠陥発生を防止することがで
きる。
【０００７】本発明の好適な具体例として、シートとし
てテフロンシートを用いること、誘電乾燥装置のキャリ
ヤ上において、ハニカム構造体の両端部に直接補助電極
をセットして誘電乾燥すること、ハニカム構造体とシー
トとの間隔を２０〜３０ｍｍとすることは、いずれの場
合も本発明のセルよれ防止をより効果的に実施できるた
め好ましい。
てテフロンシートを用いること、誘電乾燥装置のキャリ
ヤ上において、ハニカム構造体の両端部に直接補助電極
をセットして誘電乾燥すること、ハニカム構造体とシー
トとの間隔を２０〜３０ｍｍとすることは、いずれの場
合も本発明のセルよれ防止をより効果的に実施できるた
め好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明のハニカム構造体の
乾燥方法の一例を説明するための図である。図１に示す
例では、誘電乾燥装置内のハニカム構造体の近辺の状態
のみを示している。図１に示す例において、１はハニカ
ム構造体、２はハニカム構造体１の端部をその上にセッ
トするための、図示しない搬送装置により誘電乾燥装置
内を移動可能に構成したキャリヤである。その他本例で
は、ハニカム構造体１の下端面とキャリヤ２との間に下
補助電極３を設けるとともに、ハニカム構造体１の上端
面には上補助電極４を設けている。
乾燥方法の一例を説明するための図である。図１に示す
例では、誘電乾燥装置内のハニカム構造体の近辺の状態
のみを示している。図１に示す例において、１はハニカ
ム構造体、２はハニカム構造体１の端部をその上にセッ
トするための、図示しない搬送装置により誘電乾燥装置
内を移動可能に構成したキャリヤである。その他本例で
は、ハニカム構造体１の下端面とキャリヤ２との間に下
補助電極３を設けるとともに、ハニカム構造体１の上端
面には上補助電極４を設けている。
【０００９】本発明の乾燥方法の対象となるハニカム構
造体１は、例えばコーディエライト等のセラミックスの
坏土から口金を使用して押出成形したものとなる。坏土
は水分を多く含むため、焼成の前に乾燥することで、ハ
ニカム構造体の焼成が可能となるよう水分調整を行って
いる。また、図１に示す例では、断面が円形形状のハニ
カム構造体１を示したが、その他断面がレーストラック
形状、楕円形状等のハニカム構造体１も対象となる。形
状に関しては、むしろ断面が円形形状以外のその他の断
面形状のハニカム構造体１の方がリブよれが発生し易い
ため、本発明をより効果的に適用することができる。さ
らに、図示していないが、蒸気を誘電乾燥装置内に流し
ている。
造体１は、例えばコーディエライト等のセラミックスの
坏土から口金を使用して押出成形したものとなる。坏土
は水分を多く含むため、焼成の前に乾燥することで、ハ
ニカム構造体の焼成が可能となるよう水分調整を行って
いる。また、図１に示す例では、断面が円形形状のハニ
カム構造体１を示したが、その他断面がレーストラック
形状、楕円形状等のハニカム構造体１も対象となる。形
状に関しては、むしろ断面が円形形状以外のその他の断
面形状のハニカム構造体１の方がリブよれが発生し易い
ため、本発明をより効果的に適用することができる。さ
らに、図示していないが、蒸気を誘電乾燥装置内に流し
ている。
【００１０】本発明のハニカム構造体の乾燥方法におけ
る特徴は、ハニカム構造体１の周囲を、一定の間隔をあ
けてシート５により覆い、その状態で誘電乾燥している
点である。シート５としては、乾燥時の温度が１００℃
前後となるため、それに耐える耐熱性を有するものであ
ればどのような材質のシートでも使用できるが、好まし
くはテフロン（ポリテトラフルオロエチレンの商品名）
製のシートを用いる。テフロン製のシート５は、誘電率
が低く自己発熱しにくく、そのような耐熱性を十分に有
するため好ましい。また、シートを選んだ理由はどんな
ハニカム形状にもフレキシブルに対応できるためであ
る。
る特徴は、ハニカム構造体１の周囲を、一定の間隔をあ
けてシート５により覆い、その状態で誘電乾燥している
点である。シート５としては、乾燥時の温度が１００℃
前後となるため、それに耐える耐熱性を有するものであ
ればどのような材質のシートでも使用できるが、好まし
くはテフロン（ポリテトラフルオロエチレンの商品名）
製のシートを用いる。テフロン製のシート５は、誘電率
が低く自己発熱しにくく、そのような耐熱性を十分に有
するため好ましい。また、シートを選んだ理由はどんな
ハニカム形状にもフレキシブルに対応できるためであ
る。
【００１１】ハニカム構造体１とシート５との間隔は、
ハニカム構造体１の大きさにより好ましい範囲が変化す
るため特に限定しないが、通常良く利用される直径が１
００〜１５０ｍｍのハニカム構造体１では、２０〜３０
