JP7296926B2 - セラミックス成形体の誘電乾燥方法及びセラミックス構造体の製造方法 - Google Patents
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Description
セラミックス成形体の乾燥方法としては誘電乾燥が一般に用いられている。誘電乾燥では、一対の電極間にセラミックス成形体を配置し、電極に通電することで発生する高周波エネルギーによってセラミックス成形体内の水の双極子を分子運動させ、その摩擦熱によってセラミックス成形体を乾燥することができる。なお、本明細書において「誘電乾燥」とは、一対の電極間に被乾燥体を配置して乾燥を行う高周波誘電乾燥(周波数1~100MHz程度)のことを意味しており、発振器から電磁波を被乾燥体に放射して乾燥を行うマイクロ波乾燥(周波数300MHz~300GHz程度)は包含されない。
例えば、特許文献1には、乾燥受台にハニカム成形体(セラミックス成形体)を載置して誘電乾燥すると、上下端面付近に高水分領域が発生することから、ハニカム成形体の開口下端面が接する部分を含む一定領域を孔明板とした乾燥受台を用いて乾燥を行う方法が提案されている。
また、特許文献2には、コンベアーによって連続して搬送されるハニカム成形体(セラミックス成形体)の乾きのばらつきを抑えるために、ハニカム成形体の開口上端面上方及び下端面下方に設けた電極を、上下対応する位置で複数に分割し、一対の電極単位毎にハニカム成形体を間欠的に移動させて乾燥を行う方法が提案されている。
さらに、特許文献3には、ハニカム成形体を均一に乾燥させるために、一対の電極の間でハニカム成形体をその長手軸を中心として回転させながら乾燥を行う方法が提案されている。
しかしながら、特許文献1に記載の方法は、乾燥受台に載置された単一のセラミックス成形体における上部及び下部の乾燥状態のばらつきを抑制することができるものの、配列方向Y(乾燥受台の幅方向)における乾燥状態のばらつきを抑制することが難しい。具体的には、配列方向Yの中央部付近に載置したセラミックス成形体は、電界強度が大きい環境に位置することから、乾燥速度が速く、乾燥収縮率が高くなる傾向にある。一方、配列方向Yの端部付近に載置したセラミックス成形体は、電界強度が小さい環境に位置することから、乾燥速度が遅く、乾燥収縮率が低くなる傾向にある。その結果、配列方向Yに並べて載置されたセラミックス成形体の位置の違いによって乾燥状態がばらついてしまう。
また、特許文献3に記載の方法は、バッチ炉で用いられる方法であるため、大量生産を前提とする連続炉において、この方法を適用することは難しい。
また、本発明は、形状の均一化が可能なセラミックス構造体の製造方法を提供することを目的とする。
前記上部電極は、前記配列方向Yにおいて、中央領域と、前記中央領域を挟む2つの端領域とを備え、
前記中央領域は、前記セラミックス成形体の上端面と平行な平面部であり、
前記2つの端領域は、外側になるにつれて下部電極側に傾斜した傾斜部であり、
前記中央領域と前記セラミックス成形体との間の最短距離をL1、前記2つの端領域の端部と前記セラミックス成形体との間の最短距離をL2とした場合に、L2/L1が0~1.70である、セラミックス成形体の誘電乾燥方法である。
また、本発明によれば、形状の均一化が可能なセラミックス構造体の製造方法を提供することができる。
本発明の実施形態に係るセラミックス成形体の誘電乾燥方法は、乾燥受台の上面に搬送方向Xと垂直な配列方向Yに並べて載置された複数のセラミックス成形体を、上部電極と下部電極との間(電極間)に搬送し、その電極間に高周波を印加することによって乾燥させることによって行われる。
このセラミックス成形体の誘電乾燥方法に用いるのに好適な誘電乾燥装置の搬送方向Xにおける概略図を図1に示す。また、この誘電乾燥装置の配列方向Yにおける概略図を図2に示す。
乾燥受台20に載置される複数のセラミックス成形体10の大きさは、特に限定されないが、鉛直方向Zの長さが略同一であることが好ましく、全方向の長さが略同一であることがより好ましい。
中央領域Aは、複数のセラミックス成形体10の上端面11aと平行な平面部131を有する。また、2つの端領域Bは、下部電極140側に傾斜した傾斜部132を有する。
ここで、本明細書において「下部電極140側に傾斜した傾斜部132」とは、中央領域Aの平坦部(傾斜角0°)を基準として、下部電極140側に0°超過180°未満の範囲で傾斜した角度を有する部分のことを意味する。
L2/L1を上記の範囲に制御することにより、図3に示されるように、配列方向Yの両端の2つのセラミックス成形体10における電気力線の密度分布が、配列方向Yの中央の3つのセラミックス成形体10における電気力線の密度分布と概ね同程度となる。したがって、配列方向Yの両端の2つのセラミックス成形体10における電界強度が、配列方向Yの中央の3つのセラミックス成形体10における電界強度と概ね同程度となり、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制することができる。
起点Pの位置を上記のように制御することにより、配列方向Yにおける両端の2つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布を、配列方向Yにおける中央の3つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布と同程度に制御し易くなる。そのため、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制する効果を安定して得ることができる。