ｍｍとすることで両者の間にある程度のスペース６を形
成し、このスペース６によりハニカム構造体１の外壁周
辺の湿度を高くすることが好ましい。また、図１に示す
例では、ハニカム構造体１の両端に下補助電極３と上補
助電極４とを設け、誘電乾燥の効率を装置に備えてある
電極だけの場合と比べて良くしようとしているが、もち
ろん下補助電極３、上補助電極４を設けずに誘電乾燥を
する例でも、本発明を効果的に適用することはできる。
ハニカム構造体１の大きさにより好ましい範囲が変化す
るため特に限定しないが、通常良く利用される直径が１
００〜１５０ｍｍのハニカム構造体１では、２０〜３０
ｍｍとすることで両者の間にある程度のスペース６を形
成し、このスペース６によりハニカム構造体１の外壁周
辺の湿度を高くすることが好ましい。また、図１に示す
例では、ハニカム構造体１の両端に下補助電極３と上補
助電極４とを設け、誘電乾燥の効率を装置に備えてある
電極だけの場合と比べて良くしようとしているが、もち
ろん下補助電極３、上補助電極４を設けずに誘電乾燥を
する例でも、本発明を効果的に適用することはできる。
【００１２】図１に示す例において、実際の誘電乾燥は
以下のようにして行うことができる。まず、キャリヤ２
上の下補助電極３上に、成形後のハニカム構造体１をセ
ットする。次に、ハニカム構造体１の周囲に一定の間隔
をおいてシート５を覆う。次に、ハニカム構造体１の上
端面に上補助電極４を載せる。この際シート５の高さは
上補助電極４を載せる際の邪魔にならないよう、ハニカ
ム構造体１の高さと同等あるいは若干低く設定すること
が好ましい。この状態で、キャリヤ２を移動させてハニ
カム構造体１を蒸気が流れている誘電乾燥装置内を移動
させることで、誘電乾燥を行うことができる。
以下のようにして行うことができる。まず、キャリヤ２
上の下補助電極３上に、成形後のハニカム構造体１をセ
ットする。次に、ハニカム構造体１の周囲に一定の間隔
をおいてシート５を覆う。次に、ハニカム構造体１の上
端面に上補助電極４を載せる。この際シート５の高さは
上補助電極４を載せる際の邪魔にならないよう、ハニカ
ム構造体１の高さと同等あるいは若干低く設定すること
が好ましい。この状態で、キャリヤ２を移動させてハニ
カム構造体１を蒸気が流れている誘電乾燥装置内を移動
させることで、誘電乾燥を行うことができる。
【００１３】本発明では、誘電乾燥中、ハニカム構造体
１の外壁とシート５との間にスペース６が形成され、こ
のスペース６中にはハニカム構造体１の乾燥に伴い高い
湿度の雰囲気が維持され、スペース６中の雰囲気は誘電
乾燥装置の内部雰囲気と同等または内部雰囲気よりも高
い湿度を維持することができる。そのため、ハニカム構
造体１の外壁近辺の乾燥速度をシート５が存在しない場
合と比べて遅くすることができる。また、誘電乾燥装置
内を風が流れているが、その流れている風はシート５で
遮られ直接ハニカム構造体１の外壁へは接触しない。そ
の結果、ハニカム構造体１の外壁と内部との乾燥速度を
ほぼ同じにすることができる。
１の外壁とシート５との間にスペース６が形成され、こ
のスペース６中にはハニカム構造体１の乾燥に伴い高い
湿度の雰囲気が維持され、スペース６中の雰囲気は誘電
乾燥装置の内部雰囲気と同等または内部雰囲気よりも高
い湿度を維持することができる。そのため、ハニカム構
造体１の外壁近辺の乾燥速度をシート５が存在しない場
合と比べて遅くすることができる。また、誘電乾燥装置
内を風が流れているが、その流れている風はシート５で
遮られ直接ハニカム構造体１の外壁へは接触しない。そ
の結果、ハニカム構造体１の外壁と内部との乾燥速度を
ほぼ同じにすることができる。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、誘電乾燥時に、ハニカム構造体の周囲を、一
定の間隔をあけてシートにより覆っているため、ハニカ
ム構造体の外壁周辺の湿度を高くできるとともに、誘電
乾燥装置内を流れている風が直接外壁にあたることがな
い。そのため、外壁の乾燥を遅らせることができ、ハニ
カム構造体の外壁と内部との乾燥速度をほぼ同じにする
ことで乾燥のバランスをとることができるため、乾燥時
のセルよれ等の欠陥発生を防止することができる。
によれば、誘電乾燥時に、ハニカム構造体の周囲を、一
定の間隔をあけてシートにより覆っているため、ハニカ
ム構造体の外壁周辺の湿度を高くできるとともに、誘電
乾燥装置内を流れている風が直接外壁にあたることがな
い。そのため、外壁の乾燥を遅らせることができ、ハニ
カム構造体の外壁と内部との乾燥速度をほぼ同じにする
ことで乾燥のバランスをとることができるため、乾燥時
のセルよれ等の欠陥発生を防止することができる。
【図１】本発明のハニカム構造体の乾燥方法の一例を説
明するための図である。
明するための図である。
【図２】従来のハニカム構造体の乾燥方法における欠陥
の一例を説明するための図である。
の一例を説明するための図である。
【図３】従来のハニカム構造体の乾燥方法における欠陥
の他の例を説明するための図である。
の他の例を説明するための図である。
１ ハニカム構造体、２ キャリヤ、３ 下補助電極、
４ 上補助電極、５シート、６ スペース
４ 上補助電極、５シート、６ スペース
Claims (4)
- 【請求項１】蒸気を誘電乾燥装置に流した状態で、誘電
乾燥装置中でハニカム構造体を移動させて誘電乾燥する
乾燥方法において、ハニカム構造体の周囲を、一定の間
隔をあけてシートにより覆い、その状態で誘電乾燥する
ことを特徴とするハニカム構造体の乾燥方法。 - 【請求項２】前記シートとしてテフロン（登録商標）シ
ートを用いる請求項１記載のハニカム構造体の乾燥方
法。 - 【請求項３】誘電乾燥装置のキャリヤ上において、ハニ
カム構造体の両端部に電極をセットして誘電乾燥する請
求項１または２記載のハニカム構造体の乾燥方法。 - 【請求項４】ハニカム構造体とシートとの間隔を５ｍｍ
以上とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のハニカ
ム構造体の乾燥方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001026894A JP2002228359A (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | ハニカム構造体の乾燥方法 |
| US10/060,294 US6725567B2 (en) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Method of drying honeycomb structural bodies |
| DE10203953A DE10203953B4 (de) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Verfahren zum Trocknen keramischer Wabenstrukturkörper |
| BE2002/0060A BE1014918A5 (fr) | 2001-02-02 | 2002-02-01 | Procede de sechage de corps a structure en nid d'abeille. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001026894A JP2002228359A (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | ハニカム構造体の乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002228359A true JP2002228359A (ja) | 2002-08-14 |
Family
ID=18891636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001026894A Pending JP2002228359A (ja) | 2001-02-02 | 2001-02-02 | ハニカム構造体の乾燥方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6725567B2 (ja) |
| JP (1) | JP2002228359A (ja) |
| BE (1) | BE1014918A5 (ja) |
| DE (1) | DE10203953B4 (ja) |
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| JP4745722B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2011-08-10 | 日本碍子株式会社 | ハニカム成形体のマイクロ波乾燥方法 |
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| JP5388916B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2014-01-15 | 日本碍子株式会社 | ハニカム成形体の乾燥方法 |
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