ここで、複数のセラミックス成形体10の上端面11aに補助電極30を載置した場合の誘電乾燥装置の配列方向Yにおける概略図を図5に示す。なお、図5に示される誘電乾燥装置200は、複数のセラミックス成形体10の上端面11aに補助電極30が載置されていること以外は、図2に示される誘電乾燥装置100と同じである。
補助電極30としては、例えば、孔明板を用いることができる。
ここで、本明細書において「孔明板」とは、開孔を有する板材のことを意味する。
ここで、本明細書において「孔明板の開孔率」とは、セラミックス成形体10の上端面11aと接触する孔明板の面の総面積に対する開孔面積の割合のことを意味する。
セラミックス成形体10の上端面11aと接触する孔明板の面における開孔の形状としては、特に限定されず、例えば、円形、四角形、スリット状などの各種形状とすることができる。
L2/L1を上記の範囲に制御することにより、配列方向Yの両端の2つのセラミックス成形体10における電気力線の密度分布が、配列方向Yの中央の3つのセラミックス成形体10における電気力線の密度分布と概ね同程度となる。したがって、配列方向Yの両端の2つのセラミックス成形体10における電界強度が、配列方向Yの中央の3つのセラミックス成形体10における電界強度と概ね同程度となり、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制することができる。
起点Pの位置を上記のように制御することにより、配列方向Yにおける両端の2つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布を、配列方向Yにおける中央の3つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布と同程度に制御し易くなる。そのため、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制する効果を安定して得ることができる。
傾斜角θを上記のように制御することにより、配列方向Yにおける両端の2つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布を、配列方向Yにおける中央の3つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布と同程度に制御し易くなる。そのため、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制する効果を安定して得ることができる。
L3を上記のように制御することにより、配列方向Yにおける両端の2つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布を、配列方向Yにおける中央の3つのセラミックス成形体10が位置する領域の電気力線の密度分布と同程度に制御し易くなる。そのため、複数のセラミックス成形体10の配列方向Yにおける乾燥状態のばらつきを抑制する効果を安定して得ることができる。
乾燥受台20に用いられる孔明板の開孔率や開孔の形状は、特に限定されないが、補助電極30に用いられる孔明板と同様にすることができる。
ここで、本明細書において、セラミックス成形体10の含水率とは、赤外線加熱式水分計によって測定される含水率のことを意味する。
セラミックス原料としては、特に限定されず、コージェライト化原料、コージェライト、炭化珪素、珪素-炭化珪素系複合材料、ムライト、チタン酸アルミニウムなどを用いることができる。これらは単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、コージェライト化原料とは、シリカが42~56質量%、アルミナが30~45質量%、マグネシアが12~16質量%の範囲に入る化学組成となるように配合されたセラミックス原料である。そして、コージェライト化原料は、焼成されてコージェライトになるものである。
本発明の実施形態に係るセラミックス構造体の製造方法は、上記のセラミックス成形体10の誘電乾燥方法を含む。
なお、本発明の実施形態に係るセラミックス構造体の製造方法において、上記の誘電乾燥方法以外の工程は、特に限定されず、当該技術分野において公知の工程を適用することができる。具体的には、本発明の実施形態に係るセラミックス構造体の製造方法は、上記の誘電乾燥方法を用いてセラミックス成形体10を乾燥させることによってセラミックス乾燥体を得た後に、セラミックス乾燥体を焼成してセラミックス構造体を得る焼成工程を更に含むことができる。
セラミックス成形体としてハニカム成形体を作製した。まず、セラミックス原料としてアルミナ、カオリン及びタルクを混合したコージェライト化原料を用い、有機バインダを含む結合材、造孔材としての吸水性樹脂、分散媒としての水(42質量%)をコージェライト化原料と混合して原料組成物とし、原料組成物を混錬して坏土を得た。次に、得られた坏土を押出成形し、セルの延びる方向に直行する断面形状が正方形であるセルを有するハニカム成形体を得た。ハニカム成形体は、外径(直径)を144mm、長さ(セルが延びる方向の長さ)を260mm、外径を円柱状とした。また、このハニカム成形体は、含水率が42%であり、重さが1320gであった。ハニカム成形体の含水率及び重さは、作製した全てのハニカム成形体の平均値である。
上記で作製したセラミックス成形体を用いて誘電乾燥を行った。具体的には、次のような手順で行った。
乾燥受台の上面に5個のセラミックス成形体を配列方向Yに並べて載置するとともに、5個のセラミックス成形体の上端面に同じ厚みの補助電極を載置した(図5を参照)。このようにして5個のセラミックス成形体を載置した乾燥受台を合計9個準備した。
誘電乾燥装置は、各種形状(傾斜角θが0~90°)の上部電極を用い、上部電極とセラミックス成形体との間の距離(L1~L3)が所定の値となるように設定した。これらの条件を表1に示す。
誘電乾燥は、誘電乾燥装置の搬送手段(コンベアー)上に、5個のハニカム成形体を載置した9個の乾燥受台を載せた後、誘電乾燥炉内に搬送し、周波数40.68MHz(ISMバンド)、出力85.0kW、加熱時間12分の条件で行った。
まず、配列方向Yに並べて載置された各セラミックス成形体を、時間領域差分法(FDTD法)を用いたシミュレーションによって解析した。シミュレーションでは、セラミックス成形体内の各格子点における電界強度Eを求めた。
次に、得られた電界強度Eから各格子点における加熱量Hを以下の式(1)から算出した。
次に、各セラミックス成形体内の格子点における加熱量Hを合計し、各セラミックス成形体の総加熱量を算出した。
加熱量差は、配列方向Yに並べて載置した5個のセラミックス成形体の総加熱量をH1~H5と定義し(図5において、左端から右端までのセラミックス成形体の総加熱量を順番にH1~H5と定義し)、以下の式(2)によって算出した。
これに対して、L2/L1が0~1.70の範囲外である比較例では、加熱量差が5.0%以上であり、配列方向Yにおけるセラミックス成形体の乾燥状態のばらつきが多いことがわかった。
11a 上端面
11b 下端面
20 乾燥受台
30 補助電極
100,200 誘電乾燥装置
110 誘電乾燥炉
120 搬送手段
130 上部電極
131 平面部
132 傾斜部
140 下部電極
Claims (10)
- 乾燥受台の上面に搬送方向Xと垂直な配列方向Yに並べて載置された複数のセラミックス成形体を、上部電極と下部電極との電極間に搬送し、前記電極間に高周波を印加することによって乾燥させるセラミックス成形体の誘電乾燥方法であって、
前記上部電極は、前記配列方向Yにおいて、中央領域と、前記中央領域を挟む2つの端領域とを備え、
前記中央領域は、前記セラミックス成形体の上端面と平行な平面部であり、
前記2つの端領域は、外側になるにつれて下部電極側に傾斜した傾斜部であり、
前記中央領域と前記セラミックス成形体との間の最短距離をL1、前記2つの端領域の端部と前記セラミックス成形体との間の最短距離をL2とした場合に、L2/L1が0~1.70である、セラミックス成形体の誘電乾燥方法。 - 前記2つの端領域の傾斜の起点は、前記配列方向Yにおいて、両端の前記セラミックス成形体の外端と同じ位置であるか、又は前記外端よりも外側に位置する、請求項1に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記セラミックス成形体の上端面に補助電極が載置されており、前記L1が前記中央領域と前記補助電極との間の最短距離であり、前記L2が前記2つの端領域の端部と前記補助電極との間の最短距離である、請求項1に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記2つの端領域の傾斜の起点は、前記配列方向Yにおいて、両端の前記補助電極の外端と同じ位置であるか、又は前記外端よりも外側に位置する、請求項3に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記L2/L1が0~0.70である、請求項1~4のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記中央領域の平坦部に対する前記2つの端領域の傾斜角が30~90°である、請求項1~5のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 鉛直方向Zにおいて、前記2つの端領域の端部と、前記セラミックス成形体又は前記補助電極が載置されている場合には前記補助電極との間の最短距離L3が-50~50mmである、請求項1~6のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記セラミックス成形体の含水率が1~60%である、請求項1~7のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 前記セラミックス成形体は、第1端面から第2端面まで延びる複数のセルを区画形成する隔壁を備えるハニカム成形体である、請求項1~8のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法。
- 請求項1~9のいずれか一項に記載のセラミックス成形体の誘電乾燥方法を含む、セラミックス構造体の製造方法。
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